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TWI502233B - 光導波管的製造方法以及利用該方法得到的光導波管 - Google Patents

光導波管的製造方法以及利用該方法得到的光導波管 Download PDF

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TWI502233B
TWI502233B TW103108387A TW103108387A TWI502233B TW I502233 B TWI502233 B TW I502233B TW 103108387 A TW103108387 A TW 103108387A TW 103108387 A TW103108387 A TW 103108387A TW I502233 B TWI502233 B TW I502233B
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Tatsuya Makino
Masatoshi Yamaguchi
Atsushi Takahashi
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Description

光導波管的製造方法以及利用該方法得到的光導波 管
本發明是有關於一種光導波管的製造方法以及光導波 管，尤其是關於一種具有以下步驟的光導波管的製造方法以及利用該製造方法得到的光導波管：在基材上形成感光性樹脂層的步驟、對所需的圖案(pattern)進行曝光的步驟、以及使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟。
近年來，電子元件間或配線基板間之高速、高密度訊號傳輸中，先前之電路佈線(electric wiring)的傳輸中，訊號的相互干擾或衰減成為障礙，使得高速、高密度化開始出現極限。為了攻克這一問題，本領域技術人員正在研究用光來連接電子元件間或配線基板間的技術，即所謂光互連(light interconnection)。作為光的傳輸通道，自加工簡便、成本低、配線自由度高、且可實現高密度化的方面考慮，聚合物光導波管受到關注。
作為聚合物光導波管的形態，本領域技術人員認為下述 類型較為合適：設想應用於光電混載基板，在玻璃環氧樹脂基板上製作的類型；或設想將板(board)彼此連接的不具備硬支持基板的可撓型(flexible type)。
簡便且高精度地形成光導波管的方法之一，眾所周知有 藉由曝光、顯影來形成芯圖案(core pattern)的方法。其中，曝光製程是使光照射部的感光性樹脂產生三維交聯而不溶化的步驟，顯影製程是使未曝光部即未反應部分的感光性樹脂溶解於顯影液中並加以除去的步驟。
先前，眾所周知有使用有機溶劑作為顯影液的方法(例 如，參照日本專利特開昭63-81301號公報)，就顯影製程的安全性以及環境負荷的觀點而言，亦提出了使用鹼性顯影液來進行顯影的方法(例如，參照日本專利特開平6-258537號公報及日本專利特開2003-195079號公報)。
為了使可應用鹼顯影製程的光導波管形成用材料能夠溶 於鹼性顯影液，而在該光導波管形成用材料中導入了羧基(carboxyl group)、酚性羥基(phenol hydroxyl group)等顯示酸性的官能基。因此，在藉由曝光而不溶化的芯圖案中，酸性官能基亦會由鹼性顯影液中和而形成鹽。尤其是在使用包含碳酸鈉、碳酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬化合物或氫氧化四甲基銨(tetramethyl ammonium hydroxide，TMAH)等有機鹼而成的鹼性顯影液時，有所生成的一價鹽的化學性質不穩定的傾向。
殘留有不穩定鹽的芯圖案由於芯圖案內部成為不均勻結 構，故不僅就高透明性(低光傳播損耗(propagation loss))的觀點而言不佳，而且就光導波管的可靠性的觀點而言亦不理想。
本發明是為了解決上述課題研究而成的，其目的在於提 供一種透明性及可靠性優異的光導波管的製造方法以及利用該製造方法而製造的光導波管。
本發明人等反覆進行了潛心研究，結果發現，藉由如下 方式可解決上述課題：使顯影步驟中含有二價或二價以上的金屬離子及/或顯影後的清洗步驟中含有二價或二價以上的金屬離子，或者在使用鹼性顯影液進行顯影之後經由使用酸性水溶液加以清洗的步驟形成光導波管。
即，本發明提供：(1)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成由感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層的步驟、對所需的圖案進行曝光的步驟、以及使用含有二價或二價以上的金屬離子的鹼性顯影液來進行顯影的步驟；(2)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成由感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層的步驟、對所需的圖案進行曝光的步驟、使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟、以及使用含有二價或二價以上的金屬離子的清洗液或酸性水溶液加以清洗的步驟；以及(3)如上述(2)所述之光導波管的製造方法，其中上述顯影步驟的鹼性顯影液中含有二價或二價以上的金屬離子。
根據本發明的製造方法，可將芯圖案內殘留的不穩定的一價鹽有效地轉變為穩定的二價或二價以上的鹽、或有效地還原 為酸性官能基，結果可高生產性地獲得透明性及可靠性優異的光導波管。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
圖1是表示本發明中所實施的回焊試驗中的回焊爐內的溫度曲線的圖表。
以下，就本發明的光導波管的製造方法以及光導波管進行詳細說明。
本發明的光導波管的製造方法至少具有在基材上形成由感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層的步驟、對所需的圖案進行曝光的步驟、以及使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟，且視需要具有清洗步驟。
本發明的光導波管的製造方法的特徵在於：使顯影步驟以及顯影後的清洗步驟中的至少一步驟中含有二價或二價以上的金屬離子，或者在鹼顯影之後使用酸性水溶液加以清洗。
較佳態樣具體而言有以下四種態樣。即，(a)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成光導波管形成用感光性樹脂層的步驟、形成感光性樹脂層之後對所需的圖案進行曝光的步驟、以及曝光後使用含有二價或二價以上的金屬離子的鹼性顯影 液來進行顯影的步驟；(b)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成光導波管形成用感光性樹脂層的步驟、形成感光性樹脂層之後對所需的圖案進行曝光的步驟、曝光後使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟、以及顯影後使用含有二價或二價以上的金屬離子的清洗液加以清洗的步驟；(c)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成光導波管形成用感光性樹脂層的步驟、形成感光性樹脂層之後對所需的圖案進行曝光的步驟、曝光後使用含有二價或二價以上的金屬離子的鹼性顯影液來進行顯影的步驟、以及顯影後使用含有二價或二價以上的金屬離子的清洗液加以清洗的步驟；以及(d)一種光導波管的製造方法，其具有在基材上形成光導波管形成用感光性樹脂層的步驟、形成感光性樹脂層之後對所需的圖案進行曝光的步驟、曝光後使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟、以及顯影後使用酸性水溶液加以清洗的步驟。
本發明中所使用的基材並無特別限制，可列舉：矽(silicon)基板、玻璃基板、玻璃環氧樹脂基板、塑膠基板、金屬基板、附有樹脂層的基板、附有金屬層的基板、塑膠膜、附有樹脂層的塑膠膜、附有金屬層的塑膠膜等。
在基材上形成感光性樹脂層的方法並無特別限制，例如可列舉：使用旋塗法(spin coating)、浸塗法(dip coating)、噴霧塗佈法(spray coating)、棒塗法(bar coating)、輥塗法(roll coating)、簾塗法(curtain coating)、凹版塗佈法(gravure coating)、絲網塗佈法(screen coating)、噴墨塗佈法(ink jet coating)等來塗佈光導波管形成用感光性樹脂組成物的方法。
當光導波管形成用感光性樹脂組成物是以合適的有機溶 劑稀釋的光導波管形成用感光性樹脂清漆(varnish)時，視需要亦可在形成樹脂層之後設置乾燥步驟。乾燥方法例如可列舉加熱乾燥、減壓乾燥等。另外，視需要亦可併用該些乾燥方法。
形成感光性樹脂層的其他方法可列舉：使用由感光性樹 脂組成物所構成的感光性樹脂膜，利用積層法來形成感光性樹脂層的方法。而且，如後文所述，通常較佳可使用下述膜作為感光性樹脂膜：將感光性樹脂組成物塗佈於支持膜上，並於感光性樹脂組成物上積層保護膜而得到的三層構成的膜。
就可提供生產性優異的光導波管製造製程的觀點而言， 形成感光性樹脂層的方法較好的是，如上所述的使用光導波管形成用感光性樹脂膜利用積層法來進行製造的方法。
以下，以使用光導波管形成用感光性樹脂膜來形成下部 披覆層(clad layer)、芯部及上部披覆層的光導波管的製造方法為例加以說明，但是本發明並不受該例的任何限制。
首先，於第一步驟中，將下部披覆層形成用感光性樹脂 膜積層於如上所述的基材上。第一步驟的積層方法並無特別限制，例如可列舉：使用輥貼合機(roll laminator)或平板型貼合機一邊加熱一邊進行壓接，藉此來積層的方法等。
另外，於本發明中，所謂平板型貼合機，是指藉由將積 層材料夾持在一對平板之間並對平板加壓而實現壓接的貼合機，例如可較好地使用真空加壓式貼合機。此處的加熱溫度較好的是20℃~130℃，壓接壓力較好的是0.1MPa~1.0MPa，該些條件並無特別限制。當下部披覆層形成用感光性樹脂膜上存在保護膜時，將保護膜除去之後再進行積層。
