TWI677050B - 用於暫時接合晶圓之載具 - Google Patents
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Abstract
本發明揭示一種可於其上暫時接合晶圓之載具。該載具包括板狀層壓板。該板狀層壓板包括第一層。該第一層包括箔片、薄片或板片。該板狀層壓板包括第二層,該第二層包括具有三維開放細孔的多孔性金屬介質。該第一層係永久接合至該多孔性金屬介質,藉此閉合在該第一層被定位之該側邊處的該多孔性金屬介質之該細孔。該第二層包括用於被接合在晶圓上之接觸層。該接觸層包括金屬纖維與金屬粉末之混合物。該金屬纖維與該金屬粉末係彼此永久接合在其接觸點處。
Description
本發明係關於用於晶圓之載具之領域。該載具可在其處理期間(例如,在晶圓薄化時)被使用於晶圓之暫時接合。
利用將晶圓暫時接合至一載具上以允許該晶圓之處理係習知的。一個挑戰係在於隨後將該晶圓從該載具剝離。已有描述不同之載具藉由溶劑以允許剝離。在此程序中,被使用於暫時接合之黏著劑係被化學性地溶解。
美國專利US2009/197070A中描述一種支撐板片,該支撐板片係接合至一基板以便支撐該基板。在該支撐板片中,複數個開口從接合表面滲透穿過至非接合表面。該接合表面面向該基板,而該非接合表面則面向該接合表面。包含第一區域以及圍繞該第一區域之第二區域之一多孔性區域係被形成於該接合表面上;且該第一區域具有大於該第二區域之開口比率。依此方式,便可實現一種支撐板片,該支撐板片在該半導體晶圓上之處理操作期間可以藉
由溶劑輕易地從半導體晶圓剝離,但不會輕易地從基板脫落。
美國專利US2005/0173064A1中提供具有一結構之支撐板片,其中在基板(諸如一半導體晶圓)被薄化後的一段短暫時段內,可將一溶劑供給至位於該支撐板片與該基板之間之黏著劑層。該文獻亦揭示一種用於剝離該支撐板片之方法。該支撐板片可以具有一個較該半導體晶圓更大之直徑,且在該支撐板片中形成滲透孔。該支撐板片之外周邊部分係一個在其中沒有形成任何滲透孔之平坦部分。當乙醇從支撐板片上方被傾倒,乙醇通過滲透孔到達黏著劑層,溶解並且移除黏著劑層。
美國專利US8882096B2中揭示一種用於藉由插入一黏著劑層來支撐晶圓之表面之穿孔支撐板片。該穿孔支撐板片具有滲透孔。用以溶解使該穿孔支撐板片藉由其被黏附至晶圓之該黏著劑之溶劑係滲透穿過該支撐板片之穿孔。該穿孔支撐板片包括一個用於避免撓曲之加固部分。
US2004/0231793A1揭示使用一多孔性燒結金屬作為用於晶圓之暫時載具。該載具可以藉由通過該暫時載具之厚度之溶劑穿過其之細孔以溶解被使用以黏附該晶圓至該暫時載具之該黏著劑而被釋放。
美國專利US2009325467A中描述了一種程序,其中晶圓可被薄化而不會發生波紋。一支撐板片具有多個穿孔。一晶圓之電路形成表面係藉由黏著劑構件而被黏附至支撐板片之一表面,而具有100微米或更大厚度且在一個
面上具有一黏著劑層之波紋防止構件係被黏附至另一表面。因此在該穿孔之兩末端處之該開口係被封閉。該支撐板片係經由該波紋防止構件而被真空吸附至一支撐台,且該晶圓被研磨/拋光以薄化該晶圓。該波紋防止構件被剝離,且溶劑通過該穿孔而滲透至該黏著劑構件中以將該晶圓從該支撐板片分離。
美國專利US2001005043A中揭示一種技術,其具有高產量且在短時間內可執行晶圓之薄化且從一支撐基板將其分離。一無孔支撐基板被接合至具有孔之支撐基板之第二表面,其係利用藉由加熱而被融化以便堵塞該孔之黏著劑層來達成。一晶圓利用藉由溶劑而被溶化之黏著劑層而被接合至具有孔之該支撐基板之第一表面。該晶圓藉由研磨與蝕刻而被薄化。該黏著劑層藉由加熱而被融化,於是具有孔之支撐基板相對於無孔支撐基板滑動以藉此將具有孔之支撐基板與無孔支撐基板分離。該黏著劑層接著藉由溶劑而被溶解穿過界定在具有孔之支撐基板中之該孔。藉此該晶圓與具有孔之支撐基板分離。由於在該晶圓上沒有加諸任何負載,因此可以避免晶圓之損壞。
本發明之一個目的係在於提供一個用於暫時接合晶圓之載具。該目的係在於提供此一具有改良性質之載具。本發明之一個目的係在於提供一個載具,其藉由利用溶劑滲濾通過該載具之細孔來溶解該黏著劑而使該晶圓易於剝
