TWI640358B - 電暈放電表面處理裝置 - Google Patents

Abstract

一種電暈放電表面處理裝置，其可包含放電電極及接地電極。放電電極可包含氣腔、氣體注入口、氣體排放口及放電表面，氣體注入口可透過氣腔與氣體排放口連結，氣體排放口可與放電表面連結，氣體注入口可用於注入製程氣體，使製程氣體流入氣腔，並可透過氣體排放口由放電表面排出。接地電極可與放電電極的放電表面相對設置，並可與放電電極之間形成電位差，使製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化產生電暈放電現象以對設置於放電電極與接地電極之間的待處理物進行表面改質處理。

Description

電暈放電表面處理裝置

本發明係有關於一種表面處理裝置，特別是一種採用高壓電弧離子放電技術的電暈放電表面處理裝置。

為了改變物體表面的性質，使其具有良好的特性，各種不同的表面改質技術也就應運而生。其中，電暈放電表面處理技術為一種常用的表面改質技術，其可將待處理物放置於電暈放電表面處理裝置的正電極與負電極之間，並透過正電極與負電極之間的電位差使正電極與負電極之間使工作氣體離子化產生電暈放電現象以產生電漿，藉此對待處理物的表面進行表面改質，例如清潔、接枝、鍍膜及蝕刻等等效果。

此外，習知技藝之電暈放電表面處理裝置通常是利用環境中自然存在的氣體來做為工作氣體，無法再利用其它的製程氣體來進行表面改質處理，因此僅能夠進行單一功能的表面改質處理，故功能上受到很大的限制。

此外，習知技藝之電暈放電表面處理裝置通常是利用環境中自然存在的氣體來做為工作氣體，故工作氣體中可能包含一些隨機不可控的成份，而這些成份可能不利於表面改質處理，因此其表面改質效果較不穩定，無法達到理想的表面改質效果。

因此，如何提出一種電暈放電表面處理裝置，能夠有效改善習知技藝之電暈放電表面處理裝置使用上受到很大的限制的情況及效果不佳的情況 已成為一個刻不容緩的問題。

有鑑於上述習知技藝之問題，本發明之其中一目的就是在提供一種高壓電弧離子放電表面處理裝置，以解決習知技藝之電暈放電表面處理裝置容易產生用上受到很大的限制的情況及效果不佳的問題。

根據本發明之其中一目的，提出一種電暈放電表面處理裝置，其可包含放電電極及接地電極。放電電極可包含氣腔、氣體注入口、氣體排放口及放電表面，氣體注入口可透過氣腔與氣體排放口連結，氣體排放口可與放電表面連結，氣體注入口可用於注入製程氣體，使製程氣體流入氣腔，並可透過氣體排放口由放電表面排出。接地電極可與放電電極的放電表面相對設置，並可與放電電極之間形成電位差，使製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化產生電暈放電現象以對設置於放電電極與接地電極之間的待處理物進行表面改質處理。

在一較佳的實施例中，放電電極可包含電極本體及絕緣材料蓋體，絕緣材料蓋體可設置於電極本體之一側，並可與電極本體之間形成氣腔。

在一較佳的實施例中，放電電極可為多齒放電電極。

在一較佳的實施例中，製程氣體可為水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷(C₆H₁₈OSi₂)及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或二個以上的一混合氣體。

在一較佳的實施例中，放電電極可為線放電電極、卡槽放電電極或金屬板電極。

在一較佳的實施例中，氣體注入口可設置於該絕緣材料蓋體上，該電極本體之另一側為該放電表面，並包含該氣體排放口。

在一較佳的實施例中，多齒放電電極可包含設置於放電表面的至少一 電極齒，且電極齒可包含通道，且通道可與氣體排放口連結。

在一較佳的實施例中，通道可包含導流道，導流道可由氣體排放口延伸至電極齒之底部。

在一較佳的實施例中，導流道可由氣體排放口延伸至電極齒之底部，且導流道之寬度可逐漸增加但厚度可逐漸減少。

根據本發明之其中一目的，再提出一種電暈放電表面處理裝置，其可包含放電電極及接地電極。放電電極可包含第一氣腔、第二氣腔、氣體注入口、第一氣體排放口及第二氣體排放口及放電表面，第一氣體注入口可透過第一氣腔與第一氣體排放口連結，第二氣體注入口可透過第二氣腔與第二氣體排放口連結，第一氣體排放口及第二氣體排放口可與放電表面連結，第一氣體注入口可用於注入第一製程氣體，使第一製程氣體可流入第一氣腔，並可透過第一氣體排放口由放電表面排出，第二氣體注入口可用於注入第二製程氣體，使第二製程氣體可流入第二氣腔，並可透過第二氣體排放口由放電表面排出。接地電極可與放電電極的放電表面相對設置，並可與放電電極之間形成電位差，使第一製程氣體及第二製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化產生電暈放電現象以對設置於放電電極與接地電極之間的待處理物進行表面改質處理。

