TWI653309B

TWI653309B - 光學構件用黏著劑組成物、黏著片及積層體

Info

Publication number: TWI653309B
Application number: TW103137153A
Authority: TW
Inventors: 喜多恵子
Original assignee: 日商綜研化學股份有限公司
Priority date: 2014-10-28
Filing date: 2014-10-28
Publication date: 2019-03-11
Also published as: TW201615788A

Abstract

本發明係提供可抑制光學構件的變形且長期的耐久性佳之光學構件用黏著劑組成物、黏著片及積層體。

光學構件用黏著劑組成物，包括：(A)共聚物、(B)異氰酸酯系交聯劑以及(C)環氧系交聯劑；其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份；前述共聚物係含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物。

Description

光學構件用黏著劑組成物、黏著片及積層體

本發明係關於光學構件用黏著劑組成物、黏著片及積層體。

圖像顯示裝置，近年於各種用途、條件下使用，例如不僅是室溫條件下，在高溫，甚至所謂高溫多濕的嚴酷條件下使用的情況也變多。作為在高溫或高溫多濕條件的使用，例如：熱帶區域之使用、車輛內部、戶外量測機器的內部的使用。

而且，圖像顯示裝置，近年也進行薄型化。隨此，例如使用於圖像顯示裝置的一種之液晶顯示裝置的光學構件(例如：偏光板)也有薄型化的傾向。但是，由於偏光板的薄型化，變得更容易產生變形。

另一方面，於液晶顯示裝置，已知有主要起因於偏光板的收縮之變形造成的「漏光現象」的產生。而有為了抑制漏光現象，藉由於黏著劑組成物中添加多量的交聯劑使黏著劑硬化而抑制變形的方法(專利文獻1)。

但是，如使用如此的黏著劑的液晶顯示裝置被放置於高溫或高濕環境下的情況，黏著劑無法充分地跟隨目前薄型化偏光板的變形，而有與被黏著體的偏光板、液晶面板之間產生浮起或剝離的情形。

先前技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-090354號公報

本發明人等，有鑑於上述課題，發現藉由調整包含於共聚物的官能基的量以及共聚物與交聯劑的比例，可抑制光學構件的變形且可得到長期的耐久性之光學構件用黏著劑組成物。

1. 本發明之一形態之光學構件用黏著劑組成物，包括：(A)共聚物、(B)異氰酸酯系交聯劑以及(C)環氧系交聯劑；其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份；前述共聚物係含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物。

2. 上述1記載的光學構件用黏著劑組成物，其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(C)環氧系交聯劑0.05至4質量份。

3. 上述1或2記載的光學構件用黏著劑組成物，其中前述(B)異氰酸酯系交聯劑的含量與前述(C)環氧系交聯劑的調配量之關係為(B)：(C)=(10至40質量份)：(0.1至2質量份)。

4. 上述1至3中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物，其中前述單體混合物為下述單體(a1)至(a4)之混合物(但前述單體(a1)至(a4)相加為100質量%)：(a1)含有羧基的單體：超過0質量%且未達0.5質量%；(a2)(甲基)丙烯酸烷酯單體：90至99.9質量%；(a3)含有羥基的單體：0至0.3質量%；(a4)前述(a1)至(a3)以外的共聚性單體：0至9質量%。

5. 上述1至4中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物，其中進一步包括(D)矽烷偶合劑。

6. 上述5記載的光學構件用黏著劑組成物，其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(D)矽烷偶合劑0.01至1質量份。

7. 上述1至6中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物，其中前述(C)環氧系交聯劑具有環氧基及胺基。

8. 上述1至7中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物，其中進一步包括(E)鹼性化合物。

9.本發明的另一形態之黏著片，其係將上述1至8中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得。

10. 本發明的其他形態之積層體，包括：玻璃基板、偏光膜以及設置於前述玻璃基板與前述偏光膜之間的黏著劑層，該黏著劑層係將上述1至8中任一項記載的光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得者。

11. 上述10記載的積層體，其中前述玻璃基板可為圖像顯示裝置所使用的玻璃基板。

上述光學構件用黏著劑組成物，包括：(A)共聚物、(B)異氰酸酯系交聯劑以及(C)環氧系交聯劑；相對於前述(A)共聚物100質量份而言，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份；藉由前述共聚物係含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物，因可抑制包含於前述(A)共聚物的羧基含量，可防止該羧基與其他成分的反應所引起之黏著劑層的經時劣化。所以，藉由使用上述光學構件用黏著劑組成物所得之黏著劑層之使用，可得到長期的耐久性佳的光學構件。

而且，於上述光學構件用黏著劑組成物，因將前述(B)異氰酸酯系交聯劑對前述(A)共聚物之比例調整為上述範圍，可抑制使用上述光學構件用黏著劑組成物的黏著劑層之硬度。因此，藉由使用該黏著劑層，可抑制光學構件的變形。此外，包含於前述(A)共聚物的羧基，藉由與包含於其他成分的官能基(或來自其他成分的官能基)反應，因該(A)成分與該其他成分的相溶性變高，使用上述光學構件用黏著劑組成物所得之黏著劑層不易產生白色混濁，透明性佳。

而且，上述光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得之上述黏著片，可抑制光學構件的變形，且長期的耐久性佳。

再者，上述積層體藉由包括玻璃基板、偏光膜以及設置於玻璃基板與偏光膜之間的上述光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得之黏著劑層，可抑制偏光膜的變形且可得到長期的耐久性佳的偏光膜。

10‧‧‧玻璃基板

20‧‧‧黏著劑層

30‧‧‧偏光膜

100‧‧‧積層體

第1圖係表示本發明之一實施形態之包含使用光學構件用黏著劑組成物所得之黏著劑層的積層體之一例的剖面示意圖。

以下，一邊參考圖式，一邊詳細地說明本發明。再者，於本發明，除非另有說明，否則「份」表示「質量%」，「%」表示「質量%」。

1. 光學構件用黏著劑組成物

本發明之一實施形態之光學構件用黏著劑組成物(以下也有只記載為「黏著劑組成物」)，包括(A)共聚物(以下也有只記載為「(A)成分」)、(B)異氰酸酯系交聯劑(以下也有只記載為「(B)成分」)以及(C)環氧系交聯劑(以下也有只記載為「(C)成分」)。

