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TWI516565B - Adhesive layer, adhesive film and optical device - Google Patents

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TWI516565B
TWI516565B TW100121620A TW100121620A TWI516565B TW I516565 B TWI516565 B TW I516565B TW 100121620 A TW100121620 A TW 100121620A TW 100121620 A TW100121620 A TW 100121620A TW I516565 B TWI516565 B TW I516565B
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adhesive layer
film
weight
adhesive
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TW100121620A
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下川佳世
岡田研一
高橋俊貴
木谷義明
下栗大器
卷幡陽介
Original Assignee
日東電工股份有限公司
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Description

黏著劑層、黏著薄膜及光學裝置 發明領域
本發明係有關於一種黏著劑層、黏著薄膜及光學裝置,詳言之,係有關於一種光學裝置、及適合其使用之黏著劑層及黏著薄膜。
發明背景
以往,黏著薄膜係被廣泛地使用在各種產業領域,其係藉由在基材的表面設置黏著劑層而獲得。
例如,有提案揭示藉由將在丙烯酸系共聚物的乳液添加丙烯酸系增黏劑而獲得之固體成分濃度為47重量%的水分散型黏著劑組成物塗佈在脫模薄膜之後,使其乾燥而獲得黏著劑層(例如下述專利文獻1)。
先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本專利特開2007-248485號公報
發明概要
然而,依照光學領域、產業領域,黏著劑層有被要求優良的外觀之情形,上述專利文獻1的黏著劑層有無法得到此種優良外觀之情況。
本發明的目的係提供一種具有優良的外觀之黏著劑 層,及具有其之黏著薄膜及光學薄膜。
本發明的黏著劑層係塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得之黏著劑層,其特徵在於:於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下。
又,本發明之黏著劑層,係以前述水分散型黏著劑組成物之固體成分濃度為5~32重量%,且前述黏著劑層之厚度為3~100μm為佳。
而且,本發明之黏著劑層,係以含有水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑,且前述水分散型黏著劑組成物在30℃且剪切速度1sec-1下之黏度為0.1~50Pa‧s為佳。
又,本發明之黏著劑層,係以前述增黏劑為調製成1重量%之水溶液,且進一步調整成pH8時之濁度在100NTU以下為佳。
而且,本發明之黏著劑層,係以厚度23μm之前述黏著劑層之霧度(Haze)值為1.0%以下為佳。
又,本發明之種黏著薄膜,其特徵在於:具有基材及層積於前述基材表面上之黏著劑層,且前述接著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者,於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下。
又,本發明之黏著薄膜,係以前述基材為光學薄膜為佳。
而且,本發明之光學裝置,其特徵在於:具有光學薄膜及層積於前述光學薄膜表面上之黏著劑層,且前述接著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者,於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下。
本發明之黏著劑層係具有優良的外觀,具有其之本發明的黏著薄膜,係能夠被使用於各種產業用途作為外觀優良的薄膜。
尤其是具有上述本發明的黏著薄膜之本發明的光學裝置,能夠確保優良的光學特性。
圖式簡單說明
第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示準備脫模薄膜之步驟,(b)係顯示在脫模薄膜的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構成之塗佈液層之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第2圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之間存在有異物時之實施例1的黏著劑層之製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形成塗佈液層之步驟,(b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之 步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第3圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之間存在有異物時之比較例1的黏著劑層之製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形成塗佈液層之步驟,(b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第4圖係顯示本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著型光學薄膜的剖面圖。
第5圖係說明第1圖所顯示之黏著劑層的製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示準備層積有底塗層之光學薄膜之步驟,(b)係顯示在底塗層的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構成之塗佈液層之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第6圖係顯示實施例1的黏著劑層的TEM照片之影像處理圖。
第7圖係顯示實施例3的黏著劑層的TEM照片之影像處理圖。
發明之實施形態
本發明的黏著劑層,係能夠藉由在被塗構件的表面塗佈水分散型黏著劑組成物且使其乾燥而獲得。
水分散型黏著劑組成物,係例如含有水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑。
水分散型丙烯酸系聚合物,係能夠藉由例如含有具有 碳數4~18的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯及含羧基的乙烯基單體作為必要成分,且使任意含有能夠與上述必要成分共聚合之共聚合性乙烯基單體之單體成分進行聚合而獲得。
