TWI500584B - Glass plate, polishing method for glass plate, manufacturing method of glass plate and manufacturing apparatus for glass plate - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 173
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 87
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 59
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 51
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 27
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 21
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 11
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
- C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
- B24B7/241—Methods
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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Description
本發明係關於一種玻璃板、玻璃板之研磨方法、玻璃板之製造方法及玻璃板之製造裝置。
作為製造玻璃板之代表性方法之一，已知有熔融法。熔融法係如下方法：使沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃於成形體之下緣附近接合(使其合流)而一體化，並成形為板狀玻璃(亦稱作「玻璃帶」)。板狀玻璃係切斷為特定尺寸而變成製品之玻璃板。
然而，有時於成形體之下部表面上易堆積自成形體等溶析之異物與玻璃混合而成之異質玻璃等之異物，且流出至熔融玻璃之成形體側之面。由於熔融玻璃之成形體側之面成為接合左右之熔融玻璃之接合面，故而有時於利用熔融法而成形之接合面或其附近含有異物。
先前之利用熔融法而成形之玻璃板中，由於夾持接合面之兩側之玻璃之厚度相同，故而異物難以露出，且難以對玻璃板之品質造成不良影響。又，由於玻璃板之正面及背面為未與成形體接觸之面(亦稱作「火焰拋光面」)，故而幾乎不存在異物或缺陷，無需用以去除異物等之研磨處理等。
又，作為熔融法之應用例，亦提出有如下方法：使不同組成之熔融玻璃沿成形體之左右兩側面流下，藉此製造夾持熔融玻璃之接合面的兩側之玻璃之組成不同之玻璃板(例如，參照專利文獻1)。
[專利文獻1]日本專利特表2006-525150號公報
然而，近年來，液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)面板或電漿顯示面板(PDP，Plasma Display Panel)、有機EL(Electro-Luminescence，電致發光)面板等顯示面板之薄型化、輕量化不斷發展，顯示面板中所使用之玻璃基板之薄板化亦不斷發展。若因薄板化而導致玻璃基板之強度不充分，則於顯示面板之製造步驟中，玻璃基板之操作性會變差。
因此，廣泛採用如下方法：於將較最終厚度更厚之玻璃基板與對向基板貼合後，藉由蝕刻處理等研磨處理使玻璃基板之至少一部分之板厚變薄。於玻璃基板之對向基板側之面預先形成有TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體)或CF(Color Filter，彩色濾光片)等構件，且對玻璃基板之與對向基板相反之側之面實施研磨處理。
於實施此種研磨處理之情形時，必需將利用熔融法而成形之玻璃板設為與先前不同者。此處，所謂研磨處理，係指用以使板厚變薄之處理，除包含物理研磨處理以外，亦包括化學研磨處理。
本發明係鑒於上述課題而完成者，其目的在於提供一種利用熔融法而成形之玻璃板且適合於研磨處理之玻璃板、玻璃板之研磨方法、玻璃板之製造方法及玻璃板之製造裝置。
為解決上述目的，本發明之玻璃板係使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形者，不對上述玻璃板之正面及背面實施研磨處理，上述熔融玻璃之接合面自上述玻璃板之正面與背面之間之中心面起向一側偏移。