離。本發明之一個目的係在於提供一個載具,其允許晶圓可以被薄化以及進一步之處理而獲得所需之品質規範。
本發明之第一態樣係一種載具,晶圓可以被暫時接合至其上(例如,以允許晶圓薄化)。該載具包括板狀層壓板。該板狀層壓板包括第一層。該第一層包括箔片、薄片或板片。該板狀層壓板包括第二層,該第二層包括具有三維開放細孔的多孔性金屬介質。該第一層係永久接合至該多孔性金屬介質,藉此閉合在該第一層被定位處之該側邊處的該多孔性金屬介質之細孔。該第二層包括用於被接合在晶圓上之接觸層。該接觸層包括金屬纖維與金屬粉末之混合物。該金屬纖維與該金屬粉末係在其之接觸點處彼此永久接合。
較佳地,該載具具有藉由一直線側邊由一圓形圓周偏離之圓盤的形狀。該直線側邊係為了匹配欲被接合至該工作載具之晶圓之形狀而存在。較佳地,該圓盤之圓形區段之直徑係適合於6英吋、8英吋或12英吋之晶圓。此意指該圓盤之直徑係等於或略大於該晶圓之直徑。
該載具具有之優點在於剝離溶劑可以流動穿過該多孔性金屬介質之三維開放細孔,從黏合至晶圓上之該載具之側邊邊緣,穿過該多孔性金屬介質之整個體積。依此方式,該剝離溶劑可以快速到達將該晶圓附接至該載具之該黏著劑層。該載具具有足夠之硬度以藉由不同之程序步驟來輸送該接合晶圓而不會有彎曲或其他機械變形或應力之發生。該載具具有之進一步優點在於其具有足夠之機械性質(例如硬度)以允許達到該薄化晶圓所需之尺寸性質(諸如總厚度差異(TTV)、弓彎以及翹曲)。本發明進一步之優點在於該載具可以被使用多次。此本發明載具進一步之優點係在於存在於該薄化晶圓上之波紋係被減少或甚至完全消除。頃相信,此驚人之有益效果係藉由在該接觸層中位於該纖維之間而存在於該細孔中之該粉末顆粒所產生,藉此減少該細孔尺寸,導致了該接觸層下表面粗糙度。本發明之該載具進一步之優點係在於較少黏著劑被用於將該晶圓接合至該載具上;此亦導致更快速之剝離。
在一較佳實施例中,該第一層係包括或由金屬或玻璃或矽或陶瓷所組成。
在一較佳實施例中,該多孔性金屬介質包括一額外多孔性層。該額外多孔性層被提供於該第一層與該接觸層之間。該額外多孔性層包括金屬纖維、金屬粉末或金屬發泡體。該額外多孔性層之具體實例係包含燒結或焊接金屬纖維非織物、燒結粉末以及金屬發泡體。
較佳地,該第一層係包括或由金屬所組成。較佳地,該第一層包括或由金屬箔片、金屬板片或金屬薄片所組成。較佳地,該第一層包括與該多孔性金屬介質相同的金屬或合金。
較佳地,該多孔性金屬介質包括或由不銹鋼、鈦、鈀或鎢所組成;或是包括或由包括高於50%重量百分比之鈦、鈀或鎢之合金所組成。更佳地,針對其中該第一層係包括或由金屬箔片、金屬板片或金屬薄片所組成之實施
例,該第一層係包括與該多孔性金屬介質相同的金屬或金屬合金。
在一較佳實施例中,該第一層係包括金屬且該第一層係藉由金屬鍵而永久接合至該多孔性金屬介質,較佳地藉由擴散接合,諸如燒結或藉由焊接(且較佳地係藉由焊接,其中在該焊接程序中沒有使用任何額外之填充材料)。一種可使用之焊接程序的實例係電容放電焊接(CDW)。
在一較佳實施例中,該第一層藉由黏著劑而被永久接合至該多孔性金屬介質。該黏著劑可以從當在將該暫時接合之晶圓從該載具剝離時不被所使用之該剝離液體所侵蝕之黏著劑之廣泛的範圍中來選擇。合適之黏著劑之實例係基於環氧樹脂之黏著劑。
較佳地,該載具具有介於650微米與750微米之間之厚度。
較佳地,該第一層具有介於20微米與650微米之間之厚度,更佳地介於150微米與650微米之間。
較佳地,該多孔性金屬介質具有介於50微米與150微米之間之厚度,更佳地介於50微米與150微米之間。
較佳地,該多孔性金屬介質之多孔率係高於20%且更佳地係高於30%,更佳地係高於40%,最佳地係高於50%,最佳地係高於55%。且較佳地,該多孔率係小於80%,更佳地係小於60%。此實施例協同作用地增加改良該載具之機械性質,使得該晶圓在被接合至該載具上時之
處理之後,可以達到尺寸特性之要求。
較佳地,該接觸層之多孔率係高於20%且較佳地係高於30%。且較佳地該接觸層之多孔率係小於50%,更佳地係小於40%。
