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TWI681181B - 內嵌型濃度測量裝置 - Google Patents

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TWI681181B
TWI681181B TW104124254A TW104124254A TWI681181B TW I681181 B TWI681181 B TW I681181B TW 104124254 A TW104124254 A TW 104124254A TW 104124254 A TW104124254 A TW 104124254A TW I681181 B TWI681181 B TW I681181B
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出口祥啓
永瀬正明
池田信一
山路道雄
薬師神忠幸
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國立大學法人德島大學
日商富士金股份有限公司
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Abstract

提供一種內嵌型濃度測量裝置，可以將光入射部附近的氣體滯留部縮小或是消除，將朝有機金屬材料的光入射部的堆積減少。

具備：形成有氣體流路(5)的測量單元本體(15)、及與測量單元本體(15)連接且具備窗材(4)的光入射部(3)、及與測量單元本體(15)連接且具備窗材(6)的受光部(8)，氣體流路(5)，是具備：在光入射部(3)的窗材(4)及受光部(8)的窗材(6)之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部(5a)、及從形成於測量單元本體(15)的氣體流入口(5B1)連通至光路用氣體流路部(5a)的第一連通部(5B)、及從形成於測量單元本體(15)的氣體流出口(5C1)連通至光路用氣體流路部(5a)的第二連通部(5C)，第一連通部(5B)是從氣體流入口(5B1)朝向光入射部(3)的窗材(4)傾斜延伸。

Description

內嵌型濃度測量裝置
本發明，是有關於被組入朝半導體製造裝置供給有機金屬(MO)氣體等的原料流體的管線，依據吸光光度法的原理測量氣體供給線中的氣體濃度用的內嵌型濃度測量裝置。
習知，已知被組入半導體製造裝置的原料流體供給線的內嵌型濃度計(例如專利文獻1等)。
第8圖，是顯示相關連的濃度測量裝置的一例的概略構成。在第8圖中，從由發光二極管等所構成的光源1被發出的規定波長的光，是通過光纖2朝光入射部3被傳送，透過設在光入射部3的石英玻璃和藍寶石玻璃等的窗材4，被入射至氣體流路5，在氣體流路5內被氣體吸收之後，通過相面對的窗材6在具備光二極管7的受光部8被受光。光二極管7是將檢出的光電氣訊號轉換並輸出，該輸出訊號是通過電氣配線9，朝內藏CPU的控制運算部10被送出，由控制運算部10進行規定的運算處理將氣體濃度顯示於顯示部11。控制運算部10，也控制朝 光源1電力供給的電源12。光源1，可以將1或是2以上的波長的光發光。
第8圖的氣體流路5，其詳細的剖面圖如第9圖所示，具備：形成有氣體流路5的金屬製的測量單元本體15、及與測量單元本體15透過密封墊16被連接的光入射部3、及與測量單元本體15透過密封墊17被連接的受光部8。氣體流路5，是具備：在光入射部3及受光部8之間呈直線狀被貫通形成而成為光路L的光路用氣體流路部5a、及與光路用氣體流路部5a連通且在測量單元本體15的底面15a開口的左右一對連通部5b、5c。光入射部3，是安裝有窗材4及光纖2。受光部8，是安裝有窗材6及光二極管7。在測量單元本體15的底面15a中，連接有氣體流入側的接頭20及氣體流出側的接頭21。
[習知技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2000-206045號公報
但是第9圖所示的構造的內嵌型濃度測量裝置，是將MO氣體流動的話有機金屬材料會朝窗材4、6上堆積，具有必須頻繁交換窗材4、6的問題。