又，本發明之玻璃板之研磨方法係對上述玻璃板之正面或背面之至少一部分實施研磨處理者，於上述研磨處理後，經實施上述研磨處理之面於上述玻璃板之厚度方向上自上述接合面隔開特定距離以上。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，上述特定距離較佳為0.1 mm。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，較佳為對上述玻璃板之正面及背面中之距上述接合面較遠之面之至少一部分實施上述研磨處理，使得上述接合面不因上述研磨處理而被去除。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，較佳為藉由上述研磨處理，使上述玻璃板之至少一部分之板厚為0.2~0.5 mm。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，較佳為對上述玻璃板之正面及背面中之距上述接合面較近之面之至少一部分實施上述研磨處理，以便藉由上述研磨處理將上述接合面之至少一部分去除。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，上述研磨處理中之研磨量較佳為0.2 mm以上。
於本發明之玻璃板之研磨方法中，較佳為藉由上述研磨處理，使上述玻璃板之至少一部分之板厚未達0.2 mm。
又，本發明之玻璃板之製造方法係包含使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形為板狀玻璃的成形步驟者，於上述成形步驟中，上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側偏移。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述成形步驟中，使上述成形體相對於上述板狀玻璃左右傾斜，而調整上述接合面相對於上述中心面之位置。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述成形步驟中，調整與上述成形體之上部接觸之上述熔融玻璃之左右方向之溫度分佈，而調整上述接合面相對於上述中心面之位置。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且上述凹部之左側壁及右側壁之高度不同。
於本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述凹部之左側壁或右側壁之上部，在上述成形體之左側面或右側面之一側或左右兩側設置有降低上述沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃之流量的降低構件。
進而，本發明之玻璃板之製造裝置係包含使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形為板狀玻璃的成形裝置者，且上述成形裝置係以使上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側偏移之方式而構成。
於本發明之玻璃板之製造裝置中，較佳為上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且上述成形裝置包含調整與上述成形體之上部接觸之上述熔融玻璃之左右方向之溫度分佈的溫度調整裝置，來作為使上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側錯開的構成。
根據本發明，可提供一種利用熔融法而成形之玻璃板且適合於研磨處理之玻璃板、玻璃板之研磨方法、玻璃板之製造方法及玻璃板之製造裝置。
以下，參照圖式對用以實施本發明之形態進行說明。再者，於各圖式中，對相同構成附上相同符號而省略說明。
(第1實施形態)
圖1係本發明之第1實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的立體圖。圖2係沿圖1之A-A線之剖面圖，且係使熔融玻璃2沿成形體30之左右兩側面32、33流下之狀態之圖。於圖1及圖2中，X1-X2方向表示板狀玻璃3之厚度方向，Y1-Y2方向表示板狀玻璃3之寬度方向，Z1-Z2方向表示板狀玻璃3之長度方向。
本實施形態之玻璃板之製造裝置包含使熔融玻璃2成形為板狀玻璃3之成形裝置20。成形裝置20包括成形體30與內部配置有成形體30之成形室40。
成形體30例如由氧化鋁質或氧化鋯質等耐火物構成。成形體30具有朝向下方收縮之剖面楔狀之形狀。於成形體30之上部形成有凹部31。於凹部31中，經由未圖示之熔融玻璃供給管供給熔融玻璃2。熔融玻璃2自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側(X1側、X2側)溢出，並沿成形體30之左右兩側面32、33流下。
沿成形體30之左右兩側面32、33流下之熔融玻璃2於成形體30之下緣34附近接合(合流)而一體化。經合流之熔融玻璃2成為板狀玻璃(亦稱作「玻璃帶」)3。
板狀玻璃3係自成形室40向下方(Z2方向)以鉛垂狀態被抽出。其後，板狀玻璃3由切割機切斷為特定尺寸，而變成製品之玻璃板。
本實施形態之成形裝置20包含傾斜機構50，來作為使熔融玻璃2之接合面4自板狀玻璃3之正面5與背面6之間之中心面7向一側(正面5側或背面6側)錯開之構成(換言之，將夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度加以區別之構成)。傾斜機構50係可使成形體30相對於板狀玻璃3左右傾斜之機構。