另外，亦可在使用真空加壓式貼合機進行積層之前，使 用輥貼合機預先將下部披覆層形成用感光性樹脂膜暫時貼附於基板上。其中，就提高密著性及平整性(flatting)的觀點而言，較好的是一邊壓接一邊進行暫時貼附，在壓接時亦可一邊使用具有加熱輥(heat roll)的貼合機加熱一邊進行壓接。
層壓溫度較好的是20℃~130℃。若層壓溫度大於等於 20℃，則下部披覆層形成用感光性樹脂膜與基材之密著性提高，若層壓溫度小於等於130℃，則在輥貼合時樹脂層的流動性不會過大，可獲得必要的膜厚。就上述觀點而言，層壓溫度更好的是40℃~100℃。層壓時的壓力較好的是0.2MPa~0.9MPa，層壓速度較好的是0.1m/min~3m/min，該些條件並無特別限制。
對積層在基材上的下部披覆層形成用感光性樹脂膜進行 光硬化，除去下部披覆層形成用感光性樹脂膜的支持膜，形成下部披覆層。
形成下部披覆層時的活性光線(activity rays)的照射量較 好的是0.1J/cm2 ~5J/cm2 ，該些條件並無特別限制。另外，為了使活性光線穿透基材時有效率地進行硬化，可使用能夠自兩面同時照射活性光線的雙面曝光機。而且，亦可一邊加熱一邊照射活性光線。另外，可視需要進行50℃~200℃的加熱處理作為光硬化後的處理。
第二步驟中，以與第一步驟相同的方法，在下部披覆層 上積層芯部形成用感光性樹脂膜。此處較好的是，芯部形成用感光性樹脂膜是設計成折射率高於下部披覆層形成用感光性樹脂膜，且由可藉由活性光線形成芯圖案的感光性樹脂組成物所構成。
第三步驟中，對芯部(芯圖案)曝光。對芯圖案進行曝 光的方法並無特別限制，例如可列舉：通過被稱作原圖(artwork)的負型罩幕圖案以圖像狀照射活性光線的方法；利用雷射(laser)直接繪圖的方式，不通過光罩(photomask)而直接將活性光線照射到圖像上的方法等。
活性光線的光源例如可列舉：超高壓水銀燈、高壓水銀 燈、水銀蒸氣弧光燈、金屬鹵素燈(metal halide lamp)、氙氣燈(xenon lamp)、碳弧燈(carbon arc lamp)等可有效地發射紫外線的光源。除此以外，還可列舉照相用泛光燈(flood lamp)、日光燈等可有效地發射可見光的光源。
對芯圖案進行曝光時的活性光線的照射量較好的是0.01 J/cm2 ~10J/cm2 。若照射量大於等於0.01J/cm2 ，則硬化反應充分進行，芯圖案不會由於後述的顯影步驟而流失，若照射量小於等於10J/cm2 ，則芯圖案不會由於曝光量過多而變粗，可形成微細的芯圖案，故較佳。就上述觀點而言，活性光線的照射量更好的是0.05J/cm2 ~5J/cm2 ，特別好的是0.1J/cm2 ~3J/cm2 。
在對芯圖案進行曝光時，可經由芯部形成用感光性樹脂膜的支持膜而曝光，亦可除去支持膜之後曝光。
而且，在曝光後，就提高芯圖案的解析度及密著性的觀點而言，可視需要進行曝光後加熱。自照射紫外線起至曝光後加熱為止的時間較好的是10分鐘以內。若自照射紫外線起至曝光後加熱為止的時間在10分鐘以內，則藉由照射紫外線而產生的活性物質(active pecies)不會失去活性。曝光後加熱的溫度較好的是40℃~160℃，時間較好的是30秒~10分鐘。
第四步驟中，若是經由芯部形成用感光性樹脂膜的支持膜而進行曝光，則將支持膜除去，並使用鹼性顯影液來進行顯影。顯影方法並無特別限制，例如可列舉：噴霧法、浸漬法、覆液法、旋轉法、刷洗法(brushing)、刮擦法(scrapping)等。另外，視需要亦可併用該些顯影方法。
鹼性顯影液並無特別限制，例如可列舉：鹼性水溶液、包含鹼性水溶液及一種或一種以上有機溶劑的鹼性半水系顯影液等。
上述鹼性水溶液的鹼並無特別限制，例如可列舉：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物；碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀等鹼金屬碳酸鹽；碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等鹼金屬重碳酸鹽；磷酸鉀、磷酸鈉等鹼金屬磷酸鹽；焦磷酸鈉、焦磷酸鉀等鹼金屬焦磷酸鹽；四硼酸鈉、偏矽酸鈉等鈉鹽；碳酸銨、碳酸氫銨等銨鹽；氫氧化四甲基銨、三乙醇胺、乙二胺、二乙三胺、2-胺基-2-羥基甲基-1,3-丙二醇、1,3-二胺基丙醇-2-嗎啉等有機鹼等。
該些鹼性水溶液的鹼可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。
另外，顯影所使用的鹼性水溶液的pH值較好的是9~14，更好的是10~13。顯影所使用的鹼性水溶液的溫度可配合光導波管形成用感光性樹脂層的顯影性來調節。而且，可在鹼性水溶液中混入界面活性劑(surfactant)、消泡劑等。
上述鹼性半水系顯影液只要包含鹼性水溶液以及一種或 一種以上有機溶劑則並無特別限制。鹼性半水系顯影液的pH值較好的是，在可充分顯影的範圍內儘可能小，pH值較好的是8~13，更好的是9~12。
上述有機溶劑並無特別限制，例如可列舉：甲醇、乙醇、 異丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇等醇；丙酮(acetone)、甲基乙基酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等酮；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚等多元醇烷基醚等。
該些有機溶劑可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以 上。另外，有機溶劑的濃度通常較好的是2wt%~90wt%(重量百分比)，鹼性半水系顯影液的溫度可配合光導波管形成用感光性樹脂層的顯影性來調節。
而且，亦可在鹼性半水系顯影液中混入少量的界面活性 劑、消泡劑等。
於作為本發明的態樣的上述(a)~(c)中，在上述鹼性 顯影液以及後文中將詳述的清洗液中含有二價或二價以上的金屬離子是必要條件。
二價或二價以上的金屬離子並無特別限制，例如可列 舉：鎂離子、鈣離子、鋅離子、錳(Ⅱ)離子、鈷(Ⅱ)離子、鐵(Ⅱ)離子、銅(Ⅱ)離子、鐵(Ⅲ)離子、鋁離子等。
就所生成的鹽的穩定性的觀點而言，該些金屬離子中較好的是二價的金屬離子，特別好的是鎂離子或鈣離子。
該些金屬離子可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。
使上述鹼性顯影液中含有金屬離子的方法並無特別限 制，例如可列舉將下述物質混合或溶解於鹼性顯影液中的方法等：硫酸鎂、硫酸鈣、硫酸鋅、硫酸錳、硫酸鈷、硫酸鐵、硫酸銅、硫酸鋁等金屬硫酸鹽；氯化鎂、氯化鈣、氯化鋅、氯化錳、氯化鈷、氯化鐵、氯化銅、氯化鋁等金屬氯化物鹽；碳酸鎂、碳酸鈣、碳酸鋅、碳酸錳、碳酸鈷、碳酸鐵、碳酸銅、碳酸鋁等金屬碳酸鹽；氫氧化鎂、氫氧化鈣、氫氧化鋅、氫氧化錳、氫氧化鈷、氫氧化鐵、氫氧化銅、氫氧化鋁等金屬氫氧化物等。
另外，亦可使用原本就含有上述金屬離子的水來作為鹼 性顯影液。此種水並無特別限制，例如可列舉自來水、井水等。
上述鹼性顯影液中所含的二價或二價以上的金屬離子的 量較好的是1wt-ppm~50000wt-ppm。若金屬離子的量大於等於1wt-ppm，則可將芯圖案內殘留的不穩定的一價鹽有效地轉變為穩定的二價或二價以上的鹽，若金屬離子的量小於等於50000wt-ppm，則芯圖案中不會殘留過剩的金屬離子。就上述觀點而言，上述鹼性顯影液中所含的二價或二價以上的金屬離子的量更好的是10wt-ppm~10000wt-ppm，特別好的是30wt-ppm~5000wt-ppm。
顯影後的處理較好的是，使用包含水以及二價或二價以上的金屬離子的清洗液來進行清洗(將清洗步驟作為第五步驟)。二價或二價以上的金屬離子並無特別限制，可使用與上述相同的二價或二價以上的金屬離子。
就所生成的鹽的穩定性的觀點而言，該些金屬離子中較好的是二價金屬離子，特別好的是鎂離子或鈣離子。
該些金屬離子可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。
使水中含有金屬離子的方法並無特別限制，可列舉：使用與使上述鹼性顯影液中含有金屬離子時相同的物質，並使該些物質混合或溶解於鹼性顯影液中的方法等。
另外，亦可使用原本就含有上述金屬離子的水來作為清洗液。此種水並無特別限制，例如可列舉自來水、井水等。
上述清洗液中所含的金屬離子的量較好的是1wt-ppm~50000wt-ppm。若金屬離子的量大於等於1wt-ppm，則可將芯圖案內殘留的不穩定的一價鹽轉變為穩定的二價或二價以上的鹽，若金屬離子的量小於等於50000wt-ppm，則芯圖案中不會殘留過剩的金屬離子。就上述觀點而言，上述清洗液中所含的金屬離子的量更好的是10wt-ppm~10000wt-ppm，特別好的是30wt-ppm~5000wt-ppm。
而且，可在清洗液中混入有機溶劑、界面活性劑、消泡劑等。
另外，在作為本發明的態樣的上述(d)中，在使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟之後具有使用酸性水溶液加以清洗的步驟是必要條件。清洗方法並無特別限制，例如可列舉：噴霧法、浸漬法、覆液法、旋轉法、刷洗法、刮擦法等。另外，亦可視需要併用該些清洗方法。
上述酸性水溶液中的酸並無特別限制，例如可列舉：硫酸、鹽酸、硝酸、磷酸等無機酸；甲酸、乙酸、丙二酸、琥珀酸等羧酸；乳酸、水楊酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸(citric acid) 等羥酸(hydroxy acid)等。該些酸可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。就酸度高、揮發性低、氧化能力小的觀點而言，該些酸中較好的是硫酸。
清洗所使用的酸性水溶液的pH值較好的是大於0且小於 等於5。若pH值大於0，則酸度、腐蝕性不會過強，若pH值小於等於5，則可將芯圖案內殘留的不穩定的一價鹽有效地轉變為原來的酸性官能基。就上述觀點而言，酸性水溶液的pH值更好的是0.1~4，特別好的是0.3~3。酸性水溶液的溫度可配合pH值來調節。而且，可在酸性水溶液中混入有機溶劑、界面活性劑、消泡劑等。