具有碳數4~18的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯,其烷基部分係較佳是碳數4~18的直鏈狀或分枝狀的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯、亦即甲基丙烯酸烷酯及/或丙烯酸烷酯,可舉出例如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十四烷酯、(甲基)丙烯酸十五烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸十七烷酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯等。
該等(甲基)丙烯酸烷酯可單獨使用或併用。
(甲基)丙烯酸烷酯的調配比例,係相對於100重量份之單體成分的總量,例如為60~99重量份,以70~99重量份為佳,以80~99重量份為更佳。
含羧基的乙烯基單體係具有羧基之乙烯基單體,可舉出例如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、桂皮酸等的不飽和一羧酸;例如反丁烯二酸、順丁烯二酸、伊康酸等的不飽和二羧酸;例如反丁烯二酸酐、順丁烯二酸酐、伊康酸酐等的不飽和 二羧酸酐;例如伊康酸一甲酯、伊康酸一丁酯、酞酸2-丙烯醯氧基乙酯等的不飽和二羧酸一酯;1,2,4-苯三甲酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯、焦蜜石酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等的不飽和三羧酸一酯;例如丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯等的丙烯酸羧基烷酯等。
該等含羧基的乙烯基單體可單獨使用或併用。較佳者可舉出不飽和一羧酸。
含羧基的乙烯基單體之調配比例,係相對於100重量份之單體成分的總量,例如為0.5~15重量份,以0.5~10重量份為佳,以1~10重量份為更佳。
作為共聚合性乙烯基單體,可舉出例如含有含羧基的乙烯基單體以外的官能基之乙烯基單體等,可舉出例如一[一環氧烷(甲基)丙烯酸酯]磷酸酯、及一[聚環氧烷(甲基)丙烯酸酯]磷酸酯等的含磷酸基的乙烯基單體;例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯基酯類;例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯等含環氧基的單體;例如丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸2-羥基丁酯等含羥基的乙烯基單體;例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基羧醯胺等含醯胺基的乙烯基單體;例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的乙烯基單體;例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等含有異氰酸酯基的乙烯基單 體;例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系乙烯基單體;例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺;例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等的琥珀醯亞胺系乙烯基單體;例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基的乙烯基單體;例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等的二醇系丙烯酸酯單體等。
又,作為共聚合性乙烯基單體,可舉出例如含烷氧矽烷基的乙烯基單體。
作為含烷氧矽烷基的乙烯基單體,可舉出例如矽烷系(甲基)丙烯酸酯單體、矽烷系乙烯基單體等。
作為矽烷系(甲基)丙烯酸酯單體,可舉出例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽 烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-三烷氧基矽烷等;例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷;或對應該等之(甲基)丙烯醯氧基烷基-二烷基(一)烷氧基矽烷等。
作為矽烷系乙烯基單體,可舉出例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等的乙烯基三烷氧基矽烷、以及對應該等之乙烯基烷基二烷氧基矽烷、乙烯基二烷基烷氧基矽烷;例如,乙烯基甲基三甲氧基矽烷、乙烯基甲基三乙氧基矽烷、β-乙烯基乙基三甲氧基矽烷、β-乙烯基乙基三乙氧 基矽烷、γ-乙烯基丙基三甲氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三丙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三異丙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三丁氧基矽烷等的乙烯基烷基三烷氧基矽烷、以及對應該等之(乙烯基烷基)烷基二烷氧基矽烷、或(乙烯基烷基)二烷基(一)烷氧基矽烷等。
又,作為共聚合性乙烯基單體,係除了上述含官能基的乙烯基單體及含烷氧基矽烷基的乙烯基單體以外,亦可舉出例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等的烯烴系單體;例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯等具有碳數1~3的直鏈狀或分枝狀的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯;例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸莰酯;(甲基)丙烯酸異莰酯等的(甲基)丙烯酸酯脂環式烴酯;例如(甲基)丙烯酸苯酯等的(甲基)丙烯酸芳酯;例如苯乙烯等的苯乙烯系單體;例如(甲基)丙烯醯基嗎福林、(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙基、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含氮原子的乙烯基單體;例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基的乙烯基單體;例如乙烯醚等的乙烯醚系單體;例如氯乙烯等的含鹵素原子的乙烯基單體;例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌、N-乙烯基吡、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基唑、N-乙烯基嗎福林、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等含乙烯基的雜環化合物;例如含有氟原子等的鹵素原子之丙 烯酸酯系單體等。
而且,作為上述共聚合性乙烯基單體,可舉出例如多官能性單體。
作為多官能性單體,可舉出例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯等的(一或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(一或聚)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、以及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯等。又,作為多官能性單體,亦可舉出環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸酯丙烯酸酯等。
