TWI645796B - 足部穩定裝置 - Google Patents

Abstract

本發明為一種足部穩定裝置，其可以為鞋墊本體或鞋底本體，並且鞋墊本體上或是鞋底本體的足底接觸面上自前端向後端依序具有腳趾對應部、腳掌對應部、足弓對應部及足跟對應部，用以分別與使用者足部的腳趾、腳掌、足弓及足跟對應。本發明的特徵在於：於腳趾對應部的後端中央處至腳掌對應部的中間處縱向形成凹陷結構，可用以減少使用者足部於凹陷結構處的接觸力量，並且穩定足部以避免足部向前或是左右滑動。

Description

足部穩定裝置

本發明為一種足部穩定裝置，特別為一種利用凹陷結構減少足部接觸力量之足部穩定裝置。

人體的足部是由26跟骨頭及33個關節所組成，在這些骨頭及關節周圍更是由超過100條肌肉、肌腱、韌帶、血管、神經、肌膚與軟組織所包覆。無論是站立或是行走時，整個足部的運作工程都非常浩大。

由於足部主要是用來支撐人體骨骼、肌肉整體重量的結構，並且人體身上的肌肉與骨骼又是彼此相互交錯作用，當足部結構出現問題時，會同時連帶影響到膝蓋、骨盤，嚴重時甚至會使脊椎也跟著產生歪斜，更可能從骨骼結構而影響到臟器的功能。為解決並避免上述問題，足部醫學已開始逐漸被受到重視。

在國際足部醫學中，常利用鞋墊作為足部輔具，來矯正並處理足部發生的問題。然而現有的輔助鞋墊大都是根據人體足弓三點力學作為設計原理，使得足部足弓的橫足弓、內側足弓及外側足弓達到三點受力的平衡。雖然現有鞋墊有各式各樣的設計，但是即便在三點力學的三個支撐點-即第一蹠骨處、第五蹠骨處及足跟處進行凸起或凹陷的設計，又或是使用足跟杯的設計試圖包覆並穩定足部。然而在長時間行走後，足部仍舊 會因為肌肉疲累，使得足部與鞋墊的接觸位置會產生位移，使得足部會在鞋墊上滑動，反而使得足部發生不穩定的現象。

再加上足部的第二趾骨與第二蹠骨及第三趾骨與第三蹠骨附近的部份一般來說較其餘蹠骨更為凸出，若是在鞋墊上相對於此部位仍是一平坦面，在步行時，其每一次與鞋墊接觸時都會使得足部產生向前或左右滑動，並且破壞理想步態時的足部穩定度。

本發明為一種足部穩定裝置，藉由在鞋墊本體或是鞋底本體的足部接觸面上形成凹陷結構，可以減少使用者的足部對應於凹陷結構處的接觸力量，並且穩定足部以避免足部向前或是左右滑動。

本發明為一種足部穩定裝置，其係為一鞋墊本體，鞋墊本體由一鞋墊前端至一鞋墊後端依序具有一腳趾對應部、一腳掌對應部、一足弓對應部及一足跟對應部，其特徵在於鞋墊本體具有低於該鞋墊本體表面之一凹陷結構，且凹陷結構係由腳趾對應部的後端中央處縱向延伸至腳掌對應部的中間處；其中腳趾對應部的後端中央處即為對應於一第二腳趾及一第三腳趾之間的位置；腳掌對應部的中間處即為對應於一第二蹠骨及一第三蹠骨之間的位置。

本發明又提供一種足部穩定裝置，其係為一鞋底本體，鞋底本體具有一足底接觸面，足底接觸面由一鞋底前端至一鞋底後端依序具有一腳趾對應部、一腳掌對應部、一足弓對應部及一足跟對應部，其特徵在於足底接觸面具有低於該鞋底本體表面之一凹陷結構，且凹陷結構係由腳 趾對應部的後端中央處縱向延伸至腳掌對應部的中間處；其中腳趾對應部的後端中央處即為對應於一第二腳趾及一第三腳趾之間的位置；腳掌對應部的中間處即為對應於一第二蹠骨及一第三蹠骨之間的位置。