例如，傾斜機構50包括支持台51、連結構件52、及支持構件54等。支持台51係經由連結構件52而支持成形體30之構件。支持構件54係可使支持台51相對於鉛垂方向左右傾斜地進行支持之構件。
支持構件54例如如圖1所示，可為一體地形成有插入至成形室40之側壁46之棒狀部56及與支持台51之外緣53接觸之傾斜面部58的構成。支持構件54係於支持台51之外緣53之左右兩側分別各設置有2個。棒狀部56係可於軸方向即左右方向(X1-X2方向)上移動地軸頸支撐於側壁46。傾斜面部58相對於棒狀部56之軸方向而傾斜。
於該傾斜機構50中，若手動或藉由適當之驅動裝置使設置於支持台51之一側之2個棒狀部56相對於側壁46於左右方向(X1-X2方向)上移動，則傾斜面部58使支持台51之一側於上下方向(Z1-Z2方向)上移動。其結果，使成形體30相對於板狀玻璃3左右傾斜。
如此，若使成形體30相對於板狀玻璃3左右傾斜，則藉由重力之影響，自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側溢出之熔融玻璃2之流出量會產生變化。由此，沿成形體30之左右兩側面32、33流下之熔融玻璃2之流量會產生變化。其結果，夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度會產生變化，且接合面4相對於中心面7之位置會產生變化。
因此，於本實施形態中，使用傾斜機構50，使成形體30相對於板狀玻璃3向左或向右傾斜，藉此可使接合面4自中心面7向一側平行地錯開。又，藉由調整成形體30相對於板狀玻璃3之傾斜角θ，而可調整接合面4相對於中心面7之位置。較佳為將傾斜角θ調整為0.02~5度之範圍。又，更佳為調整為0.04~2度之範圍，進而較佳為調整為0.1~1度之範圍。當傾斜角θ小於0.02度時，存在接合面4自中心面7之偏移量不充分之情形。又，當傾斜角θ大於5度時，存在無法穩定地成形玻璃板之情形。
其次，對使用上述製造裝置之玻璃板之製造方法進行說明。
玻璃板之組成係根據玻璃板之用途等而適當選定。例如，於玻璃板之用途為電漿面板之情形時，使用應變點之溫度較高、且熱膨脹係數較大之鈉鈣玻璃。又，於玻璃板之用途為液晶面板之情形時，由於鹼金屬會對液晶面板之品質造成不良影響，故而使用實質上不含鹼金屬之無鹼玻璃。
作為無鹼玻璃，例如，使用如下無鹼玻璃：以氧化物基準之質量%表示，含有SiO2
：50~66%、Al2
O3
：10.5~22%、B2
O3
：0~12%、MgO：0~8%、CaO：0~14.5%、SrO：0~24%、BaO：0~13.5%，且MgO+CaO+SrO+BaO：9~29.5質量%。
熔融玻璃2係將與玻璃板之組成相對應之複數種原料投入至熔解槽內，使其熔解而製作。該熔融玻璃2係經由熔融玻璃供給管而供給至設置於成形體30之上部之凹部31內。較理想的是於供給至凹部31內之前，對熔融玻璃2之內部所包含之氣泡進行消泡。
本實施形態之玻璃板之製造方法包括使熔融玻璃2成形為板狀玻璃3之成形步驟。具體而言，使自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側溢出、並沿成形體30之左右兩側面32、33流下之相同組成之熔融玻璃2於成形體30之下緣34附近合流而成形為板狀玻璃3。
板狀玻璃3係自成形室40向下方以鉛垂狀態抽出。其後，板狀玻璃3由切割機切斷為特定尺寸，而變成製品之玻璃板。
於本實施形態中，藉由使用傾斜機構50，使成形體30相對於板狀玻璃3向左或向右傾斜，而可如上所述般，使接合面4自中心面7向一側平行地錯開。由此，可獲得下述玻璃板10(參照圖3)。
又，於本實施形態中，藉由使用傾斜機構50，使成形體30相對於板狀玻璃3向左或向右傾斜，而可如上所述般，調整接合面4相對於中心面7之位置。藉此，可容易地應對成形條件之變化(例如，成形體30之經時劣化)或變更(例如，玻璃板之用途之變更)。
其次，基於圖3對藉由上述製造方法而獲得之玻璃板進行說明。
由於玻璃板10基本上與板狀玻璃3相同，故而夾持熔融玻璃2之接合面4的兩側之玻璃之組成相同。又，於玻璃板10中，夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度不同，且接合面4自玻璃板10之正面15與背面16之間之中心面7向一側(正面15側或背面16側)平行地偏移。於成形步驟後並不對玻璃板10之正面15及背面16實施研磨處理。
再者，若以光學顯微鏡觀察玻璃板10之切斷面，則可檢測接合面4。
有時於接合面4或其附近含有自成形體30之下部表面流出之異物19。於未實施研磨處理之情形時，該異物19難以自玻璃板10之正面15或背面16露出，故而難以對玻璃板10之品質造成不良影響。尤其，小於0.1 mm之異物19幾乎不會造成不良影響。因此，可將含有異物19之玻璃板10用作製品。
本實施形態之玻璃板10中，由於接合面4自中心面7向一側偏移，且夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度不同，故而雖然詳細情況將於下文敍述，但適合於研磨處理，且即便於實施有研磨處理之情形時，異物19亦難以露出至外部。