在一較佳的實施例中，放電電極可包含電極本體及絕緣材料蓋體，絕緣材料蓋體可設置於電極本體之一側，並可與電極本體之間形成空間，而第一氣體注入口及第二氣體注入口則可設置於絕緣材料蓋體上，電極本體之另一側可為放電表面，並可包含第一氣體排放口及第二氣體排放口。

在一較佳的實施例中，放電電極可為多齒放電電極。

在一較佳的實施例中，製程氣體可為水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷(C₆H₁₈OSi₂)及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或 二個以上的一混合氣體。

在一較佳的實施例中，放電電極可為線放電電極、卡槽放電電極或金屬板電極。

在一較佳的實施例中，放電電極更可包含隔板，隔板可設置於電極本體及絕緣材料蓋體之間，並可將空間分隔為第一氣腔及第二氣腔。

在一較佳的實施例中，多齒放電電極可包含設置於放電表面的第一電極齒，且第一電極齒可包含第一通道，且第一通道可與第一氣體排放口連結。

在一較佳的實施例中，隔板可包含負壓通道，負壓通道可於放電表面與接地電極之間形成負壓區。

在一較佳的實施例中，多齒放電電極更可包含設置於放電表面的第二電極齒，且第二電極齒可包含第二通道，且第二通道可與第二氣體排放口連結。

在一較佳的實施例中，第一通道可包含導流道，導流道可由氣體排放口延伸至第一電極齒之底部，且導流道之寬度可逐漸增加但厚度逐漸減少。

在一較佳的實施例中，第二通道可包含導流道，導流道可由氣體排放口延伸至第二電極齒之底部，且導流道之寬度可逐漸增加但厚度逐漸減少。

承上所述，依本發明之電暈放電表面處理裝置，其可具有一或多個下述優點：

(1)本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可氣腔、氣體注入口、氣體排放口及通道等特殊結構，因此可以通入特定的製程氣體與環境中的工作氣體進行反應，因此可以有效排除存在於通道CH中的隨機氣體，故可 以達到良好的表面改質效果。

(2)本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可包含多齒放電電極，且各個電極齒中可包含與氣體排放口連結之通道，使各個電極齒形成U字型結構，如此可使製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化後容易順勢由放電電極流向接地電極，形成高度的指向性，因此可以達到均勻的表面改質效果。

(3)本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極之特殊結構不但可應用於多齒放電電極，更可應用於線放電電極、卡槽放電電極或金屬板電極等等，因此應用於更為廣泛。

(4)本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極可包含隔板，使放電電極可包含二個(或以上)的氣腔，且各個氣腔可通入不同的製程氣體，並由不同的電極齒排出，因此使電暈放電表面處理裝置一次即可執行二種(或以上)表面改質處理，以達到更為多樣且複雜的表面改質效果，使電暈放電表面處理裝置具更多的功能。

(5)本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極之隔板更可包含負壓通道，其可形成負壓區以有效隔絕由相鄰二電極齒排出的不同製程氣體，使不同製程氣體不致於混合，有效地避免了不同製程氣體之間產生擾動混氣的現象，使參數容易控制，進一步提升了電暈放電表面處理裝置的效能。