該等共聚合性乙烯基單體可單獨使用或併用2種以上。
該等共聚合性乙烯基單體之中,較佳者可舉出含磷酸的乙烯基單體及含烷氧基矽烷基的乙烯基單體,而且更佳者可舉出一[聚環氧烷(甲基)丙烯酸酯]磷酸酯及矽烷系(甲基)丙烯酸酯單體。
共聚合性乙烯基單體的調配比例係相對於100重量份之單體成分的總量,例如為39重量份以下,以19重量份以下為佳,以18重量份以下為更佳。
又,調配含磷酸基的乙烯基單體時,含磷酸基的乙烯基單體的調配比例係係相對於100重量份之單體成分的總量,例如為0.5~20重量份,以0.5~10重量份為佳,以1~5重 量份為更佳。
又,調配含烷氧基矽烷基的乙烯基單體時,其調配比例係相對於100重量份之單體成分的總量,例如為0.001~1重量份,且以0.005~0.1重量份為佳。
而且,為了使上述的單體成分聚合而得到水分散型丙烯酸系聚合物,係將單體成分以上述的調配比例調配且例如使用乳化聚合(包含懸浮聚合)等的聚合方法來使其聚合。
乳化聚合係例如將上述的單體成分與聚合起始劑、乳化劑等同時在水中調配而聚合。更具體地,係例如能夠採用成批添加法(成批聚合法)、單體滴入法、單體乳液滴入法等眾所周知的乳化聚合法。又,單體滴入法係能夠選擇連續滴入或分割滴入。反應條件等係能夠適當地選擇,聚合溫度係例如20~100℃。
又,在對上述單體成分調配聚合起始劑之前,或是在邊調配的同時、或是在調配後,藉由氮取代,能夠減低含有單體成分之反應液中的溶解氧濃度。
作為聚合起始劑,係沒有特別限制,能夠使用在乳化聚合通常使用之聚合起始劑。例如2,2’-偶氮雙異丁腈(AIBN)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒)水合物、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽等的偶氮系起始劑;例如過硫酸鉀(KPS)、過硫酸銨(APS)等的過硫酸鹽系起始劑;例如過氧化苯甲醯 基、第三丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑;例如,苯基取代乙烷等的取代乙烷系起始劑;例如芳香族羰基化合物等的羰基系起始劑;例如過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等之氧化還原系起始劑等。
該等聚合起始劑可單獨或併用2種以上。該等聚合起始劑之中,較佳者可舉出過硫酸鹽系起始劑。
聚合起始劑的調配比例係能夠適當地選擇,相對於100重量份之單體成分,例如為0.04~1重量份。
作為乳化劑,係沒有特別限制,能夠使用在乳化聚合通常被使用之眾所周知的乳化劑。可舉出例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、月桂基苯磺酸鈉、聚氧乙烯月桂基硫酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基磺酸基琥珀酸鈉等的陰離子系乳化劑;例如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。
又,作為乳化劑,可舉出在上述的陰離子系乳化劑或非離子系乳化劑導入丙烯基或烯丙醚基等的自由基聚合性官能基(反應性基)而成之自由基聚合性乳化劑(例如,AQUARON HS-10(第一工業製藥公司製)等的反應性乳化劑)等。
該等乳化劑可單獨使用或併用2種以上。較佳者可舉出反應性乳化劑。
又,乳化劑的調配比例係相對於100重量份之單體成分,例如為0.2~10重量份,以0.5~5重量份為佳。
而且,藉由此種乳化聚合而得到之水分散型丙烯酸系聚合物,係調製成為乳液(水分散型)、亦即丙烯酸系聚合物的水分散液。
又,水分散型丙烯酸系聚合物,係亦能夠藉由例如將上述單體成分使用乳化聚合以外的方法、例如使用溶液聚合或塊狀聚合而進行聚合,且按照必要亦可在除去溶劑或將塊狀粉碎後,使用上述的乳化劑,以使水分散的方式進行而調製。
在水分散型丙烯酸系聚合物之固體成分濃度,係例如10~90重量%,以20~80重量%為佳。
為了將水分散型黏著劑組成物的黏度設定為所需要的範圍(後述),係在水分散型黏著劑組成物調配增黏劑,可舉出例如聚丙烯酸系增黏劑、胺甲酸酯系增黏劑、纖維素系增黏劑、天然高分子系增黏劑等。
作為聚丙烯酸系增黏劑,可舉出例如聚丙烯酸、聚丙烯酸-聚(甲基)丙烯酸烷酯共聚物(丙烯酸系共聚物)等。又,作為聚丙烯酸系增黏劑,亦可舉出上述聚丙烯酸預先被中和而成之中和物亦即聚丙烯酸鹽等。作為聚丙烯酸鹽,可舉出例如聚丙烯酸鈉、聚丙烯酸鉀等。又,作為丙烯酸系增黏劑,亦可舉出例如羧基的一部分係被苯乙烯基、烷基等的疏水基改質而成之疏水基改質聚丙烯酸等。
聚丙烯酸系增黏劑的酸值係例如30~300mg/KOH、以 80~280mg/KOH為佳。
胺甲酸酯系黏著劑係例如在分子中具有胺甲酸酯鍵及聚醚鏈之胺甲酸酯化合物,係藉由胺甲酸酯之間在水中聚集而能夠顯現增黏作用之胺甲酸酯化合物。
作為纖維素系增黏劑,可舉出例如甲基纖維素、乙基纖維素、羥甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素等。
作為天然高分子系增黏劑,可舉出例如三仙膠(xanthan gum)、結冷膠(Gellan gum)、瓜爾膠(guar gum)、海藻酸鈉、角叉菜膠(carageenan)、果膠等。
又,作為增黏劑,亦可舉出例如聚丙烯醯胺、聚環氧乙烷、聚乙烯醇等。
該等增黏劑可單獨使用或併用2種以上。
作為增黏劑,從使黏著劑層的外觀提升之觀點,較佳者可舉出聚丙烯酸系增黏劑、胺甲酸酯系增黏劑。
該等增黏劑係能夠使用市售品,具體上,作為聚丙烯酸系增黏劑,可舉出例如PRIMAL ASE-60、PRIMAL TT-615、PRIMAL ASE-75、PRIMAL ASE-95、PRIMAL ASE-108、PRIMAL RM-5(以上Rohm and Hass公司製)、ZOGEN100、ZOGEN150、ZOGEN200、ZOGEN250、ZOGEN350(以上RHEOX公司製)、SN THICKENER A-815、SN THICKENER A-818、SN THICKENER A-850(以上SANNOPCO公司製)、RHEOVIS CR(一方社油脂化學工業公司製)、ARON B-300K、ARON B-500K(丙烯酸系共聚 物)、ARON A-7070(以上東亞合成公司製)、THICKZOL K-150B(共榮社油脂化學工業公司製)、ACRYSET WR-503、ACRYSET WR-650(以上日本觸媒公司製)等。又,作為聚丙烯酸系增黏劑,亦可舉出SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸、SANNOPCO公司製)等。
又,作為胺甲酸酯系增黏劑,可舉出例如ADEKANOL UH-462、ADEKANOL UH-752、ADEKANOL UH-140S、ADEKANOL UH-420、ADEKANOL UH-438、ADEKANOL UH-472、ADEKANOL UH-450、ADEKANOL UH-540、ADEKANOL UH-550、ADEKANOL UH-541VF、ADEKANOL UH-526、ADEKANOL UH-530(以上ADEKA公司製)、RHEOLATE266、RHEOLATE288、RHEOLATE244、RHEOLATE255、RHEOLATE278(以上RHEOX製)、SN THICKENER A-803、SN THICKENER A-804、SN THICKENER A-807、SN THICKENER A-812、SN THICKENER A-814(以上SANNOPCO公司製)等。