較佳地,在該接觸層中之該金屬纖維之相當直徑係介於2與50微米之間,更佳地係介於2與40微米之間,最佳地係介於2與25微米之間。甚至更佳地,係介於10與25微米之間。具有相當直徑意指該圓形之直徑具有與纖維之該橫截面相同之面積,其橫截面形狀可以由一圓形形狀偏離。
較佳地,在該接觸層中之該金屬粉末係具有在2至30微米之範圍內之直徑,較佳地係在2至20微米之範圍內,更佳地係在2至10微米之範圍內。
在一較佳實施例中,該多孔性金屬介質具有用於被接合在晶圓上之表面,其中該表面係平行於該第一層。該表面係經拋光而使得該載具具有小於10微米之總厚度差異(TTV)。該總厚度差異(TTV)係藉由落差儀在該材料之表面之上所任意選擇的5個點上之測量來進行測量。針對該測試方法,該落差儀之直徑係5.99微米。該TTV係被定義為介於該最大厚度測量與該最小厚度測量之間之差異。
在一較佳實施例中,該多孔性金屬介質包括第一多孔性層以及第二多孔性層。該第一多孔性層係被提供於該第一層與該第二多孔性層之間。該第一多孔性層之多孔率高於該第二多孔性層之多孔率。在一更佳之實施例中,該第
一多孔性層被直接地接合至該第一層。在另一實施例中,該第二多孔性層被直接地接合至該第一多孔性層。在另一實施例中,該第二多孔性層被提供以用於被接合至該晶圓上。在一更佳之實施例中,該第一多孔性層包括第一相當直徑之金屬纖維而該第二多孔性層包括第二相當直徑之金屬纖維。在一最佳實施例中,該第一相當直徑大於該第二相當直徑。
在一較佳實施例中,該多孔性金屬介質之該側邊邊緣被永久密封而使得沒有任何開放細孔存在於該多孔性金屬介質之該側邊邊緣處。
該側邊邊緣係可以藉由焊接該邊緣而被密封,或藉由雷射切割出該多孔性金屬介質之尺寸以及形狀之操作而被密封,或在該第一層接合至該第二層之後藉由焊接該邊緣或藉由雷射切割出該第一層與該第二層之組合之尺寸以及形狀之操作而被密封。
另一種用於產生該密封邊緣之方法係藉由加工一板片使得產生該直立邊緣,然後該多孔性金屬介質被插入在藉由加工而產生之該杯狀物中,且隨後該多孔性金屬介質被接合至該第一層上。當暫時接合之晶圓待從具有永久密封之邊緣之載具被剝離時,最初在該多孔性金屬介質中沒有發生任何剝離液體之毛細作用。在位於該載具與該晶圓之間之黏著劑之該薄層上發生初始的剝離。當此薄的黏著劑層被分解時,藉由在該多孔性金屬介質中具有增加之該剝離液體通過藉由溶解在該邊緣處之黏膠層所產生之開口之
毛細作用而增加該剝離速度。
較佳地,該載具被提供使得當施加4巴之壓力至其上時,該載具之永久變形係小於在施加該壓力之前其之原始厚度之5%。此可以藉由在20秒之時段期間於施加4巴之壓力之前以及之後測量該載具之厚度來測試。依照此實施例,一載具可以藉由預應力該載具或該多孔性金屬層或在其之中之多孔性金屬層來製造,使得可限制未來之永久變形。此實施例在晶圓被暫時黏附至該載具時之處理(例如薄化)之後可驚人地協同作用地改良了該晶圓之性質。
本發明之第二態樣係晶圓以及如在本發明之第一態樣中之載具之總成(或堆疊)。該晶圓係藉由黏著劑而被接合至該接觸層上。較佳地,該黏著劑係可以藉由將合適之剝離液體接觸該黏著劑而被移除之黏著劑。
本發明之第三態樣係一種用於處理晶圓之方法,包括以下步驟藉由黏著劑將晶圓暫時黏附至如在本發明之第一態樣中之載具,處理暫時黏附至該載具之該晶圓,例如薄化該晶圓;藉由剝離液體破壞位在該晶圓與該載具之間之暫時黏著劑接合,從該載具剝離該晶圓;其中,該剝離液體從藉由黏著劑被接合至該載具之該晶圓之該總成的該側邊邊緣滲透至該多孔性金屬介質中。
在剝離暫時接合至該載具之晶圓期間以及之後,該第
一層保持接合至該多孔性金屬介質。
在一較佳之方法中,該載具在剝離之後被重複使用一或多次以用於將另一個晶圓暫時黏附至其上。較佳地,該載具可以被使用至少5次,更佳地係至少10次。
100‧‧‧載具
102‧‧‧直線側邊
200‧‧‧載具
210‧‧‧第一層
226‧‧‧額外多孔性層
260‧‧‧接觸層
301‧‧‧總成或堆疊
370‧‧‧暫時黏著劑層
380‧‧‧晶圓
