[go: up one dir, main page]

TWI593783B - 用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物 - Google Patents

用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物 Download PDF

Info

Publication number
TWI593783B
TWI593783B TW102126148A TW102126148A TWI593783B TW I593783 B TWI593783 B TW I593783B TW 102126148 A TW102126148 A TW 102126148A TW 102126148 A TW102126148 A TW 102126148A TW I593783 B TWI593783 B TW I593783B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
metal
oxide
group
composition
ether
Prior art date
Application number
TW102126148A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201410848A (zh
Inventor
崔好星
柳匡鉉
裵鍾一
李鍾淳
梁惠星
河相求
Original Assignee
Ｌｔｃ股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｌｔｃ股份有限公司 filed Critical Ｌｔｃ股份有限公司
Publication of TW201410848A publication Critical patent/TW201410848A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI593783B publication Critical patent/TWI593783B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2003—Alcohols; Phenols
    • C11D3/2041—Dihydric alcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2003—Alcohols; Phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2068—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/34—Organic compounds containing sulfur
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5022—Organic solvents containing oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/02—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using non-aqueous solutions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/60—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
    • C23C22/63—Treatment of copper or alloys based thereon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/16—Sulfur-containing compounds
    • C23F11/165—Heterocyclic compounds containing sulfur as hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
    • C23G1/20—Other heavy metals
    • H10P70/27—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/16—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物
本發明係關於一種用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物；尤其，本發明係關於一種於製造半導體電路或製造用於液晶顯示器(LCD)、發光二極管(LED)或有機發光二極管(OLED)顯示器之電路過程中用於移除金屬線路表面上產生之氧化物的組合物，並防止氧化物之形成。
用於半導體電路或供液晶顯示器(LCD)、發光二極管(LED)或有機發光二極管(OLED)顯示器使用之電路之金屬線路電路結構，已逐漸成為越來越精細之積體電路。