1.1. (A)成分

(A)成分之共聚物，係含有羧基的聚合物。(A)成分，更具體地係含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物。藉由(A)成分為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物的共聚物，因含有少量的羧基，故可減少使用組成物所得之黏著劑層的經時變化。而且，藉由(B)成分及(C)成分與該羧基之反應，因(A)成分與(B)成分及(C)成分的相溶性提高，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層，不易產生白色混濁，且即使乾燥溫度高，也不易白化。

而且，(A)成分可進一步含有羥基。藉由(A)成分進一步含有羥基，(B)成分及(C)成分與該羥基反應的結果，因(A)成分與(B)成分及(C)成分的相溶性提高，故使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層可防止白化。

更具體地，前述單體混合物以下述單體(a1)至(a4)之混合物(但前述單體(a1)至(a4)相加為100質量%)較理想。

(a1)含有羧基的單體(以下也有只記載為「(a1)成分」)：超過0質量%且未達0.5質量%

(a2)(甲基)丙烯酸烷酯單體(以下也有只記載為「(a2成分」)：90至99.9質量%

(a3)含有羥基的單體(以下也有只記載為「(a3)成分」)：0至0.3質量%

(a4)前述(a1)至(a3)以外的共聚性單體(以下也有只記載為「(a4)成分」)：0至9質量%

更具體地，從與(B)成分及(C)成分的相溶性更佳的觀點，(A)成分以具有羧基的丙烯酸系共聚物較理想，以具有羧基及羥基兩者的丙烯酸系共聚物更理想。

再者，於本發明，所謂「丙烯酸系共聚物」，係指構成單元中包括50質量%以上的選自丙烯酸、丙烯酸鹽、丙烯酸酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸鹽及甲基丙烯酸酯中的至少1種之聚合物。

藉由(A)成分為上述單體混合物的共聚物，(A)成分可為具有羧基及羥基的聚合物，進一步於(A)成分中可抑制羧基的含量，且調整羥基的含量為指定範圍內。藉此，如後述，由於可抑制使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層的硬度，故光學構件不易變形，且可得到經時變化少、長期的耐久性佳的黏著劑層。

一般，於(A)成分包含羧基的情況，由本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層中，包含於其他成分的官能基(例如：包含於(B)成分及/或(C)成分之官能基、來自包含於(B)成分及/或(C)成分之官能基)與該羧基經時反應，該黏著劑層會有經時硬化的傾向。

相對地，根據本實施形態的黏著劑組成物，由於包含於調製(A)成分用的單體混合物之含有羧基的單體未達0.5質量%，因可抑制包含於(A)成分的羧基的量，在由本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層中，可抑制與包含於其他成分的官能基(例如：包含於(B)成分及/或(C)成分之官能基、來自(B)成分及/或(C)成分之官能基)經時反應的羧基的量。藉此，可防止該黏著劑層的經時硬化。亦即，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層，其長期(例如：1個月以上，較理想為3個月以上)的耐久性佳。

而且，於(A)成分包含羥基的情況，因包含於其他成分的官能基(例如：包含於(B)成分及/或(C)成分之官能基、來自(B)成分及/或(C)成分之官能基)與該羥基進行反應，故由本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層有變硬的傾向。

相對地，根據本實施形態的黏著劑組成物，由於包含於(A)成分的羥基的量降低至指定的量以下，或(A)成分不含羥基，與包含於(B)成分及/或(C)成分之官能基(進一步來自(B)成分及/或(C)成分之官能基)反應之羥基變少(或可消除)。所以，可防止從本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層變硬。

1.1.1. (a1)成分

(a1)成分之含有羧基的單體，係於分子構造中具有羧基之單體，(a1)成分係成為包含於(A)成分的羧基的來源。

前述單體混合物之(a1)成分的含量為0質量 %時，因不會與(B)成分及(C)成分產生反應，故耐久性有變差的情形，另一方面，前述單體混合物之(a1)成分的含量為0.5質量%以上時，由本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層會有經時變硬，耐久性經時變差的情形。在耐久性及長期的耐久性更佳之點，前述單體混合物之(a1)成分的含量以0.01至0.48質量%較理想，以0.05至0.45質量%更理想。

作為(a1)成分，可列舉例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、亞甲基丁二酸，可使用其中的單獨1種或2種以上的組合。

1.1.2. (a2)成分

前述單體混合物，藉由包含(a2)成分之(甲基)丙烯酸烷酯單體，可賦予(A)成分耐久性。前述單體混合物之(a2)成分的含量未達90質量%時，耐久性有變差的情形，另一方面，前述單體混合物之(a2)成分的含量超過99.9質量%時，因(a1)成分的比例相對變低，耐久性有變差的情形。在耐久性更佳的點，前述單體混合物之(a2)成分的含量以95至99.6質量%較理想，以98至99.6質量%更理想。

作為(a2)成分，可列舉例如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸正己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正辛酯、丙烯酸正壬酯、甲基丙烯酸正十二烷酯、丙烯酸正十二烷酯、甲基丙烯酸正十四烷酯、丙烯酸正十六烷酯、甲基丙烯酸正十六烷酯、丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸硬脂酯等的酯部位具有直鏈狀烷基的烷基(甲基)丙烯酸烷酯單體；丙烯酸異丙酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸三級丁酯、丙烯酸異辛酯、甲基丙烯酸異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯等的酯部位具有分支狀烷基的(甲基)丙烯酸烷酯單體；丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異莰酯、丙烯酸二環戊酯等的酯部位具有脂環式烷基的(甲基)丙烯酸烷酯單體，可使用其中單獨一種或2種以上的組合。

