TWI660450B - 迴旋流形成體及吸引裝置 - Google Patents

Abstract

本發明的迴旋流形成體(3)，具備：主體(31)；形成於主體(31)，與被吸引物相對的第1端面(33)；在第1端面(33)開口的孔(32)；形成在與孔(32)面對的主體(31)之內周圍面(311)的噴出口(35)；及流體從噴出口(35)朝著孔(32)內噴出形成迴旋流藉此產生負壓吸引被吸引物的流體通路(37)，內周圍面(311)是形成將從噴出口(35)噴出的流體朝著從被吸引物遠離的方向引導而從孔(32)排出。

Description

迴旋流形成體及吸引裝置

[0001] 本發明是有關藉著形成迴旋流來產生負壓吸引構件的迴旋流形成體。

[0002] 近年來，利用以非接觸搬運半導體晶圓或玻璃基板等的板狀構件用的裝置。例如專利文獻1中，記載有利用伯努利效應以非接觸搬運板狀構件的裝置。此裝置是在裝置下面開口的圓筒室內產生迴旋流並藉著迴旋流中心部的負壓吸引板狀構件，另一方面可藉著從該圓筒室流出的流體在該裝置與板狀構件之間保持一定的距離進行板狀構件之非接觸的搬運。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0003] 　　[專利文獻1]日本特開2005-51260號公報

[發明概要] [發明所欲解決之課題] 　　[0004] 本發明以提供一種迴旋流形成體，將流體從噴出口朝向孔內噴出形成迴旋流藉此產生負壓吸引被吸引物的迴旋流形成體，與從噴出口噴出的流體朝著被吸引物的方向引導的場合比較可更穩定吸引被吸引物的迴旋流形成體為目的。 [用於解決課題的手段] 　　[0005] 為解決上述的課題，本發明提供一種迴旋流形成體，具備：主體；形成於上述主體，與被吸引物相對的第1端面；在上述第1端面開口的孔；形成在與上述孔面對的上述主體之內周圍面的噴出口；及藉流體從上述噴出口朝向上述孔內噴出形成迴旋流產生負壓吸引上述被吸引物的第1流體通路，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向引導而從上述孔排出。 　　[0006] 較佳的形態中，上述內周圍面的至少一部份是形成使上述孔的剖面積隨著從上述被吸引物遠離而擴大。 　　[0007] 更佳的形態中，上述孔是在上述第1端面開口並在上述第1端面的相反側的第2端面也開口的貫穿孔，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝上述第2端面的開口引導。 　　[0008] 更佳的形態中，上述內周圍面是從上述第1端面的開口跨上述第2端面的開口，將上述孔的剖面積形成隨著從上述被吸引物遠離而逐漸擴大。 　　[0009] 更佳的形態中，將上述第2端面的開口的緣部進行倒角。 　　[0010] 更佳的形態中，進一步具備：板體，及保持使上述板體與上述第2端面相對，並在上述第2端面與上述板體之間，形成有從上述孔流出的流體流動用之流路的保持構件。 　　[0011] 更佳的形態中，上述保持構件是保持使上述板體可在上述貫穿孔的貫穿方向擺動。 　　[0012] 其他的較佳的形態中，進一步具備：形成在上述內周圍面的比上述噴出口更從上述被吸引物遠離的位置的流出口；形成在上述主體的外側面的排出口；及將流入上述流出口的流體從上述流出口排出的第2流體通路，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝上述流出口引導。 　　[0013] 其他的更佳的形態中，上述第1流體通路是形成使得從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向流動。 　　[0014] 另外，本發明提供一種迴旋流形成體，具備：主體；形成於上述主體，與被吸引物相對的第1端面；在上述第1端面開口的孔；形成在與上述孔面對的上述主體的內周圍面的噴出口；及藉流體從上述噴出口朝向上述孔內噴出形成迴旋流產生負壓吸引上述被吸引物的第1流體通路，上述第1流體通路是形成將從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向流動而從上述孔排出。 　　[0015] 另外，本發明提供一種吸引裝置，具備：基體，及設置在上述基體之上述其中任一項記載之一以上的迴旋流形成體。 [發明效果] 　　[0016] 根據本發明，可提供一種迴旋流形成體，將流體從噴出口朝向孔內噴射形成迴旋流藉此產生負壓吸引被吸引物的迴旋流形成體，與從噴出口噴出的流體朝著被吸引物的方向引導的場合比較可更穩定吸引被吸引物的迴旋流形成體。