接合面4自中心面7之偏移量T(參照圖3)係根據玻璃板10之用途等而決定，例如可為0.1 mm以上。
又，於圖3所示之例中，偏移量T可以使玻璃板10之正面15及背面16中之距接合面4較近之背面16與接合面4之間之間隔為0.1 mm以上之方式進行設定。若未達0.1 mm，則有時於研磨處理前之狀態下，異物19會露出，故而欠佳。
其次，基於圖4及圖5，說明對上述玻璃板10之正面15或背面16之至少一部分實施研磨處理之玻璃板10之研磨方法。
作為研磨處理，例如有化學研磨處理、物理研磨處理等。化學研磨處理中包含蝕刻處理。以下，對使用蝕刻處理之情形進行說明，但關於其他化學處理或物理研磨亦相同。
作為蝕刻處理之方法，可列舉濕式蝕刻法或幹式蝕刻法。於濕式蝕刻法中，將玻璃板10浸漬於蝕刻液而使其薄板化。作為蝕刻液，可使用酸性水溶液等。
亦可於進行蝕刻處理前以耐蝕刻材料包覆玻璃板10之一部分。不對由耐蝕刻材料覆蓋之部分進行蝕刻。作為耐蝕刻材料，可使用特氟綸(Teflon)(註冊商標)等高分子材料。耐蝕刻材料係於蝕刻處理後，例如藉由有機溶劑等而去除。
蝕刻處理並無特別限定，例如可於液晶面板(LCD)或電漿面板(PDP)、有機EL面板等顯示面板之製造步驟之過程中進行。又，蝕刻處理亦可於照明面板之製造步驟之過程中進行。
於蝕刻處理係於顯示面板之製造步驟之過程中進行之情形時，並無特別限定，例如可於將玻璃板10與對向基板貼合後進行。例如，於蝕刻處理係於液晶面板之製造步驟之過程中進行之情形時，可於將玻璃板10與對向基板經由分隔件貼合後進行。於此情形時，於玻璃板10之對向基板側之面預先形成有TFT(薄膜電晶體)或CF(彩色濾光片)等構件，且對玻璃板10之與對向基板相反之側之面實施蝕刻處理。
於本實施形態中，於蝕刻處理後，經實施蝕刻處理之面17(參照圖4)、面18(參照圖5)自接合面4於玻璃板10之厚度方向上隔開特定距離以上。由此，於蝕刻處理後，接合面4或其附近所包含之異物19難以露出至外部，從而難以對顯示面板等之品質造成不良影響。
上述特定距離係根據玻璃板10之用途等而決定。其原因在於，根據玻璃板10之用途等，所容許之異物19之大小不同。小於0.1 mm之異物19只要不露出至外部，則於大部分之用途中被容許。若上述特定距離為0.1 mm，則可抑制小於0.1 mm之異物19露出至外部。上述特定距離較佳為0.05 mm以上，更佳為0.1 mm以上。又，上述特定距離亦可為0.2 mm以上，或者亦可為0.3 mm以上、0.4 mm以上。
於圖4所示之例中，對玻璃板10之正面15及背面16中之距接合面4較遠之正面15之至少一部分實施蝕刻處理，以便不因蝕刻處理而導致將接合面4去除。由此，於蝕刻處理時，接合面4或其附近所包含之異物19難以露出至外部，從而難以產生因異物19而導致之蝕刻各向異性。因此，於蝕刻處理後，經實施蝕刻處理之面易於變得平滑。
該方法適用於藉由蝕刻處理使玻璃板10之至少一部分之板厚D為0.2~0.5 mm之情形。於板厚D未達0.2 mm之情形時，難以在保留接合面4之同時防止異物19之露出。於板厚D超過0.5 mm之情形時，無法充分地獲得使板厚D變薄之效果。
於圖5所示之例中，對玻璃板10之正面15及背面16中之距接合面4較近之背面16之至少一部分實施蝕刻處理，以便藉由蝕刻處理將接合面4之至少一部分去除。於此情形時，由於將接合面4之兩側附近去除，故而於蝕刻處理後異物19難以露出至外部，從而難以對顯示面板等之品質造成不良影響。又，由於將夾持接合面4之兩側中之玻璃較薄之側去除，故而可相對較快地將異物19去除。
於該方法中，較理想的是於蝕刻處理後，經實施蝕刻處理之面18(參照圖5)自接合面4於玻璃板10之厚度方向上隔開0.1 mm以上。其原因在於，由於在較蝕刻處理結束時刻更早之階段中將異物19去除，故而可降低因異物19而導致之蝕刻各向異性之影響。又，為對接合面4進行蝕刻處理而將其去除，進而亦將異物19去除，較理想的是自距接合面4較近之側之表面起於玻璃板10之厚度方向上研磨0.2 mm以上。
該方法適用於藉由蝕刻處理使玻璃板10之至少一部分之板厚D未達0.2 mm之情形。其原因在於，如上所述，於板厚D未達0.2 mm之情形時，如圖4所示，難以在保留接合面4之同時防止異物19之露出。
(第2實施形態)
圖6係本發明之第2實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖，且係相當於圖2之剖面圖。
於本實施形態之玻璃板之製造裝置中，成形裝置20A之構成不同。成形裝置20A包含溫度調整裝置60，以作為使熔融玻璃2之接合面4自板狀玻璃3之正面5與背面6之間之中心面7向一側錯開之構成。溫度調整裝置60係調整與成形體30之上部接觸之熔融玻璃2之左右方向(X1-X2方向)之溫度分佈的裝置。
例如，如圖6所示，溫度調整裝置60包含發熱體62、64等。發熱體62、64係配置於成形體30之上方，且左右排列。亦可將該等發熱體62、64分別於熔融玻璃2之寬度方向(Y1-Y2方向)上分割，於此情形時，可以使熔融玻璃2之寬度方向之溫度分佈達到均勻之方式進行控制。