本發明人等，專心研究的結果，如第10圖放大顯示，發現有關例如窗材4，因為在窗材4的附近產生氣體滯留容易的死空間D，所以將MO氣體流動的話有機金屬材料成為容易朝窗材4上堆積。對於窗材6(第9圖)也同樣。
在此，為了消解上述問題，本發明的內嵌型濃度測量裝置的第1態樣，是具備：形成有氣體流路的測量單元本體、及與該測量單元本體連接且具備窗材的光入射部、及與前述測量單元本體連接且具備窗材的受光部，前述氣體流路，是具備：在前述光入射部的窗材及前述受光部的窗材之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流入口連通至前述光路用氣體流路部的第一連通部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流出口連通至前述光路用氣體流路部的第二連通部，前述第一連通部是從前述氣體流入口朝向前述光入射部的窗材傾斜延伸。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第2態樣，是對於上述第1態樣，前述第二連通部是從前述氣體流出口朝向前述受光部的窗材傾斜延伸。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第3態樣，是具備：形成有氣體流路的測量單元本體、及與該測量單元本體連接且具備窗材的光入射部、及與前述測量單元本 體連接且具備窗材的受光部，前述氣體流路，是具備：在前述光入射部的窗材及前述受光部的窗材之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流入口連通至前述光路用氣體流路部的第一連通部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流出口連通至前述光路用氣體流路部的第二連通部，前述第二連通部是從前述氣體流出口朝向前述受光部的窗材傾斜延伸。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第4態樣，是對於上述第1或3態樣，前述第一連通部的流路剖面積，是比前述光路用氣體流路部的流路剖面積更小。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第5態樣，是對於上述第1或3態樣，前述光入射部，是具備將光纖保持並且將前述窗材挾持在與前述測量單元本體之間的保持體，在前述測量單元本體及前述保持體的一方形成有嵌合凹部，並且與該嵌合凹部嵌合的嵌合凸部是形成於前述測量單元本體及前述保持體的另一方，前述窗材，是被挾持在前述嵌合凹部的凹底及前述嵌合凸部及突端面之間。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第6態樣，是對於上述第5態樣，前述嵌合凹部是形成附段差凹部，並且前述嵌合凸部是形成與前述附段差凹部嵌合的附段差凸部，前述嵌合凹部的階段部及前述嵌合凸部的階段部是藉由彼此之間抵接而形成密封面。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第7態樣，是對於上述第1或3態樣，前述受光部，是具備將光二極 管保持並且將前述窗材挾持在與前述測量單元本體之間的保持體，在前述測量單元本體及前述保持體的一方形成有嵌合凹部，並且與該嵌合凹部嵌合的嵌合凸部是形成於前述測量單元本體及前述保持體的另一方，前述窗材，是被挾持在前述嵌合凹部的凹底及前述嵌合凸部及突端面之間。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第8態樣，是對於上述第7態樣，前述嵌合凹部是形成附段差凹部，並且前述嵌合凸部是形成與前述附段差凹部嵌合的附段差凸部，前述嵌合凹部的階段部及前述嵌合凸部的階段部是藉由彼此之間抵接而形成密封面。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第9態樣，是對於上述第1或3態樣，前述光入射部，是具備將入射至前述光路用氣體流路部的入射光變成平行光用的準直透鏡。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第10的態樣，是對於上述第1或3態樣，前述窗材，是與前述光路用氣體流路部的光路傾斜交叉地構成。