1‧‧‧電暈放電表面處理裝置

11‧‧‧放電電極

111‧‧‧電極本體

1111‧‧‧電極齒

1111A‧‧‧第一電極齒

1111B‧‧‧第二電極齒

112‧‧‧絕緣材料蓋體

12‧‧‧接地電極

C‧‧‧氣腔

C1‧‧‧第一氣腔

C2‧‧‧第二氣腔

CH‧‧‧通道

CH1‧‧‧第一通道

CH2‧‧‧第二通道

IL‧‧‧氣體注入口

IL1‧‧‧第一氣體注入口

IL2‧‧‧第二氣體注入口

OL‧‧‧氣體排放口

OL1‧‧‧第一氣體排放口

OL2‧‧‧第二氣體排放口

G‧‧‧導流道

D‧‧‧放電表面

PG‧‧‧製程氣體

PG1‧‧‧第一製程氣體

PG2‧‧‧第二製程氣體

NC‧‧‧負壓通道通道畫大一點，上下都加孔

第1圖 係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第一實施例之第一示意圖。

第2圖 係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第一實施例之第二示意圖。

第3圖 係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第一實施例之第三示意圖。

第4圖 係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第二實施例之示意圖。

第5圖 係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第三實施例之示意圖。

以下將參照相關圖式，說明依本發明之電暈放電表面處理裝置之實施例，為使便於理解，下述實施例中之相同元件係以相同之符號標示來說明。

請參閱第1圖及第2圖，其係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第一實施例之第一示意圖及第二示意圖。如圖所示，電暈放電表面處理裝置1可包含放電電極11及接地電極12。

放電電極11可包含電極本體111及絕緣材料蓋體112；在本實施例中，放電電極11可為多齒放電電極，其電極本體111可包含複數個電極齒1111；而在其它較佳的實施例中，放電電極11也可為線放電電極、卡槽放電電極或金屬板電極等等。

絕緣材料蓋體112可設置於電極本體111之一側，絕緣材料蓋體112可為中空，使絕緣材料蓋體112設置於電極本體111之一側時可與電極本體111之間形成氣腔C，絕緣材料蓋體112並可設置有氣體注入口IL。

電極本體111之另一側可為放電表面D，且電極本體111可設置有複數個氣體排放口OL，各個氣體排放口OL可透過氣腔C與氣體注入口IL連結，而放電表面D則可透過該些氣體排放口OL與氣腔C連結，使製程氣體PG可由氣體注入口IL注入，並可流入氣腔C。

此外，電極本體111之各個電極齒1111可包含通道CH，使各個電極 齒1111形成一U形結構，且各個電極齒1111之通道CH與部份的氣體排放口OL連結，故氣腔C內的製程氣體PG可順勢由該些氣體排放口OL進入各個電極齒1111之通道CH由電極本體111之放電表面D排出；在較佳的實施例中，製程氣體PG可為水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷(C₆H₁₈OSi₂)及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或二個以上的一混合氣體；若上述物質為液體則需先氣化或霧化為氣體或氣膠才能做為製程氣體。當然，也可透過特殊的製作程序直接在多齒放電電極中形成氣腔的結構。

接地電極12可與放電電極11的放電表面D相對設置，並可與放電電極11之間形成電位差，使由氣體排放口OL排出的製程氣體PG與環境中的工作氣體(此工作氣體可用於產生電漿，工作氣體可為大氣、氬氣、氖氣及氮氣等等)反應並離子化產生電暈放電現象，藉此對設置於放電電極11與接地電極12之間的待處理物(未繪於圖中)進行表面改質處理。

電暈放電表面處理裝置1可包含氣腔C、氣體注入口IL、氣體排放口OL及通道CH等特殊結構，因此可以通入特定的製程氣體PG與環境中的工作氣體進行反應，此外，由於製程氣體PG由通道CH排出，其可提供排擠作用，以排除存在於通道CH中的隨機氣體，因此可以控制表面改質處理所需要的環境，故可以達到良好的表面改質效果。

此外，電暈放電表面處理裝置1之多齒放電電極11之各個電極齒1111中可包含與氣體排放口OL連結之通道CH，故製程氣體PG與環境中的工作氣體反應並離子化後容易順勢由放電電極11流向接地電極12，形成高度的指向性，因此可以達到可達到更佳的表面改質效果。

當然，上述僅為舉例，電暈放電表面處理裝置1之結構還可以實際需求做不同的變化，本發明並不以此為限。

請參閱第3圖，其係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第一實施例之第三示意圖。如圖所示，各個電極齒1111之通道CH可包含多個導流道G，其分別對應於該些氣體排放口OL，使各個電極齒1111可形成風刀結構，各個導流道G由氣體排放口OL延伸至電極齒1111之底部，導流道G之寬度可逐漸增加但厚度可逐漸減少，如此可使製程氣體PG更均勻地由通道CH流向由電極齒1111之底部排出，因此可以達到可達到更佳的表面改質效果。