又,上述的增黏劑係例如能夠以粉末(粒子)型、水溶液型、乳液型等的形態調製。
而且,增黏劑係調製成為1重量%水溶液且調整為pH8時之濁度為例如100NTU以下,以50NTU以下為佳,以20NTU以下為更佳,通常係0.1NTU。
將1重量%水溶液調整為pH8以下,係例如在增黏劑的1重量%水溶液添加濃度5~15重量%銨水溶液等的鹼性水溶液。鹼性水溶液的添加量係以因該添加而增黏劑的濃度減 少率為例如1%以內的方式調整。
又,濁度係使用濁度計測定,又,NTU係濁度的單位(Nephelometric Turbidity Unit)。
pH調整後之增黏度的1重量%水溶液的濁度為超過上述範圍時,增黏劑會殘留不溶解物(粒子),且在黏著劑層該狀態的增黏劑係以比較大的粒子的方式存在,有致使黏著劑層的透明性低落而成為白濁的原因之情形。
增黏劑(的固體成分)的調配比例,係相對於100重量份之水分散型丙烯酸系聚合物的固體成分,例如為0.01~20重量份,以0.1~10重量份為佳,以0.5~5重量份為更佳。又,亦能夠將增黏劑(的固體成分)的調配比例,以相對於水分散型黏著劑組成物的固體成分以外、亦即100重量份水,例如設定為0.01~20重量份,以0.1~10重量份為佳,以0.5~5重量份為更佳。
增黏劑的調配比例係只要在上述的範圍內,能夠將水分散型黏著劑組成物的黏度設定在所需要的範圍(後述)。
而且,調整水分散型黏著劑組成物,係使用上述的調配比率調配水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑。具體上,係調配水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑且將該等均勻地攪拌而調製水分散混合液。
隨後,按照必要藉由在水分散混合液追加水,來將水分散型黏著劑組成物的固體成分濃度調整為例如5~32重量%,以7~29重量%為佳,以10~25重量%為更佳。
水分散型黏著劑組成物的固體成分濃度為上述範圍 時,能夠使用塗佈時的處理性提升,且能夠將塗佈液層2的厚度T1(後述)設定在特定範圍。另一方面,水分散型黏著劑組成物的固體成分濃度為超過上述範圍時,凹部5的數量有超過所需要的範圍之情形。
隨後,按照必要而將經調整固體成分濃度之水分散型黏著劑組成物的pH調整為例如7~10,以7~9為佳。
水分散型黏著劑組成物的pH,係例如藉由在經調整固體成分濃度之水分散型黏著劑組成物,添加濃度5~15重量%的銨水溶液等的鹼性水溶液來調整。鹼性水溶液的添加量,係以因該添加而在水分散型黏著劑組成物之固體成分濃度的減少率為例如1%以內的方式調整。
而且,因為增黏劑為聚丙烯酸酯系增黏劑時,經調整固體成分濃度之水分散型黏著劑組成物的pH係通常超過10,係藉由將水分散型黏著劑組成物的pH調整為上述範圍內而將羧基中和,來使增黏作用顯現。
如此進行而調製之水分散型黏著劑組成物在30℃、剪切速度1sec-1的黏度係例如為0.1~50Pa.s,以0.2~20Pa.s為佳。
水分散型黏著劑組成物在30℃、剪切速度為1sec-1之黏度,能夠使用圓錐/平板式黏度計(cone and plate viscometer)(流變計)來測定。
水分散型黏著劑組成物的黏度未滿上述範圍時,塗佈時水分散型黏著劑組成物在被塗構件(後述)上有產生收縮斑(cissing)致使塗佈變為困難之情形。另一方面,水分散型 黏著劑組成物的黏度超過上述範圍時,有凹部5的數量超過所需要的範圍之情形。
第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造方法之步驟圖,第2圖及3圖,係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之間存在有異物時之黏著劑層的製造方法之步驟圖。
隨後,參照第1圖~3圖而說明製造本發明的黏著劑層之一實施形態之方法。
該方法係首先準備被塗構件例如薄膜,具體上係準備脫模薄膜1。
脫模薄膜1係例如由軟質材料所構成,具體上可舉出例如聚乙烯、聚丙烯、聚對酞酸乙二酯(PET)等的合成樹脂薄膜、例如布、不織布、網、發泡薄膜等、金屬箔(例如鋁箔)或將該等複數化而成之積層薄膜等。又,為了提高剝離性,亦可在脫模薄膜1的表面按照必要而施行矽酮處理、長鏈烷處理、氟處理等的處理(剝離處理)。
脫模薄膜1的厚度係沒有特別限定,例如為1~1000μm,較佳是10~100μm。
隨後,該方法係如第1圖(b)所表示,在脫模薄膜1的表面塗佈水分散型黏著劑組成物而形成塗佈液層2。
水分散型黏著劑組成物係例如使用吻合塗佈、凹版塗佈、棒塗佈、噴霧塗佈、刀塗佈(knife coating)、線纜塗佈、刮刀式塗佈(comma coating)等眾所周知的塗佈法來塗佈在脫模薄膜1的表面。
將水分散型黏著劑組成物塗佈在脫模薄膜1的表面時,係例如第2圖(a)及3圖(a)所表示,使支撐構件7的表面接觸脫模薄膜1的背面而支撐脫模薄膜1。
脫模薄膜1係形成長條狀時,作為支撐構件7,可舉出例如塗佈輥等。塗佈輥係配置在脫模薄膜1的長條方向途中,且邊將脫模薄膜1通過塗佈輥邊在脫模薄膜1的表面塗佈水分散型黏著劑組成物。經塗佈水分散型黏著劑組成物之脫模薄膜1係在通過塗佈輥之後,從塗佈輥離開。
又,脫模薄膜1係形成單片狀時,作為支撐構件7,可舉出例如平板狀的支撐板等。塗佈水分散型黏著劑組成物時,係在脫模薄膜1的背面整面配置支撐板,且在形成塗佈液層之後,係將脫模薄膜1從支撐板7剝離。
上述的支撐構件7係例如由比形成脫模薄膜1的軟質材料硬的硬質材料構成,具體上係由鐵、不鏽鋼等金屬等的硬質材料所構成。
塗佈液層2的厚度T1係例如為5~2000μm,以10~1000μm為佳。塗佈液層2的厚度T1為上述範圍時,在能夠將黏著劑層6的厚度T2(後述)設定在所需要的範圍,同時能夠使凹部5(後述、參照第3圖)為所需要的數量以下。
隨後,該方法係如第1圖(c)所表示,使塗佈液層2乾燥。
乾燥溫度係例如90~150℃且例如100~140℃,乾燥溫度係例如0.5~30分鐘,以1~10分鐘為佳。
藉此,能夠得到黏著劑層6。亦即,塗佈液層2的水分係藉由上述的乾燥而被餾除,能夠形成由水分散型黏著劑 組成物的固體成分(主要是丙烯酸系聚合物與增黏劑的混合物)所構成之黏著劑層6。
如此進行而得到之黏著劑層6的厚度T2,係相對於塗膜層2的厚度T1,例如為10~60%,以例如20~50%為佳,具體上為3~100μm,以20~40μm為佳。
黏著劑層6的厚度T2為上述範圍內時,能夠將基材(具體上係光學薄膜11(參照第4圖)等)與被黏物(具體上係光學裝置的玻璃基板等)確實地接著。
又,厚度23μm的黏著劑層6之霧度(Haze)值係例如1.0%以下,以0.9%以下為佳,通常為0.1%以上。
而且,黏著劑層6的霧度值係依據JIS K7136且使用霧度計量器測定。
又,黏著劑層6的霧度值係超過上述範圍時,有黏著劑層6的透明性低落而無法確保黏著劑層6的良好外觀之情形。
而且,該黏著劑層6係在其表面,以下說明的凹部5之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下,以1個以下為佳。
隨後,參照第2圖及3圖,詳述凹部5。
凹部5係例如參照第3圖(c),從黏著劑層6的表面朝向背面之凹下部分(缺陷部分),而且其係定義為厚度方向的深度D為0.2~20μm且沿著表面之最大長度(例如,平面視為圓形的情況係上端的內徑)L2為1~10mm的尺寸的缺陷部分。
詳言之,如第2圖(a)及3圖(a)所示,在脫模薄膜1的表面形成塗佈液層2時,在脫模薄膜1的背面與支撐構件7的表 面之間會有異物8夾雜之情形。
異物8係最大長度係例如為1~1000μm,進而為10~100μm。