本發明的內嵌型濃度測量裝置的第11的態樣，是對於上述第1或3態樣，送出氣體的氣體流入路是與前述第一連通部連通地設置，該氣體流入路的流路剖面積是比前述第一連通部的流路剖面積更大。
依據本發明的話，從形成於前述測量單元本體的氣體流入口連通至前述光路用氣體流路部的第一連通部，因為是從前述氣體流入口朝向前述光入射部的窗材傾斜延伸的構成，所以藉由在窗材的表面產生氣體的流動，藉由將窗材附近的氣體的滯留消除，就可以減少朝前述光入射部的窗材的表面堆積不期望的材料。
且對於前述第二連通部，也藉由從前述氣體流出口朝向前述受光部的窗材傾斜延伸，就可以減少朝前述受光部的窗材的表面堆積不期望的材料。
且藉由將前述第一連通部的流路剖面積比前述光路用氣體流路部的流路剖面積小，將前述第一連通部的流速比前述光路用氣體流路部提高，就可以減少有機金屬材料等朝光入射部堆積。
D‧‧‧死空間
J1‧‧‧接頭
J2‧‧‧接頭
L‧‧‧光路
M1‧‧‧中間塊體
M2‧‧‧中間塊體
P1‧‧‧氣體流入路
P2‧‧‧氣體流出路
S1‧‧‧密封用密封墊
1‧‧‧光源
2‧‧‧光纖
2a‧‧‧連接器
3‧‧‧光入射部
4，6‧‧‧窗材
5‧‧‧氣體流路
5a‧‧‧光路用氣體流路部
5B‧‧‧第一連通部
5b，5c‧‧‧連通部
5B1‧‧‧氣體流入口
5C‧‧‧第二連通部
5C1‧‧‧氣體流出口
7‧‧‧光二極管
8‧‧‧受光部
9‧‧‧電氣配線
10‧‧‧控制運算部
11‧‧‧顯示部
12‧‧‧電源
15‧‧‧測量單元本體
15a‧‧‧底面
15b，15c‧‧‧凹所
15d‧‧‧嵌合凹部
15e‧‧‧階段部
15f‧‧‧嵌合凹部
15g‧‧‧階段部
15L，15R‧‧‧塊體
15M‧‧‧管體
15M1，15M2‧‧‧聯接器
16‧‧‧密封墊
17‧‧‧密封墊
20‧‧‧接頭
21‧‧‧接頭
25‧‧‧保持體
25a‧‧‧嵌合凸部
25b‧‧‧階段部
25h‧‧‧孔
26‧‧‧密封墊
30‧‧‧保持體
30a‧‧‧嵌合凸部
30b‧‧‧階段部
40‧‧‧準直透鏡
41‧‧‧筒體
41a‧‧‧螺栓部
42‧‧‧凸緣
43‧‧‧螺栓
[第1圖]將本發明的內嵌型濃度測量裝置的第1實施例一部分省略顯示的主要部分剖面圖。
[第2圖]將本發明的內嵌型濃度測量裝置的第2實施例，在將聯接器取下的狀態下顯示的剖面圖。
[第3圖]將第2圖的內嵌型濃度測量裝置，在將聯接器結合的狀態下顯示的剖面圖。
[第4圖]顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第3實施例的剖面圖。
[第5圖]顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第4實施例的剖面圖。
[第6圖]顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第5實施例的剖面圖。
[第7圖]顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第6實施例的剖面圖。
[第8圖]顯示相關連的濃度測量裝置的基本構成的概略構成圖。
[第9圖]顯示相關連的內嵌型濃度測量裝置的主要部分的剖面圖。
[第10圖]擴大第9圖的一部分顯示的剖面圖。
對於本發明的內嵌型濃度測量裝置的實施例，參照以下圖面進行說明。又，包含習知技術對於全圖及全實施例的同一或是類似的構成部分附加相同符號，在以下的說明具有省略重複說明的情況。
第1圖，是顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第1實施例。第1實施例的內嵌型濃度測量裝置，是具備：形成有氣體流路5的測量單元本體15、及與該測量單元本體15連接具備窗材4的光入射部3、及與測量單元本體15連接具備窗材6的受光部8。氣體流路5，是具備：在光入射部3的窗材4及受光部8的窗材6之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部5a、及從形成 於測量單元本體15的氣體流入口5B1連通至光路用氣體流路部5a的第一連通部5B、及從形成於測量單元本體15的氣體流出口5C1連通至光路用氣體流路部5a的第二連通部5C。第一連通部5B，是從氣體流入口5B1朝向光入射部3的窗材4傾斜延伸。進一步，第一連通部5B，從光入射部3的窗材4附近延伸，在光入射部3的窗材4的露出的表面全體產生氣體流動，不會形成讓氣體滯留的氣體滯留部。