於該溫度調整裝置60中，藉由獨立地控制發熱體62、64之發熱量，而可調整與成形體30之上部接觸之熔融玻璃2之左右方向之溫度分佈。若該溫度分佈產生變化，則自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側溢出之熔融玻璃2之黏性會變得不同，黏性相對較低之玻璃較黏性相對較高之玻璃的流出量增多，從而溢出之熔融玻璃2之左右之流出量產生變化，故而沿成形體30之左右兩側面32、33流下之熔融玻璃2之流量產生變化。其結果，夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度會產生變化，且接合面4相對於中心面7之位置會產生變化。
因此，藉由使用溫度調整裝置60來調整與成形體30之上部接觸之熔融玻璃2之左右方向之溫度分佈，而可使接合面4自中心面7向一側平行地錯開。由此，與第1實施形態同樣地，可獲得圖3中所示之玻璃板10。
又，藉由使用溫度調整裝置60來調整與成形體30之上部接觸之熔融玻璃2之左右方向之溫度分佈，而可調整接合面4相對於中心面7之位置。藉此，可容易地應對成形條件之變化或變更。
再者，於本實施形態中，使用發熱體62、64之兩者作為溫度調整裝置60，但亦可僅使用其中任一者。又，亦可使用冷卻體來代替發熱體62、64。於冷卻體之內部設置有流通冷卻劑之流路。再者，於冷卻體係由熱導率良好之材料(例如，金屬材料)形成之情形時，亦可不設置流路。
又，於本實施形態中，發熱體62、64係設置於成形體30之上方，但亦可設置於成形體30之內部。例如，亦可將發熱體62設置於凹部31之左側壁35之內部，將發熱體64設置於凹部31之右側壁36之內部。
(第3實施形態)
圖7係本發明之第3實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖，且係相當於圖2之剖面圖。
於本實施形態之玻璃板之製造裝置中，成形裝置20B之構成不同。成形裝置20B包含成形體30B，以作為使熔融玻璃2之接合面4自板狀玻璃3之正面5與背面6之間之中心面7向一側錯開之構成。於該成形體30B中，凹部31B之左側壁35B及右側壁36B之高度不同，左側壁35B及右側壁36B之一者較另一者向上方僅突出ΔH。ΔH較佳為0.1~10 mm，更佳為0.2~5 mm，特佳為0.4~2 mm。當ΔH小於0.1 mm時，存在接合面4自中心面7之偏移量不充分之情形。又，當ΔH大於10 mm時，存在無法穩定地成形玻璃板之情形。
由於熔融玻璃2受到重力之影響，故而自設置於成形體30B之上部之凹部31B向左右兩側溢出之熔融玻璃2之流出量不同。其結果，沿成形體30B之左右兩側面32B、33B流下之熔融玻璃2之流量不同，故而接合面4自中心面7向一側偏移。由此，與第1實施形態同樣地，可獲得圖3中所示之玻璃板10。
(第4實施形態)
圖8係本發明之第4實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖，且係相當於圖2之剖面圖。
於本實施形態之玻璃板之製造裝置中，成形裝置20C之構成不同。成形裝置20C包含降低構件70，來作為使熔融玻璃2之接合面4自板狀玻璃3之正面5與背面6之間之中心面7向一側錯開之構成。降低構件70係設置於成形體30之上部所設置之凹部31之左側壁35或右側壁36之上部，且係降低沿成形體30之左側面32或右側面33流下之熔融玻璃2之流量的構件。
例如，如圖8所示，降低構件70係以設置於左側壁35之上部，且突出至較右側壁36更上方之方式構成。降低構件70之材料並無特別限定，可為與成形體30相同之材料。
若降低構件70係以突出至較右側壁36更上方之方式構成，則由於熔融玻璃2受到重力之影響，故而自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側溢出之熔融玻璃2之流出量不同。其結果，沿成形體30之左右兩側面32、33流下之熔融玻璃2之流量不同，故而接合面4自中心面7向一側平行地偏移。由此，與第1實施形態同樣地，可獲得圖3中所示之玻璃板10。
又，降低構件70亦可以使相對於右側壁36之突出量ΔI或/及降低構件70之左側面與左側壁35之間之距離ΔJ為可變之方式構成。若突出量ΔI或/及距離ΔJ改變，則自設置於成形體30之上部之凹部31向左右兩側溢出之熔融玻璃2之流出量會產生變化。其原因在於，若突出量ΔI改變，則重力之影響會產生變化。又，若距離ΔJ改變，則熔融玻璃2之移動距離會產生變化，且摩擦阻力之影響會產生變化。其結果，夾持接合面4之兩側之玻璃之厚度產生變化，且接合面4相對於中心面7之位置產生變化。
因此，藉由使用降低構件70來調整突出量ΔI或/及距離ΔJ，而可調整接合面4相對於中心面7之位置。由此，與第1實施形態同樣地，可應對成形條件之變化或變更。
又，降低構件70亦可構成為可與不同形狀之構件進行交換，以變更突出量ΔI或/及距離ΔJ。
再者，於本實施形態中，降低構件70係以設置於左側壁35之上部，且突出至較右側壁36更上方之方式構成，但本發明並不限定於此。例如，降低構件70亦可以設置於右側壁36之上部，且突出至較左側壁35更上方之方式構成。
(第5實施形態)
圖9係本發明之第5實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的側視圖，且係使熔融玻璃2沿成形體30之左右兩側面流下之狀態之圖。圖10係圖9之變形例之圖。