而且,異物8係如上述存在時,脫模薄膜1係以在厚度方向與異物8相向的部分(突出部分13)的背面係朝向表側(上側)彎曲(突出)、同時突出部分13的表面亦朝向表側(上側)彎曲(突出)的方式形成。又,脫模薄膜1係以在突出部分13與其周圍的部分之厚度為一定的方式形成。
此時,因為塗佈液層2係由調製成為乳液之水分散型黏著劑組成物所構成,塗佈液層2的表面係形成平坦狀,另一方面,在塗佈液層2的背面亦即對脫模薄膜1之相向面,係形成有對應脫模薄膜1的表面的突出部分13之背側凹部9。
背側凹部9的尺寸及數量係對應上述脫模薄膜1的表面的突出部分13的尺寸及數量。
隨後,如第2圖(b)及3圖(b)所表示,將脫模薄膜1從支撐板7分離時,脫模薄膜1的表面及背面之兩面係復原成為平坦狀。
與此同時,在塗佈液層2的背面,上述背側凹部9係與其周圍同時形成平坦狀而消失,另一方面,在塗佈液層2的表面,係形成有對應上述背面凹部9(參照第2圖(a)及第3圖(a))之表側凹部4。
表側凹部4係從塗佈液層2的表面朝向背側凹下,其尺寸及數量係大致對應上述突出部分13的尺寸及數量。
其次,如第2圖(c)及3圖(c)所表示,藉由塗佈液層2的 乾燥而形成黏著劑層6。
而且,相較於第2圖(b)的塗佈液層2的厚度T1(除了表側凹部4部分以外的厚度),由上述固體成分濃度的水分散型黏著劑組成物所得到之第2圖(c)的黏著劑層6的厚度(除了表側凹部5部分以外的厚度)T2,係顯著較薄地形成。亦即,因為黏著劑層6的厚度T2對塗佈液層2的厚度T1之比(T2/T1)係顯著地低,因此,第2圖(c)的凹部5係小尺寸,亦即能夠比上述定義的尺寸(最大深度D)的下限更小(淺)地形成。
另一方面,相較於塗佈液層2的厚度T1’,因為由比上述固體成分濃度濃的固體成分濃度(例如超過32重量%的濃度)的水分散型黏著劑組成物所得到之黏著劑層6的厚度T2’,係無法顯著較薄地形成。亦即,因為黏著劑層6的厚度T2’對塗佈液層2的厚度T1’之比(T2’/T1’)係比較大,且相較於上述第2圖的黏著劑層6的厚度T2對塗佈液層2的厚度T1之比(T2/T1),係比較大而容易受到表側凹部4的影響。因此,第3圖(c)的凹部5係至少比第2圖(c)的凹部5深,具體上係在上述定義的尺寸(最大深度D)的範圍形成。
因此,該黏著劑層6係如上述,將水分散型黏著劑組成物的固體成分濃度設定為較低的特定濃度時,乾燥後的凹部5之數量小,具體上,因為凹部5係所希望的數量以下,所以能夠得到優良的外觀。因此,能夠使用於各種產業用途、較佳是被要求優良的外觀之光學用途。
第4圖係顯示本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著型光學薄膜的剖面圖。
其次,參照第4圖而說明具有上述黏著劑層6之本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著型光學薄膜之製造方法。
在第4圖,該黏著型光學薄膜10係具有:光學薄膜11,其係作為基材;底塗層12,其係被層積在光學薄膜11的表面;及黏著劑層6,其係被層積在底塗層12的表面。
光學薄膜11係具有光學特性之薄膜,例如被使用在後面詳述之影像顯示裝置等且被視為在影像顯示裝置之光學層。作為光學薄膜11,可舉出例如偏光薄膜、相位差薄膜、亮度提升薄膜、視野角擴大薄膜(視野角補償薄膜)、表面處理薄膜等。
作為偏光薄膜,係例如能夠使用如在偏光鏡的一面或兩面,設置透明保護薄膜而成者。
作為偏光鏡,係沒有特別限制,可舉出例如在聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚合物系部分皂化薄膜等的親水性高分子薄膜,使用碘和二色性物質染色等的二色性物質進行染色且單軸拉伸而成者、聚乙烯醇的脫水處理物和聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。較佳者可舉出將聚乙烯醇系薄膜使用碘染色且單軸拉伸而成之偏光鏡。
作為透明保護薄膜,可舉出例如聚對酞酸乙二酯和聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯系聚合物薄膜、二乙酸纖維素和二乙酸纖維素等的纖維素系聚合物薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸系聚合物薄膜、聚苯乙烯和丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等的苯乙烯系聚合物薄膜、聚碳酸酯系聚合 物薄膜等。又,亦可舉出聚乙烯、聚丙烯、具有環或降莰烯構造之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等的聚烯烴系聚合物薄膜、聚氯乙烯系聚合物薄膜、耐綸、芳香族聚醯胺等的醯胺系聚合物薄膜、醯亞胺系聚合物薄膜、碸系聚合物薄膜、聚醚系聚合物薄膜、聚醚醚酮系聚合物薄膜、聚苯硫(polyphenylene sulfide)系聚合物薄膜、聚乙烯醇系聚合物薄膜、偏二氯乙烯系聚合物薄膜、乙烯基丁縮醛系聚合物薄膜、芳香酯(arylate)系聚合物薄膜、聚甲醛(polyoxymethylene)系聚合物薄膜、環氧系聚合物薄膜、或上述聚合物的摻合物之薄膜等。
透明保護薄膜係亦能夠以丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、矽酮等等的熱硬化型、紫外線硬化型的樹脂的硬化層之方式形成。
作為透明保護薄膜,較佳者可舉出纖維素系聚合物。透明保護薄膜的厚度係沒有特別限制,例如500μm以下,以1~300μm為佳,以5~200μm為更佳。
將偏光鏡與透明保護薄膜進行接著處理,係例如使用異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系接著劑、乳膠系接著劑、水系聚酯系接著劑等進行接著。
作為相位差薄膜,可舉出例如λ/2波長板或λ/4波長板等的波長板等,具體上可舉出將高分子材料進行單軸拉伸或雙軸拉伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶性聚合物的配向薄膜、使用薄膜支撐液晶性聚合物的配向層而成者等。相 位差薄膜的厚度係沒有特別限制,例如20~150μm。
作為高分子材料,係可舉出例如聚乙烯醇、聚乙烯丁縮醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚碸、聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫、聚苯醚、聚烯丙基碸、聚乙烯醇、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素系共聚物、或該等的二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子材料係藉由延伸等而成為配向物(延伸薄膜)。
作為液晶性聚合物,可舉出例如在聚合物的主鏈和側鏈,導入賦予液晶配向性之共軛性直線狀原子團(液晶基;mesogen)而成之主鏈型或側鏈型的各種物等。作為主鏈型的液晶性聚合物,可舉出例如在賦予撓曲性的間隔部鍵結液晶基而成之結構,具體上可舉出向列配向性的聚酯系液晶性聚合物、碟狀聚合物和膽固醇型聚合物等。作為側鏈型的液晶性聚合物,可舉出例如將聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯(polymalonate)作為主鏈骨架,且透過由共軛性的原子團所構成的間隔部而具有由向列配向賦予性的對取代環狀化合物單元所構成之液晶基部作為側鏈者等。該等液晶性聚合物,係例如能夠藉由將在玻璃板上所形成之聚醯亞胺和聚乙烯醇等的薄膜表面進行摩擦處理而成者、在將氧化矽斜方蒸鍍而成者等的配向處理面上,將液晶性聚合物的溶液展開而進行熱處理來得到。