藉由本發明之實施，至少可以達成下列之進步功效：一、穩定足部的位置，避免足部向前或是左右滑動；以及二、讓使用者的步態趨近理想步態。

為了使任何熟習相關技藝者了解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點，因此將在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點。

10‧‧‧鞋墊本體

11‧‧‧鞋底本體

111‧‧‧足底接觸面

12a‧‧‧鞋墊前端

12b‧‧‧鞋底前端

13a‧‧‧鞋墊後端

13b‧‧‧鞋底後端

21‧‧‧腳趾對應部

22‧‧‧腳掌對應部

23‧‧‧足弓對應部

24‧‧‧足跟對應部

30、30a‧‧‧凹陷結構

31‧‧‧輔助凹陷結構

32a、32b‧‧‧漸細端部

33‧‧‧對稱線

40‧‧‧軟物質

51‧‧‧第一平衡凸點

52‧‧‧第二平衡凸點

[第1圖]為一種螺絲噴塗後產生塗料不良沾黏之示意圖；[第1圖]為本發明實施例之一種凹陷結構為卵圓形之足部穩定裝置示意圖；[第2圖]為本發明實施例之另一種凹陷結構為卵圓形之足部穩定裝置示意圖；[第3圖]為使用者足部踏放於第1圖或第2圖所示之足部穩定裝置之示意圖；[第4圖]為本發明實施例之一種凹陷結構為扁長橢圓形之足部穩定裝置示意圖；[第5圖]為本發明實施例之另一種凹陷結構為扁長橢圓形之足部穩定裝置示意圖；[第6圖]為使用者足部踏放於第4圖或第5圖所示之足部穩定裝置之示意圖； [第7圖]為第4圖所示之足部穩定裝置進一步包括輔助凹陷結構之示意圖；[第8圖]為第5圖所示之足部穩定裝置進一步包括輔助凹陷結構之示意圖；[第9圖]為使用者足部踏放於第7圖或第8圖所示之足部穩定裝置之示意圖；[第10圖]為本發明實施例之一種凹陷結構為下表面凹陷結構之剖面示意圖；[第11圖]為本發明實施例之一種凹陷結構為上下表面同時凹陷結構之剖面示意圖；[第12圖]為本發明實施例之一種以軟物質構成凹陷結構及輔助凹陷結構之足部穩定裝置；[第13圖]為沿第12圖中A-A剖線之剖視示意圖；[第14圖]為本發明實施例之另一種以軟物質構成凹陷結構及輔助凹陷結構之足部穩定裝置；[第15圖]為沿第14圖中B-B剖線之剖視示意圖；[第16圖]為本發明實施例之一種進一步包括平衡凸點之足部穩定裝置示意圖；以及[第17圖]為本發明實施例之另一種進一步包括平衡凸點之足部穩定裝置示意圖。

如第1圖及第2圖所示，本實施例為一種足部穩定裝置，其可以為鞋墊本體10或鞋底本體11。

如第1圖所示，由鞋墊本體10的鞋墊前端12a至鞋墊後端13a依序具有一腳趾對應部21、一腳掌對應部22、一足弓對應部23及一足跟對 應部24。而如第2圖所示，鞋底本體11具有一足底接觸面111，鞋體可以沿著鞋底本體11輪廓的邊緣設置以建構鞋體結構；於足底接觸面111的鞋底前端12b至鞋底後端13b亦依序具有腳趾對應部21、腳掌對應部22、足弓對應部23及足跟對應部24。

如第3圖所示，足部可以分為前足、中足及後足三個主要部份，前述的腳趾對應部21與腳掌對應部22即對應於使用者的前足，前足由五支腳趾趾骨、連接腳趾趾骨的蹠骨及所組成，其中趾骨是由許多小骨頭所組成，蹠骨與趾骨連接以構成前腳掌。後足有七塊足跟骨，這些足跟骨由韌帶聯繫在一起，並且與五根並列的蹠骨連接，主要適用來支撐使用者的體重及保持身體平衡的作用。足部的中足部份則是由具有拱型結構的足弓所組成，而足弓包括橫向足弓、內側足弓及外側足弓，這些足弓可以吸收來自地面的反作用力、分散重量，以維持正常足部的行進時的功能。