當然，上述僅為舉例，電極齒1111之通道CH之結構還可以實際需求做不同的變化，本發明並不以此為限。

提得一提的是，知技藝之電暈放電表面處理裝置通常是利用環境中自然存在的氣體來做為工作氣體，故工作氣體中可能包含一些隨機不可控的成份，而這些成份可能不利於表面改質處理，因此其表面改質效果較不穩定，無法達到理想的表面改質效果。相反的，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可氣腔、氣體注入口、氣體排放口及通道等特殊結構，因此可以通入特定的製程氣體與環境中的工作氣體進行反應，因此可以有效排除存在於通道中的隨機氣體，故可以達到良好的表面改質效果，故使用上極具彈性。

又，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可包含多齒放電電極，且各個電極齒中可包含與氣體排放口連結之通道，使各個電極齒形成U字型結構，如此可使製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化後容易順勢由放電電極流向接地電極，形成高度的指向性，因此電暈放電表面處理裝置可以達到均勻的表面改質效果。

另外，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極之特殊結構不但可應用於多齒放電電極，更可應用於線放電電極、卡槽放電電 極或金屬板電極等等，因此應用於更為廣泛。由上述可知，本發明實具進步性之專利要件。

請參閱第4圖，其係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第二實施例之示意圖。如圖所示，電暈放電表面處理裝置1可包含放電電極11及接地電極12。

放電電極11可包含電極本體111、絕緣材料蓋體112及隔板113；在本實施例中，放電電極11可為多齒放電電極，其電極本體111可包含複數個第一電極齒1111A及複數個第二電極齒1111B。

絕緣材料蓋體112可設置於電極本體111之一側，絕緣材料蓋體112可為中空，使絕緣材料蓋體112設置於電極本體111之一側時可與電極本體111之間形成一空間，絕緣材料蓋體112並可設置有第一氣體注入口IL1及第二氣體注入口IL2。

隔板113可設置於電極本體111及絕緣材料蓋體112之間，並可將電極本體111及絕緣材料蓋體112之間的空間分隔為第一氣腔C1及第二氣腔C2。

電極本體111之另一側可為放電表面D，且電極本體111可設置有複數個第一氣體排放口OL1及複數個第二氣體排放口OL2，各個第一氣體排放口OL1可透過第一氣腔C1與第一氣體注入口IL1連結，各個第二氣體排放口OL2可透過第二氣腔C2與第二氣體注入口IL2連結，而放電表面D則可透過該些第一氣體排放口OL1及該些第二氣體排放口OL2分別與第一氣腔C1及第二氣腔C2連結，使第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2可由第一氣體注入口IL1及第二氣體注入口IL2注入，並可分別流入第一氣腔C1及第二氣腔C2。

此外，電極本體111之該些第一電極齒1111A可對應於該些第一氣體 排放口OL1，且各個第一電極齒1111A可包含第一通道CH1，使各個第一電極齒1111A形成一U形結構，且各個第一電極齒1111A之第一通道CH1與部份的第一氣體排放口OL1連結，故第一氣腔C1內的第一製程氣體PG1可順勢由該些第一氣體排放口OL1進入各個第一電極齒1111A之第一通道CH1由電極本體111之放電表面D排出。

同樣的，電極本體111之該些第二電極齒1111B可以對應於該些第二氣體排放口OL2，且各個第二電極齒1111B可包含第二通道CH2，使各個第二極齒1111B形成一U形結構，且各個第二電極齒1111B之第二通道CH2與部份的第二氣體排放口OL2連結，故第二氣腔C2內的第二製程氣體PG2可順勢由該些第二氣體排放口OL2進入各個第二電極齒1111B之第二通道CH2由電極本體111之放電表面D排出。

第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2可為不同的氣體，如此使電暈放電表面處理裝置1一次即可執行二種(或以上)表面改質處理，使電暈放電表面處理裝置1具更多的功能；在較佳的實施例中，第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2可為水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷(C₆H₁₈OSi₂)及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或二個以上的一混合氣體；若上述物質為液體則需先氣化或霧化為氣體或氣膠才能做為製程氣體。

接地電極12可與放電電極11的放電表面D相對設置，並可與放電電極11之間形成電位差，使由該些第一氣體排放口OL1及該些該些第二氣體排放口OL2排出的第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2與環境中的工作氣體反應並離子化產生電暈放電現象，藉此對設置於放電電極11與接地電極12之間的待處理物(未繪於圖中)進行二種(或以上)的表面改質處理。