又,相位差薄膜係例如將利用各種波長薄膜和液晶層 的雙折射所引起著色和視野角等的擴大作為目的者,亦可以是按照其他使用目的而具有相位差者,且亦可以是將2種以上的相位差薄膜層積而控制相位差等的光學特性而成者等。
作為亮度提升薄膜,可舉出例如介電體的多層薄膜和折射率異方向性不同之薄膜的多層積層體等顯示將規定偏光軸的直線偏光透射且其他光線為反射之特性者;在薄膜基材上支撐膽固醇型液晶聚合物的配向薄膜和其配向液晶層者等顯示將左旋轉或右旋轉的任一者的圓偏光反射且其他光線為透射之特性者等。亮度提升薄膜的厚度係例如10~200μm。
視野角擴大薄膜係為了將視野角擴大之薄膜,使得即便從不與畫面垂直的而稍微偏斜的方向觀看液晶顯示器的畫面,亦能夠比較鮮明地觀看到影像,可舉出例如相位差薄膜、液晶聚合物等的配向薄膜和在透明基材上支撐液晶聚合物等的配向層而成者等。作為視野角擴大薄膜所使用的相位差薄膜,係能夠使用在面方向被雙軸拉伸而成之具有雙折射的聚合物薄膜;在面方向被單軸拉伸且在厚度方向亦被拉伸之控制厚度方向的折射率而成之具有雙折射的聚合物;及如傾斜配向薄膜之二方向拉伸薄膜等。視野角擴大薄膜的厚度係例如10~200μm。
作為表面處理薄膜,可舉出例如用以對影像顯示裝置的表面賦予耐擦傷性之硬塗薄膜,例如用以防止對影像顯示裝置產生映入之抗眩處理薄膜、抗反射薄膜等的防止反 射薄膜,例如用以減低對影像顯示裝置產生映入之低反射薄膜等的減低反射薄膜等。
又,作為光學薄膜,亦可舉出例如反射板、半透射板等。
上述各光學薄膜係能夠使用1層或2層以上。
而且,為了得到該黏著型光學薄膜,係首先準備光學薄膜11,隨後,在光學薄膜11的表面設置底塗層12。
底塗層12係例如含有含唑啉基之聚合物,及/或含有水溶性或水分散性導電材料。
唑啉基之聚合物係例如含有由丙烯酸骨架或苯乙烯骨架所構成的主鏈且在其主鏈的側鏈具有唑啉基者,較佳者可舉出含有由丙烯酸骨架所構成的主鏈且在其主鏈的側鏈具有唑啉基之含唑啉基之聚合物。
作為唑啉基,可舉出例如2-唑啉基、3-唑啉基、4-唑啉基等,較佳者可舉出2-唑啉基。
作為2-唑啉基,通常係使用下述通式(1)表示,
(通式(1)中,R1、R2、R3及R4係各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳烷基、苯基或取代苯基)。
唑啉基之聚合物,其唑啉值係例如1500g solid/eg.以下,以1200gsolid/eg.以下為佳。
唑啉基的聚合物係能夠使用市售品,具體上可舉出EPOCROS WS-500(水溶液型、固體成分40%、主鏈:丙烯酸系、pH7~9、唑啉值220g solid/eg.、日本觸媒公司製)、EPOCROS WS-700(水溶液型、固體成分25%、主鏈:丙烯酸系、pH7~9、唑啉值220g solid/eg.、日本觸媒公司製)等含唑啉基的丙烯酸系聚合物;例如EPOCROS K-1000系列(乳液型、固體成分40%、主鏈:苯乙烯/丙烯酸系、唑啉值1100g solid/eg.、pH7~9、日本觸媒公司製)、EPOCROS K-2000系列(乳液型、固體成分40%、主鏈:苯乙烯/丙烯酸系、pH7~9、唑啉值550g solid/eg.、日本觸媒公司製)等含含唑啉基的丙烯酸/苯乙烯聚合物等。從提升密著力之觀點,較佳是使用水溶液型。
該等含唑啉基的聚合物係可單獨使用或併用2種以上。
作為水溶性或水分散性導電材料,可舉出例如導電聚合物、有機金屬化合物等。較佳者可舉出導電聚合物。
作為導電聚合物,可舉出例如聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹啉等。該等之中,從塗佈性的觀點,較佳者可舉出聚苯胺或聚噻吩。
聚苯胺係藉由GPC測定之換算聚苯乙烯(PS)的重量平 均分子量,例如500000以下,以300000以下為佳。聚噻吩係藉由GPC測定之換算聚苯乙烯(PS)的重量平均分子量,例如400000以下,以300000以下為佳。
此種水溶性或水分散性導電聚合物係能夠使用市售品,具體上,作為水溶性導電聚合物,可舉出例如聚苯胺磺酸(三菱RAYON公司)等,作為水分散性導電聚合物,可舉出例如聚噻吩系導電聚合物(商品名「DENATRON」:NAGASE CHEMTEX公司製、商品名「ORGACON LBS」:Agfa Materials公司製)等。
該等導電材料係可單獨使用或併用2種以上。
上述各成分(含唑啉基的聚合物、及/或導電材料)係能夠溶解或分散在溶劑,來調製成為各成分的溶液或分散液。
從防止光學薄膜的變質之觀點,較佳是調製成為各成分係被溶解或分散在水之水溶液域水分散(以下將該等只總稱為「塗佈液」)。
在塗佈液,係除了水以外,亦可使其含有醇類作為水系溶劑。
作為醇類,可舉出例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、異戊醇、第二戊醇、第三戊醇、1-乙基-1-丙醇、2-乙基-1-丁醇、正己醇、環己醇等。
在塗佈液,含唑啉基的聚合物及導電材料的調配比例係各自例如0.05~80重量%,以0.1~50重量%為佳。
為了設置底塗層12,係例如在光學薄膜11的表面,將上述塗佈液使用線纜塗佈、刀塗佈法等眾所周知的方法來直接塗佈且乾燥。
底塗層12的厚度係例如10~1000nm,以20~500nm為佳。
其次,黏貼第1圖(c)所表示之黏著劑層6及底塗層12。
隨後,在將黏著劑層6黏貼於被黏物時,係如第4圖的假想線所表示,將脫模薄膜1從黏著劑層6剝離。
如此進行,能夠得到在光學薄膜11的表面依照順序層積底塗層12及黏著劑層6而成之黏著型光學薄膜10。
而且,因為該黏著型光學薄膜10係具備具有優良的外觀之黏著劑層6,黏貼在被要求優良的外觀之光學裝置、例如影像顯示裝置、具體上係液晶顯示器(液晶顯示裝置)、有機電激發光裝置(有機EL顯示裝置)、有機發光二極體(有機LED、Organic Light Emitting Diode:OLED)、電漿顯示器(PDP)、布朗管顯示裝置(CRT)等的表面,在該等光學裝置能夠確保良好的外觀。
又,黏著型光學薄膜10係能夠使用作為上述光學裝置的前面板。
前面板係例如為了保護光學裝置的前面部分、或對光學裝置賦予高級感(質感或設計性等),黏貼在光學裝置的前面(表面)而設置。
又,前面板係例如能夠使用作為立體顯示裝置(亦即,3D顯示裝置等的三維影像顯示裝置)等之λ/4波長板的支撐體。
具體上,前面板係例如被設置在對光學裝置之視認側(亦即前面側)。
該黏著型光學薄膜10被黏貼在光學裝置之含有聚碳酸酯及/或丙烯酸系聚合物薄膜(具體上係聚甲基丙烯酸甲酯等)等的塑膠(樹脂)之前面部分時,亦與黏貼在含有玻璃之前面部分的材料時同樣地,外觀優良。
而且,在上述說明,係藉由將黏著劑層6轉印至底塗層12的表面而設置,但是亦可如第5圖所表示,直接設置在底塗層12的表面。
將黏著劑層6直接設置在底塗層12的表面,係例如第5圖所表示,首先準備在表面形成有底塗層12之光學薄膜11,隨後藉由將水分散型黏著劑組成物塗佈在底塗層12的表面,來直接在底塗層12的表面形成塗佈液層2。隨後,如第5圖(c)所表示,藉由使塗佈液層2乾燥,來將黏著劑層6直接設置在底塗層12的表面。
在此種的黏著劑層6,亦能夠使起因於在底塗層12的表面或光學薄膜11的表面所存在的異物8之凹部5為所希望數量以下。
又,上述黏著型光學薄膜10,係在光學薄膜11的表面透過底塗層12而設置黏著劑層6,但是,雖然未圖示,例如亦能夠不設置底塗層12,而將黏著劑層6直接設置在光學薄膜11的表面。
而且,在上述說明,係將本發明的黏著薄膜設作具有光學薄膜11之黏著型光學薄膜10而說明,但是,雖然未圖 示,例如亦能夠設作具備不織布、金屬箔(金屬薄膜)等不具有光學特性、而具有機械特性的基材薄膜11之黏著薄膜而形成。
實施例
以下,舉出實施例及比較例而更具體地說明本發明,但是本發明係不被該等任何限制者。