當使用者的足部踏於鞋墊本體10或是鞋底本體11時，其腳趾便是位在腳趾對應部21上，並且使用者的蹠骨則會位於腳掌對應部22上，足弓位於足弓對應部23上，而足跟便位在足跟對應部24上。

如第1圖至第3圖所示，本實施例之特徵在於鞋墊本體10或鞋底本體11的接觸面上形成有一凹陷結構30，且凹陷結構30的位置是位在腳掌對應部22上，並由腳趾對應部21的後端中央處縱向延伸至腳掌對應部22的中間處。腳趾對應部21的後端中央處即為當足部踏於鞋墊本體10或鞋底本體11時，對應於足部第二腳趾及第三腳趾之間的位置；腳掌對應部22的中間處即為當足部踏於鞋墊本體10或鞋底本體11時，對應於足部第二蹠骨及第三蹠骨之間的位置。

凹陷結構30的寬度為鞋墊本體10或足底接觸面111寬度的三分之一，也就是將鞋墊本體10或足底接觸面111在橫向方向分為三等 分，而凹陷結構30便是位於鞋墊本體10或足底接觸面111橫向方向上的中間處。凹陷結構30的形狀可以為一卵圓形(亦可看作三個角皆為圓角的三角形)，並且卵圓形鄰近於腳趾對應部21處具有一漸細端部32a，以配合人體的腳底由蹠骨朝趾骨逐漸漸細的形狀。藉由將凹陷結構30設置於腳趾對應部21的後端中央處縱向延伸至腳掌對應部22的中間處，可以讓使用者於行走落下步伐及抬起步伐時，減少第二蹠骨與第三蹠骨與鞋墊本體10及鞋底本體11的接觸面積及接觸力量，進而改善足部向前或左右滑動之干擾。

如第4圖至第6圖所示，凹陷結構30a還可進一步朝足跟對應部24延伸並延伸至足弓對應部23的前端，使其形狀由卵圓形改為更為理想的扁長橢圓形，以擴大凹陷結構30a的面積；同樣地，扁長橢圓形之兩端分別具有一漸細端部32b，且凹陷結構30a的寬度為鞋墊本體10或足底接觸面111寬度的三分之一。藉由凹陷結構30a的設置，可以讓使用者的步態更為穩定，並降低使用者足部的第二蹠骨與第三蹠骨朝向趾溝位置處以及朝向足跟位置處與凹陷結構30a間的接觸力量，並解決於走路時足部向前滑動的困擾。

無論是卵圓形(亦可看作三個角皆為圓角的三角形)或是扁長橢圓形都是一種細長的形狀，可以配合足部骨骼長形的型態，相較於傳統圓形輔助結構，可以更為有效地達到穩定足部的功效。

配合不同的鞋墊本體10或鞋底本體11的尺碼，形狀為扁長橢圓形的凹陷結構30的長度可以介於8.5公分至12公分之間或是介於8.8公分至11.7公分之間，且其寬度可以介於2.5公分至4公分之間，或是介於2.8公分至3.7公分之間。

如第7圖至第9圖所示，為了進一步減少使用者的外側足弓的受力，於鞋墊本體10或鞋底本體11的足底接觸面111上還可以進一步包括 一輔助凹陷結構31。輔助凹陷結構31位於足弓對應部23之一側端，也就是設置於相對於外側足弓的位置。輔助凹陷結構31的形狀為一彎月形，並且沿著鞋墊本體10或足底接觸面111的邊緣設置，也就是讓彎月形的短弧邊沿著邊緣設置。雖然圖並未全部繪製出，但輔助凹陷結構31可以與卵圓形或是扁長圓形的凹陷結構30、30a任意相互選用配合。輔助凹陷結構31同樣可以減少使用者足部外側足弓與鞋墊本體10與鞋底本體11的接觸力量，並且穩定足部避免足部左右搖晃。