其中，從使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層可得到更佳的耐久性之點，(a2)成分以構成烷酯部位的烷基鏈為直鏈狀或分支狀的烷基鏈者較理想，更理想為具有直鏈狀的烷基鏈者。於該情況，從使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層可得到更佳的耐久性之點，包含於(a2)成分的前述烷基鏈的碳原子數以1至20(較理想為1至10)更理想。

1.1.3. (a3)成分

(a3)成分之含有羥基的單體，係分子構造中具有羥基的單體，(a3)成分係成為包含於(A)成分的羥基的來源。

前述單體混合物之(a3)成分的含量超過0.3質量%時，由本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層變硬，具備該黏著劑層的光學構件會產生變形。而且，例如於光學構件為偏光板的情況，會產生因該光學構件的變形所引起之漏光。在可更確實地抑制光學構件產生變形之點，前述單體混合物之(a3)成分的含量以0.25質量%以下較理想，以0.2質量%以下更理想。再者，前述單體混合物包含(a3)成分的情況，前述單體混合物之(a3)成分的含量以0.01至0.25質量%較理想，以0.01至0.2質量%更理想。

作為(a3)成分，可列舉例如：丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸2-羥基-3氯丙酯、甲基丙烯酸2-羥基-3氯丙酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等；丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸聚乙二醇酯、丙烯酸丙二醇酯、丙烯酸聚丙二醇酯等的丙烯酸烷二醇酯；甲基丙烯酸乙二醇酯、甲基丙烯酸聚乙二醇酯、甲基丙烯酸丙二醇酯、甲基丙烯酸聚丙二醇酯等的甲基丙烯酸烷二醇酯；丙烯酸苯氧基乙酯等的含有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體。

1.1.4. (a4)成分

前述單體混合物，可包含(a4)成分之前述(a1)至(a3)成分以外的共聚性單體。

(a4)成分，可列舉例如：丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二乙基胺基乙酯等的含有醯胺基的(甲基)丙烯酸酯單體、N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N,N’-二甲基丙烯醯胺、N,N’-二乙基丙烯醯胺、N,N’-二甲基胺基乙基丙烯醯胺、N,N’-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺等的含有醯胺基的(甲基)丙烯醯胺單體、丙烯醯基嗎福啉(acryloylmorpholine)、丙烯醯胺、三級辛基(甲基)丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺等的含有氮原子之單體；丙烯酸羧基乙酯、丙烯腈、五甲基哌啶丙烯酸酯、甲基丙烯酸苯甲酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸2-萘酯等的酯部位具有芳香環基的(甲基)丙烯酸酯單體；丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、甲基丙烯酸四氫呋喃甲酯等的酯部位具有醚基的(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、o-甲基苯乙烯、p-甲基苯乙烯等的苯乙烯系單體；乙酸乙烯酯等的羧酸乙烯酯；乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯啶酮、乙烯基己內醯胺、含有乙烯基(甲基)丙烯醯基的巨分子單體等，可使用其中單獨一種或2種以上的組合。單體組成物中之(a4)成分的含量以0至9質量%較理想，以0至8質量%更理想。

1.1.5. (a1)至(a3)成分的合計量

本實施形態的黏著劑組成物中，從可達成良好的耐久性以及與被黏著體的高度密著性之觀點，(A)成分之共聚物的原料之前述單體混合物中的前述(a1)成分、(a2)成分及(a3)成分的合計量可為90至100質量%。

1.1.6. 重量平均分子量

(A)成分，其重量平均分子量(Mw)為50萬至200萬。 (A)成分的重量平均分子量未達50萬時，耐久性會劣化，另一方面，超過200萬時，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層變得太硬，無法防止光學構件的變形。從可防止光學構件的變形且提高耐久性之觀點，(A)成分的重量平均分子量以80萬至150萬更理想。此處，(A)成分的重量平均分子量(Mw)以及數量平均分子量(Mn)，係使用GPC(凝膠滲透層析儀)並以下述條件求得換算標準聚苯乙烯的重量平均分子量(Mw)。而且，(A)成分的分子量分佈(Mw/Mn)以6.0至9.5較理想。

〈GPC測定條件〉

測定裝置：HLC-8120GPC(東曹(Tosoh)公司製)

GPC管柱構成：以下的5相連管柱(全部東曹公司製)

(i)TSK-GEL HXL-H(保護管柱)

(ii)TSK-GEL G7000HXL

(iii)TSK-GEL GMHXL

(iv)TSK-GEL GMHXL

(v)TSK-GEL G2500HXL

樣品濃度：以四氫呋喃稀釋成為1.0mg/cm³

移動相溶劑：四氫呋喃

流量：1.0cm³/min

管柱溫度：40℃

1.1.7. 黏著劑組成物的含量

本實施形態的黏著劑組成物之(A)成分的含量，可為該黏著劑組成物的60至90質量份，以65至90質量份較理想。

1.1.8. (A)成分的聚合方法

(A)成分的聚合方法，無特別限制，可藉由溶液聚合、乳化聚合、懸浮聚合等的習知方法聚合，使用藉由聚合所得之共聚物的混合物，製造本發明的黏著劑組成物時，從處理步驟較簡單且可短時間進行的觀點，以藉由溶液聚合進行聚合較理想。

溶液聚合，一般係於聚合槽內放入指定的有機溶劑、各單體、聚合起始劑以及依需要所使用的鏈轉移劑等，在氮氣氣流或有機溶劑的回流溫度下，一邊攪拌一邊進行數小時的加熱反應。

再者，於該情況，可以逐次添加有機溶劑、單體及/或聚合起始劑的至少一部分。作為有機溶劑，可列舉例如：苯、甲苯、乙基苯、正丙基苯、三級丁基苯、o-二甲苯、m-二甲苯、p-二甲苯、四氫萘、十氫萘、芳香族石腦油等的芳香族烴類；例如：正-己烷、正-庚烷、正-辛烷、異-辛烷、正-癸烷、二戊烯、石油精、石油石腦油、松節油等的脂肪系或脂環族系烴類；例如：乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸2-丁氧基乙酯、乙酸3-甲氧基丁酯、安息相酸甲酯等酯類；例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異佛爾酮、環己酮、甲基環己酮等的酮類；例如：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚等的二醇醚類；等。該等有機溶劑，可分別單獨使用，或混合2 種以上使用。