於本實施形態之玻璃板之製造裝置中，成形裝置20D、20E之構成不同。成形裝置20D、20E於成形體30之下方具有控制板狀玻璃3之流動的一對導引構件80。一對導引構件80抑制板狀玻璃3之寬度變窄，且抑制板狀玻璃3之板厚變得不均勻。
作為導引構件80，例如，可使用圖9中所示之導邊構件82、圖10中所示之冷卻輥對84等。導邊構件82例如係形成為板狀，且其前端部與板狀玻璃3之寬度方向一端部接觸。冷卻輥對84係由一對輥構成，將板狀玻璃3之寬度方向一端部夾持於一對輥之間而向下方送出。
該等導引構件80之位置可以使圖2等中所示之板狀玻璃3之寬度方向中央部中之正面5及背面6(即，所製造之玻璃板10之正面15及背面16)成為平面之方式進行設定，且根據接合面4相對於中心面7之位置變化進行調整。例如，可對照圖2中所示之傾斜角θ之調整，而使導引構件80之位置於左右方向(X1-X2方向)上移動。又，可於使用圖6中所示之溫度調整裝置60來調整與成形體30之上部接觸之熔融玻璃2之左右方向之溫度分佈時，使導引構件80之位置於左右方向(X1-X2方向)上移動。進而，可根據圖7中所示之突出量ΔI、距離ΔJ之調節，使導引構件80之位置於左右方向(X1-X2方向)上移動。藉此，可製造平面度(JIS(Japanese Industrial Standards，日本工業標準) B0021：1998)優異之平面玻璃板10。所製造之玻璃板10之平面度較佳為未達1 mm，更佳為未達0.5 mm，特佳為未達0.3 mm。
以上，對本發明之第1~第5實施形態進行了說明，但本發明並不限制於上述實施形態，可不脫離本發明之範圍而對上述實施形態添加各種變形及替換。
例如，作為使熔融玻璃2之接合面4自板狀玻璃3之正面5與背面6之間之中心面7向一側錯開之構成，亦可將傾斜機構50、溫度調整裝置60、成形體30B、降低構件70加以組合而使用，且其組合之數量不受限制。
已詳細地且參照特定之實施態樣對本發明進行了說明，但業者應當明白只要不脫離本發明之範圍及精神則可添加各種修正或變更。
本申請案係基於2010年6月21日申請之日本專利申請案2010-140253者，其內容以參照之形式併入本文中。
2．．．熔融玻璃
3．．．板狀玻璃
4．．．接合面
5．．．板狀玻璃3之正面
6．．．板狀玻璃3之背面
7．．．中心面
10．．．玻璃板
15．．．玻璃板10之正面
16．．．玻璃板10之背面
17、18．．．經實施研磨處理(蝕刻處理)之面
19．．．異物
20、20A、20B、20C、20D、20E．．．成形裝置
30、30B．．．成形體
31、31B．．．凹部
32、32B．．．左側面
33、33B．．．右側面
34．．．下緣
35、35B．．．左側壁
36、36B．．．右側壁
40．．．成形室
46．．．側壁
50．．．傾斜機構
51．．．支持台
52．．．連結構件
53．．．支持台51之外緣
54．．．支持構件
56．．．棒狀部
58．．．傾斜面部
60．．．溫度調整裝置
62、64．．．發熱體
70．．．降低構件
80．．．導引構件
82．．．導邊構件
84．．．冷卻輥對
D．．．板厚
T．．．接合面4自中心面7之偏移量
X1-X2．．．板狀玻璃3之厚度方向
Y1-Y2．．．板狀玻璃3之寬度方向
Z1-Z2．．．板狀玻璃3之長度方向
ΔI．．．突出量
ΔJ．．．降低構件70之左側面與左側壁35之間之距離
θ．．．傾斜角
圖1係本發明之第1實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的立體圖；
圖2係沿圖1之A-A線之剖面圖，且係使熔融玻璃2沿成形體30之左右兩側面32、33流下之狀態之圖；
圖3係本發明之第1實施形態中之玻璃板之側視圖；
圖4係圖3之玻璃板10之加工後之側視圖(1)；
圖5係圖3之玻璃板10之加工後之側視圖(2)；
圖6係本發明之第2實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖；
圖7係本發明之第3實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖；
圖8係本發明之第4實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的剖面圖；
圖9係本發明之第5實施形態中之玻璃板之製造裝置之主要部分的側視圖，且係使熔融玻璃2沿成形體30之左右兩側面流下之狀態之圖；及
圖10係圖9之變形例之圖。
4．．．接合面
7．．．中心面
10．．．玻璃板
15．．．玻璃板10之正面
16．．．玻璃板10之背面
19．．．異物
T．．．接合面4自中心面7之偏移量
Claims (20)
- 一種玻璃板，其係使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形者，不對上述玻璃板之正面及背面實施研磨處理，且上述熔融玻璃之接合面自上述玻璃板之正面與背面之間之中心面起向一側偏移。
- 一種玻璃板之研磨方法，其係對如請求項1之玻璃板之正面或背面之至少一部分實施研磨處理者，於上述研磨處理後，經實施上述研磨處理之面於上述玻璃板之厚度方向上自上述接合面隔開特定距離以上。