實施例1
(水分散型黏著劑組成物的調製)
在容器,調配88重量份丙烯酸丁酯、5重量份丙烯酸、2重量份一[多(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯、0.03重量份3-甲基丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷(KBM-503、(信越SILICONE公司製)而調製單體成分。
隨後,在388g之所調製的單體成分的一部分(單體成分總量的20重量%),添加46.6g反應性乳化劑(AQUARON HS-10、第一工業製藥公司製)及346g離子交換水,且使用均化器以轉數為5000min-1,強制乳化(預乳化)5分鐘而調製單體預乳液。
又,在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器,投入上述156g單體預乳液及219g離子交換水,隨後,將反應容器氮氣取代且添加0.023g過硫酸銨,並且在65℃其乳化聚合2.5小時。
隨後,在625g之單體成分的剩餘部分(單體成分總量的80重量%)添加0.217g過硫酸銨,並將其以3小時滴入至反應容器,滴入後,藉由邊氮氣取代邊於70℃使其乳化聚合3小 時,而得到固體成分濃度為40重量%的水分散型丙烯酸系聚合物的乳液。
隨後,將所得到的乳液冷卻至室溫,並添加10重量%氨水而將pH調整為8,而且,相對於100重量份之乳液的固體成分,添加2重量份SN THICKENER640(疏水基改質聚丙烯酸、SANNOPCO公司製),而且,追加離子交換水而將固體成分濃度調整為25重量%,來調製水分散型黏著劑組成物。
(黏著劑層的形成)
首先,準備經剝離處理之厚度為38μm之PET薄膜(脫模薄膜)(參照第1圖(a),隨後,將上述的水分散型黏著劑組成物使用刮刀式塗佈器,均勻地塗佈在PET薄片的表面(處理面)而形成厚度為92μm的塗佈液層(參照第1圖(b)。
隨後,藉由將所形成的塗佈液層於120℃加熱2分鐘而使其乾燥,來形成厚度為23μm的黏著劑層(參照第1圖(c)。
(黏著型光學薄膜的製造)
首先,準備層積有底塗層之偏光膜(參照第5圖(a))。
亦即,藉由在400重量份(換算成固體成分為100重量份)EPOCROSS WS-700(水溶液型、固體成分25%、主鏈:丙烯酸系、pH7~9、唑啉值220g solid/eg.、日本觸媒公司製)及30重量份ORGACON LBS(導電性聚噻吩、Agfa Materials公司製),添加水/異丙醇(重量比為3:1)混合溶液且攪拌均勻而調整固體成分濃度為0.5重量%,來調製底塗劑的塗佈液。將該塗佈液使用繞線棒No.5以乾燥後的厚度 為20~30nm的方式,塗佈在厚度為180μm的偏光薄膜的表面,隨後使其乾燥。藉此,來製造層積有底塗層之偏光膜。
隨後,藉由將黏著劑層與底塗層黏貼而得到黏著型光學薄膜(參照第4圖)。
實施例2
除了將相對於100重量份之乳液的固體成分之SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸)的調配份數變更為1重量份,而且,藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑組成物的的固體成分濃度變更為30重量%以外,與實施例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為77μm的塗佈液層,隨後形成厚度為23μm的塗佈液層,隨後,得到黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
實施例3
除了添加ARON B-500(丙烯酸系共聚物、東亞合成公司製)代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸),且將相對於100重量份之乳液的固體成分之ARON B-500的調配份數變更為2.6重量份以外,與實施例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為92μm的塗佈液層,隨後,得到厚度為23μm的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
實施例4
除了添加ARON B-500(丙烯酸系共聚物)代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸),且將相對於100重量份之乳液的固體成分之ARON B-500的調配份數變更 為2重量份,而且,藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑組成物的的固體成分濃度變更為30重量%以外,與實施例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為77μm的塗佈液層,隨後,得到厚度為23μm的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
實施例5
除了添加ADEKANOL UH541VF(胺甲酸酯系增黏劑、ADEKA公司製)代替SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸),且將相對於100重量份之乳液的固體成分之ADEKANOL UH541VF的調配份數變更為2重量份,而且,藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑組成物的的固體成分濃度變更為30重量%以外,與實施例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為77μm的塗佈液層,隨後,得到厚度為23μm的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
比較例1
除了不添加SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸),且不實施藉由追加離子交換水來調整(稀釋)水分散型黏著劑組成物的的固體成分濃度以外,與實施例1同樣地進行而調製固體成分濃度為40重量%的水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為58μm的塗佈液層,隨後,得到厚度為23μm的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
比較例2
除了不添加SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯 酸),與實施例1同樣地進行而調製的水分散型黏著劑組成物。
隨後,欲嘗試形成黏著劑層,但是因為塗佈時在PET薄膜上產生水分散型黏著劑組成物的收縮斑而無法形成塗佈液層及黏著劑層。
比較例3
除了將相對於100重量份之乳液的固體成分之SN THICKENER 640(疏水性改質聚丙烯酸)的調配份數變更為0.5重量份,而且,藉由追加離子交換水來將水分散型黏著劑組成物的的固體成分濃度變更為35重量%以外,與實施例1同樣地進行而調製水分散型黏著劑組成物,接著形成厚度為66μm的塗佈液層,隨後,得到厚度為23μm的黏著劑層及具有其之黏著型光學薄膜。
(評價)
(1)外觀觀察
藉由從PET薄膜側目視觀察實施例1~5、比較例1及3的黏著型光學薄膜之黏著劑層,在觀察有無上述定義的凹部之同時,計算每平方公尺(1m2)的凹部之個數。將該等結果顯示在表1。
亦即,實施例1~5係完全無法觀察到存在有任何的凹部,或是即便觀察到,其凹部的厚度方向之深度(D)為小於0.2μm,且上述的內徑(L)為小於1mm(亦即,比上述定義小的凹部)。