該等聚合用有機溶劑中，(A)成分的聚合時，例如以使用酯類、酮類較理想，特別是從(A)成分的溶解性、聚合反應的容易度等之點，以甲基乙基酮、丙酮等的使用較理想。

作為前述聚合起始劑，可使用一般的溶液聚合所使用的有機過氧化物、偶氮化合物等。作為如此的有機過氧化物，可列舉例如：三級丁基過氧化氫、異丙苯過氧化氫、過氧化二異丙苯、過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧化己醯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁基酯、2,2-雙(4,4-二-三級丁基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-三級戊基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-三級辛基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-α-異丙苯基過氧化環己基)丙烷、2,2-雙(4,4-二-三級丁基過氧化環己基)丁烷、2,2-雙(4,4-二-三級辛基過氧化環己基)丁烷等，作為偶氮化合物，可列舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙-2,4-二甲基戊腈、2,2’-偶氮雙-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈等。

該等聚合起始劑中，於(A)成分的聚合反應中，以不會引起接枝反應的聚合起始劑較理想，特別是以偶氮系較理想。相對於單體混合物的合計100重量份，其使用量一般為0.01至2重量份，較理想為0.1至1.0重量份。

而且，包含於本實施形態的黏著劑組成物的(A)成分之製造時，通常並不使用鏈轉移劑，但在無損本發明的目的及效果的範圍下，可依需要而使用。

作為如此的鏈轉移劑，可列舉例如：氰基乙酸；氰基乙酸的碳數1至8的烷酯類；溴乙酸；溴乙酸的碳數1至8的烷酯類；蒽、菲(phenanthrene)、茀(fluorene)、9-苯基茀等的芳香族化合物類；p-硝基苯胺、硝基苯、二硝基苯、p-硝基安息香酸、p-硝基酚、p-硝基甲苯等芳香族硝基化合物類；苯醌、2,3,5,6-四甲基-p-苯醌等苯醌衍生物類；三丁基硼烷等的硼烷衍生物類；四溴化碳、四氯化碳、1,1,2,2-四溴乙烷、三溴乙烯、三氯乙烯、溴三氯甲烷、三溴甲烷、3-氯-1-丙烯等的鹵烴類；三氯乙醛、糠醛(Furaldehyde)等的醛類；碳數1至18的烷基硫醇類；硫酚、甲苯硫醇等的芳香族硫醇類；硫醇基乙酸、硫醇基乙酸的碳數1至10的烷酯類；碳數1至12的羥基烷基硫醇類；蒎烯(pinene)、萜品油烯(Terpinolene)等的萜類；等。

作為(A)成分的聚合溫度，一般約為30至180℃，較理想為40至150℃，更理想為50至90℃的範圍。再者，溶液聚合法所得之聚合物中包含未反應的單體之情況，為了除去該單體，可用甲醇等的再沈澱法精製。

1.2. (B)成分

(B)成分之異氰酸酯系交聯劑，較理想為具有異氰酸酯基(-N=C=O)且常溫或加熱下可與(A)成分交聯之交聯劑，例如：伸苯二甲基二異氰酸酯、甲苯基二異氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體、該等與三羥基丙烷等的2價以上之醇化合物等加成反應之異氰酸酯化合物、異氰脲酸酯化合物等。

而且，習知的聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等與異氰酸酯化合物加成反應之胺基甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯等。該等之中，以伸苯二甲基二異氰酸酯及其衍生物等為適用。

本實施形態的黏著劑組成物之(B)成分的含量，相對於(A)成分100質量份，以8至50質量份較理想，以9至48質量份更理想。本實施形態的黏著劑組成物之(B)成分的含量，相對於(A)成分100質量份，在未達8質量份時，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層的黏著力不足，另一方面，超過50質量份時，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層變得太硬，包含該黏著劑層的光學構件不如預期而有產生變形的情形。

再者，本實施形態的黏著劑組成物中，相對於(A)成分之(B)成分，因調配8至50質量份之較多的量，故系統內之異氰酸酯基彼此縮合，可生成所謂的異氰酸酯聚合物。該異氰酸酯聚合物中之活性的異氰酸酯基與系統內的水反應時，經由去碳酸，在聚合物鏈中生成胺基。該胺基，因可與後述的(C)成分的環氧基反應，故包含於(A)成分的交聯點(例如：(A)成分)為丙烯酸系聚合物的情況，可在系統內建構與包含於該丙烯酸聚合物的交聯點與藉由交聯劑的反應所形成的聚合物網絡不同之新的聚合物網絡。藉此，使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層之耐久性佳。

1.3. (C)成分

(C)成分之環氧系交聯劑，只要是具有環氧基(參考下述式(1))且常溫或加熱下可與(A)成分交聯之交聯劑即可。

本實施形態的黏著劑組成物中之(C)成分的含量，相對於(A)成分100質量份，以0.05至4質量份較理想，以0.08至3質量份更理想。本實施形態的黏著劑組成物中之(C)成分的含量，相對於(A)成分100質量份，在未達0.05質量份時，黏著力不足，另一方面，超過4質量份時，黏著劑層變得太硬，包含該黏著劑層的光學構件不如預期，會有產生變形的情形。

而且，從欲兼具呈現使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層的耐久性以及防止包含該黏著劑層的光學構件的變形之觀點，前述(B)異氰酸酯系交聯劑的含量與前述(C)環氧系交聯劑之調配量的關係以(B)：(C)=(10至40質量份)：(0.1至2質量份)較理想。

而且，(C)成分可為具有環氧基及胺基的環氧系交聯劑(胺型環氧系交聯劑)。藉由(C)成分的環氧基為胺型，該環氧基可對其他成分(例如：(A)成分及/或(B)成分)提高親核性高，而可促進交聯。