- 如請求項2之玻璃板之研磨方法，其中上述特定距離為0.1mm。
- 如請求項2或3之玻璃板之研磨方法，其中對上述玻璃板之正面及背面中之距上述接合面較遠之面之至少一部分實施上述研磨處理，使得上述接合面不因上述研磨處理而被去除。
- 如請求項4之玻璃板之研磨方法，其中藉由上述研磨處理，使上述玻璃板之至少一部分之板厚為0.2~0.5mm。
- 如請求項2或3之玻璃板之研磨方法，其中對上述玻璃板之正面及背面中之距上述接合面較近之面之至少一部分實施上述研磨處理，以便藉由上述研磨處理將上述接合面之至少一部分去除。
- 如請求項6之玻璃板之研磨方法，其中上述研磨處理中之 研磨量為0.2mm以上。
- 如請求項6之玻璃板之研磨方法，其中藉由上述研磨處理，使上述玻璃板之至少一部分之板厚未達0.2mm。
- 如請求項7之玻璃板之研磨方法，其中藉由上述研磨處理，使上述玻璃板之至少一部分之板厚未達0.2mm。
- 一種玻璃板之製造方法，其係包括使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形為板狀玻璃的成形步驟者，於上述成形步驟中，上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側偏移。
- 如請求項10之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，於上述成形步驟中，使上述成形體相對於上述板狀玻璃左右傾斜，而調整上述接合面相對於上述中心面之位置。
- 如請求項10或11之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，於上述成形步驟中，調整與上述成形體之上部接觸之上述熔融玻璃之左右方向之溫度分佈，從而調整上述接合面相對於上述中心面之位置。
- 如請求項10或11之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於 上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且上述凹部之左側壁及右側壁之高度不同。
- 如請求項12之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且上述凹部之左側壁及右側壁之高度不同。
- 如請求項10或11之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述凹部之左側壁或右側壁之上部，在上述成形體之左側面或右側面之一側或左右兩側設置有降低上述沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃之流量的降低構件。
- 如請求項12之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述凹部之左側壁或右側壁之上部，在上述成形體之左側面或右側面之一側或左右兩側設置有降低上述沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃之流量的降低構件。
- 如請求項13之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述凹部之左側壁或右側壁之上部，在上述成形 體之左側面或右側面之一側或左右兩側設置有降低上述沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃之流量的降低構件。
- 如請求項14之玻璃板之製造方法，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且於上述凹部之左側壁或右側壁之上部，在上述成形體之左側面或右側面之一側或左右兩側設置有降低上述沿成形體之左右兩側面流下之熔融玻璃之流量的降低構件。
- 一種玻璃板之製造裝置，其係包括使沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃於上述成形體之下緣附近接合而成形為板狀玻璃的成形裝置者，且上述成形裝置係以使上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側偏移之方式而構成。
- 如請求項19之玻璃板之製造裝置，其中上述沿成形體之左右兩側面流下之相同組成之熔融玻璃係自設置於上述成形體之上部之凹部向左右兩側溢出者，且上述成形裝置包含調整與上述成形體之上部接觸之上述熔融玻璃之左右方向之溫度分佈的溫度調整裝置，以作為使上述熔融玻璃之接合面自上述板狀玻璃之正面與背面之間之中心面起向一側錯開之構成。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010140253 | 2010-06-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201200476A TW201200476A (en) | 2012-01-01 |
| TWI500584B true TWI500584B (zh) | 2015-09-21 |
Family