視需要可使用水或包含水及上述有機溶劑的清洗液來進 一步清洗，以作為清洗後的處理。有機溶劑可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。有機溶劑的濃度通常較好的是設為2wt%~90wt%，有機溶劑的溫度可配合光導波管形成用感光性樹脂層的顯影性來調節。
視需要亦可藉由進行60℃~250℃左右的加熱、或0.1 mJ/cm2 ~1000mJ/cm2 左右的曝光而使圖案進一步硬化，來作為清洗後的處理。
第六步驟中，利用與第一步驟及第二步驟步驟相同的方 法，在下部披覆層及芯圖案上積層上部披覆層形成用感光性樹脂膜。此處，上部披覆層形成用感光性樹脂膜是設計成折射率低於芯部形成用感光性樹脂膜。而且，上部披覆層的厚度較好的是大於芯圖案的高度。
然後，利用與第一步驟相同的方法來對上部披覆層形成 用感光性樹脂層(膜)進行光硬化，形成上部披覆層。
形成上部披覆層時的活性光線的照射量較好的是0.1J/cm2 ~30J/cm2 ，該些條件並無特別限制。
另外，在使活性光線穿透基材時，為了有效率地進行硬化，可使用能夠自兩面同時照射活性光線的雙面曝光機。而且，可一邊進行50℃~200℃的加熱一邊照射活性光線。另外，視需要可進行50℃~200℃的加熱處理，來作為光硬化後的處理。
形成上部披覆層之後，視需要除去支持膜，從而可形成光導波管。
下面，就本發明中所使用的感光性樹脂組成物加以說明。
就在對所需的圖案曝光後使用鹼性顯影液來進行顯影的觀點而言，感光性樹脂組成物較好的是下述樹脂組成物，即，該樹脂組成物包含具有羧基及酚性羥基中的至少一種基團的化合物。
其中，就透明性、耐熱性、保存穩定性的觀點而言，較好的感光性樹脂組成物是包含(A)含羧基的鹼溶性聚合物、(B)聚合性化合物以及(C)光聚合起始劑的光導波管形成用感光性樹脂組成物。
以下，就本發明中使用的(A)成分進行說明。
(A)成分含羧基的鹼溶性聚合物並無特別限制，例如可列舉下述(1)~(6)所示的聚合物等。
(1)使分子中具有羧基及乙烯性不飽和基的化合物、與除此以外的具有乙烯性不飽和基的化合物進行共聚合而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
(2)於分子中具有羧基及乙烯性不飽和基的化合物與除 此以外的具有乙烯性不飽和基的化合物之共聚物中，在支鏈上局部地導入乙烯性不飽和基而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
(3)使分子中具有羧基及乙烯性不飽和基的化合物、與 分子中具有環氧基及乙烯性不飽和基的化合物與除此以外的具有乙烯性不飽和基的化合物之共聚物進行反應，並使多元酸酐與所生成的羥基進行反應而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
(4)使分子中具有羥基及乙烯性不飽和基的化合物、與 具有乙烯性不飽和基的酸酐與除此以外的具有乙烯性不飽和基的化合物之共聚物進行反應而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
(5)使多元酸酐、與雙官能環氧樹脂與二羧酸或雙官能 酚化合物的加成聚合物進行反應而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
(6)使多元酸酐、與雙官能氧雜環丁烷(oxetane)化合 物與二羧酸或雙官能酚化合物的加成聚合物的羥基進行反應而得到的含羧基的鹼溶性聚合物。
就透明性、在鹼性顯影液中的溶解性的觀點而言，這些 含羧基的鹼溶性聚合物中較好的是上述(1)~(4)所示的含羧基的鹼溶性聚合物。而且，這些聚合物是具有(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系聚合物。此處，所謂(甲基)丙烯醯基，是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，所謂(甲基)丙烯酸系聚合物，是指以丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯、以及這些物質的衍生物作為單體，將這些單體聚合而成的聚合物。這(甲基)丙烯酸系聚合物可為上述單體的均聚物，另外亦可為使兩種或兩種以上這些單 體聚合而成的共聚物。而且，在不損及本發明的效果的範圍內，上述(甲基)丙烯酸系聚合物亦可為包含上述單體、以及視需要所包含的具有(甲基)丙烯醯基以外的乙烯性不飽和基的上述以外的單體的共聚物。而且，上述(甲基)丙烯酸系聚合物亦可為多種(甲基)丙烯酸系聚合物的混合物。
(A)成分含羧基的鹼溶性聚合物的重量平均分子量較好 的是1,000~3,000,000。若重量平均分子量大於等於1,000，則由於分子量大，故在製成樹脂組成物時的硬化物的強度充分，若重量平均分子量小於等於3,000,000，則對包含鹼性水溶液的顯影液的溶解性、與(B)聚合性化合物的相溶性良好。
就上述觀點而言，(A)成分的重量平均分子量更好的是 3,000~2,000,000，特別好的是5,000~1,000,000。
另外，本發明中的重量平均分子量是利用凝膠滲透層析 法(gel-permeation chromatography，GPC)來測定，並經標準聚苯乙烯換算所得的值。
(A)成分含羧基的鹼溶性聚合物可藉由下述方式來規定 酸值，即，在藉由顯影而形成圖案的步驟中，利用上述鹼性顯影液可進行顯影。例如，使用上述鹼性水溶液時，酸值較好的是20mgKOH/g~300mgKOH/g。
若(A)成分的酸值大於等於20mgKOH/g則顯影容易， 若(A)成分的酸值小於等於300mgKOH/g則耐顯影液性不會降低。就上述觀點而言，酸值更好的是30mgKOH/g~250mgKOH/g，特別好的是40mgKOH/g~200mgKOH/g。
另外，所謂耐顯影液性，是指利用顯影不被除去而成為 圖案的部分不受顯影液侵蝕的性質。
另外，當使用包含鹼性水溶液及一種或一種以上有機溶 劑的鹼性半水系顯影液時，(A)成分的酸值較好的是10mgKOH/g~260mgKOH/g。若(A)成分的酸值大於等於10mgKOH/g則顯影容易，若(A)成分的酸值小於等於260mgKOH/g則耐顯影液性(利用顯影不被除去而成為圖案的部分不受顯影液侵蝕的性質)不會降低。就上述觀點而言，(A)成分的酸值更好的是20mgKOH/g~250mgKOH/g，特別好的是30mgKOH/g~200mgKOH/g。
相對於(A)成分與(B)成分的總量，(A)成分的調配 量較好的是10wt%~85wt%。若(A)成分的調配量大於等於10wt%，則光導波管形成用感光性樹脂組成物的硬化物的強度及可撓性充分，若(A)成分的調配量小於等於85wt%，則該(A)成分在曝光時會被(B)成分纏結而容易硬化，不存在耐顯影液性不充分的問題。就上述觀點而言，(A)成分的調配量更好的是20wt%~80wt%，特別好的是25wt%~75wt%。
以下，就本發明中所使用的(B)成分加以說明。
(B)成分之聚合性化合物並無特別限制，例如可較好地 列舉：具有乙烯性不飽和基等聚合性取代基的化合物、分子內具有兩個或兩個以上環氧基的化合物等。
具體可列舉(甲基)丙烯酸酯、偏鹵乙烯(vinylidene halide)、乙烯醚、乙烯酯、乙烯基吡啶、乙烯基醯胺、芳基化乙烯等，就透明性的觀點而言，該些中較好的是(甲基)丙烯酸酯、芳基化乙烯。(甲基)丙烯酸酯可使用單官能(甲基)丙烯酸酯、雙官能(甲基)丙烯酸酯或多官能(甲基)丙烯酸酯中的任一種。
單官能(甲基)丙烯酸酯並無特別限制，例如可列舉：(甲 基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛基庚酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸二十二烷基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯等脂肪族(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯等脂環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸壬基苯酯、(甲基)丙烯酸對異丙苯基苯酯、(甲基)丙烯酸鄰聯苯酯、(甲基)丙烯酸1-萘酯、(甲基)丙烯酸2-萘酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(鄰苯基苯氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(1-萘氧基)丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(2-萘氧基)丙酯等芳香族(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-四氫糠酯、N-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲醯亞胺、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-N-咔唑等雜環式(甲基)丙烯酸酯；該些化合物的乙氧化物；該些化合物的丙氧化物；該些化合物的乙氧化丙氧化物；該些化合物的己內酯改質體等。
就透明性及耐熱性的觀點而言，其中較好的是上述脂環 式(甲基)丙烯酸酯、上述雜環式(甲基)丙烯酸酯、該些化合物的乙氧化物、該些化合物的丙氧化物、該些化合物的乙氧化丙氧化物、該些化合物的己內酯改質體。