[0018] 　　以下，針對本發明的實施形態一邊參閱圖示一邊說明。 1.實施形態 　　第1圖表示本發明一實施形態的吸引裝置1的上面之一例的透視圖。第2圖表示吸引裝置1的下面之一例的透視圖。第3圖為第1圖的I-I線剖面圖。吸引裝置1適用於吸引保持並搬運食材等之板狀構件的裝置。此吸引裝置1，具有：圓板狀的基體的基板2；設置在基板2形成流體的迴旋流的6個迴旋流形成體3；及將從未圖示的流體供應泵延伸的軟管連結於迴旋流形成體3的複數流體接頭4。 　　[0019] 在基板2沿著外圍等間隔形成有六個剖面大致圓形的貫穿孔，在各貫穿孔嵌入有迴旋流形成體3。此時，將迴旋流形成體3嵌入貫穿孔使得主體31露出於基板2的上面側並使得蓋子38露出於基板2的下面側。迴旋流形成體3是在基板2中配置使形成迴旋流為順時鐘方向與逆時鐘方向成為彼此不同。並且在此流體具體是壓縮空氣等的氣體，或純水或碳酸水等的液體。 　　[0020] 第4圖是表示迴旋流形成體3的下面之一例的透視圖。第5圖是表示迴旋流形成體3的上面之一例的透視圖。第6圖為第5圖的II-II線剖面圖。迴旋流形成體3是利用伯努利效應吸引保持板狀構件的裝置。該迴旋流形成體3，具有：中央具有剖面圓形的貫穿孔32的大致環狀之板體的主體31；形成在主體31的下面，與被吸引物的板狀構件相對之平坦狀的第1端面33；形成於主體31的上面的平坦狀的第2端面34；形成在與貫穿孔32面對之主體31的內周圍面311的兩個噴出口35；形成於主體31之外圍面312的兩個供應口36；連通噴出口35與供應口36的兩條直線狀的流體通路37；大致圓板狀的蓋子38；及使蓋子38相對於第2端面34大致平行相對固定地保持之保持構件的四個間隔件39。 　　[0021] 與主體31的中心軸大致垂直的剖面的外圍具有將相對的外圍的一部份分別切割成直線狀的圓的形狀。主體31的內周圍面311形成為將噴出口35噴出的流體朝著從被吸引物遠離的方向引導並從貫穿孔32排出。更具體是形成朝第2端面34的開口引導並從貫穿孔32排出。並且具體為內周圍面311的與主體31中心軸大致垂直的剖面的面積是形成隨著從第1端面33的開口跨第2端面34的開口逐漸擴徑。即形成斜錐狀。 　　[0022] 貫穿孔32是朝主體31的中心軸方向成直線狀延伸所形成。貫穿孔32是在第1端面33開口並在第2端面34開口。 　　[0023] 第1端面33及第2端面34是相對於主體31的中心軸形成大致垂直。 　　[0024] 兩個噴出口35是在內周圍面311形成於主體31的中心軸方向中央。並相對於主體31的中心軸成為點對稱的方式形成。兩個供應口36是在外圍面312形成於主體31的中心軸方向中央。並相對於主體31的中心軸成為點對稱的方式形成。並與各流體接頭4連接。 　　[0025] 兩條流體通路37是相對於主體31的內周圍朝切線方向延伸所形成。又形成彼此大致平行地延伸。並形成與主體31的中心軸大致垂直地延伸。並形成在各噴出口35的跟前縮徑。兩條流體通路37是從噴出口35將流體噴出至貫穿孔32內。噴出至貫穿孔32內的流體藉著附壁效應沿著主體31的內周圍面流動，在貫穿孔32內形成迴旋流。構成形成後之迴旋流的流體分子之中的大部份是相對於供應其流體分子之流體通路37延伸的方向以大約45度的角度從貫穿孔32沿著第2端面34流出。形成於貫穿孔32內的迴旋流藉著捲入貫穿孔32之中央部的靜止流體(夾帶)在貫穿孔32的中央部產生負壓。藉此負壓，吸引與第1端面33相對的板狀構件。並且，流體分子從貫穿孔32沿著第2端面34流出的角度是根據貫穿孔32的直徑或深度及流體的流速來決定，上述的約45度的角度僅是一例。 　　[0026] 蓋子38具有與大致垂直於主體31之中心軸的剖面的外圍相同的形狀。蓋子38是覆蓋貫穿孔32，限制外部流體(具體為氣體或液體)朝貫穿孔32的流入。 　　[0027] 四個間隔件39分別具有圓柱的形狀。四個間隔件39是沿著第2端面34的外圍等間隔地安裝。此時，從第2端面34朝向蓋子38呈大致垂直延伸地安裝，連結主體31與蓋子38。各間隔件39是相對於主體31及蓋子28，例如藉螺絲鎖緊固定。四個間隔件39在第2端面34與蓋子38之間，形成從貫穿孔32流出之流體流動用的流路。