圖1係展示依照本發明之一例示性載具之俯視圖。
圖2係展示依照本發明之一例示性載具之橫截面。
圖3係展示一個暫時接合至本發明載具之晶圓總成之實例。
圖1係展示依照本發明之載具100之俯視圖。該載具100具有藉由直線側邊102由一圓形圓周(具有直徑D)偏離之圓盤的形狀。該直線側邊102係為了匹配欲被接合至該工作載具之晶圓之形狀而存在。
圖2係展示依照本發明之例示性載具200之橫截面。該載具200包括第一層210,其中該第一層係金屬箔片或金屬薄片。該載具200進一步包括一額外之多孔性層226(例如一燒結非織物金屬纖維網)。該載具包括一接觸層260,其包含在接觸點處彼此燒結之金屬粉末顆粒以及金屬纖維之混合物。
較佳地,該金屬箔片或金屬薄片、該金屬纖維以及該金屬粉末係使用相同之金屬或合金。
不同之層係藉由燒結或藉由焊接(例如電容放電焊接)而彼此永久接合。可以使用燒結多孔性金屬粉末層及/或金屬發泡體層以替代該非織物金屬纖維網來作為額外層。例如,玻璃、陶瓷或矽薄片或板片可以替代金屬箔片或金屬薄片而被使用以作為第一層。該多孔性金屬層(該額外多孔性層以及該接觸層)係藉由金屬鍵(例如燒結)而彼此接合,且與該第一層之接合可以接著藉由黏著劑(例如環氧樹脂)來完成。
圖3係展示一個被暫時接合至載具之晶圓之總成或堆疊301之實例(例如圖2之實例之載具200)。在圖2中相同之元件符號係與在圖2中所描述者具有相同之意義。暫時黏著劑層370係被施加至載具200之多孔性金屬介質上,晶圓380係藉由此黏著劑層370而被暫時接合至載具200。
作為一個實例,已經製造一個用於8吋晶圓之載具。作為第一層,已經使用一個200微米厚度之鈦箔片。厚度500微米與多孔率56%之非織物鈦纖維網(該鈦纖維之22微米相當直徑)已經被施加在該鈦箔片之頂部上。該鈦箔片與該非織物鈦纖維網之組合已經被燒結在一起。已經製備好一鈦粉末漿液。該漿液包括20%重量百分比之20微米直徑之鈦粉末,在水中,包含添加少量的合適之分散劑。一均勻之漿液層已經被施加至該燒結纖維網/鈦板片之組合之該非織物鈦纖維網側邊上。該應用可以藉由網版印刷棧完成,這係利用具有在其之表面之上均勻分佈之開
口的網版。施加200mg/cm3之體積(該體積係基於該多孔性非織物纖維介質)。該粉末漿液滲透至該非織物鈦纖維網,且產生鈦粉末與纖維之混合物,藉此產生該載具之接觸層,藉此該接觸層包括鈦纖維與鈦粉末之混合物。該產品在180℃被乾燥30分鐘,隨後於真空狀態下在800℃進行燒結步驟1小時,藉此於接觸鈦粉末顆粒與鈦纖維之間產生燒結接合。該燒結係在其中該載具之厚度保持相同之狀態下被執行。在施加且燒結該鈦粉末漿液至該載具之前以及之後,該細孔尺寸之分佈係利用孔度計(Porolux 100)來測量。在施加該鈦粉末之前,該多孔性部分之平均細孔尺寸係55至65微米,而在施加該鈦粉末混合物之後,該平均細孔尺寸係降低至45微米。
Claims (15)
- 一種可於其上暫時接合晶圓之載具,其中該載具包括板狀層壓板,該板狀層壓板包括:第一層,其中該第一層包括箔片、薄片或板片;及第二層,包括具有三維開放細孔之多孔性金屬介質;其中,該第一層係永久接合至該多孔性金屬介質,藉此閉合在該第一層被定位之側邊處的該多孔性金屬介質之該細孔;其中,該第二層包括用於被接合在晶圓上之接觸層,其中,該接觸層包括金屬纖維與金屬粉末之混合物,其中,該金屬纖維與該金屬粉末係彼此永久接合在其接觸點處。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該第一層包括金屬、玻璃、矽或陶瓷。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該第一層包括金屬;且其中,該第一層係由與該多孔性金屬介質相同的金屬或合金所提供。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該多孔性金屬介質包括不銹鋼、鈦、鈀或鎢;或包括合金,該合金包括高於50%重量百分比之鈦、鈀或鎢。