再者，(C)成分具有環氧基及胺基的情況(胺型環氧系交聯劑的情況)，又即使(C)成分不包含胺基的情況(非胺型環氧系交聯劑的情況)，本實施形態的黏著劑組成物可進一步包含(E)鹼性化合物(以下有只記載為「(E)成分」)。

作為(C)成分，可使用市售的環氧系交聯劑。作為胺型環氧系交聯劑，可列舉例如：1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷(商品名：TETRAD C；三菱瓦斯化學公司)、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)苯(商品名：TETRAD X；三菱瓦斯化學公司)，作為非胺型環氧系交聯劑，可列舉例如：2,2’-[[2,2-雙(環氧乙烷-2-基甲氧基甲基)-1,3-伸丙基]雙(氧亞甲基)]二環氧乙烷(商品名：DENACOL EX-411；長瀨化學公司製)。

而且，於使用具有環氧基及胺基的(C)成分之情況，使用本實施形態的黏著劑組成物而形成黏著劑層的情況，推測藉由包含於該胺基的氮原子的電子供應性，可促進包含於(B)成分的來自異氰酸酯基的羥基與該環氧基的反應，以及包含於(A)成分的羧基與該環氧基的反應。藉此，可提高使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層的黏著性。

藉由本實施形態的黏著劑組成物進一步包含(E)成分，(E)成分可提高包含於其他成分(及/或來自其他成分)的羥基的親核性。本實施形態的黏著劑組成物中之(E)成分的含量，相對於(A)成分100質量份，以0至0.1質量份較理想，以0至0.08質量份更理想。

作為(E)成分，因具有良好的電子供應性之點，較理想為含有鹼性氮原子的化合物，例如：KAORAIZA No.1(商品名，花王公司)。

1.4. (D)成分

本實施形態的黏著劑組成物可進一步包含(D)矽烷偶合劑(以下有只記載為「(D)成分」)。藉由本實施形態的黏著劑組成物進一步包含(D)成分，在使用本實施形態的黏著劑組成物而於光學構件的表面形成黏著劑層的情況，光學構件與被黏著體可保持良好的黏著。

更具體地，於本實施形態的黏著劑組成物，藉由包含於(A)成分及/或(B)成分之異氰酸酯基(或來自該異氰酸酯基之基)與(D)成分反應，可提高本實施形態的黏著劑組成物與被黏著體(例如：玻璃)的黏著性。

(C)成分，可列舉例如：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷及甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等的含有聚合性不飽和基的矽化合物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷及2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等具有環氧基構造的矽化合物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷及N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等的含有胺基的矽化合物；以及3-氯丙基三甲氧基矽烷；寡聚物型矽烷偶合劑等，其中以黏著性佳之點，以具有與包含於(A)成分、(B)成分或(C)成分中的官能基反應的官能基之(D)成分較理想。

於本實施形態的黏著劑組成物，在進一步提高該組成物的黏著性之點，相對於(A)成分100質量份，可含有0.01至1質量份的(D)成分。

1.5. 其他成分

本實施形態的黏著劑組成物，可依需要而進一步包含(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及(E)成分以外的成分。例如，於本實施形態的黏著劑組成物中，在無損本發明的效果的範圍下，可調配界面活性劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、黏著賦予劑、塑化劑等。

1.6. 其他實施形態

本發明的其他實施形態的光學構件用黏著劑組成物，包括：(A)具有羧基的共聚物、(B)異氰酸酯系交聯劑以及(C)環氧系交聯劑；相對於前述(A)共聚物100質量份而言，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份；相對於前述(A)共聚物100質量份而言，含有前述(C)環氧系交聯劑0.05至4質量份。於該情況，前述(A)共聚物可為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物。根據上述其他實施形態的光學構件用黏著劑組成物，具有與上述本實施形態的光學構件用黏著劑組成物相同的作用效果。

1.7. 黏著劑組成物的製造

本實施形態的黏著劑組成物，通常將前述(A)至(E)成分以及依需要的任意成分在內同時或以任意順序混合而調製。而且，(A)成分與(B)成分及(C)成分在混合時，於藉由溶液聚合而調製(A)成分的情況，可於聚合結束後的含有(A)成分之溶液中添加(B)成分及(C)成分，於藉由塊狀聚合調製(A)成分的情況，聚合結束後，因難以均勻混合故以於該聚合的中途，添加(B)成分及(C)成分而進行混合較理想。

1.8. 用途

本實施形態的黏著劑組成物，可使用於光學構件與被黏著體的貼合，其中可適合使用於要求長期(例如：1個月以上，較理想為3個月以上)的耐久性之光學構件的貼合。

作為使用本實施形態的黏著劑組成物而成為貼合對象之光學構件，可列舉例如：選自偏光膜(偏光板)、相位差膜、橢圓偏光膜、抗反射膜、增亮膜、光擴散膜及硬塗膜所成群中的光學膜。而且，作為被黏著體，可列舉例如：ITO層等的金屬層、玻璃或塑膠所構成的基材，其中在黏著性更佳之點，可應用於光學構件與玻璃的貼合。

而且，例如於光學構件為偏光板的情況，隔著使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層，使偏光板與其他被黏著體(例如：玻璃基板)接著的情況，因該黏著劑層具有適當的硬度，可防止偏光板的變形，且可抑制該黏著劑層的經時變化。藉此，該黏著劑層的長期耐久性佳。

1.9. 黏著片

本發明的其他實施形態的黏著片，係將本實施形態的黏著劑組成物成形為膜狀後適當地加熱、乾燥所得。本實施形態的黏著片，例如可將本實施形態的黏著劑組成物塗佈於分離片(離型膜)上形成膜狀後，藉由加熱、乾燥而得到。藉由將本實施形態的黏著片(黏著劑層)設置於光學構件與其他被黏著體之間，可進行該被黏著體與該光學構件的貼合。