通過此流路的流體朝向迴旋流形成體3的外部流出。四個間隔件39的高度(換言之第2端面34與蓋子38之間的開縫)是對應從流體供應泵供應迴旋流形成體3之流體的流量而設定。四個間隔件39是以在第2端面34中，安裝於不阻礙從貫穿孔32流出之流體的流路的位置為佳。這是為防止從貫穿孔32流出的流體與間隔件39衝突而產生亂流之用。從貫穿孔32流出之流體的流路雖是根據貫穿孔32的直徑或深度及流體的流速來決定，但是四個間隔件39是例如以不安裝在與流體通路37延伸的方向成大致45度的角度的線上為佳。 　　[0028] 透過流體接頭4對以上說明的吸引裝置1的迴旋流形成體3供應流體時，所供應的流體是通過供應口36與流體通路37從噴出口35朝向貫穿孔32內噴出。朝貫穿孔32內噴出的流體是在貫穿孔32內整流為迴旋流。並且構成迴旋流的流體分子的大部份是被引導至內周圍面311從貫穿孔32沿著第2端面34流出。此時，與第1端面33相對存在有板狀構件的場合，在限制外部流體(具體而言，氣體或液體)朝貫穿孔32流入的狀態下，藉著迴旋流的離心力捲入使得迴旋流之中心部的每單位體積的流體分子的密度變小。亦即在迴旋流的中心部產生負壓。其結果，板狀構件被周圍的流體推壓而向第1端面33側接近。 　　[0029] 如上述吸引裝置1的迴旋流形成體3是使得從貫穿孔32流出的流體分子的大部份沿著第2端面34流出，因此即使有沿著第1端面33流出的流體分子的存在也僅是些微的量。因此，沿著第1端面33流出的流體與板狀構件衝突使得板狀構件振動或旋轉的現象與流體不從第2端面34側流出的場合比較獲得抑制。其結果，可實現板狀構件之更穩定的吸引、保持及搬運。並且，抑制起因於振動(顫動)的板狀構件之皺摺的產生或變形或缺損的產生。亦即吸引裝置1可僅分離在迴旋流形成體3內所形成的迴旋流的吸引力加以利用。 　　[0030] 2. 變形例 　　上述的實施形態也可以如上述變形。下述的變形例也可以彼此組合。 　　[0031] 2-1. 變形例1 　　迴旋流形成體3的內周圍面311的形狀不限於如第6圖表示的例。第7圖是表示將第2端面34的開口的緣部倒角後的迴旋流形成體3A之一例的縱剖面圖。該迴旋流形成體3A是對第2端面34的開口的緣部施以倒角而在內周圍面311的端部形成傾斜面313。該傾斜面313是將從噴出口35噴出的流體朝著遠離被吸引物的方向(更具體是朝第2端面34的開口)引導。 　　[0032] 第8圖是表示將第2端面34的開口的緣部倒圓面後的迴旋流形成體3B之一例的縱剖面圖。該迴旋流形成體3B是對第2端面34的開口緣部施以倒圓面並在內周圍面311的端部形成曲面314。該曲面314將從噴出口35噴出的流體朝著遠離被吸引物的方向(更具體是朝第2端面34的開口)引導。 　　[0033] 第9圖是表示使內周圍面311的一部份形成非斜錐形狀的迴旋流形成體3C之一例的縱剖面圖。該迴旋流形成體3C是從噴出口35到第2端面34的開口為止的大致中央到第2端面34的開口形成有非斜錐形狀的內周圍面315。內周圍面315是形成與主體31的中心軸大致平行。 　　[0034] 第10圖是表示取代斜錐形狀的內周圍面311以具有非斜錐形狀的內周圍面316，將第2端面34的開口的緣部倒角後的迴旋流形成體3D之一例的縱剖面圖。此迴旋流形成體3D具有的內周圍面316是形成與主體31的中心軸大致平行。對第2端面34的開口緣部施以倒角並在內周圍面316的端部形成傾斜面313。該傾斜面313的作用是如上述。 　　[0035] 第11圖是表示取代斜錐形狀的內周圍面311以具有非斜錐形狀的內周圍面316，將第2端面34的開口的緣部倒圓面後的迴旋流形成體3E之一例的縱剖面圖。此迴旋流形成體3E具有的內周圍面316是形成與主體31的中心軸大致平行。對第2端面34的開口緣部施以倒圓面並在內周圍面316的端部形成曲面314。該曲面314的作用是如上述。 　　[0036] 2-2. 變形例2 　　流體通路37也可形成相對於與主體31的中心軸大致垂直的方向傾斜。第12圖是表示取代斜錐形狀的內周圍面311以具有非斜錐形狀的內周圍面316，並具有相對於與主體31的中心軸大致垂直的方向傾斜所形成之流體通路37A的迴旋流形成體3F之一例的縱剖面圖。此迴旋流形成體3F具有的內周圍面316是形成與主體31的中心軸大致平行。流體通路37A是形成從供應口36至噴出口35朝向第2端面34側傾斜延伸。