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TWI503043B - 電激發光顯示面板 - Google Patents

電激發光顯示面板 Download PDF

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TWI503043B
TWI503043B TW099111436A TW99111436A TWI503043B TW I503043 B TWI503043 B TW I503043B TW 099111436 A TW099111436 A TW 099111436A TW 99111436 A TW99111436 A TW 99111436A TW I503043 B TWI503043 B TW I503043B
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TW
Taiwan
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layer
display panel
electroluminescent
electroluminescent display
pixel electrodes
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TW099111436A
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Inventor
Wen Hao Wu
Original Assignee
Au Optronics Corp
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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    • HELECTRICITY
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    • H10K59/873Encapsulations

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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Description

電激發光顯示面板
本發明是有關於一種顯示面板,且特別是有關於一種電激發光顯示面板(electroluminescent display panel)。
隨著顯示科技的日益進步,人們藉著顯示裝置的輔助可使生活更加便利。為求顯示器輕、薄之特性,平面顯示器成為了目前的主流。
在各種平面顯示器中,主動矩陣電激發光顯示器(active matrix electroluminescent display,AMLED)顯示器因具有視角廣、色彩對比效果好、輕薄、響應速度快及成本低等優點,故十分適用於如隨身影像產品(筆記型電腦、PDA、手機等),特別是大型顯示裝置如電視等。
在一般的主動矩陣電激發光顯示器中,電激發光元件上通常會覆蓋有緩衝層,且緩衝層上依序覆蓋有機層與無機層,以防止水氣或氧氣接觸電激發光元件而導致元件損壞,以及使元件表面平坦化。然而,在形成緩衝層、有機層與無機層時,無法避免地會於各膜層中產生針孔(pin hole),使得水氣與氧氣藉由這些針孔而接觸電激發光元件。此外,由於水氣與氧氣在有機層中非常容易擴散至針孔以外的區域,因此往往造成大面積的元件損壞。
本發明提供一種電激發光顯示面板,其可以有效地避免水氣與氧氣在有機層中大幅度地擴散。
本發明另提供一種電激發光顯示面板,其可以有效地避免元件發生大面積的損壞。
本發明提出一種電激發光顯示面板,其包括主動元件陣列基板、畫素定義層、多個電激發光元件層、電極層以及保護層。主動元件陣列基板具有多個呈陣列排列之畫素電極。畫素定義層配置於主動元件陣列基板上,其中畫素定義層具有多個呈陣列排列之開口,且各開口分別暴露出其中一個畫素電極。電激發光元件層配置於開口內,其中各電激發光元件層分別配置於其中一個畫素電極上。電極層覆蓋於畫素定義層與電激發光元件層上。保護層覆蓋於電極層上。保護層包括緩衝層、第一封裝薄膜以及第二封裝薄膜。緩衝層覆蓋畫素定義層與電激發光元件層。第一封裝薄膜僅部分地覆蓋緩衝層。第一封裝薄膜包括多個彼此分離之島狀圖案,且島狀圖案位於畫素電極上方。第二封裝薄膜覆蓋緩衝層與第一封裝薄膜。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之主動元件陣列基板包括多條掃描線、多條資料線以及多個主動元件。主動元件與掃描線、資料線以及畫素電極對應地電性連接,且掃描線、資料線與主動元件被畫素定義層所覆蓋。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的水氣穿透速率(water vapor transmission rate,WVTR)例如大於第二封裝薄膜的水氣穿透速率。