另一方面,比較例1及3係任一者均能夠觀察到存在有 凹部,其凹部的厚度方向之深度(D)為0.2~20μm,且上述的內徑(L)為1~10mm(亦即,如上述定義的凹部)。
而且,凹部的尺寸係使用非接觸三維表面形狀粗糙度計(WykoNT9100、Veeco公司製)測得。
(2)水分散型黏著劑組成物的黏度
使用圓錐/平板式黏度計(Rheostress RS-1型HAAKE公司製)測定實施例1~5及比較例1~3的水分散型黏著劑組成物在30℃、切斷速度1sec-1之黏度。將其結果顯示在表1。
(3)增黏劑的濁度
將在實施例1~5及比較例3所使用的增黏劑,調配在水中而調製1重量%的水溶液,而且使用氨水調整為pH8而調製增黏劑水溶液。隨後,使用濁度計(LaMotte2020型、ORGANO公司製)測定所調製的增黏劑水溶液之濁度。將其結果顯示在表1。
(4)霧度值
將在實施例1~5、比較例1及3的「黏著劑層的形成」所得到之厚度為23μm的黏著劑層,轉印至載玻板(微載玻片、厚度為1.3mm、Matsunami Glass公司製),依據JIS K7136且使用霧度(Haze)計(HM-150、村上色彩技術研究所公司製)測定如此黏著劑層的霧度值。將其結果顯示在表1。
(5)TEM照片觀察
使用TEM(透射型電子顯微鏡)觀察實施例1及3的黏著劑層之表面。在第6圖及第7圖各自顯示實施例1及3的黏著劑層之TEM照片的影像。
從第6圖得知,在實施例1所使用之上述濁度為100NTU以下的增黏劑(SN THICKENER 640)係均勻地分散在水分散型聚合物中。
另一方面,從第7圖得知,在實施例3所使用之上述濁度為超過100NTU的增黏劑(ARON B-500)係以不溶解物(粒子)為比較大的粒子之方式殘留在水分散型聚合物中。
又,以下詳明說明在表1中,「*」所表示之增黏劑及測定單位。
SN THICKENER 640 *1:商品名、疏水基改質聚丙烯酸、SANNOPCO公司製
ARON B-500*2:商品名、丙烯酸系共聚物、東亞合成公司製
ADEKANOL UH-541VF*3:商品名、胺甲酸酯系增黏劑、ADEKA公司製
NTU*4:濁度的單位、Nephelometric Turbidity Unit
而且,上述發明係提供作為本發明的例示實施形態,但是其只不過是例示而已,不可限定地解釋。該技術領域中具有通常知識者應清楚明白,本發明的改良例係被包含在後述的申請專利範圍。
產業上之可利用性
接著劑層係能夠使用於被各種產業領域廣泛地使用之黏著薄膜。
1‧‧‧脫模薄膜
2‧‧‧塗佈液層
4、5‧‧‧凹部
6‧‧‧黏著劑層
7‧‧‧支撐構件
8‧‧‧異物
9‧‧‧背側凹部
10‧‧‧黏著型光學薄膜
11‧‧‧光學薄膜
12‧‧‧底塗層
13‧‧‧突出部分
L1‧‧‧突出部分最大長度
L2‧‧‧凹部最大長度
T1、T2‧‧‧厚度
T1’、T2’‧‧‧厚度
D‧‧‧最大深度
第1圖係說明本發明的黏著劑層的一實施形態之製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示準備脫模薄膜之步驟,(b)係顯示在脫模薄膜的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構成之塗佈液層之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第2圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之間存在有異物時之實施例1的黏著劑層之製造方法之步驟 圖,其中(a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形成塗佈液層之步驟,(b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第3圖係說明在脫模薄膜的背面與支撐構件的表面之間存在有異物時之比較例1的黏著劑層之製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示在背面存在有異物之脫模薄膜的表面形成塗佈液層之步驟,(b)係顯示脫模薄膜從支撐構件分離之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第4圖係顯示本發明的黏著薄膜的一實施形態之黏著型光學薄膜的剖面圖。
第5圖係說明第1圖所顯示之黏著劑層的製造方法之步驟圖,其中(a)係顯示準備層積有底塗層之光學薄膜之步驟,(b)係顯示在底塗層的表面形成由水分散型黏著劑組成物所構成之塗佈液層之步驟,(c)係顯示使塗佈液層乾燥而形成黏著劑層之步驟。
第6圖係顯示實施例1的黏著劑層的TEM照片之影像處理圖。
第7圖係顯示實施例3的黏著劑層的TEM照片之影像處理圖。
1‧‧‧脫模薄膜
2‧‧‧塗佈液層
4、5‧‧‧凹部
6‧‧‧黏著劑層
7‧‧‧支撐構件
8‧‧‧異物
9‧‧‧背側凹部
L1‧‧‧突出部分最大長度
T1、T2‧‧‧厚度
13‧‧‧突出部分

Claims (7)

  1. 一種黏著劑層,係藉由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者,其特徵在於:於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下,且其含有水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑,前述水分散型黏著劑組成物之固體成分濃度為5~32重量%,前述增黏劑在調製成1重量%之水溶液且進一步調整成pH8時之濁度為100NTU以下,前述增黏劑的調配比例,係相對於100重量份之水分散型丙烯酸系聚合物的固體成分而為0.01~20重量份。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著劑層,其中前述黏著劑層之厚度為3~100μm。
  3. 如申請專利範圍第1項之黏著劑層,其中前述水分散型黏著劑組成物在30℃且剪切速度1sec-1下之黏度為0.1~50Pa‧s。
  4. 如申請專利範圍第1項之黏著劑層,其中厚度23μm之前述黏著劑層之霧度(Haze)值為1.0%以下。
  5. 一種黏著薄膜,其特徵在於:具有基材及層積於前述基材表面上之黏著劑層,且前述黏著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者, 於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下,且其含有水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑,前述水分散型黏著劑組成物之固體成分濃度為5~32重量%,前述增黏劑在調製成1重量%之水溶液且進一步調整成pH8時之濁度為100NTU以下,前述增黏劑的調配比例,係相對於100重量份之水分散型丙烯酸系聚合物的固體成分而為0.01~20重量份。
  6. 如申請專利範圍第5項之黏著薄膜,其中前述基材係光學薄膜。
  7. 一種光學裝置,其特徵在於:具有光學薄膜及層積於前述光學薄膜表面上之黏著劑層,且前述黏著劑層係藉由塗佈水分散型黏著劑組成物及使其乾燥而獲得者,於前述黏著劑層之表面中,厚度方向之深度為0.2~20μm,且沿著前述表面之最大長度為1~10mm之凹部數量為每平方公尺(1m2)5個以下,且其含有水分散型丙烯酸系聚合物及增黏劑,前述水分散型黏著劑組成物之固體成分濃度為5~32重量%,前述增黏劑在調製成1重量%之水溶液且進一步調整成pH8時之濁度為100NTU以下, 前述增黏劑的調配比例,係相對於100重量份之水分散型丙烯酸系聚合物的固體成分而為0.01~20重量份。
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