其結果，流體通路37A將從噴出口35噴出的流體朝遠離被吸引物的方向(更具體是朝第2端面34的開口)流動而從貫穿孔32排出。並且，該迴旋流形成體3F中內周圍面316也可以斜錐形狀的內周圍面311代替。並且，也可以將第2端面34的開口緣部倒角形成傾斜面313，或將第2端面34的開口緣部倒圓面形成曲面314。 　　[0037] 2-3. 變形例3 　　也可省略間隔件39，取代以在蓋子38的下面形成用於排出流體的溝槽。第13圖是表示省略間隔件39，具有在下面形成有溝槽381的蓋子38A的迴旋流形成體3G的上面之一例的透視圖。第14圖為第13圖的III-III線剖面圖。迴旋流形成體3G具有的蓋子38A在下面中央形成有直線狀且凹形的溝槽381的點與上述的蓋子38不同。溝槽381在蓋子38A安裝於主體31時形成與流體通路37大致平行地延伸。蓋子38A是例如藉螺絲鎖緊固定於主體31。蓋子38A一旦被固定於主體31時，溝槽381在與第2端面34之間，形成：與貫穿孔32連通的兩個流出口51；鄰接於迴旋流形成體3G的外部的兩個排出口52；及將流入流出口51的流體從排出口52排出的兩條直線狀的流體通路53。使兩個流出口51形成在比噴出口35更遠離被吸引物的位置。使得兩個排出口52形成在比供應口36更遠離被吸引物的位置。兩條流體通路53是朝主體31的內周圍的直徑方向延伸所形成。並形成在一直線上。並且與主體31的中心軸大致垂直延伸地形成。此迴旋流形成體3G中，主體31的內周圍面311將從噴出口35噴出的流體引導至流出口51。 　　[0038] 也可以在此迴旋流形成體3G安裝用於調整從排出口52排出之流體的量的構件。第15圖是表示在排出口52安裝排出流量調整蓋54的迴旋流形成體3H的上面之一例的透視圖。排出流量調整蓋54為矩形的板體，可開關排出口52地安裝在蓋子38A的周緣部。使排出流量調整蓋54朝橫向滑動，排出流量調整蓋54調整覆蓋排出口52的面積，可調整從排出口52排出之流體的量。 　　[0039] 第16圖是表示在流體通路53安裝排出流量調整閥55的迴旋流形成體3I之一例的縱剖面圖。排出流量調整閥55為矩形的板體，可開關流體通路53地安裝在該流體通路上。調整排出流量調整閥55的開度，可調整從排出口52排出之流體的量。 　　[0040] 再者，流出口51及排出口52的形狀不限於矩形，也可以是圓形或橢圓形。流出口51及排出口52的數量不限於兩個。也可以是一個或三個以上。流體通路53的剖面形狀不僅限於矩形，也可以是圓形或橢圓形。流體通路53的數量不限於兩條。也可以是一條或三條以上。流體通路53也可以形成曲線狀。流體通路53也可以相對於與主體31的中心軸大致垂直的方向傾斜所形成。具體而言，從排出口52到流出口51朝第2端面34側傾斜延伸所形成。 　　[0041] 並且，如本變形例已說明省略間隔件39的場合，也可將主體31與蓋子38成形為一體。此時，兩個流出口51是形成在與蓋子38一體成形之主體31A的內周圍面，兩個排出口52是形成在主體31A的外圍面。此時，流出口51及排出口52也可以分別形成在主體31的中心軸方向中央附近。貫穿孔32的一端是形成以蓋子38封閉的凹部。即使未一體成形的場合，仍可結合主體31與蓋子38視為一個主體。亦即，本發明相關的「主體」，也包括組合主體31與蓋子38。 　　[0042] 2-4. 變形例4 　　四個間隔件39也可以不固定地保持蓋子38而是可擺動地保持。第17圖是表示可擺動地保持蓋子38的保持構件的具有四個導軸9的迴旋流形成體3J的上面之一例的透視圖。此迴旋流形成體3J具有的四個導軸9，具有：直徑比形成在蓋子38的孔大的頭部，及直徑比上述孔小可使得蓋子38擺動程度的胴部。四個導軸9保持使蓋子38可在貫穿孔32的貫穿方向擺動。蓋子38成為可擺動，防止被吸引至貫穿孔32內的構件堵塞於蓋子38與第2端面34之間。 　　[0043] 2-5. 變形例5 　　也可以組合兩個迴旋流形成體3使用。第18圖是表示將另一方的迴旋流形成體3使其相互的第2端面34彼此相對地重疊於一方迴旋流形成體3之上所構成的迴旋流形成體3K之一例的縱剖面圖。此迴旋流形成體3K中蓋子38為兩個迴旋流形成體3所共有。又兩個迴旋流形成體3的主體31的中心軸為大致一致。根據此迴旋流形成體3K可同時吸引保持兩片的板狀構件。 　　[0044] 第19圖是表示將複數的迴旋流形成體3成形為一體的吸引裝置1A之一例的透視圖。