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該第一層包括金屬;且其中,該第一層係藉由金屬鍵而被永久接合至該多孔性金屬介質。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該第一層係藉由黏著劑而被永久接合至該多孔性金屬介質。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該多孔性金屬介質之多孔率係介於20與80%之間。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該接觸層之多孔率係高於20%。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,在該接觸層中之該金屬纖維的相當直徑係介於2與50微米之間。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,在該接觸層中之該金屬粉末具有在2至10微米之範圍內的直徑。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該多孔性金屬介質具有用於被接合在晶圓上之表面,其中,該表面係平行於該第一層;且其中該表面係經拋光而使得該載具具有小於10微米之總厚度差異(TTV)。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該多孔性金屬介質包括第一多孔性層及第二多孔性層,其中,該第一多孔性層係被設置於該第一層與該第二多孔性層之間;且其中,該第一多孔性層之多孔率係高於該第二多孔性層之多孔率。
- 如申請專利範圍第1項之載具,其中,該多孔性金屬介質之側邊邊緣被永久密封而使得沒有開放細孔存在於該多孔性金屬介質之該側邊邊緣處。
- 一種晶圓與如申請專利範圍第1至13項中任一項之載具的總成,其中,該晶圓係藉由黏著劑而被接合在該接觸層上。
- 一種用於處理晶圓之方法,其包括以下之步驟:藉由黏著劑而將晶圓暫時黏附至如申請專利範圍第1至13項中任一項之載具;處理暫時黏附至該載具之該晶圓;藉由破壞在該晶圓與該載具之間之暫時黏著劑接合的剝離液體而將該晶圓從該載具剝離;其中,該剝離液體從藉由黏著劑被接合至該載具之該晶圓之總成的側邊邊緣滲透至該多孔性金屬介質中。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP15158636.9 | 2015-03-11 | ||
| EP15158636 | 2015-03-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201643990A TW201643990A (zh) | 2016-12-16 |
| TWI677050B true TWI677050B (zh) | 2019-11-11 |
Family
ID=52648901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW105106525A TWI677050B (zh) | 2015-03-11 | 2016-03-03 | 用於暫時接合晶圓之載具 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWI677050B (zh) |
| WO (1) | WO2016142239A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018142631A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 日化精工株式会社 | ウェーハの仮止め用サポート基板及びウェーハの仮止め処理方法 |
| US12528131B2 (en) | 2020-06-26 | 2026-01-20 | Niterra Co., Ltd. | Joined body and electrostatic chuck |