此外，隔板113更可包含負壓通道NC，其可包含複數個負壓通道孔 NCH，此負壓通道NC於放電表面D與接地電極112之間形成負壓區，以隔絕由該些第一氣體排放口OL1及該些該些第二氣體排放口OL2分別排出的第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2。由於第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2由該些第一氣體排放口OL1及該些該些第二氣體排放口OL2分別排出後在隔板113之間的交界處可能會有擾動混氣的現象，因此在實際的應用上並不利於控制參數，而負壓通道NC則可以用於有效地隔絕第一製程氣體PG1及第二製程氣體PG2，以避免上述擾動混氣的現象產生，故也有效地解決上述的問題。

當然，上述僅為舉例，電暈放電表面處理裝置1之結構還可以包含更多的氣腔，以注入更多種不同的製程氣體，而其它結構也可實際需求做不同的變化，本發明並不以此為限。

值得一提的是，習知技藝之電暈放電表面處理裝置由於設計上的缺失，故無法達到較佳的表面改質效果，因此效能較為低落；此外，習知技藝之電暈放電表面處理裝置通常是利用環境中自然存在的氣體來做為工作氣體，無法再利用其它的製程氣體來進行表面改質處理，因此僅能夠進行單一功能的表面改質處理，故功能上受到很大的限制。相反的，在本實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極具特殊的結構設計，更可達到較佳的表面改質效果；此外，電暈放電表面處理裝置之放電電極可包含隔板，使放電電極可包含二個(或以上)的氣腔，且各個氣腔可通入不同的製程氣體，並由不同的電極齒排出，因此使電暈放電表面處理裝置一次即可執行二種(或以上)表面改質處理，以達到更為多樣且複雜的表面改質效果，因此使得電暈放電表面處理裝置可以具更多的功能。

此外，電暈放電表面處理裝置之放電電極之隔板更可包含負壓通道，其可形成負壓區以有效隔絕由相鄰二電極齒排出的不同製程氣體，使不同 製程氣體不致於混合，有效地避免了不同製程氣體之間產生擾動混氣的現象，使參數容易控制，進一步提升了電暈放電表面處理裝置的效能。

請參閱第5圖，其係為本發明之電暈放電表面處理裝置之第三實施例之示意圖。如圖所示，電暈放電表面處理裝置1可包含放電電極11及接地電極12。

放電電極11可包含電極本體111及絕緣材料蓋體112。

而與前述實施例不同的是，在本實施例中，放電電極11可為金屬板電極。而電暈放電表面處理裝置1的其它結構與前述實施例大致相同，故不在此多加贅述。

當然，上述僅為舉例，電暈放電表面處理裝置1之結構還可以實際需求做不同的變化，本發明並不以此為限。

綜上所述，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可氣腔、氣體注入口、氣體排放口及通道等特殊結構，因此可以通入特定的製程氣體與環境中的工作氣體反應，因此可以有效排除存在於通道CH中的隨機氣體，故可以達到良好的表面改質效果，使用上極具彈性。

又，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置可包含多齒放電電極，且各個電極齒中可包含與氣體排放口連結之通道，使各個電極齒形成U字型結構，如此可使製程氣體與環境中的工作氣體反應並離子化後容易順勢由放電電極流向接地電極，形成高度的指向性，因此可以達到均勻的表面改質效果。

另外，習知技藝之電暈放電表面處理裝置通常是利用環境中自然存在的氣體來做為工作氣體，無法再利用其它的製程氣體來進行表面改質處理，因此其功能上也受到很大的限制。相反的，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極可包含隔板，使放電電極可包含二個(或以上) 的氣腔，且各個氣腔可通入不同的製程氣體，並由不同的電極齒排出，因此使電暈放電表面處理裝置一次即可執行二種(或以上)表面改質處理，以達到更為多樣的表面改質效果，使電暈放電表面處理裝置具更多的功能。

此外，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極之特殊結構不但可應用於多齒放電電極，更可應用於線放電電極、卡槽放電電極或金屬板電極等等，因此應用於更為廣泛。

再者，本發明之一實施例中，電暈放電表面處理裝置之放電電極之隔板更可包含負壓通道，其可形成負壓區以有效隔絕由相鄰二電極齒排出的不同製程氣體，使不同製程氣體不致於混合，有效地避免了不同製程氣體之間產生擾動混氣的現象，使參數容易控制，進一步提升了電暈放電表面處理裝置的效能。