該吸引裝置1A中，將五個迴旋流形成體3的主體31成形為一體而成為長方體形狀的基體6，將五個迴旋流形成體3的蓋子38成形為一體而成為矩形的板體的蓋子7。基體6中各貫穿孔32是在一直線上且等間隔配置。被吸引物為棒形物時，各貫穿孔32是沿著被吸引物的長方向配置。各流體通路37是相對於基體6的長方向大致垂直延伸地配置。根據此吸引裝置1A，可藉著在複數的貫穿孔32內產生的負壓吸引保持一支的棒形構件。例如可吸引保持自動鉛筆的筆芯或注射針。並且，第19圖中，省略連結基體6與蓋子7之間隔件39的圖示。基體6及蓋子7的形狀與貫穿孔32的數量及配置不限於第19圖表示的例。 　　[0045] 第20圖是表示將複數的迴旋流形成體3成形為一體的吸引裝置1B之一例的透視圖。第21圖表示吸引裝置1B的平面圖。第22圖為第21圖的IV-IV線剖面圖。此吸引裝置1B中，將三個迴旋流形成體3的主體31成形為一體而成為厚壁的大致半球殼狀的基體6A，將三個迴旋流形成體3的蓋子38成形為一體而成為薄壁的大致半球殼狀的蓋子7A。基體6A具有大致半球面狀的內周圍面61及外圍面62與環狀的緣端面63。內周圍面61是沿著被吸引物的曲面形成。各貫穿孔32是在內周圍面61開口並在外圍面62開口。各貫穿孔32是沿著內周圍面61的周緣等間隔地配置。各貫穿孔32是在基體6A的徑向成直線狀延伸所形成。在緣端面63有各供應口36開口。蓋子7A是覆蓋外圍面62地安裝於基體6A。並且，第20圖至第22圖中，省略連結蓋子7A與基體6A之間隔件39的圖示。根據此吸引裝置1B，可藉著在複數貫穿孔32內產生的負壓吸引保持一個球體的構件。並且，基體6A及蓋子7A的形狀與貫穿孔32的數量及配置不限於第20圖至第22圖表示的例。 　　[0046] 2-6. 變形例6 　　也可以在吸引裝置1的基板2形成貫穿孔。第23圖是表示具有形成複數的貫穿孔21的基板2A的吸引裝置1C的上面之一例的透視圖。此吸引裝置1C具有的基板2A是在與迴旋流形成體3相同圓周上，以等間隔形成有六個貫穿孔21。六個貫穿孔21是與迴旋流形成體3彼此不同地配置。又，基板2A是直徑比配置有迴旋流形成體3的圓周小的圓周並在同心的圓周上，以等間隔形成有六個貫穿孔21。並且，貫穿孔21的形狀、數量及配置不限於第23圖表示的例。 　　[0047] 2-7. 變形例7 　　也可以使迴旋流形成體3的蓋子38與基板2成一體化。第24圖是表示以基板2代用迴旋流形成體3的蓋子38的吸引裝置1D之一例的縱剖面圖。此吸引裝置1D中迴旋流形成體3的四個間隔件39是從第2端面34朝著基板2成大致垂直延伸，連結主體31與基板2。四個間隔件39是在第2端面34與基板2之間，形成從貫穿孔32流出之流體流動用的流路。並且，此吸引裝置1D的基板2也可以和上述的基板2A同樣地，形成複數貫穿孔21。 　　[0048] 2-8. 變形例8 　　也可以使迴旋流形成體3的第1端面33及第2端面34分別與基板2成一體化。第25圖是表示以基板2B代用各迴旋流形成體3的第1端面33並以基板2C代用第2端面34的吸引裝置1E的上面之一例的透視圖。第26圖是表示吸引裝置1E的下面之一例的透視圖。將此吸引裝置1E具有的基板2B及2C重疊使得彼此的中心軸大致一致。在基板2B沿著其外圍等間隔形成有20個貫穿孔32。並且在直徑比形成有該等貫穿孔32的圓周小的圓周且同心的圓周上，以等間隔形成有六個貫穿孔32。在基板2C透過間隔件39安裝有蓋子38以覆蓋各貫穿孔32。並且，吸引裝置1E的周緣部也可以封閉。此外，基板2B及2C的形狀與貫穿孔32的數量及配置不限於第25圖及第26圖表示的例。 　　[0049] 2-9. 變形例9 　　也可以使迴旋流形成體3的第1端面33及蓋子38分別與基板2成一體化。第27圖是表示以基板2B代用各迴旋流形成體3的第1端面33並以基板2D代用蓋子38的吸引裝置1F的下面之一例的透視圖。吸引裝置1F的上面之一例是如上述的第25圖表示。將此吸引裝置1F具有的基板2B及2D重疊使得彼此的中心軸大致一致。在基板2B沿著其外圍等間隔形成有20個貫穿孔32。並且在直徑比形成有該等貫穿孔32的圓周小的圓周且同心的圓周上，以等間隔形成有六個貫穿孔32。在基板2D為了將流體排出到吸引裝置1F之外，具有：形成於中央的圓形的貫穿孔22；以包圍貫穿孔22的方式等間隔形成的六個圓形的貫穿孔23；及包圍六個貫穿孔23的方式等間隔形成的四個圓弧形的貫穿孔24。並且，吸引裝置1F的周緣部也可以封閉。