測量單元本體15，是在第1圖所示的例中，具備：左右的塊體15L、15R、及將左右的塊體15L、15R連結的管體15M。管體15M，雖是連續的筒狀，但是在第1圖中將中間部圖示省略。測量單元本體，可以採用各種形狀，例如，可取代筒狀的管體，如第7圖所示將整體形狀作為正方體由一個塊體形成也可以。
氣體流入口5B1及氣體流出口5C1，是在形成於測量單元本體15的表面(圖示例為底面)的凹所15b、15c開口。在此凹所15b、15c中，透過密封墊連接有接頭J1、J2(第2圖、第3圖參照)。
且第二連通部5C，是從氣體流出口5C1朝向受光部8的窗材6傾斜延伸。進一步，第二連通部5C，從受光部8的窗材6附近延伸，在受光部8的窗材6的露出的表面全體產生氣體流動，不會形成讓氣體滯留的氣體滯留部。
第一連通部5B的流路剖面積，是比光路用氣 體流路部5a的流路剖面積小地形成，最好是第一連通部5B的流路剖面積，是光路用氣體流路部5a的流路剖面積的1/2以下。
光入射部3，是具備將光纖2保持並且將面向氣體流路5的窗材4挾持在與測量單元本體15之間的保持體25。在測量單元本體15形成有嵌合凹部15d，並且與嵌合凹部15d嵌合的嵌合凸部25a是形成於保持體25。窗材4，是被挾持在嵌合凹部15d的凹底面及保持體25的嵌合凸部25a及突端面之間。
在窗材4、6中，使用藍寶石玻璃板最佳。密封墊26是位在保持體25及測量單元本體15之間。第一連通部5B，是在窗材4上開口與光路用氣體流路部5a連通。
嵌合凹部15d是形成附階段部15e的附段差凹部，並且嵌合凸部25a是形成與附段差的嵌合凹部15d嵌合的附階段部25b的附段差凸部，嵌合凹部15d的階段部15e及嵌合凸部25a的階段部25b是藉由彼此之間抵接而在其抵接面形成密封面。
受光部8，是具備：面向氣體流路5的窗材6、及光二極管7、及將光二極管7保持並且將窗材6挾持在與測量單元本體15之間的保持體30，在測量單元本體15形成有嵌合凹部15f，並且與嵌合凹部15f嵌合的嵌合凸部30a是形成於保持體30。窗材6，是被挾持在嵌合凹部15f的凹底面及保持體30的嵌合凸部30a的突端面 之間。
嵌合凹部15f是形成附階段部15g的附段差凹部，並且嵌合凸部30a是形成與附階段部15g的嵌合凹部15f嵌合的階段部30b的附段差凸部，嵌合凹部15f的階段部15g及嵌合凸部30a的階段部30b是藉由彼此之間抵接而使其抵接面形成密封面。
第2圖及第3圖，是顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第2實施例。第2實施例的內嵌型濃度測量裝置，是使形成有光路用氣體流路部5a的管體15M，藉由公母的聯接器15M1、15M2由中間部可裝卸地連接。符號15M3，是密封用的密封墊。在氣體流入口5B1、氣體流出口5C1中，與無圖示的配管連接用的接頭J1、J2是各透過密封用密封墊S1、S2被連接。在接頭J1形成有氣體流入路P1。氣體流入路P1，是與第一連通部5B連通。氣體流入路P1的流路剖面積，是比第一連通部5B的流路剖面積更大。因此，通過了氣體流入路P1的氣體，在通過第一連通部5B時流速會增加。在接頭J2中形成有氣體流出路P2。
第4圖，是顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第3實施例。在上述第1實施例及第2實施例中顯示窗材4、6是與光路垂直交叉的例，但是第3實施例的內嵌型濃度測量裝置，是窗材4、6與光路L傾斜地交叉地構成。為了獲得這種構成，測量單元本體15，其安裝塊體15L、15R的面是被傾斜地切斷。對於與光路L垂直交 叉的面的窗材4、6的傾斜角度θ，可以是例如10°~45°。藉由將窗材4、6對於光路L傾斜，就可以達成減輕由窗材4、6中的光的反射所產生的測量誤差的影響。
第5圖，是顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第4實施例。第4實施例的內嵌型濃度測量裝置，是在光入射部3具備將入射至光路用氣體流路部5a的光變成平行光的準直透鏡40。準直透鏡40，是被配設於窗材4的背側即窗材4的光路用氣體流路部5a相反側。將朝光路用氣體流路部5a的入射光藉由準直透鏡40作成平行光將朝單元內的光量增加，就可以達成測量精度的提高。在圖示例中，準直透鏡40，是被收容固定在筒體41內。筒體41是被插入保持體25的孔25h，被熔接在筒體41的凸緣42是由螺栓43被固定在保持體25。在形成於筒體41的後部外周面的螺栓部41a，連接有將光纖2保持的連接器2a。