可見本發明在突破先前之技術下，確實已達到所欲增進之功效，且也非熟悉該項技藝者所易於思及，其所具之進步性、實用性，顯已符合專利之申請要件，爰依法提出專利申請，懇請 貴局核准本件發明專利申請案，以勵創作，至感德便。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。其它任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應該包含於後附之申請專利範圍中。

Claims (10)

1. 一種電暈放電表面處理裝置，係包含：一放電電極，係包含一氣腔、一氣體注入口、複數個氣體排放口及一放電表面及複數個電極齒，該氣體注入口透過該氣腔與該些氣體排放口連結，該氣體排放口與該放電表面連結，該氣體注入口用於注入一製程氣體，使該製程氣體流入該氣腔，並分佈於該氣腔；各個該電極齒包含一通道，且各個該通道與至少一氣體排放口連接，該製程氣體透過該些氣體排放口由該放電表面排出；以及一接地電極，係與該放電電極的該放電表面相對設置，並與放電電極之間形成一電位差，使該製程氣體與環境中之一工作氣體反應並離子化產生一電暈放電現象以對設置於該放電電極與該接地電極之間的一待處理物進行一表面改質處理。
2. 如申請專利範圍第1項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該放電電極係包含一電極本體及一絕緣材料蓋體，該絕緣材料蓋體設置於該電極本體之一側，並與該電極本體之間形成該氣腔。
3. 如申請專利範圍第1項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該放電電極係為一多齒放電電極。
4. 如申請專利範圍第1項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該製程氣體係為水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或二個以上的一混合氣體。
5. 如申請專利範圍第2項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該氣體注入口係設置於該絕緣材料蓋體上，該電極本體之另一側為該放電表面，並包含該些氣體排放口。
6. 如申請專利範圍第3項所述之電暈放電表面處理裝置，其中各個該通道包含一導流道，該導流道由該氣體排放口延伸至該電極齒之底部，且該導流道之寬度逐漸增加但該導流道之厚度逐漸減少。
7. 一種電暈放電表面處理裝置，係包含：一放電電極，係包含一第一氣腔、一第二氣腔、一氣體注入口、一第一氣體排放口、一第二氣體排放口、一放電表面、一電極本體、一絕緣材料蓋體及一隔板；該絕緣材料蓋體設置於該電極本體之一側，並與該電極本體之間形成一空間，而該第一氣體注入口及該第二氣體注入口則設置於該絕緣材料蓋體上，該電極本體之另一側為該放電表面，並包含該第一氣體排放口及該第二氣體排放口；該隔板設置於該電極本體及該絕緣材料蓋體之間，並將該空間分隔為該第一氣腔及該第二氣腔，而該隔板包含一負壓通道，該負壓通道於該放電表面與該接地電極之間形成一負壓區；該第一氣體注入口透過該第一氣腔與該第一氣體排放口連結，該第二氣體注入口透過該第二氣腔與該第二氣體排放口連結，該第一氣體排放口及該第二氣體排放口與該放電表面連結，該第一氣體注入口用於注入一第一製程氣體，使該第一製程氣體流入該第一氣腔，並透過該第一氣體排放口由該放電表面排出，該第二氣體注入口用於注入一第二製程氣體，使該第二製程氣體流入該第二氣腔，並透過該第二氣體排放口由該放電表面排出；以及一接地電極，係與該放電電極的該放電表面相對設置，並與該放電電極之間形成一電位差，使該第一製程氣體及該第二製程氣體與環境中之一工作氣體反應並一工作氣體反應並離子化產生一電暈放電現象以對設置於該放電電極與該接地電極之間的一待處理物進行一表面改質處理。
8. 如申請專利範圍第7項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該放電電極係為一多齒放電電極、一線放電電極、一卡槽放電電極或一金屬板電極。
9. 如申請專利範圍第7項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該製程氣體係水、丙烯酸、丙烯氨、氧氣、氯氣、六甲基矽烷及2-(全氟己基)乙基甲基丙烯酸酯或其中二個或二個以上的一混合氣體。
10. 如申請專利範圍第8項所述之電暈放電表面處理裝置，其中該多齒放電電極係包含設置於該放電表面的一第一電極齒及一第二電極齒，該第一電極齒包含一第一通道，且該第一通道與該第一氣體排放口連結，而該第二電極齒包含一第二通道，且該第二通道與該第二氣體排放口連結，而各個該第一通道及各個該第二通道包含一導流道，該導流道由該氣體排放口延伸至該第二電極齒之底部，且該導流道之寬度逐漸增加但該導流道之厚度逐漸減少。