ID=45371354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW100121713A TWI500584B (zh) | 2010-06-21 | 2011-06-21 | Glass plate, polishing method for glass plate, manufacturing method of glass plate and manufacturing apparatus for glass plate |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130102228A1 (zh) |
| JP (1) | JP5761187B2 (zh) |
| KR (1) | KR101853984B1 (zh) |
| CN (1) | CN102947232B (zh) |
| TW (1) | TWI500584B (zh) |
| WO (1) | WO2011162164A1 (zh) |
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| US9796616B2 (en) | 2012-05-24 | 2017-10-24 | Corning Incorporated | Apparatus and method for producing laminated glass sheet |
| TWI586622B (zh) * | 2012-08-01 | 2017-06-11 | 康寧公司 | 用於層壓熔合的方法及裝置 |
| TWI627141B (zh) | 2013-04-30 | 2018-06-21 | 康寧公司 | 用於沿等壓管堰控制熔融玻璃流的設備與方法 |
| KR102135955B1 (ko) * | 2013-08-02 | 2020-07-21 | 코닝 인코포레이티드 | 라미네이트 유리 시트를 만들기 위한 방법 및 그 기기 |
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| US9556051B2 (en) | 2014-09-22 | 2017-01-31 | Corning Incorporated | Methods for controlling the thickness wedge in a glass ribbon |
| JP6489783B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2019-03-27 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置 |
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- 2011-06-16 JP JP2012521444A patent/JP5761187B2/ja active Active
- 2011-06-16 KR KR1020127033200A patent/KR101853984B1/ko active Active
- 2011-06-16 CN CN201180030145.0A patent/CN102947232B/zh active Active
- 2011-06-16 WO PCT/JP2011/063836 patent/WO2011162164A1/ja not_active Ceased
- 2011-06-21 TW TW100121713A patent/TWI500584B/zh active
-
2012
- 2012-12-14 US US13/715,319 patent/US20130102228A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4214886A (en) * | 1979-04-05 | 1980-07-29 | Corning Glass Works | Forming laminated sheet glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102947232A (zh) | 2013-02-27 |
| JPWO2011162164A1 (ja) | 2013-08-22 |
| KR20130111958A (ko) | 2013-10-11 |
| TW201200476A (en) | 2012-01-01 |
| JP5761187B2 (ja) | 2015-08-12 |
| US20130102228A1 (en) | 2013-04-25 |
| CN102947232B (zh) | 2015-05-27 |
| KR101853984B1 (ko) | 2018-05-02 |
| WO2011162164A1 (ja) | 2011-12-29 |
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