本實施形態的黏著片(黏著劑層)的厚度，一般為1至50μm，較理想為5至30μm。

1.10. 作用效果

本實施形態的黏著劑組成物中，包含(A)成分、(B)成分及(C)成分，相對於前述(A)100重量份，含有前述(B)成分8至50重量份，藉由前述(A)成分為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物的共聚物，可抑制包含於前述(A)成分的羧基的含量，且因前述(B)成分對前述(A)成分的比例調整為上述範圍，可抑制光學構件的變形，且長期的耐久性佳。

更具體地，因可抑制包含於前述(A)成分的羧基的含量，該羧基與使用本實施形態的黏著劑組成物所形成的黏著劑層中的官能基反應，可抑制該黏著劑層的硬度之經時變化。

而且，一般而言，如(A)成分與(B)成分的相溶性差，黏著劑層在乾燥後會產生白色混濁，進而，黏著劑層的乾燥溫度高或長的情況，黏著劑層有容易白化的傾向。

相對地，使用本實施形態的黏著劑組成物形成黏著劑層時，因前述(A)成分包含羧基，藉由包含於(B) 成分之基及/或包含於(C)成分之基(進而來自(B)成分的基及/或來自(C)成分的基)與包含於(A)成分的羧基反應，而提高(A)成分與(B)成分及(C)成分的相溶性，故不易產生白色混濁，即使黏著劑層的乾燥溫度高或長的情況，黏著劑層也不易產生白化。

而且，本實施形態的黏著劑組成物中，因前述(B)成分對前述(A)成分的比例調整為上述範圍，故在使用本實施形態的黏著劑組成物而形成黏著劑層時，可抑制黏著劑層變得太硬。

例如，光學構件為偏光板的情況，藉由使用本實施形態的黏著劑組成物所得之黏著劑層之使用，該黏著劑層具有適當的硬度，且具有良好的黏著力，因可抑制光學構件的變形，而可防止漏光。特別是該黏著劑層，容易適應玻璃的表面，可提高玻璃基板與光學構件的密著性。而且，該黏著劑層，在高溫及多濕條件下可發揮良好的耐久性，且可減少漏光。

2. 積層體

本發明的一實施形態的積層體，包括玻璃基板、偏光板以及設置於前述玻璃基板與前述偏光板之間的上述實施形態的光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得之黏著劑層(黏著片)。

2.1. 積層構造

第1圖係表示本發明之一實施形態的積層體之一例(積層體100)的剖面示意圖。積層體100，如第1圖所示，包括玻璃基板10、偏光膜30以及設置於玻璃基板10與偏光膜30之間的黏著劑層20。

更具體而言，積層體100，包括玻璃基板10、設置於玻璃基板10上的黏著劑層20、隔著黏著劑層20設置於玻璃基板10之上的偏光膜30。玻璃基板10與偏光膜30係隔著黏著劑層20接著。

第1圖中，黏著劑層20形成於被黏著體(玻璃基板10)的表面。作為本實施形態的黏著劑組成物形成於被黏著體的表面之方法，可列舉例如於平滑性良好的離型膜(分離片)的表面塗佈黏著劑組成物，塗膜經乾燥後，將該塗膜轉印至特定的樹脂膜的表面之轉印法。

本實施形態的積層體，例如包含於圖像顯示裝置(特別是液晶顯示裝置)。於該情況，包含於本實施形態的積層體的玻璃基板為液晶顯示裝置用的玻璃基板。

2.2. 玻璃基板

構成本實施形態的積層體的玻璃基板，可為使用於圖像顯示裝置的玻璃基板。作為圖像顯示裝置，可列舉例如：液晶電視、電腦的監視器、手機、平板等所使用的TFT(薄膜電晶體)液晶顯示裝置。

2.3. 作用效果

本實施形態的積層體，藉由包括玻璃基板、偏光膜以及設置於前述玻璃基板與前述偏光膜之間的上述實施形態的光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得之黏著劑層，於上述實施形態的光學構件用黏著劑組成物，因可抑制(A)成分的羧基的含量，故可抑制該羧基與包含於該黏著劑組成物的官能基的反應。藉此，長期耐久性佳。

而且，於上述實施形態的光學構件用黏著劑組成物，被抑制含量的(A)成分中之羧基，因與包含於(B)成分及(C)成分的官能基反應，故該黏著劑層可發揮適當的硬度及良好的黏著力。藉此，可抑制偏光膜的變形。

3. 實施例

以下，根據下述實施例說明本發明，但本發明不受實施例所限定。

3.1. (A)成分的調製 3.1.1. 實施例1(共聚物的製造)

於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計、滴入漏斗及攪拌裝置的反應容器中，放入作為聚合起始劑的2,2’-偶氮雙異丁腈0.1重量份、作為溶劑的乙酸乙酯130重量份、作為單體成分的丙烯酸丁酯99.6重量份、丙烯酸0.4重量份，於室溫下氮氣回流1小時後，將反應容器內的單體組成物溶液的溫度升溫至67℃，在氮氣氣流中進行5小時聚合，得到共聚物(實施例1的(A)成分)的溶液。

對於所得之共聚物，藉由凝膠滲透層析儀(GPC)測定的重量平均分子量為100萬，分子量分佈(Mw/Mn)為8.0。

3.1.2 實施例2至14以及比較例1至10(共聚物的製造)

除了分別使用表1及表2所示的組成的單體混合物之外，藉由上述實施例1記載的方法，分別得到實施例2至14以及比較例1至10的共聚物的溶液。所得之共聚物的重量平均分子量，以上述實施例1記載的方法測定的結果，匯集表示於表1及表2。

3.2. 附有黏著劑的偏光板之製作

對黏著劑溶液(固體成分)100份，添加作為(B)異氰酸酯系交聯劑之甲苯基二異氰酸酯之CORONATE L 20份，作為(C)環氧系交聯劑之TETRAD X 0.1份、作為(D)矽烷偶合劑之KBM-403 0.2份，充分混合該等，得到實施例1的黏著劑組成物。