雙官能(甲基)丙烯酸酯並無特別限制，例如可列舉：乙二 醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯等脂肪族(甲基)丙烯酸酯；環己烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧化環己烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚F二(甲基)丙烯酸酯等脂環式(甲基)丙烯酸酯；雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚AF二(甲基)丙烯酸酯、茀(fluorene)型二(甲基)丙烯酸酯等芳香族(甲基)丙烯酸酯；異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯等雜環式(甲基)丙烯酸酯；該些化合物的乙氧化物；該些化合物的丙氧化物；該些化合物的乙氧化丙氧化物；該些化合物的己內酯改質體；新戊二醇型環氧(甲基)丙烯酸酯等脂肪族環氧(甲基)丙烯酸酯；環己 烷二甲醇型環氧(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A型環氧(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚F型環氧(甲基)丙烯酸酯等脂環式環氧(甲基)丙烯酸酯；間苯二酚型環氧(甲基)丙烯酸酯、雙酚A型環氧(甲基)丙烯酸酯、雙酚F型環氧(甲基)丙烯酸酯、雙酚AF型環氧(甲基)丙烯酸酯、茀型環氧(甲基)丙烯酸酯等芳香族環氧(甲基)丙烯酸酯等。
就透明性及耐熱性的觀點而言，該些雙官能(甲基)丙烯酸 酯中較好的是上述脂環式(甲基)丙烯酸酯、上述芳香族(甲基)丙烯酸酯、上述雜環式(甲基)丙烯酸酯、這些化合物的乙氧化物、這些化合物的丙氧化物、這些化合物的乙氧化丙氧化物、這些化合物的己內酯改質體、上述脂環式環氧(甲基)丙烯酸酯、上述芳香族環氧(甲基)丙烯酸酯。
三官能或三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯並無特別 限制，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等脂肪族(甲基)丙烯酸酯；異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯等雜環式(甲基)丙烯酸酯；該些化合物的乙氧化物；該些化合物的丙氧化物；該些化合物的乙氧化丙氧化物；該些化合物的己內酯改質體；苯酚酚醛清漆型環氧(甲基)丙烯酸酯、甲酚酚醛清漆型環氧(甲基)丙烯酸酯等芳香族環氧(甲基)丙烯酸酯。
就透明性及耐熱性的觀點而言，這些三官能或三官能以 上的多官能(甲基)丙烯酸酯中較好的是上述雜環式(甲基)丙烯酸酯、這些化合物的乙氧化物、這些化合物的丙氧化物、這些化合物的乙氧化丙氧化物、這些化合物的己內酯改質體、上述芳香族 環氧(甲基)丙烯酸酯。
上述單官能(甲基)丙烯酸酯、雙官能(甲基)丙烯酸酯、三 官能或三官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯均可單獨使用或者組合使用兩種或兩種以上。而且，亦可組合使用官能基數不同的(甲基)丙烯酸酯。另外，亦可進一步與其他聚合性化合物組合使用。
而且，就與(A)含羧基的鹼溶性聚合物的相溶性的觀點 而言，上述(甲基)丙烯酸酯以外的較佳(B)聚合性化合物可列舉包含分子內具有兩個或兩個以上環氧基的化合物的聚合性化合物。
上述(甲基)丙烯酸酯以外的較佳(B)聚合性化合物具體 可列舉：對苯二酚(hydroquinone)型環氧樹脂、間苯二酚(resorcinol)型環氧樹脂、鄰苯二酚(catechol)型環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂、四溴雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚AF型環氧樹脂、雙酚AD型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、茀型環氧樹脂等雙官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂；氫化雙酚A型環氧樹脂、氫化雙酚F型環氧樹脂、氫化2,2'-聯苯酚型環氧樹脂、氫化4,4'-聯苯酚型環氧樹脂等氫化雙官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、二環戊二烯-苯酚型環氧樹脂、二環戊二烯-甲酚型環氧樹脂、四酚基乙烷型環氧樹脂等三官能或三官能以上的多官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂；聚乙二醇型環氧樹脂、聚丙二醇型環氧樹脂、新戊二醇型環氧樹脂、1,6-己二醇型環氧樹脂等雙官能脂肪族醇縮水甘油醚型環氧樹脂；環己二醇型環氧樹脂、環己烷二甲醇型環氧樹脂、三環癸烷二甲醇型環氧樹脂等雙官能脂環式醇縮 水甘油醚型環氧樹脂；三羥甲基丙烷型環氧樹脂、山梨糖醇型環氧樹脂、甘油型環氧樹脂等三官能或三官能以上的多官能脂肪族醇縮水甘油醚型環氧樹脂；鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等雙官能芳香族縮水甘油酯；四氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、六氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等雙官能脂環式縮水甘油酯；N,N-二縮水甘油基苯胺、N,N-二縮水甘油基三氟甲基苯胺等雙官能芳香族縮水甘油基胺；N,N,N',N'-四縮水甘油基-4,4-二胺基二苯基乙烷、1,3-雙(N,N-縮水甘油基胺基甲基)環己烷、N,N,O-三縮水甘油基-對胺基苯酚等三官能或三官能以上的多官能芳香族縮水甘油基胺；脂環族二環氧縮醛、脂環族二環氧己二酸酯、脂環族二環氧羧酸酯、乙烯基環己烯二氧化物等雙官能脂環式環氧樹脂；2,2-雙(羥甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-環氧乙烷基)環己烷加成物等三官能或三官能以上的多官能脂環式環氧樹脂；三縮水甘油基異三聚氰酸酯等三官能或三官能以上的多官能雜環式環氧樹脂；有機聚矽氧烷型環氧樹脂等雙官能或者三官能或三官能以上的多官能含矽環氧樹脂等。
就透明性及耐熱性的觀點而言，該些化合物中較好的是 上述雙官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述氫化雙官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述三官能或三官能以上的多官能酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述雙官能脂環式醇縮水甘油醚酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述雙官能芳香族縮水甘油酯酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述雙官能脂環式縮水甘油酯酚縮水甘油醚型環氧樹脂、上述雙官能脂環式環氧樹脂、上述多官能脂環式環氧樹脂、上述多官能雜環式環氧樹脂、上述雙官能或多官能含矽環氧樹脂。
上述化合物可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以 上，亦可進一步與其他聚合性化合物組合使用。
相對於(A)成分與(B)成分的總量，(B)成分聚合性 化合物的調配量較好的是15wt%~90wt%。若(B)成分的調配量大於等於15wt%，則容易纏結(A)成分含羧基的鹼溶性聚合物而硬化，不存在耐顯影液性不充分的問題，若(B)成分的調配量小於等於90wt%，則硬化膜的膜強度及可撓性充分。就上述觀點而言，(B)成分的調配量更好的是20wt%~80wt%，特別好的是25wt%~75wt%。
以下，就本發明中使用的(C)成分加以說明。
本發明中使用的(C)成分光聚合起始劑只要可藉由照射紫外線等活性光線使聚合開始則並無特別限制，例如當使用具有乙烯性不飽和基的化合物來作為(B)成分聚合性化合物時，可列舉光自由基聚合起始劑等。
光自由基聚合起始劑並無特別限制，例如可列舉：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-on)等安息香縮酮(benzoin ketal)；1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-1-{4[4-(2-羥基-2-甲基丙醯基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮等α-羥基酮；苯基乙醛酸甲酯、苯基乙醛酸乙酯、羥基苯基乙酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、羥基苯基乙酸2-(2-氧-2-苯基乙醯氧基乙氧基)乙酯等乙醛酸酯(glyoxylic ester)；2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉-4-基苯基)-丁烷-1-酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-嗎啉-4-基苯基)-丁烷 -1-酮、1,2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-(4-嗎啉)-2-基-丙烷-1-酮等α-胺基酮；1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基),2-(O-苯甲醯基肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基],1-(O-乙醯肟)等肟酯；雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等膦氧化物；2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚物、2-(鄰氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(鄰甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物、2-(對甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物等2,4,5-三芳基咪唑二聚物；二苯甲酮、N,N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮、N,N'-四乙基-4,4'-二胺基二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲基胺基二苯甲酮等二苯甲酮化合物；2-乙基蒽醌、菲醌(phenanthrenequinone)、2-第三丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯幷蒽醌、2,3-苯幷蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、1-氯蒽醌、2-甲基蒽醌、1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-1,4-萘醌、2,3-二甲基蒽醌等醌化合物；安息香甲醚、安息香乙醚、安息香苯醚等安息香醚；安息香、甲基安息香、乙基安息香等安息香化合物；苄基二甲基縮酮等苄基化合物；9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9'-吖啶基庚烷)等吖啶化合物；N-苯基甘胺酸、香豆素等。