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的氧氣穿透速率(oxygen transmission rate,OTR)例如大於第二封裝薄膜的氧氣穿透速率。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的水氣穿透速率例如介於0.1g/m2/day至100g/m2/day之間,而第二封裝薄膜的水氣穿透速率例如介於1g/m2/day至50g/m2/day之間。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的氧氣穿透速率例如介於0.1c.c./m2/day至100c.c./m2/day之間,而第二封裝薄膜的氧氣穿透速率例如介於1c.c./m2/day至50c.c./m2/day之間。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之緩衝層與第二封裝薄膜之材料例如為無機材料,而第一封裝薄膜之材料例如為有機材料。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之各島狀圖案例如分別位於其中一個開口內。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之各電激發光元件層包括發光層、電洞注入層(hole injection layer,HIL)、電洞傳輸層(hole transport layer,HTL)以及電子注入層(electron injection layer,EIL)。發光層配置於其中一個畫素電極與電極層之間。電洞注入層配置於其中一個畫素電極與發光層之間。電洞傳輸層配置於電洞注入層於發光層之間。電子注入層配置於發光層與電極層之間。
本發明另提出一種電激發光顯示面板,其包括主動元件陣列基板、畫素定義層、多個電激發光元件層、電極層 以及保護層。主動元件陣列基板具有多個呈陣列排列之畫素電極。畫素定義層配置於主動元件陣列基板上,其中畫素定義層具有多個呈陣列排列之開口,且各開口分別暴露出其中一個畫素電極。電激發光元件層配置於開口內,其中各電激發光元件層分別配置於其中一個畫素電極上。電極層覆蓋於畫素定義層與電激發光元件層上。保護層覆蓋於電極層上。保護層包括第一封裝薄膜。第一封裝薄膜包括多個彼此分離之島狀圖案,且島狀圖案大體位於畫素電極正上方而不位於畫素電極正上方以外的區域。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的水氣穿透速率例如介於0.1g/m2/day至100g/m2/day之間。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜的氧氣穿透速率例如介於0.1c.c./m2/day至100c.c./m2/day之間。
依照本發明實施例所述之電激發光顯示面板,上述之第一封裝薄膜之材料例如為有機材料。
基於上述,本發明將由有機材料所形成的各個封裝薄膜配置於畫素定義層的每一個開口內,使這些由有機材料所形成的封裝薄膜彼此不連接,因此當水氣與氧氣由膜層中的針孔進入時,可以避免水氣與氧氣在由有機材料所形成的封裝薄膜中大幅度地擴散,進而可以減少電激發光元件的損壞。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A為依照本發明一實施例所繪示的電激發光顯示面板之上視示意圖。圖1B為沿圖1A中的I-I’剖線所繪示的電激發光顯示面板之剖面示意圖。請同時參照圖1A與圖1B,電激發光顯示面板10包括主動元件陣列基板100、畫素定義層102、電激發光元件層104、電極層106以及保護層108。主動元件陣列基板100的材料例如為玻璃、塑膠或其他合適的材料。主動元件陣列基板100具有呈陣列排列的畫素電極100a。畫素電極100a的材料例如為銦錫氧化物(indium tin oxide,ITO)或銦鋅氧化物(indium zinc oxide,IZO)。此外,主動元件陣列基板100還具有掃描線100b、資料線100c以及主動元件(為了使圖式清楚而未繪示)。掃描線100b與資料線100c彼此互相垂直。主動元件與所對應的一條掃描線100b、一條資料線100c以及一個畫素電極100a電性連接。掃描線100b、資料線100c的材料例如為金屬。主動元件包括閘極、閘絕緣層、通道層、源極/汲極等,其彼此間的配置關係為本領域技術人員所熟知,於此不另行說明。
畫素定義層102配置於主動元件陣列基板100上。畫素定義層102覆蓋掃描線100b、資料線100c與主動元件,用以定義出畫素區。畫素定義層102的材料例如為壓克力(acrylic)。畫素定義層102具有開口110。開口110以陣列的方式排列,且每一個開口110暴露出一個畫素電極100a。