脫泡後，使用刮刀，塗佈於經剝離處理的PET製分離片，立即於90℃乾燥3分鐘。乾燥後，貼合於偏光板，於室溫23℃、濕度65%的條件下靜置1至7天，得到實施例1的附有黏著劑的偏光板。

除了分別使用表3及表4所示的組成之外，藉由上述實施例1記載的方法，得到實施例2至14以及比較例1至10的附有黏著劑的偏光板。

3.3. 測試方法 3.3.1. 濕熱耐久性

將上述「3.2.附有黏著劑的偏光板之製作」所得之各附有黏著劑的偏光板，分別裁切為250mm×350mm，剝離PET膜後，貼附於玻璃基板上製作測試片，將此於60℃/95%RH下放置500小時，進行濕熱耐久性測試。該測試後，以肉眼觀察測試片所發生的起泡、浮起、剝落的狀態，再以下述基準評價耐久性。

[基準]

◎：沒有剝落

○：於4邊，從外圍端部至0.5mm以上的位置沒有剝落

△：於4邊，從外圍端部至0.5mm以上的位置有剝落，1.5mm以上的位置沒有剝落

X：於4邊，從外圍端部至0.5mm以上的位置沒有剝落

3.3.2. 乾燥後的白化耐性

將上述「3.2.附有黏著劑的偏光板之製作」所得之各附有黏著劑的偏光板，於120℃乾燥10分鐘後，使用霧度計HM-150(村上色彩技研研究所)所測定的霧度測定值，藉由以下的基準進行評價。

[基準]

◎：未達0.5%

○：0.5%以上且未達1%

△：1%以上且未達5%

X：5%以上

3.3.3. 薄片的老化性

將上述「3.2.附有黏著劑的偏光板之製作」所得之各附有黏著劑的偏光板，放入50℃的恆溫器10天，取出後於23℃的環境下靜置1天。然後，將該附有黏著劑的偏光板裁切成310mm×385mm的大小，使用積層滾輪，黏附於玻璃板的單面，接著，於調整為50℃、5大氣壓的高壓釜保持20分鐘，製作測試板。製作2片相同的測試板，分別於溫度60℃、濕度95%RH的條件下(耐濕)以及溫度80℃的條件下(耐熱)放置500小時，測試板之剝落的發生等以肉眼觀察，藉由以下的基準進行評價。

[基準]

◎：完全沒有觀察到剝落等的外觀不良。

○：僅觀察到少許剝落等的外觀不良，惟其係在沒有問題的範圍內。

△：僅觀察到少許剝落等的外觀不良。

X：明顯觀察到剝落等的外觀不良。

3.3.4. 濕熱後剝離力

將上述「3.2.附有黏著劑的偏光板之製作」所得之各附有黏著劑的偏光板，裁切成寬度25mm、長度100mm，使用積層滾輪，黏附於玻璃板的單面，保持於調整為50℃、5大氣壓的高壓釜20分鐘。取出，於23℃/50%的條件下靜置1小時後，測定從玻璃板以180°的角度剝離時的力，作為初期剝離力(P₀)。黏附於玻璃板、保持於調整為50℃、5大氣壓的高壓釜20分鐘後，放入60℃/90%的恆溫恆濕器24小時，取出後，於23℃/50%的條件下靜置1小時後，測定從玻璃板以180°的角度剝離時的力，作為濕熱後剝離力(P_p)。濕熱處理後的剝離力(P_p)與初期剝離力(P₀)的比(P_p/P₀)，作為濕熱後剝離力的評價。濕熱後，剝離力上升，亦即(P_p/P₀)的值越高，越不易引起在濕熱耐久測試下的剝落，耐久性良好。

3.3.5. 漏光

於19吋大小的液晶面板，以成為交叉尼柯爾(Cross Nicol)之方式貼合上述「3.2.附有黏著劑的偏光板之製作」所得之黏著型偏光板，於60℃/95%RH的環境下放置240小時後，於23℃/50%RH的環境下放置2小時。然後，以肉眼觀察漏光，用以下的基準評價。

[基準]

◎：沒有發生漏光。

○：在使用上沒有問題的程度範圍下，產生漏光。

△：在使用上有問題的程度範圍下，產生漏光。

X：在全面之廣範圍下，產生漏光。

再者，表3及表4中之縮寫為以下的意義。

CORONATE L：甲苯基二異氰酸酯系交聯劑(日本聚胺酯工業公司製)

CORONATE 342：甲苯基二異氰酸酯系交聯劑(日本聚胺酯工業公司製)

TETRAD X：胺型環氧系交聯劑(三菱瓦斯化學公司)

TETRAD C：胺型環氧系交聯劑(三菱瓦斯化學公司)

DENACOL EX-411：非胺型環氧系交聯劑(長瀨化學公司製)

KBM-403：矽烷偶合劑(3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、信越化學公司)

KAOLIZERNo.1：胺系交聯促進劑(花王公司)。

由表3的結果，上述實施例1至14的黏著劑層，其濕熱耐久性、乾燥後白化耐性、薄片老化性、濕熱後剝離力及漏光防止性佳。

更具體而言，上述實施例1至14的黏著劑組成物，包括(A)共聚物、(B)異氰酸酯系交聯劑以及(C)環氧系交聯劑，相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份，藉由前述(A)共聚物為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物，故使用上述實施例1至14的黏著劑組成物所得之黏著劑層，其乾燥後白化耐性佳。

乾燥後白化耐性為使用黏著劑組成物所得之黏著劑層的透明性之指標，所謂乾燥後白化耐性佳，係指使用黏著劑組成物所得之黏著劑層的透明性佳。

使用上述實施例1至14的黏著劑組成物所得之黏著劑層的透明性佳的理由，推測係因前述(A)共聚物為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物，而包含於該(A)共聚物的羧基，藉由與包含於前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或前述(C)環氧系交聯劑的官能基(或來自前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或前述(C)環氧系交聯劑的官能基)反應，而提高該(A)共聚物與該(B)異氰酸酯系交聯劑及該(C)環氧系交聯劑的相溶性。