另外，於上述2,4,5-三芳基咪唑二聚物中，兩個三芳基咪 唑部位之芳基的取代基可相同而形成對稱化合物，亦可不同而形成非對稱化合物。
就硬化性、透明性以及耐熱性的觀點而言，上述化合物 中較好的是上述α-羥基酮、上述乙醛酸酯、上述肟酯、上述氧化膦。
以上的光自由基聚合起始劑可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。另外，亦可與適當的敏化劑組合使用。
另外，當使用環氧樹脂來作為(B)成分聚合性化合物時，可列舉光陽離子聚合起始劑等作為(C)成分光聚合起始劑。
光陽離子聚合起始劑例如可列舉：六氟磷酸對甲氧基苯基重氮鎓(paramethoxy benzene diazonium hexafluorophosphate)等芳基重氮鎓鹽；六氟磷酸二苯基錪(diphenyl iodonium hexafluorophosphate)、六氟銻酸二苯基錪等二芳基錪鹽；六氟磷酸三苯基鋶、六氟銻酸三苯基鋶、六氟磷酸二苯基-4-硫代苯氧基苯基鋶、六氟銻酸二苯基-4-硫代苯氧基苯基鋶、五氟羥基銻酸二苯基-4-硫代苯氧基苯基鋶等三芳基鋶鹽；六氟磷酸三苯基硒、四氟硼酸三苯基硒、六氟銻酸三苯基硒等三芳基硒鹽；六氟銻酸二甲基苯甲醯甲基鋶、六氟銻酸二乙基苯甲醯甲基鋶等二烷基苯甲醯甲基鋶鹽；六氟銻酸4-羥基苯基二甲基鋶、六氟銻酸4-羥基苯基苄基甲基鋶等二烷基-4-羥基鋶鹽；α-羥基甲基安息香磺酸酯、N-羥基醯亞胺磺酸酯、α-磺醯氧基酮、β-磺醯氧基酮等磺酸酯等。
就硬化性、透明性以及耐熱性的觀點而言，該些化合物中較好的是上述三芳基鋶鹽。在本發明中，該些聚合起始劑可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。另外，亦可與適當的敏化劑組合使用。
相對於(A)成分與(B)成分的總量100重量份，(C)成分聚合起始劑的調配量較好的是0.1重量份~10重量份。若(C)成分的調配量大於等於0.1重量份，則硬化充分，若(C)成分的調配量小於等於10重量份，則可獲得充分之透光性。就上述觀點 而言，(C)成分的調配量更好的是0.3重量份~7重量份，特別好的是0.5重量份~5重量份。
另外，除此以外，視需要亦可在本發明中所使用的光導 波管形成用感光性樹脂組成物中添加抗氧化劑、抗黃變劑、紫外線吸收劑、可見光吸收劑、著色劑、塑化劑、穩定劑、填充劑等所謂的添加劑。
以下，就本發明中所使用的光導波管形成用感光性樹脂 組成物加以說明。
可使用合適的有機溶劑將本發明中所使用的光導波管形 成用感光性樹脂組成物稀釋，製成光導波管形成用感光性樹脂清漆而使用。此處所使用的有機溶劑只要可溶解該樹脂組成物則並無特別限制，例如可列舉：甲苯、二甲苯、均三甲苯(mesitylene)、異丙苯(cumene)、對異丙基甲苯等芳香族烴；四氫呋喃、1,4-二氧陸圜(1,4-dioxane)等環狀醚；甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇等醇；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等酮；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯等酯；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚等多元醇烷基醚；乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯等多元醇烷基醚乙酸酯； N,N-二甲基甲醯胺、N、N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮等醯胺等。
該些有機溶劑可單獨使用，或者組合使用兩種或兩種以上。
另外，樹脂清漆中的固體成分的濃度通常較好的是20wt%~80wt%。
製備光導波管形成用感光性樹脂清漆時，較好的是藉由攪拌來進行混合。攪拌方法並無特別限制，就攪拌效率的觀點而言，較好的是使用螺旋槳(propeller)來進行攪拌。攪拌時的螺旋槳的轉速並無特別限制，較好的是10min-1 ~1,000min-1 。若轉速大於等於10min-1 ，則可將(A)成分~(C)成分以及有機溶劑中的各成分充分混合，若轉速小於等於1,000min-1 ，則由於螺旋槳旋轉而捲入的氣泡較少。就上述觀點而言，螺旋槳的轉速更好的是50min-1 ~800min-1 ，特別好的是100min-1 ~500min-1 。
攪拌時間並無特別限制，較好的是1小時~24小時。若攪拌時間大於等於1小時，則可將(A)成分~(C)成分以及有機溶劑中的各成分充分混合，若攪拌時間小於等於24小時，則可縮短清漆製備時間，從而提高生產性。
所製備的光導波管形成用感光性樹脂清漆較好的是使用孔徑小於等於50μm的過濾器(filter)來加以過濾。若孔徑小於等於50μm，則可除去大的異物等，塗佈清漆時不會產生收縮等，並且可抑制在芯部中傳輸的光的散射。就上述觀點而言，更好的是使用孔徑小於等於30μm的過濾器來進行過濾，特別好的是使用孔徑小於等於10μm的過濾器來進行過濾。
所製備的光導波管形成用感光性樹脂清漆較好的是於減 壓下進行消泡。消泡方法並無特別限制，例如可列舉使用真空泵及鐘罩(bell jar)、附有真空裝置的消泡裝置的方法。減壓時的壓力並無特別限制，較好的是不會使樹脂清漆中所含的有機溶劑沸騰的壓力。
另外，減壓消泡時間並無特別限制，較好的是3分鐘~ 60分鐘。若減壓消泡時間大於等於3分鐘，則可將溶解於樹脂清漆中的氣泡除去。若減壓消泡時間小於等於60分鐘，則樹脂清漆中所含的有機溶劑不會揮發。
以下，對本發明中所使用的光導波管形成用感光性樹脂 膜加以說明。
本發明中所使用的光導波管形成用感光性樹脂膜可藉由 下述方式簡便地製造：將包含上述光導波管形成用感光性樹脂組成物、含有上述(A)成分~(C)成分的光導波管形成用感光性樹脂清漆塗佈在合適的支持膜上，除去溶劑。另外，亦可將光導波管形成用感光性樹脂組成物直接塗佈在支持膜上來製造本發明的光導波管形成用感光性樹脂膜。
支持膜並無特別限制，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二 酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；聚碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚醚硫醚、聚醚碸、聚醚酮、聚苯醚、聚苯硫醚、聚芳酯、聚碸、液晶聚合物等。
就柔軟性以及韌性的觀點而言，上述化合物中較好的是 聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、 聚丙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚苯醚、聚苯硫醚、聚芳酯、聚碸。
另外，就提高曝光用活性光線的透射率以及降低芯圖案 側壁之粗糙度的觀點而言，更好的是使用高透明型的支持膜。此種高透明型的支持膜可列舉：東洋紡織股份有限公司製造的Cosmoshine A1517、Cosmoshine A4100。
另外，就提高與樹脂層之剝離性的觀點而言，可視需要 使用藉由聚矽氧系化合物、含氟化合物等實施了脫模處理的膜。
支持膜的厚度可根據目標柔軟性而適當變更，較好的是3 μm~250μm。若支持膜的厚度大於等於3μm，則膜強度充分，若支持膜的厚度小於等於250μm，則可獲得充分之柔軟性。就上述觀點而言，支持膜的厚度更好的是5μm~200μm，特別好的是7μm~150μm。
其中，芯部形成用感光性樹脂膜所使用的支持膜的厚度 較好的是5μm~50μm。若支持膜的厚度大於等於5μm，則作為支持體的強度充分，若支持膜的厚度小於等於50μm，則在形成芯圖案時，光罩與芯部形成用感光性樹脂組成物層之間的間隙(gap)不大，圖案形成性良好。就上述觀點而言，芯部形成用感光性樹脂膜所使用的支持膜的厚度更好的是10μm~40μm，特別好的是15μm~30μm。
在支持膜上塗佈光導波管形成用感光性樹脂清漆或光導 波管形成用感光性樹脂組成物而製造的感光性樹脂膜，可視需要在樹脂層上貼附保護膜，而形成由支持膜、樹脂層以及保護膜所構成的三層結構。
保護膜並無特別限制，就柔軟性以及韌性的觀點而言， 可較好地列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴等。
另外，就提高與樹脂層的剝離性的觀點而言，可視需要 使用藉由聚矽氧系化合物、含氟化合物等實施了脫模處理的膜。 保護膜的厚度可根據目標柔軟性來適當變更，較好的是10μm~250μm。若保護膜的厚度大於等於10μm，則膜強度充分，若保護膜的厚度小於等於250μm，則可獲得充分的柔軟性。就上述觀點而言，保護膜的厚度更好的是15μm~200μm，特別好的是20μm~150μm。
本發明中所使用的光導波管形成用感光性樹脂膜的樹脂 層的厚度並無特別限定，乾燥後的厚度通常為5μm~500μm。若乾燥後的厚度大於等於5μm，則厚度充分，故樹脂膜或樹脂膜之硬化物的強度充分，若乾燥後的厚度小於等於500μm，則可充分進行乾燥，故樹脂膜中的殘留溶劑量不會增加，對樹脂膜之硬化物進行加熱時不會發泡。