第6圖及第7圖，是顯示本發明的內嵌型濃度測量裝置的第5實施例及第6實施例。第5實施例及第6實施例的內嵌型濃度測量裝置，皆是顯示光路用氣體流路部5a朝向高度方向的縱型型式。如第7圖所示的第6實施例，光路用氣體流路部5a的長度，是比如第6圖所示的第5實施例的光路用氣體流路部5a的長度長的型式。第5實施例及第6實施例的測量單元本體15，是由一個塊體形成。光路用氣體流路部5a是朝上下方向貫通測量單元本體15的中心部。在測量單元本體15的一方的 側面形成有氣體流入口5B1，在另一方的側面形成有氣體流出口5C1。藉由第一連通部5B使氣體流入口5B1及光路用氣體流路部5a連通。第一連通部5B，是朝向光入射部3的窗材4傾斜延伸。藉由第二連通部5C使光路用氣體流路部5a及氣體流出口5C1連通。第二連通部5C，是從氣體流出口5C1朝向受光部8的窗材6傾斜延伸。第一連通部5B及第二連通部5C的流路剖面積，是比光路用氣體流路部5a的流路剖面積小地形成。中間塊體M1、M2是連結在測量單元本體15的左右的側面，在中間塊體M1、M2安裝有接頭J1、J2。將中間塊體M1及接頭J1連通的氣體流入路P1，是與第一連通部5B連通。將中間塊體M2及接頭J2連通的氣體流出路P2，是與第二連通部5C連通。氣體流入路P1的流路剖面積，是比第一連通部5B的流路剖面積大地形成。因此，通過了氣體流入路P1的氣體，在通過第一連通部5B時流速會增加。這種縱型型式的內嵌型濃度測量裝置，與如第1~第4實施例的橫長型式者相比，可以減小接地面積。
具備上述構成的內嵌型濃度測量裝置，因為是將從形成於測量單元本體15的氣體流入口5B1連通至光路用氣體流路部5a的第一連通部5B，藉由從氣體流入口5B1朝向光入射部3的窗材4傾斜延伸，使從第一連通部5B流入的氣體的流動朝向窗材4的表面，所以可以防止窗材4的表面附近的氣體的滯留，減少有機金屬材料等朝窗材4的表面附著。
且藉由將第一連通部5B的流路剖面積比光路用氣體流路部5a的流路剖面積小，將第一連通部5B的流速比光路用氣體流路部5a提高，就可以減少有機金屬材料等朝光入射部3的窗材4堆積。
且藉由將第一連通部5B的流路剖面積，比朝第一連通部5B送出氣體的氣體流入路P1的流路剖面積小，將第一連通部5B的流速提高，就可以減少有機金屬材料等朝光入射部3的窗材4堆積。
本發明不限定於上述實施例，在不脫離本發明宗旨的範圍可進行各種變更。在上述實施例中，雖在測量單元本體形成嵌合凹部且在保持體形成嵌合凸部，但是相反地，在測量單元本體形成嵌合凸部且在保持體形成嵌合凹部也可以。
2‧‧‧光纖
3‧‧‧光入射部
4、6‧‧‧窗材
5‧‧‧氣體流路
5a‧‧‧光路用氣體流路部
5B‧‧‧第一連通部
5B1‧‧‧氣體流入口
5B1‧‧‧氣體流入部
5C‧‧‧第二連通部
5C1‧‧‧氣體流出口
7‧‧‧光二極管
9‧‧‧電氣配線
15‧‧‧測量單元本體
15b‧‧‧凹所
15c‧‧‧凹所
15d‧‧‧嵌合凹部
15e‧‧‧階段部
15f‧‧‧嵌合凹部
15g‧‧‧階段部
15L‧‧‧塊體
15M‧‧‧管體
15R‧‧‧塊體
25‧‧‧保持體
25a‧‧‧嵌合凸部
25b‧‧‧階段部
26‧‧‧密封墊
30‧‧‧保持體
30a‧‧‧嵌合凸部
30b‧‧‧階段部

Claims (13)

  1. 一種內嵌型濃度測量裝置，其特徵為：具備：形成有原料流體的氣體流路的測量單元本體、及與該測量單元本體連接且具備窗材的光入射部、及與前述測量單元本體連接且具備窗材的受光部，前述氣體流路，是具備：在前述光入射部的窗材及前述受光部的窗材之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流入口連通至前述光路用氣體流路部的第一連通部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流出口連通至前述光路用氣體流路部的第二連通部，前述第一連通部是從前述氣體流入口朝向前述光入射部的窗材傾斜延伸；前述第一連通部相對於前述光路用氣體流路部連接成銳角，氣體沿著彎折成銳角的流路流動；前述第一連通部，從前述光入射部的窗材附近延伸，在前述光入射部的窗材的露出的表面全體產生氣體流動，不會形成讓前述氣體滯留的氣體滯留部。