電激發光元件層104配置於開口110內,且每一個電激發光元件層104配置於一個畫素電極100a上。電激發光 元件層104包括發光層104a、電洞注入層104b、電洞傳輸層104c以及電子注入層104d。電洞注入層104b、電洞傳輸層104c、發光層104a以及電子注入層104d自畫素電極100a依序堆疊於其上。電激發光元件層104中各膜層材料可使用習知電激發光元件層的材料。發光層104a例如為有機發光層或無機發光層,有機發光層材料例如為Alq。電洞注入層104b的材料例如為CuPc、電洞傳輸層104c的材料例如為NPB以及電子注入層104d的材料例如為LiF。發光層104a、電洞注入層104b、電洞傳輸層104c以及電子注入層104d的形成方法例如為噴墨印刷法(ink-jet printing,IJP)。此外,在其他實施例中,也可以視實際需求而於電子注入層104d與發光層104a之間配置電子傳輸層;於發光層104a與電子注入層104d或電子傳輸層之間配置電洞阻擋層。
電極層106例如是共形地(conformally)覆蓋於畫素定義層102與電激發光元件層104上,以作為共用電極。電極層106的材料例如為鋁。
保護層108覆蓋於電極層106上。詳細地說,保護層108包括緩衝層108a、封裝薄膜108b以及封裝薄膜108c。緩衝層108a例如是共形地配置於電極層106上,以覆蓋畫素定義層102與電激發光元件層104。緩衝層108a的材料例如為無機材料。封裝薄膜108b僅部分地覆蓋緩衝層108a。在本實施例中,封裝薄膜108b例如為彼此分離的島狀圖案,而這些島狀圖案配置於開口110內,且位於畫素電極100a的正上方。在另一實施例中,封裝薄膜108b除 了位於開口110內之外,還可以位於開口110周圍的緩衝層108a上。封裝薄膜108b的材料例如為有機材料,其水氣穿透速率例如介於0.1g/m2/day至100g/m2/day之間,而氧氣穿透速率例如介於0.1c.c./m2/day至100c.c./m2/day之間。此外,封裝薄膜108c覆蓋緩衝層108a與封裝薄膜108b。封裝薄膜108c的材料例如為無機材料,其水氣穿透速率例如介於1g/m2/day至50g/m2/day之間,而氧氣穿透速率例如介於1c.c./m2/day至50c.c./m2/day之間。在一實施例中,封裝薄膜108b的水氣穿透速率例如大於封裝薄膜108c的水氣穿透速率。在一實施例中,封裝薄膜108b的氧氣穿透速率例如大於封裝薄膜108c的氧氣穿透速率。
由圖1B可以看出,由於由有機材料所形成的各個封裝薄膜108b位於每一個開口110內且彼此不連接,因此當水氣與氧氣由各膜層中的針孔進入時,並無法經由封裝薄膜108b而擴散至其他區域,也就不會導致元件發生大面積的損壞。
特別一提的是,在本實施例中,保護層108是由一層由無機材料所形成的緩衝層108a、一層由有機材料形成的封裝薄膜108b以及一層由無機材料所形成的封裝薄膜108c所構成,而在其他實施例中,保護層也可以是由一層緩衝層108a以及由多層有機材料層與多層無機材料層依序交替堆疊所形成的複合層所構成。
圖2為依照本發明另一實施例所繪示的電激發光顯示面板之剖面示意圖。請參照圖2,在本實施例中,電激發光顯示面板20與電激發光顯示面板10的差異在於:在電 激發光顯示面板20中,保護層是由一層緩衝層108a、封裝薄膜108b(舉例為有機材料)、封裝薄膜108c(舉例為無機材料)、封裝薄膜108d(舉例為有機材料)與封裝薄膜108e(舉例為無機材料)所構成。當然,在其他實施例中,還可以視實際需求而繼續堆疊更多層的有機材料層與無機材料層。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10、20‧‧‧電激發光顯示面板
100‧‧‧主動元件陣列基板
100a‧‧‧畫素電極
100b‧‧‧掃描線
100c‧‧‧資料線
102‧‧‧畫素定義層
104‧‧‧電激發光元件層
104a‧‧‧發光層
104b‧‧‧電洞注入層
104c‧‧‧電洞傳輸層
104d‧‧‧電子注入層
106‧‧‧電極層
108‧‧‧保護層
108a‧‧‧緩衝層
108b、108c、108d、108e‧‧‧封裝薄膜
110‧‧‧開口
圖1A為依照本發明一實施例所繪示的電激發光顯示面板之上視示意圖。
圖1B為沿圖1A中的I-I’剖線所繪示的電激發光顯示面板之剖面示意圖。
圖2為依照本發明另一實施例所繪示的電激發光顯示面板之剖面示意圖。
10‧‧‧電激發光顯示面板
100‧‧‧主動元件陣列基板
100a‧‧‧畫素電極
100c‧‧‧資料線
102‧‧‧畫素定義層
104‧‧‧電激發光元件層
104a‧‧‧發光層
104b‧‧‧電洞注入層
104c‧‧‧電洞傳輸層
104d‧‧‧電子注入層
106‧‧‧電極層
108‧‧‧保護層
108a‧‧‧緩衝層
108b、108c‧‧‧封裝薄膜
110‧‧‧開口

Claims (18)