如之前各圖式所示，前述凹陷結構30、30a或輔助凹陷結構31可以是一上表面凹陷結構，而如第10圖及第11圖所示，當足部穩定裝置是鞋墊本體10時，以凹陷結構30a為例，其也可為一下表面凹陷結構或一上下表面同時凹陷結構。雖然圖未示，但是輔助凹陷結構31同樣也可以是下表面凹陷結構或上下表面同時凹陷結構。主要是要減弱於凹陷結構30、30a或輔助凹陷結構31處的鞋墊本體10的結構強度，藉此使足部踏放於鞋墊本體10上時，減少足部第二蹠骨及第三蹠骨周圍的接觸力量。

又如第12圖及第13圖所示，凹陷結構30a或輔助凹陷結構31也可以由一軟物質40所構成，並且軟物質40的硬度小於鞋墊本體10或鞋底本體11的硬度。舉例來說，以剖視圖來看可以於凹陷結構30a或輔助凹陷結構31處移除部份鞋墊本體10後，再將軟物質40填充固定於鞋墊本體10上。雖然僅以凹陷結構30a為例，但凹陷結構30同樣也可由軟物質所構成，以達到降低結構強度並減少接觸力量的目的。

如第14圖及第15圖所示，欲在鞋底本體11上使用軟物質40製作凹陷結構30、30a或輔助凹陷結構31時，可以僅移除足底接觸面111上對應於凹陷結構30、30a或輔助凹陷結構31部份的鞋底本體11，再將軟物質40填充固定於鞋底本體11上。

如第16圖所示，當凹陷結構的形狀為卵圓形時，為了進一步提高足部踩踏於凹陷結構30上的穩定性，於凹陷結構30的區域內進一步設置有一第一平衡凸點51。第一平衡凸點51位在凹陷結構30的對稱線33上，該對稱線33即為凹陷結構30的中心線，並且凹陷結構30相對於對稱線33的左右兩側大致彼此對稱。其中，第一平衡凸點51的高度仍舊低於鞋墊本體10或鞋底本體11的表面高度，藉此使得在減少使用者足底與鞋墊本體10或鞋底本體11的接觸面積及接觸力量的同時，還可以利用第一平衡凸點51達到支撐並平衡使用者足部的目的。

為了再進一步提高支撐及平衡的效果，可在凹陷結構30的區域外側，並在腳掌對應部22內再增設一第二平衡凸點52，第二平衡凸點52乃是位在對稱線33的延長線上，同樣地第二平衡凸點52的高度也低於鞋墊本體10或鞋底本體11的表面高度。

如第17圖所示，當凹陷結構30a的形狀為扁長橢圓形時，也可以在凹陷結構30a的區域內設置第一平衡凸點51及第二平衡凸點52，並且第一平衡凸點51及第二平衡凸點52皆位在凹陷結構30a的對稱線33上，而且第一平衡凸點51及第二平衡凸點52的高度也都低於鞋墊本體10或鞋底本體11的表面高度。同樣可達到支撐並平衡使用者足部的目的。

藉由本實施例各實施態樣的實施，可以達到減少使用者足部與鞋墊本體10或鞋底本體11的接觸力量，改善第二蹠骨及第三蹠骨周圍的足部摩擦鞋墊本體10與鞋底本體11的問題，進而提高足部的穩定度。

惟上述各實施例係用以說明本發明之特點，其目的在使熟習該技術者能瞭解本發明之內容並據以實施，而非限定本發明之專利範圍，故凡其他未脫離本發明所揭示之精神而完成之等效修飾或修改，仍應包含 在以下所述之申請專利範圍中。

Claims (19)