以此種方式而獲得的光導波管形成用感光性樹脂膜，例 如可藉由捲繞成輥狀而容易地保存。或者，亦可將輥狀的膜切割成合適之尺寸，製成片狀來保存。
以下，就利用本發明的製造方法而形成的光導波管加以 說明。
利用本發明的製造方法而形成的光導波管較好的是，光 傳播損耗小於等於0.3dB/cm。若光傳播損耗小於等於0.3dB/cm，則光的損耗較小，傳輸訊號的強度充分。就上述觀點而言，光傳 播損耗更好的是小於等於0.2dB/cm。
利用本發明的製造方法而形成的光導波管較好的是，對 該光導波管實施溫度為85℃、濕度為85%的高溫高濕放置試驗1000小時後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。若光傳播損耗小於等於0.3dB/cm，則光的損耗較小，傳輸訊號的強度充分。另外，所謂溫度為85℃、濕度為85%的高溫高濕放置試驗，是指在以JPCA標準(JPCA-PE02-05-01S)為基準的條件下實施的高溫高濕放置試驗。
利用本發明的製造方法而形成的光導波管較好的是，在 溫度-55℃與125℃之間對該光導波管實施1000次溫度循環試驗之後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。若光傳播損耗小於等於0.3dB/cm，則光的損耗較小，傳輸訊號的強度充分。另外，所謂溫度-55℃與125℃之間的溫度循環試驗，是指在以JPCA標準(JPCA-PE02-05-01S)為基準的條件下實施的溫度循環試驗。
利用本發明的製造方法而形成的光導波管較好的是，在 對該光導波管實施三次最高溫度為265℃的回焊(reflow)試驗後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。若光傳播損耗小於等於0.3dB/cm，則光的損耗較小，傳輸訊號的強度充分，並且可利用回焊製程來封裝零件，故應用範圍變廣。另外，所謂最高溫度為265℃之回焊試驗，是指在以JEDEC標準(JEDEC JESD22A113E)為基準的條件下實施的無鉛回焊試驗。
利用本發明的製造方法而形成的光導波管由於耐熱性及 透明性優異，因此可用作光學模組(optical module)的光傳輸通道。光學模組的形態例如可列舉：在光導波管的兩端連接著光纖 的附有光纖之光導波管；在光導波管的兩端連接著連接器(connector)的附有連接器之光導波管；使光導波管與印刷線路板複合而形成的光電複合基板；將光導波管、與可將光訊號與電訊號相互轉換的光/電轉換元件組合而成的光電轉換模組；將光導波管與波長分割過濾器組合而形成的波長複用/解複用器等。
另外，光電複合基板中所複合的印刷線路板並無特別限 制，可使用玻璃環氧基板等硬質基板、聚醯亞胺基板等可撓性基板中的任一種。
[實施例]
以下，藉由實施例來更具體地說明本發明，但本發明並不受該些實施例的任何限制。
製造例1
[含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物P-1之製作]
於具備攪拌機、冷凝管、氣體導入管、滴液漏斗及溫度計的燒瓶中，秤取丙二醇單甲醚乙酸酯97重量份以及乳酸甲酯24重量份，一邊導入氮氣一邊進行攪拌。
使液溫上升至80℃，用3小時將N-環己基順丁烯二醯亞胺18重量份、甲基丙烯酸二環戊酯43重量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯53重量份、甲基丙烯酸20重量份、2,2'-偶氮二(異丁腈)1重量份、丙二醇單甲醚乙酸酯65重量份及乳酸甲酯16重量份的混合物滴加至燒瓶中，然後於80℃下攪拌3小時，接著於120℃下持續攪拌1小時，冷卻至室溫為止。
接著，添加月桂酸二丁基錫0.07重量份以及對甲氧基苯酚0.2重量份，一邊導入空氣一邊攪拌。使液溫上升至60℃，用 30分鐘滴加2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯31重量份與丙二醇單甲醚乙酸酯47重量份的混合物，於60℃下持續攪拌4小時，獲得(甲基)丙烯酸系聚合物(P-1溶液(固體成分為40wt%))。
[酸值之測定]
測定P-1的酸值，結果為60mgKOH/g。另外，酸值是根 據為了中和P-1溶液而必需的0.1mol/L氫氧化鉀水溶液量而計算出的。此時，將所添加的作為指示劑的酚酞(phenolphthalein)由無色變成粉紅色的點作為中和點。
[重量平均分子量之測定]
使用GPC(東曹股份有限公司製造，商品名 SD-8022/DP-8020/RI-8020)對P-1的重量平均分子量(標準聚苯乙烯換算)進行測定，結果為31,000。另外，管柱是使用日立化成工業股份有限公司製造的Gelpack GL-A150-S/Gelpack GL-A160-S。
製造例2
[含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物P-2的製作]
於具備攪拌機、冷凝管、氣體導入管、滴液漏斗及溫度 計的燒瓶中，秤取丙二醇單甲醚乙酸酯97重量份以及乳酸甲酯24重量份，一邊導入氮氣一邊進行攪拌。
使液溫上升至80℃，用3小時將N-環己基順丁烯二醯亞 胺18重量份、甲基丙烯酸苄酯43重量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯53重量份、甲基丙烯酸20重量份、2,2'-偶氮二(異丁腈)1重量份、丙二醇單甲醚乙酸酯65重量份以及乳酸甲酯16重量份的混合物滴加至燒瓶中，然後於80℃下攪拌3小時，接著於120℃下 持續攪拌1小時，獲得(甲基)丙烯酸系聚合物P-2溶液(固體成分為40wt%)。
以與製造例1相同的方法來測定P-2的酸值及重量平均分子量，結果分別為96mgKOH/g及29,000。
製造例3
[含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物P-3的製作]
於具備攪拌機、冷凝管、氣體導入管、滴液漏斗及溫度計的燒瓶中，秤取上述P-2溶液(固體成分為40wt%)150重量份(固體成分為60重量份)、月桂酸二丁基錫0.04重量份、對甲氧基苯酚0.1重量份以及丙二醇單甲醚乙酸酯21重量份，一邊導入空氣一邊進行攪拌。
使液溫上升至60℃，用30分鐘於燒瓶中滴加2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯14重量份，然後於60℃下持續攪拌4小時，獲得(甲基)丙烯酸系聚合物P-3溶液(固體成分為40wt%)。
以與製造例1相同的方法來測定P-3的酸值及重量平均分子量，結果分別為58mgKOH/g及30,000。
製造例4
[含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物P-4的製作]
於具備攪拌機、冷凝管、氣體導入管、滴液漏斗及溫度計的燒瓶中，秤取丙二醇單甲基醚乙酸酯60重量份以及乳酸甲酯60重量份，一邊導入氮氣一邊進行攪拌。
使液溫上升至80℃，用3小時將N-環己基順丁烯二醯亞胺18重量份、甲基丙烯酸苄酯61重量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯18重量份、甲基丙烯酸37重量份、2,2'-偶氮二(異丁腈)1重量 份、丙二醇單甲醚乙酸酯40重量份及乳酸甲酯40重量份的混合物滴加至燒瓶中，然後於80℃下攪拌3小時，接著於120℃下持續攪拌1小時，冷卻至室溫為止。
然後，添加甲基丙烯酸縮水甘油酯28重量份、對甲氧基 苯酚0.2重量份以及丙二醇單甲醚乙酸酯43重量份，一邊導入空氣一邊攪拌。使液溫上升至80℃，加入三苯膦(triphenylphosphine)0.7重量份之後，於80℃下攪拌1小時，接著於100℃下持續攪拌24小時，獲得(甲基)丙烯酸系聚合物P-4溶液(固體成分為40wt%)。
以與製造例1相同的方法來測定P-4的酸值及重量平均分 子量，結果分別為80mgKOH/g及31,000。
製造例5
[含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物P-5的製作]
於具備攪拌機、冷凝管、氣體導入管、滴液漏斗及溫度 計的燒瓶中，秤取丙二醇單甲醚乙酸酯94重量份以及乳酸甲酯40重量份，一邊導入氮氣一邊進行攪拌。
使液溫上升至80℃，用3小時將N-環己基順丁烯二醯亞 胺20重量份、甲基丙烯酸2-乙基己酯76重量份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯25重量份、甲基丙烯酸27重量份、2,2-偶氮二(異丁腈)0.8重量份、丙二醇單甲醚乙酸酯63重量份以及乳酸甲酯27重量份的混合物滴加至燒瓶中，然後於80℃下攪拌3小時，接著於120℃下持續攪拌1小時，冷卻至室溫為止。
接著，添加甲基丙烯酸縮水甘油酯21重量份、對甲氧基 苯酚0.3重量份以及丙二醇單甲醚乙酸酯32重量份，一邊導入空 氣一邊進行攪拌。使液溫上升至80℃，添加三苯膦0.7重量份，於80℃下攪拌1小時，接著於100℃下持續攪拌24小時，獲得(甲基)丙烯酸系聚合物P-5溶液(固體成分為40wt%)。
以與製造例1相同的方法來測定P-5的酸值及重量平均分 子量，結果分別為56mgKOH/g及47,000。
實施例1
[芯部形成用感光性樹脂清漆COV-1的製備]
於廣口聚乙烯瓶中，秤取作為(A)含羧基的鹼溶性(甲 基)丙烯酸系聚合物的上述P-1溶液(固體成分為40wt%)150重量份(固體成分為60重量份)，作為(B)聚合性化合物的乙氧化雙酚A二丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名A-BPE-10)20重量份、丙烯酸對異丙苯基苯氧基乙酯(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名A-CMP-1E)20重量份，以及作為(C)聚合起始劑的1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(汽巴精化股份有限公司製造，商品名Irgacure 2959)1重量份、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(汽巴精化股份有限公司製造，商品名Irgacure 819)1重量份，使用攪拌機，於溫度為25℃、轉速為400rpm的條件下攪拌6小時，製備芯部形成用感光性樹脂清漆。