  1. 一種電激發光顯示面板,包括:一主動元件陣列基板,具有多個呈陣列排列之畫素電極;一畫素定義層,配置於該主動元件陣列基板上,其中該畫素定義層具有多個呈陣列排列之開口,且各該開口分別暴露出其中一畫素電極;多個電激發光元件層,配置於該些開口內,其中各該電激發光元件層分別配置於其中一畫素電極上;一電極層,覆蓋於該畫素定義層與該些電激發光元件層上;以及一保護層,覆蓋於該電極層上,而該保護層包括:一緩衝層,覆蓋該畫素定義層與該些電激發光元件層;一第一封裝薄膜,僅部分地覆蓋該緩衝層,該第一封裝薄膜包括多個彼此分離之島狀圖案,且該些島狀圖案位於該些畫素電極上方並分別位於該些開口內使得該些島狀圖案以及該些畫素電極上方以外之該畫素定義層在水平方向上係為重疊;以及一第二封裝薄膜,覆蓋該緩衝層與該第一封裝薄膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該主動元件陣列基板包括多條掃描線、多條資料線以及多個主動元件,該些主動元件與該些掃描線、該些資料線以及該些畫素電極對應地電性連接,且該些掃描線、該 些資料線與該些主動元件被該畫素定義層所覆蓋。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的水氣穿透速率(water vapor transmission rate,WVTR)大於該第二封裝薄膜的水氣穿透速率。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的氧氣穿透速率(oxygen transmission rate,OTR)大於該第二封裝薄膜的氧氣穿透速率。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的水氣穿透速率介於0.1g/m2/day至100g/m2/day之間,而第二封裝薄膜的水氣穿透速率介於1g/m2/day至50g/m2/day之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的氧氣穿透速率介於0.1c.c./m2/day至100c.c./m2/day之間,而第二封裝薄膜的氧氣穿透速率介於1c.c./m2/day至50c.c./m2/day之間。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該緩衝層與該第二封裝薄膜之材料為無機材料,該第一封裝薄膜之材料為有機材料。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中各該電激發光元件層包括:一發光層,配置於其中一畫素電極與該電極層之間;一電洞注入層,配置於其中一畫素電極與該發光層之間;一電洞傳輸層,配置於該電洞注入層於該發光層之 間;以及一電子注入層,配置於該發光層與該電極層之間。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之電激發光顯示面板,其中該發光層包括有機發光層或無機發光層。
  10. 一種電激發光顯示面板,包括:一主動元件陣列基板,具有多個呈陣列排列之畫素電極;一畫素定義層,配置於該主動元件陣列基板上,其中該畫素定義層具有多個呈陣列排列之開口,且各該開口分別暴露出其中一畫素電極;多個電激發光元件層,配置於該些開口內,其中各該電激發光元件層分別配置於其中一畫素電極上;一電極層,覆蓋於該畫素定義層與該些電激發光元件層上;以及一保護層,覆蓋於該電極層上,而該保護層包括:一第一封裝薄膜,該第一封裝薄膜包括多個彼此分離之島狀圖案,且該些島狀圖案大體位於該些畫素電極正上方而不位於該些畫素電極正上方以外的區域,該些島狀圖案分別位於該些開口內使得該些島狀圖案以及該些畫素電極上方以外之該畫素定義層在水平方向上係為重疊。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之電激發光顯示面板,其中該主動元件陣列基板包括多條掃描線、多條資料線以及多個主動元件,該些主動元件與該些掃描線、該些資料線以及該些畫素電極對應地電性連接,且該些掃描線、該些資料線與該些主動元件被該畫素定義層所覆蓋。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的水氣穿透速率介於0.1g/m2/day至100g/m2/day之間。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜的氧氣穿透速率介於0.1c.c./m2/day至100c.c./m2/day之間。
  14. 如申請專利範圍第10項所述之電激發光顯示面板,其中該第一封裝薄膜之材料為有機材料。
  15. 如申請專利範圍第10項所述之電激發光顯示面板,其中各該電激發光元件層包括:一發光層,配置於其中一畫素電極與該電極層之間;一電洞注入層,配置於其中一畫素電極與該發光層之間;一電洞傳輸層,配置於該電洞注入層於該發光層之間;以及一電子注入層,配置於該發光層與該電極層之間。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之電激發光顯示面板,其中該發光層包括有機發光層或無機發光層。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該緩衝層的一部分係位於該些開口內。
  18. 如申請專利範圍第1項所述之電激發光顯示面板,其中該些島狀圖案的一部分更位於該些開口周圍的該緩衝層上。
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