1. 一種足部穩定裝置，其係為一鞋墊本體，該鞋墊本體由一鞋墊前端至一鞋墊後端依序具有一腳趾對應部、一腳掌對應部、一足弓對應部及一足跟對應部，其特徵在於該鞋墊本體具有低於該鞋墊本體表面之一凹陷結構，且該凹陷結構係由該腳趾對應部的後端中央處縱向延伸至該腳掌對應部的中間處；其中腳趾對應部的後端中央處即為對應於一第二腳趾及一第三腳趾之間的位置；腳掌對應部的中間處即為對應於一第二蹠骨及一第三蹠骨之間的位置。
2. 如申請專利範圍第1項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構的寬度為該鞋墊本體寬度的三分之一，且該凹陷結構的形狀為一卵圓形，該卵圓形鄰近該腳趾對應部處具有一漸細端部。
3. 如申請專利範圍第1項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構進一步朝該足跟對應部延伸並延伸至該足弓對應部的前端，且該凹陷結構的寬度為該鞋墊本體寬度的三分之一，其形狀為一扁長橢圓形，該扁長橢圓形之兩端分別具有一漸細端部。
4. 如申請專利範圍第3項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構的長度介於8.5公分至12公分之間，且其寬度介於2.5公分至4公分之間。
5. 如申請專利範圍第2項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一輔助凹陷結構，其係位於該足弓對應部之一側端，並且沿著該鞋墊本體的邊緣設置，其形狀為一彎月形，用以減少使用者的外側足弓受力。
6. 如申請專利範圍第3項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一輔助凹陷結構，其係位於該足弓對應部之一側端，並且沿著該鞋墊本體的邊緣設置，其形狀為一彎月形，用以減少使用者的外側足弓受力。
7. 如申請專利範圍第1項至第6項中之任一項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構或該輔助凹陷結構係為一上表面凹陷結構、一下表面凹陷結構或一上下表面同時凹陷結構。
8. 如申請專利範圍第1項至第6項中之任一項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構或該輔助凹陷結構係被一軟物質所填充，該軟物質之硬度小於該鞋墊本體之硬度。
9. 一種足部穩定裝置，其係為一鞋底本體，該鞋底本體具有一足底接觸面，該足底接觸面由一鞋底前端至一鞋底後端依序具有一腳趾對應部、一腳掌對應部、一足弓對應部及一足跟對應部，其特徵在於該足底接觸面具有低於該鞋底本體表面之一凹陷結構，且該凹陷結構係由該腳趾對應部的後端中央處縱向延伸至該腳掌對應部的中間處；其中腳趾對應部的後端中央處即為對應於一第二腳趾及一第三腳趾之間的位置；腳掌對應部的中間處即為對應於一第二蹠骨及一第三蹠骨之間的位置。
10. 如申請專利範圍第9項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構的寬度為該足底接觸面寬度的三分之一，且該凹陷結構的形狀為一卵圓形，該卵圓形鄰近該腳趾對應部處具有一漸細端部。
11. 如申請專利範圍第9項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構進一步朝該足跟對應部延伸並延伸至該足弓對應部的前端，且該凹陷結構的寬度為該足底接觸面寬度的三分之一，其形狀為一扁長橢圓形，該扁長橢圓形之兩端分別具有一漸細端部。
12. 如申請專利範圍第11項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構的長度介於8.5公分至12公分之間，且其寬度介於2.5公分至4公分之間。
13. 如申請專利範圍第10項所述之足部穩定裝置，其進一步包 括一輔助凹陷結構，其係位於該足弓對應部之一側端，並且沿著該足底接觸面的邊緣設置，其形狀為一彎月形，用以減少使用者的外側足弓受力。
14. 如申請專利範圍第11項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一輔助凹陷結構，其係位於該足弓對應部之一側端，並且沿著該足底接觸面的邊緣設置，其形狀為一彎月形，用以減少使用者的外側足弓受力。
15. 如申請專利範圍第9項至第14項中之任一項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構或該輔助凹陷結構係為一上表面凹陷結構。
16. 如申請專利範圍第9項至第14項中之任一項所述之足部穩定裝置，其中該凹陷結構或該輔助凹陷結構係被一軟物質所填充，該軟物質之硬度小於該鞋底本體之硬度。
17. 如申請專利範圍第2項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一第一平衡凸點，該第一平衡凸點位在該凹陷結構之區域內，並且位在該凹陷結構之一對稱線上。
18. 如申請專利範圍第17項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一第二平衡凸點，該第二平衡凸點位在該凹陷結構區域之外側並位在該對稱線之延長線上。
19. 如申請專利範圍第3項所述之足部穩定裝置，其進一步包括一第一平衡凸點及一第二平衡凸點，該第一平衡凸點及該第二平衡凸點皆位在該凹陷結構區域內，且皆位在該凹陷結構之一對稱線上。