然後，使用孔徑為2μ m的聚四氟乙烯過濾器(Advantec 東洋股份有限公司製造，商品名PF020)、以及孔徑為0.5μ m的膜濾器(Advantec東洋股份有限公司製造，商品名J050A)，於溫度為25℃、壓力為0.4MPa的條件進行加壓過濾。然後使用真空泵以及鐘罩，於減壓度為50mmHg的條件下進行15分鐘減壓消 泡，獲得芯部形成用感光性樹脂清漆COV-1。
[芯部形成用感光性樹脂膜COF-1的製作]
使用塗佈機(Hirano Tecseed股份有限公司製造的Multi Coater TM-MC)，將上述芯部形成用樹脂清漆塗佈在聚對苯二甲酸乙二酯膜(東洋紡織股份有限公司製造，商品名A1517，厚度為16μ m)的非處理面上，於100℃下乾燥20分鐘，然後貼附作為保護膜的脫膜聚對苯二甲酸乙二酯膜(杜邦帝人薄膜股份有限公司製造，商品名A31，厚度為25μ m)，獲得芯部形成用感光性樹脂膜COF-1。此時，樹脂層的厚度可藉由調節塗佈機的間隙而任意調整，於本實施例中，調節樹脂層的厚度以使硬化後的膜厚達到50μ m。
[披覆層形成用感光性樹脂清漆CLV-1的製備]
於廣口聚乙烯瓶中，秤取作為(A)含羧基的鹼溶性(甲 基)丙烯酸系聚合物的上述P-1溶液(固體成分為40wt%)150重量份(固體成分為60重量份)，作為(B)聚合性化合物的乙氧化異三聚氰酸三丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名A-9300)20重量份、乙氧化環己烷二甲醇二丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名A-CHD-4E)20重量份，以及作為(C)聚合起始劑的1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(汽巴精化股份有限公司製造，商品名Irgacure 2959)1重量份、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(汽巴精化股份有限公司製造，商品名Irgacure 819)1重量份，使用攪拌機，於溫度為25℃、轉速為400min-1 的條件下攪拌6小時，製備披覆層形成用感光性樹脂清漆。
然後，使用孔徑為2μ m的聚四氟乙烯過濾器(Advantec 東洋股份有限公司製造，商品名PF020)、以及孔徑為0.5μ m的膜濾器(Advantec東洋股份有限公司製造，商品名J050A)，於溫度為25℃、壓力為0.4MPa的條件進行加壓過濾。然後使用真空泵以及鐘罩，於減壓度為50mmHg的條件下進行15分鐘減壓消泡，獲得披覆層形成用感光性樹脂清漆CLV-1。
[披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1的製作]
使用塗佈機(Hirano Tecseed股份有限公司製造，商品名 Multi Coater TM-MC)，將上述披覆層形成用感光性樹脂清漆CLV-1塗佈在聚對苯二甲酸乙二酯膜(東洋紡織股份有限公司製造，商品名A1517，厚度為16μ m)的非處理面上，於100℃下乾燥20分鐘，然後貼附作為保護膜的脫膜聚對苯二甲酸乙二酯膜(杜邦帝人薄膜股份有限公司製造，商品名A31，厚度為25μ m)，獲得披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1。
此時，樹脂層的厚度可藉由調節塗佈機的間隙而任意調 整，於本實施例中，對樹脂層的厚度進行調節以使硬化後的下部披覆層形成用感光性樹脂膜的膜厚為30μ m、上部披覆形成用感光性樹脂膜的膜厚為80μ m。
[光導波管之製作]
使用輥貼合機(日立化成Techno-plant股份有限公司製 造，商品名HLM-1500)，於壓力為0.4MPa、溫度為80℃、速度為0.4m/min條件下，將除去了保護膜(A31)的下部披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1積層於FR-4基板(日立化成工業股份有限公司製造，商品名E-679FB)上。然後，使用真空加壓式貼合機 (名機製作所股份有限公司製造，商品名MVLP-500/MVLP-600)，於壓力為0.5MPa、溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下進行壓接。
然後，使用紫外線曝光機(大日本網屏股份有限公司製造，商品名MAP-1200-L)，照射2000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)之後，除去支持膜(A1517)，形成下部披覆層。
接著，使用上述輥貼合機，於壓力為0.4MPa、溫度為80℃、速度為0.4m/min條件下，將除去了保護膜(A31)的芯部形成用感光性樹脂膜COF-1積層於下部披覆層上。然後，使用真空加壓式貼合機，於壓力為0.5MPa、溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下進行壓接。
然後，使用上述紫外線曝光機，經由寬度為50μ m的負型光罩，照射200mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，來對芯部(芯圖案)進行曝光。於80℃下曝光5分鐘後進行加熱，其後除去支持膜(A1517)，使用1wt%的碳酸鈉水溶液進行顯影。然後，使用0.3wt%的硫酸水溶液(pH=1)加以清洗，之後用純水清洗，於100℃下加熱乾燥1小時。
接著，使用上述真空加壓式貼合機，於壓力為0.5MPa、溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下，將除去了保護膜(A31)的上部披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1積層於芯圖案以及下部披覆層上。
照射2000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，除去支持膜(A1517)之後，於130℃下進行1小時加熱處理，藉此形成上部披覆層，獲得附有玻璃環氧樹脂基板的光導波管。其後，使用 切割機(dicing saw)(Disco股份有限公司製造，商品名DAD-341)，切割出導波管長為10cm的光導波管。
實施例2~實施例8以及比較例1~比較例4
根據表1所示的調配比來製備芯部形成用感光性樹脂清 漆COV-2~COV-4。並且，根據表2所示的調配比來製備披覆層形成用感光性樹脂清漆CLV-2~CLV-4。以與實施例1相同的方法來製作芯部形成用感光性樹脂膜COF-2~COF-4以及披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-2~CLF-4。
使用該些光導波管形成用感光性樹脂膜，並使用表3所 示的鹼性顯影液來作為鹼性顯影液，除此以外，以與實施例1相同的方法製作光導波管。將製作光導波管時所使用的芯部形成用感光性樹脂膜與披覆層形成用感光性樹脂膜的組合、以及光導波管的製造方法示於表3中。
另外，於比較例1~比較例4中，不進行顯影後的酸清洗 而製作光導波管。
＊ 1：製造例1中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 2：製造例2中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 3：製造例3中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 4：製造例4中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 5：乙氧化雙酚A二丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 6：乙氧化茀型二丙烯酸酯(Osaka Gas Chemicals股份有限公司製造)
＊ 7：丙烯酸對異丙苯基苯氧基乙酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 8：丙烯酸2-羥基-3-(鄰苯基苯氧基)丙酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 9：1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(汽巴精化股份有限公司製造)
＊ 10：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(汽巴精化股份有限公司製造)
＊ 1：製造例1中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 11：製造例5中製作的(甲基)丙烯酸系聚合物溶液
＊ 12：乙氧化異三聚氰酸三丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 13：氫化雙酚A型環氧丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 14：乙氧化環己烷二甲醇二丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造)
＊ 15：乙氧化異三聚氰酸二丙烯酸酯(東亞合成股份有限公司製造)
＊ 9：1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(汽巴精化股份有限公司製造)
＊ 10：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(汽巴精化股份有限公司製造)
實施例9
使用上述芯部形成用感光性樹脂膜COF-1以及披覆層形成用樹脂膜CLV-1，用以下的方法製作光導波管。
[光導波管的製作]