而且，上述實施例1至14的黏著劑組成物，由於相對於前述(A)共聚物100質量份含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份，故使用上述實施例1至14的黏著劑組成物所得之黏著劑層，其濕熱耐久性、薄片老化性及濕熱後剝離力之評價佳。

使用上述實施例1至14的黏著劑組成物所得之黏著劑層之濕熱耐久性、薄片老化性及濕熱後剝離力之評價佳的理由，推測係在相對於前述(A)共聚物100質量份而言含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50重量份，因使用該黏著劑組成物所得之黏著劑層可具有適當的硬度，故光學構件的變形(偏光板)少，且如上述所述，因該(A)共聚物為含有超過0質量%且未達0.5質量%的前述含有羧基的單體之單體混合物之共聚物，而可抑制包含於該(A)共聚物的羧基的含量，故長期的信賴性佳。

相對於此，由表4的結果，上述比較例1至5的黏著劑層，因前述(A)共聚物係使用含有0.5質量%以上的(a1)含有羧基的單體之單體混合物的共聚物，故可理解其濕熱後剝離力差。其理由推測為包含於前述(A)共聚物的羧基與包含於前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或前述(C)環氧系交聯劑的官能基(或來自前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或來自前述(C)環氧系交聯劑的基)之反應經時產生的結果，為耐久性低之故。

更具體而言，比較例2的黏著劑層，該黏著劑層的製作所使用的黏著劑組成物，因不包含(C)成分、(D)成分，故耐久性差，伴隨龜裂產生剝落的結果，可理解漏光的產生。

而且，比較例3的黏著劑層，該黏著劑層的製作所使用的黏著劑組成物，因不包含(C)成分，可理解在濕熱條件下白化(黏著劑層白化，光的透過率低，結果漏光之評價良好)。

而且，由表4的結果，可理解上述比較例6的黏著劑層之乾燥後白化耐性差。其理由推測係於上述比較例6的黏著劑組成物，因前述(A)共聚物係使用不含前述含有羧基的單體的單體混合物之共聚物，使該(A)共聚物不含羧基，故該羧基與包含於前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或前述(C)環氧系交聯劑的官能基(或來自前述(B)異氰酸酯系交聯劑及/或前述(C)環氧系交聯劑的基)的反應不會發生，該(A)共聚物與該(B)異氰酸酯系交聯劑及該(C)環氧系交聯劑的相溶性低。

再者，由表4的結果，可理解上述比較例7的黏著劑層之濕熱耐久性及薄片老化性差。其理由推測係於上述比較例7的黏著劑組成物，因前述(A)共聚物係使用含有超過0.3質量%之(a3)含有羥基的單體之單體混合物的共聚物，使(a3)含有羥基的單體中的羥基與包含於其他成分的官能基反應，結果使用該黏著劑組成物所得之黏著劑層變得太硬。

再者，由表4的結果，可理解上述比較例8的黏著劑層之乾燥後白化耐性差。其理由推測係於上述比較例8的黏著劑組成物，因沒有使用前述(B)異氰酸酯系交聯劑，使包含於前述(A)共聚物的羧基與包含於該(B)異氰酸酯系交聯劑的官能基(或來自該(B)異氰酸酯系交聯劑的官能基)不易產生反應，因該(A)共聚物與該(B)異氰酸酯系交聯劑的相溶性低，故使用該黏著劑組成物所得之黏著劑層的透明性低。

再者，由表4的結果，可理解上述比較例9及10的黏著劑層之濕熱耐久性及濕熱後剝離力差。其理由推測係於上述比較例9及10的黏著劑組成物，因沒有使用前述(C)環氧系交聯劑，使包含於前述(A)共聚物的羧基與包含於該(C)環氧系交聯劑的官能基(或來自該(C)環氧系交聯劑之基)不易產生反應，故交聯不足使耐久性低。

Claims

一種光學構件用黏著劑組成物，包括：(A)共聚物；(B)異氰酸酯系交聯劑；以及(C)環氧系交聯劑；其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(B)異氰酸酯系交聯劑8至50質量份；其中相對於前述(A)共聚物100質量份而言，含有前述(C)環氧系交聯劑0.05至4質量份；前述(A)共聚物為重量平均分子量為50萬以上至200萬以下之丙烯酸系共聚物，係含有超過0質量%且未達0.5質量%的含有羧基的單體、0.3質量%以下的含有羥基的單體之單體混合物之共聚物。
如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中前述(B)異氰酸酯系交聯劑的含量與前述(C)環氧系交聯劑的調配量之關係為(B)：(C)=(10至40質量份)：(0.1至2質量份)。
如申請專利範圍第1或2項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中前述單體混合物為下述單體(a1)至(a4)之混合物(但前述單體(a1)至(a4)相加為100質量%)：(a1)含有羧基的單體：超過0質量%且未達0.5質量%；(a2)(甲基)丙烯酸烷酯單體：90至99.9質量%；(a3)含有羥基的單體：0至0.3質量%； (a4)前述(a1)至(a3)以外的共聚性單體：0至9質量%。
如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中進一步包括(D)矽烷偶合劑。
如申請專利範圍第4項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中相對於前述(A)共聚物100質量份，含有前述(D)矽烷偶合劑0.01至1質量份。
如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中前述(C)環氧系交聯劑具有環氧基及胺基。
如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物，其中進一步包括(E)鹼性化合物。
一種黏著片，其係將如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得。
一種積層體，包括：玻璃基板；偏光膜；以及設置於前述玻璃基板與前述偏光膜之間的黏著劑層，該黏著劑層係將如申請專利範圍第1項所述之光學構件用黏著劑組成物成形為膜狀後進行加熱、乾燥所得者。
如申請專利範圍第9項所述之積層體，其中前述玻璃基板為圖像顯示裝置所使用的玻璃基板。