此外，基板2B及2D的形狀與貫穿孔22至貫穿孔24的數量及配置不限於第25圖及第27圖表示的例。 　　[0050] 第28圖是表示以基板2E代用各迴旋流形成體3的第1端面33並以基板2F代用蓋子38的吸引裝置1G的上面之一例的透視圖。第29圖是表示吸引裝置1G的下面之一例的透視圖。將此吸引裝置1G具有的基板2E及2F重疊使得彼此的中心軸大致一致。將吸引裝置1G的周緣部封閉。在基板2E沿著其外圍等間隔形成有20個貫穿孔32。並且在直徑比形成有該等貫穿孔32的圓周小的圓周且同心的圓周上，為了將流體排出到吸引裝置1G之外形成有18個貫穿孔25。並且在直徑比形成有該等貫穿孔25的圓周小的圓周且同心的圓周上，以等間隔形成有六個貫穿孔32。又在直徑比形成有該等貫穿孔32的圓周小的圓周且同心的圓周上，為了將流體排出到吸引裝置1G之外形成有18個貫穿孔25。在基板2F為了安裝流體供應用的零組件(未圖示)在中央形成有貫穿孔26。將該零組件安裝於吸引裝置1G時封閉貫穿孔26。該吸引裝置1G封閉周緣部，並封閉貫穿孔26之後，將從貫穿孔32流出的流體從形成於基板2E的貫穿孔25排出。並且，貫穿孔32的數量及配置不限於第28圖表示的例。又基板2E及2F的形狀與貫穿孔25及26的形狀、數量及配置不限於第28圖及第29圖表示的例。 　　[0051] 2-10. 變形例10 　　基板2的形狀不限於圓形。也可以是橢圓形或矩形或雙股的叉形狀(參閱日本特開2005-51260號公報)。第30圖是表示具有矩形的基板2G的吸引裝置1H之一例的透視圖。該吸引裝置1H具有長方形的基板2G，及固定在基板2G上面的三個迴旋流形成體3。各迴旋流形成體3是將其蓋子38的上面例如以螺絲鎖緊固定在基板2G的上面。又，各迴旋流形成體3是在基板2G上於一直線上且等間隔配置。設被吸引物為棒形物時，各迴旋流形成體3是沿著被吸引物的長方向配置。各流體通路37是相對於基板2G的長方向成大致垂直延伸地配置。根據此吸引裝置1H，可藉著在複數貫穿孔32內產生的負壓吸引保持一支棒形的構件。例如可吸引自動鉛筆的筆芯或注射針。並且，第30圖中，省略連結迴旋流形成體3的主體31與蓋子38的間隔件39的圖示。基板2G的形狀與迴旋流形成體3及配置不限於第30圖表示的例。 　　[0052] 第31圖是表示具有在底面具有剖面六角形的凹部的截頭六角錐形的基板2H的吸引裝置1I之一例的透視圖。此吸引裝置1I具有底面具有剖面六角形的凹部的截頭六角錐形的基板2H，及固定於基板2H的內側面27的三個迴旋流形成體3。各迴旋流形成體3是將其蓋子38的上面例如以螺絲鎖緊固定在基板2H的內側面27。又，各迴旋流形成體3是在內側面27將第1端面33的開口沿著被吸引物的曲面固定。又，各迴旋流形成體3是在內側面27等間隔地配置。根據此吸引裝置1I，可藉著在複數貫穿孔32內產生的負壓吸引保持一個球體的構件。並且，第31圖中，省略連結迴旋流形成體3的主體31與蓋子38的間隔件39的圖示。基板2H的形狀與迴旋流形成體3及配置不限於第31圖表示的例。 　　[0053] 上述的實施形態中，設置在基板2的迴旋流形成體3的數量不限於六個。也可以是小於六個或七個以上。基板2之迴旋流形成體3的配置方法不限於第1圖至第3圖表示的例。例如，基板2中各迴旋流形成體3並無須將形成的迴旋流配置成順時鐘方向與逆時鐘方向之彼此不同的必要。 　　[0054] 2-11. 變形例11 　　吸引裝置1的吸引對象不限於食材。吸引對象例如也可以是食品。或者也可以是半導體晶圓或玻璃基板等的構件。吸引對象的形狀不限於板狀。只要是可維持在貫穿孔32內產生的負壓的形狀即可，例如也可以是球形。即使形狀為板狀以外的場合仍可抑制被吸引物的振動與旋轉。吸引對象的原材料是只要可維持在貫穿孔32內產生的負壓也可以是具通氣性的原材料。 　　[0055] 2-12. 變形例12 　　迴旋流形成體3的主體31的外圍形狀不限於圓形。也可以是橢圓形或矩形。加註在內周圍面311的斜錐不僅限於線形錐。也可以是拋物線錐或指數函數錐。作為其他的例，內周圍面311也可將其剖面積形成隨著從被吸引物遠離而擴徑的階梯狀。作為另外的其他的例，也可以在內周圍面311形成將噴出口噴出的流體引導至第2端面34的開口的螺旋狀的溝槽。 　　[0056] 貫穿孔32的剖面形狀不限於圓形。也可以是橢圓形或矩形。 　　[0057] 第1端面33及第2端面34也可以不是平坦狀。也可以是凹凸。 　　