使用輥貼合機(日立化成Techno-plant股份有限公司製造，商品名HLM-1500)，於壓力為0.4MPa、溫度為80℃、速度為0.4m/min的條件下，將除去了保護膜(A31)的下部披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1積層於FR-4基板(日立化成工業股份有限公司製造，商品名E-679FB)上。然後，使用真空加壓式貼合機(名機製作所股份有限公司製造，商品名MVLP-500/MVLP-600)，於壓力為0.5MPa、溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下進行壓接。
然後，使用紫外線曝光機(大日本網屏股份有限公司製造，商品名MAP-1200-L)，照射2000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)之後，除去支持膜(A1517)，形成下部披覆層。
接著，使用上述輥貼合機，於壓力為0.4MPa、溫度為80℃、速度為0.4m/min的條件下，將除去了保護膜(A31)的芯部形成用感光性樹脂膜COF-1積層於下部披覆層上。然後，使用真空加壓式貼合機，於壓力為0.5MPa、溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下進行壓接。
然後，使用上述紫外線曝光機，經由寬度為50μ m的負型光罩，照射200mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，來對芯部(芯圖案)進行曝光。於80℃下曝光5分鐘後進行加熱，其後除 去支持膜(A1517)，使用以鎂離子達到100wt-ppm之量而含有硫酸鎂的1wt%碳酸鈉水溶液進行顯影。接著，使用以鎂離子達到100wt-ppm之量而含有硫酸鎂的水加以清洗後，再用純水來清洗，於100℃下加熱乾燥1小時。
接著，使用上述真空加壓式貼合機，於壓力為0.5MPa、 溫度為80℃以及加壓時間為30秒的條件下，將除去了保護膜(A31)的上部披覆層形成用感光性樹脂膜CLF-1積層於芯圖案以及下部披覆層上。照射2000mJ/cm2 的紫外線(波長為365nm)，除去支持膜(A1517)之後，於130℃下進行1小時加熱處理，藉此形成上部披覆層，獲得附有玻璃環氧樹脂基板的光導波管。其後，使用切割機(Disco股份有限公司製造，商品名DAD-341)，切割出導波管長為10cm的光導波管。
實施例10~實施例20以及比較例5~比較例8
使用上述芯部形成用感光性樹脂膜COF-1及COF-4、以及披覆層形成用樹脂膜CLV-1及CLV-4，且使用表4所示的鹼性顯影液及清洗液來作為鹼性顯影液及清洗液，除此以外，以與實施例9相同的方法製作光導波管。將製作光導波管時所使用的芯部形成用感光性樹脂膜與披覆層形成用感光性樹脂膜的組合、以及光導波管的製造方法示於表4中。
[光傳播損耗的測定]
使用以波長為850nm之光為中心波長的VCSEL(EXFO公司製造，商品名FLS-300-01-VCL)作為光源，且使用受光感測器(Advantest股份有限公司製造，商品名Q82214)、入射光纖(GI-50/GI-125多模光纖(multimode fiber)，NA=0.20)以及出射光纖(SI-114/SI-125，NA=0.22)，利用回截法(cutback method)(測定導波管長為10cm、5cm、3cm、2cm)來測定實施例1~實施例20以及比較例1~比較例8中所獲得的光導波管(導波管長為10cm)的光傳播損耗，並以如下基準加以評價。
○：小於等於0.3dB/cm
×：大於0.3dB/cm
[高溫高濕試驗]
使用高溫高濕試驗機(Espec股份有限公司製造，商品名PL-2KT)，於以JPCA標準(JPCA-PE02-05-01S)為基準的條件下，對實施例1~實施例20以及比較例1~比較例8中所獲得的光導波管(導波管長為10cm)實施溫度為85℃、濕度為85%的高溫高濕放置試驗1000小時。
使用與上述相同的光源、受光元件、入射光纖以及出射光纖，來測定經實施高溫高濕試驗後的光導波管的光傳播損耗，並以如下基準來加以評價。
○：小於等於0.3dB/cm
×：大於0.3dB/cm
[溫度循環試驗]
使用溫度循環試驗機(楠本化成股份有限公司製造，商品名ETAC WINTECH NT1010)，於以JPCA標準(JPCA-PE02-05-01S)為基準的條件下，在溫度-55℃與125℃之間對實施例1~實施例20以及比較例1~比較例8中所獲得的光導波管(導波管長為10cm)實施1000次溫度循環試驗。詳細的溫度循環試驗條件示於表5中。
使用與上述相同的光源、受光元件、入射光纖以及出射光纖，來測定經實施溫度循環試驗後的光導波管的光傳播損耗，並以如下基準加以評價。
○：小於等於0.3dB/cm
×：大於0.3dB/cm
[回焊試驗]
使用回焊試驗機(古河電氣工業股份有限公司製造，商品名Salamander XNA-645PC)，於以IPC/JEDEC J-STD-020B為基準的條件下，對實施例1~實施例20以及比較例1~比較例8中所獲得的光導波管(導波管長為10cm)實施三次最高 溫度為265℃的回焊試驗。將詳細的回焊條件示於表6中，將回焊爐內的溫度曲線示於圖1中。
使用與上述相同的光源、受光元件、入射光纖以及出射光纖，對經實施回焊試驗後的光導波管的光傳播損耗進行測定，並以如下基準來加以評價。
○：小於等於0.3dB/cm
×：大於0.3dB/cm
將以上的光傳播損耗的測定結果示於表7。
根據表7可知，利用本發明的製造方法而形成的光導波 管透明性及可靠性優異。另一方面可知，利用不屬於本發明範疇的光導波管的製造方法形成的光導波管，即在顯影時及/或顯影後不使用二價或二價以上的金屬離子加以處理而形成的光導波管、或在顯影後不進行酸清洗而形成的光導波管，透明性及可靠性差。
[產業上的可利用性]
藉由使用本發明的製造方法，可將芯圖案內殘留的不穩 定的一價鹽有效地轉變為穩定的二價或二價以上的鹽，或者將芯圖案內殘留的不穩定的一價鹽有效地還原成酸性官能基，結果，可高生產性地獲得透明性及可靠性優異的光導波管。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (16)

  1. 一種光導波管的製造方法，包括：在基材上形成由感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層的步驟；對所需的圖案進行曝光的步驟；以及使用含有二價或二價以上的金屬離子的鹼性顯影液來進行顯影的步驟，其中該感光性樹脂組成物是包括(A)含羧基的鹼溶性聚合物、(B)聚合性化合物以及(C)光聚合起始劑的樹脂組成物，其中所述(A)含羧基的鹼溶性聚合物是含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物。
  2. 一種光導波管的製造方法，包括：在基材上形成由感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂層的步驟；對所需的圖案進行曝光的步驟；使用鹼性顯影液來進行顯影的步驟；以及使用含有二價或二價以上的金屬離子的清洗液或酸性水溶液加以清洗的步驟，其中該感光性樹脂組成物是包括(A)含羧基的鹼溶性聚合物、(B)聚合性化合物以及(C)光聚合起始劑的樹脂組成物，其中所述(A)含羧基的鹼溶性聚合物是含羧基的鹼溶性(甲基)丙烯酸系聚合物。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光導波管的製造方法，其中該顯影步驟的該鹼性顯影液中含有二價或二價以上的金屬離子。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該二價或二價以上的金屬離子為鎂及/或鈣。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之光導波管的製造方法，其中該酸性水溶液是含有硫酸的水溶液。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之光導波管的製造方法，其中該酸性水溶液的pH值大於0且小於等於5。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該鹼性顯影液是鹼性水溶液。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該鹼性顯影液是包含鹼性水溶液以及一種或一種以上有機溶劑的鹼性半水系顯影液。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該感光性樹脂層是塗佈該感光性樹脂組成物而形成的。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該感光性樹脂層是將由該感光性樹脂組成物所構成的感光性樹脂膜積層而形成的。
  11. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光導波管的製造方法，其中該感光性樹脂組成物是包括具有羧基及酚性羥基中之至少一種基團的化合物的樹脂組成物。
  12. 一種光導波管，其是利用如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述之製造方法而得到的。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之光導波管，其光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。
  14. 如申請專利範圍第12項或第13項所述之光導波管，其中在對該光導波管實施溫度為85℃、濕度為85%的高溫高濕放置試驗1000小時之後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。
  15. 如申請專利範圍第12項或第13項所述之光導波管，其中在溫度-55℃與125℃之間對該光導波管實施1000次溫度循環試驗之後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。
  16. 如申請專利範圍第12項或第13項所述之光導波管，其中在對該光導波管實施三次最高溫度為265℃的回焊試驗之後，該光導波管的光傳播損耗小於等於0.3dB/cm。
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