  2. 如申請專利範圍第1項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述第二連通部是從前述氣體流出口朝向前述受光部的窗材傾斜延伸。
  3. 如申請專利範圍第1項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述第一連通部，係形成於構成為支承前述窗材的塊體。
  4. 一種內嵌型濃度測量裝置，其特徵為：具備：形成有原料流體的氣體流路的測量單元本體、及與該測量單元本體連接且具備窗材的光入射部、及與前述測量單元本體連接且具備窗材的受光部，前述氣體流路，是具備：在前述光入射部的窗材及前述受光部的窗材之間形成直線狀而成為光路的光路用氣體流路部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流入口連通至前述光路用氣體流路部的第一連通部、及從形成於前述測量單元本體的氣體流出口連通至前述光路用氣體流路部的第二連通部，前述第二連通部是從前述氣體流出口朝向前述受光部的窗材傾斜延伸；前述第二連通部相對於前述光路用氣體流路部連接成銳角，氣體沿著彎折成銳角的流路流動；前述第二連通部，從前述受光部的窗材附近延伸，在前述受光部的窗材的露出的表面全體產生氣體流動，不會形成讓前述氣體滯留的氣體滯留部。
  5. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述第一連通部的流路剖面積，是比前述光路用氣體流路部的流路剖面積更小。
  6. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述光入射部，是具備將光纖保持並且將前述窗材挾持在與前述測量單元本體之間的保持體， 在前述測量單元本體及前述保持體的一方形成有嵌合凹部，並且與該嵌合凹部嵌合的嵌合凸部是形成於前述測量單元本體及前述保持體的另一方，前述窗材，是被挾持在前述嵌合凹部的凹底及前述嵌合凸部及突端面之間。
  7. 如申請專利範圍第6項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述嵌合凹部是形成附段差凹部，並且前述嵌合凸部是形成與前述附段差凹部嵌合的附段差凸部，前述嵌合凹部的階段部及前述嵌合凸部的階段部是藉由彼此之間抵接而形成密封面。
  8. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述受光部，是具備將光二極管保持並且將前述窗材挾持在與前述測量單元本體之間的保持體，在前述測量單元本體及前述保持體的一方形成有嵌合凹部，並且與該嵌合凹部嵌合的嵌合凸部是形成於前述測量單元本體及前述保持體的另一方，前述窗材，是被挾持在前述嵌合凹部的凹底及前述嵌合凸部及突端面之間。
  9. 如申請專利範圍第8項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述嵌合凹部是形成附段差凹部，並且前述嵌合凸部是形成與前述附段差凹部嵌合的附段差凸部，前述嵌合凹 部的階段部及前述嵌合凸部的階段部是藉由彼此之間抵接而形成密封面。
  10. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述光入射部，是具備將入射至光路用氣體流路部的入射光變成平行光用的準直透鏡。
  11. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述窗材，是與前述光路用氣體流路部的光路傾斜交叉地構成。
  12. 如申請專利範圍第1或4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，送出氣體的氣體流入路是與前述第一連通部連通地設置，該氣體流入路的流路剖面積是比前述第一連通部的流路剖面積更大。
  13. 如申請專利範圍第4項的內嵌型濃度測量裝置，其中，前述第二連通部，係形成於構成為支承前述窗材的塊體。
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