[0058] 噴出口35的數量不限於兩個。也可以是一個或三個以上。噴出口35之內周圍面311的位置是不限於主體31的中心軸方向中央。也可以是近第1端面33或近第2端面34。 　　[0059] 流體通路37的數量不限於兩條。也可以是一條或三條。流體通路37也可形成曲線狀。流體通路37也可以直徑為一定。 　　[0060] 蓋子38的形狀不限於圓形。也可以是橢圓形或矩形。蓋子38的尺寸也可以是覆蓋貫穿孔32的程度。 　　[0061] 間隔件39的形狀不限於圓柱。也可以是橢圓柱或角柱。間隔件39的數量不限於四個。也可以是小於四個或五個以上。間隔件39的配置方法不限於第5及6圖表示的例。例如也可以從主體31的外圍面312延伸。間隔件39在第2端部34中，也可以安裝於阻礙從貫穿孔32流出之流體的流路的位置。 　　[0062] 2-13. 變形例13 　　也可以在迴旋流形成體3的第1端面33安裝阻礙被吸引物朝貫穿孔32的進入的擋板(例如參閱日本特許5908136號公報)。第32圖是表示將中央具有開縫81的擋板8安裝於第1端面33的上述迴旋流形成體3G之一例的透視圖。擋板8具有與上述蓋子38A相同的形狀。開縫81是與形成在蓋子38A的溝槽381(省略圖示)大致正交地延伸所形成。開縫81的長方向的長度在被吸引物為棒形的構件時，設定比被吸引物的長方向的長度短。或者，開縫81的寬度在被吸引物為棒形的構件時，設定比被吸引物的寬度窄。將此擋板8安裝於迴旋流形成體3G，可逐支地吸引保持細長棒形的構件。例如可吸引保持自動鉛筆的筆芯或注射針。並且，開縫81的形狀不限於第32圖表示的例，可對應被吸引物的形狀來決定。 　　[0063] 2-14. 變形例14 　　在迴旋流形成體3的第1端面33安裝擋板的場合，也可透過間隔件(例如參閱日本特許5908136號公報)安裝。 　　[0064] 2-15. 變形例15 　　也可以在迴旋流形成體3的第1端面33安裝與被吸引物接觸並藉摩擦力抑制被吸引物的振動及旋轉的摩擦構件(例如參閱日本特開2005-142462號公報)。 　　[0065] 2-16. 變形例16 　　也可採用電動風扇(例如參閱日本特開2011-138948號公報)作為迴旋流形成手段來取代迴旋流形成體3的兩條流體通路37。 　　[0066] 2-17. 變形例17 　　從貫穿孔32沿著第2端面34流出的流體的流出方向不僅限於與主體31的中心軸大致垂直的方向。例如，第2端面34及蓋子38也可形成將從貫穿孔32流出的流體朝著與主體31的中心軸平行的方向(更具體為主體31的上方)排出。

[0067] 1、1A、1B、1C、1D、1E、1F、1G、1H、1I：吸引裝置 2、2A、2B、2C、2D、2E、2F、2G、2H：基板 3、3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G、3H、3I、3J、3K：迴旋流形成體 4：流體接頭 6、6A：基體 7、7A：蓋子 8：擋板 9：導軸 21：貫穿孔 22：貫穿孔 23：貫穿孔 24：貫穿孔 25：貫穿孔 26：貫穿孔 31：主體 32：貫穿孔 33：第1端面 34：第2端面 35：噴出口 36：供應口 37、37A：流體通路 38、38A：蓋子 39、39A：間隔件 51：流出口 52：排出口 53：流體通路 54：排出流量調整蓋 55：排出流量調整閥 61：內周圍面 62：外圍面 63：緣端面 81：開縫 311：內周圍面 312：外圍面 313：傾斜面 314：曲面 315：內周圍面 316：內周圍面 381：溝槽

[0017] 　　第1圖表示吸引裝置1的上面之一例的透視圖。 　　第2圖表示吸引裝置1的下面之一例的透視圖。 　　第3圖為第1圖的I-I線剖面圖。 　　第4圖表示迴旋流形成體3的下面之一例的透視圖。 　　第5圖表示迴旋流形成體3的上面之一例的透視圖。 　　第6圖為第5圖的II-II線剖面圖。 　　第7圖表示迴旋流形成體3A之一例的縱剖面圖。 　　第8圖表示迴旋流形成體3B之一例的縱剖面圖。 　　第9圖表示迴旋流形成體3C之一例的縱剖面圖。 　　第10圖表示迴旋流形成體3D之一例的縱剖面圖。 　　第11圖表示迴旋流形成體3E之一例的縱剖面圖。 　　第12圖表示迴旋流形成體3F之一例的縱剖面圖。 　　第13圖表示迴旋流形成體3G的上面之一例的透視圖。 　　第14圖為第13圖的III-III線剖面圖。 　　