| CN114273813B (zh) * | 2021-12-24 | 2022-10-11 | 钢铁研究总院 | 一种抗热震梯度复合材料及其制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US20090197070A1 (en) * | 2008-02-04 | 2009-08-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Support plate |
| US20130302969A1 (en) * | 2012-05-08 | 2013-11-14 | Disco Corporation | Wafer processing method |
| US20140335676A1 (en) * | 2010-09-30 | 2014-11-13 | Infineon Technologies Ag | Method for manufacturing a composite wafer having a graphite core, and composite wafer having a graphite core |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001185519A (ja) | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP2006135272A (ja) | 2003-12-01 | 2006-05-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板のサポートプレート及びサポートプレートの剥離方法 |
| DE10357698A1 (de) * | 2003-12-09 | 2005-07-14 | Schunk Kohlenstofftechnik Gmbh | Träger für zu behandelnde Gegenstände sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen |
| JP5074719B2 (ja) | 2006-07-14 | 2012-11-14 | 東京応化工業株式会社 | ウエハを薄くする方法及びサポートプレート |
| JP4922752B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-04-25 | 東京応化工業株式会社 | 孔あきサポートプレート |
| CN102430752B (zh) * | 2011-12-03 | 2013-01-23 | 西北有色金属研究院 | 一种传热用金属纤维复合多孔表面的制备方法 |
| US9257365B2 (en) * | 2013-07-05 | 2016-02-09 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Cooling assemblies and power electronics modules having multiple-porosity structures |
-
2016
- 2016-03-02 WO PCT/EP2016/054435 patent/WO2016142239A1/en not_active Ceased
- 2016-03-03 TW TW105106525A patent/TWI677050B/zh not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201643990A (zh) | 2016-12-16 |
| WO2016142239A1 (en) | 2016-09-15 |
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