第15圖表示迴旋流形成體3H的上面之一例的透視圖。 　　第16圖表示迴旋流形成體3I之一例的縱剖面圖。 　　第17圖表示迴旋流形成體3J的上面之一例的透視圖。 　　第18圖表示迴旋流形成體3K之一例的縱剖面圖。 　　第19圖表示吸引裝置1A之一例的透視圖。 　　第20圖表示吸引裝置1B之一例的透視圖。 　　第21圖表示吸引裝置1B之一例的平面圖。 　　第22圖為第21圖的IV-IV線剖面圖。 　　第23圖表示吸引裝置1C的上面之一例的透視圖。 　　第24圖表示吸引裝置1D之一例的縱剖面圖。 　　第25圖表示吸引裝置1E的上面之一例的透視圖。 　　第26圖表示吸引裝置1E的下面之一例的透視圖。 　　第27圖表示吸引裝置1F的下面之一例的透視圖。 　　第28圖表示吸引裝置1G的上面之一例的透視圖。 　　第29圖表示吸引裝置1G的下面之一例的透視圖。 　　第30圖表示吸引裝置1H之一例的透視圖。 　　第31圖表示吸引裝置1I之一例的透視圖。 　　第32圖表示安裝擋板8的迴旋流形成體3G之一例的透視圖。

Claims (13)

1. 一種迴旋流形成體，其特徵為，具備：主體；第1端面，形成於上述主體，與被吸引物相對；孔，在上述第1端面開口；噴出口，形成在與上述孔面對的上述主體的內周圍面；及第1流體通路，藉流體從上述噴出口朝向上述孔內噴出形成迴旋流產生負壓吸引上述被吸引物，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向引導而從上述孔排出。
2. 如申請專利範圍第1項記載的迴旋流形成體，其中，上述內周圍面的至少一部份是形成使上述孔的剖面積隨著從上述被吸引物遠離而擴大。
3. 如申請專利範圍第1項記載的迴旋流形成體，其中，上述孔是在上述第1端面開口並在上述第1端面的相反側的第2端面也開口的貫穿孔，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝上述第2端面的開口引導。
4. 如申請專利範圍第2項記載的迴旋流形成體，其中， 上述孔是在上述第1端面開口並在上述第1端面的相反側的第2端面也開口的貫穿孔，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝上述第2端面的開口引導。
5. 如申請專利範圍第3項記載的迴旋流形成體，其中，上述內周圍面是從上述第1端面的開口跨上述第2端面的開口，將上述孔的剖面積形成隨著從上述被吸引物遠離而逐漸擴大。
6. 如申請專利範圍第4項記載的迴旋流形成體，其中，上述內周圍面是從上述第1端面的開口跨上述第2端面的開口，將上述孔的剖面積形成隨著從上述被吸引物遠離而逐漸擴大。
7. 如申請專利範圍第3項至第6項中任一項記載的迴旋流形成體，其中，將上述第2端面的開口的緣部進行倒角。
8. 如申請專利範圍第3項至第6項中任一項記載的迴旋流形成體，其中，進一步具備：板體，及保持使上述板體與上述第2端面相對，並在上述第2端面與上述板體之間，形成有從上述孔流出的流體流動用之流路的保持構件。
9. 如申請專利範圍第8項記載的迴旋流形成體，其中， 上述保持構件是保持使上述板體可在上述貫穿孔的貫穿方向擺動。
10. 如申請專利範圍第1項或第2項記載的迴旋流形成體，其中，進一步具備：流出口，形成在上述內周圍面的比上述噴出口更從上述被吸引物遠離的位置；排出口，形成在上述主體的外側面；及第2流體通路，將流入上述流出口的流體從上述流出口排出，上述內周圍面是形成將從上述噴出口噴出的流體朝上述流出口引導。
11. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項記載的迴旋流形成體，其中，上述第1流體通路是形成使得從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向流動。
12. 一種迴旋流形成體，其特徵為，具備：主體；第1端面，形成於上述主體，與被吸引物相對；孔，在上述第1端面開口；噴出口，形成在與上述孔面對的上述主體的內周圍面；及第1流體通路，藉流體從上述噴出口朝向上述孔內噴 出形成迴旋流產生負壓吸引上述被吸引物，上述第1流體通路是形成將從上述噴出口噴出的流體朝著從上述被吸引物遠離的方向流動而從上述孔排出。
13. 一種吸引裝置，具備：基體，及設置在上述基體的申請專利範圍第1項至第12項中任一項記載的一個以上的迴旋流形成體。