作為金屬線路的材料所使用的金屬如：鋁、鈦、銅、銀、金等。其中，因為優異的導電性和相對較低的價格，銅被廣泛應用到眾多領域中。然而，由於銅很容易在環境中氧化，在單元佈線結束之後，使用銅之該線路表面將覆蓋著氧化物。換言之，使用銅之該線路表面將覆蓋著氧化物，經由熱處理程序能夠沉積低介電值之材料，相片曝光過程能利用感光材料確定金屬線路之形狀，在相片曝光過程之後的蝕刻過程中能產生金屬線路膜，脫膜過程能除去在蝕刻過程後殘留在金屬線路表面之感光材料等。但是，此等氧化物將降低銅之固有導電性且使其電阻增強，而最終難 以實現低電壓精細電路結構。因此，到目前為止，銅還沒有被用來作為有機發光二極管(OLED)顯示器電路中之金屬。
因此，如果藉由上述各種過程能除去金屬線路表面形成的氧化物，藉以維持金屬線路之固有導電性，將可使金屬線路之佈線越來越精細。然而，由於金屬氧化物和金屬膜具有非常相似的特性，因此到目前為止，還不可能選擇性地除去該金屬氧化物。
本發明之目標係提供一種能夠選擇性地移除金屬線路表面氧化物的組合物。
本發明之另一目標係提供一種能夠防止在金屬線路表面產生氧化物之組合物。
本發明之另一目標係提供一種能夠移除在金屬線路表面之氧化物且防止氧化物產生之組合物，且更能避免較低金屬膜之腐蝕。
一種根據本發明之用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物，包括：由下列化學式I表示之化合物，其重量百分率為0.01%到20%；有機溶劑，其重量百分率為10%到99.99%；以及水，其重量百分率為0%到70%：化學式I
在以上化學式I中，X1係為C或S。
另，X2係為CR1 2、NR2、O或S，其中R1和R2中每一者係獨立地為氫、C1-12烷基、C1-12烷基硫醇，或C1-12烷氧基、C6-12芳基或羥基。
X3和X4中每一者係獨立地為CR3或N，其中R3係各自獨立地為氫、C1-12烷基、或C1-12烷基硫醇或羥基，其中X3和X4皆為CR3，且如果R3為C1-12烷基，該取代基R3末端之碳係彼此連接，藉以形成飽和或不飽和環。
在本發明之一實施例中，由化學式I表示之化合物係選自由巰基咪唑、巰基甲基咪唑、苯基巰基四唑、巰苯並噻二唑、巰基苯並咪唑、巰苯並噻二唑、巰基苯並噁唑以及前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之一實施例中，前述之有機溶劑係為胺溶劑。
在本發明之一實施例中，該胺溶劑係選自由單乙醇胺、單異丙胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、二異丙胺、氨基丙醇、單甲基乙醇胺、氨乙基乙醇胺、二甲基乙醇胺、嗎啉、N-甲基嗎啉、N-乙基嗎啉、N-氨基乙基哌嗪、二甲基哌嗪、二甲基氨基丙胺、二甲基哌嗪、氨基丙基嗎啉、二甲基氨基丙胺、甲氧基丙胺、氨基丙基嗎啉、五甲基二乙烯胺、乙烯二胺、二乙烯基三胺、三乙烯基四胺、四乙烯基五胺以及由前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之另一實施例中，該有機溶劑係選自由醇溶劑、醯 胺溶劑、甘醇溶劑、甘醇乙醚溶劑以及前述物質之混合物所組成之群組，且包括重量百分率0%到70%之水。
在本發明之一實施例中，該有機溶劑係選自由乙二醇單甲基醚、丙二醇丙基醚、二乙二醇單甲基醚、乙二醇單丁基醚、三乙二醇丁基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、三丙二醇甲基醚、乙二醇甲基醚乙酸酯、3-甲氧基-1-丁醇、二丙二醇單甲基醚、丙二醇二甲基醚、3-甲氧基-1-丙醇、2-乙氧基乙基乙酸酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、乙烯基卡必醇、丙烯基卡必醇、γ-丁內酯、二甲基亞碸、環丁碸、二甲基甲醯胺、四氫糠醇、炔丙醇、三乙二醇單乙基醚、聚乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、乙二醇單異丙醚、乙二醇單異丁基醚、二乙二醇單苯醚以及由前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之一實施例中，該金屬係為銅。
根據本發明所揭露之組合物係能選擇性地移除在金屬線路表面之氧化物、防止在金屬線路表面氧化物之產生，同時防止較低金屬膜之腐蝕，且藉此維持金屬線路之固有導電性，因而使金屬線路之佈線能夠越來越精細。
第1圖為銅沉積於一玻璃後之即時照片。第2圖是在第1圖之玻璃被放到170度的加熱板20分鐘後之影像圖且該氧化物被人工合成於該金屬之表面。第3圖是第2圖之玻璃被沉浸在含有根據本發明所揭露組合物之燒杯中的影像圖。第4圖是第3圖之玻璃被取出後拍攝的照片，其顯示一 滴水得以良好地散佈於許多氧化物形成之部分的結果，然而，同時顯示一滴水不會良好地散佈於該氧化物被移除之部分。第5圖顯示第1圖玻璃之X射線光電子光譜(XPS)分析結果。第6圖顯示第2圖玻璃之X射線光電子光譜分析結果。第7圖顯示使用根據本發明之組合物中除去金屬氧化物後之X射線光電子光譜分析結果。第8A圖顯示本發明金屬電路表面氧化物移除機制之步驟1之示意圖。第8B圖顯示本發明金屬電路表面氧化物移除機制之步驟2之示意圖。
根據本發明用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物，包括：由下列化學式I表示之化合物，其重量百分率為0.01%到20%；有機溶劑，其重量百分率為10%到99.99%；以及水，其重量百分率為0%到70%：
在以上化學式I中，X1係為C或S。
同樣地，X2係為CR1 2、NR2、O或S，其中R1和R2中每一者係獨立地為氫、C1-12烷基、C1-12烷基硫醇，或C1-12烷氧基、C6-12芳基或羥基。
X3和X4中每一者係獨立地為CR3或N，其中R3係各自獨立地為氫、C1-12烷基、或C1-12烷基硫醇或羥基，其中X3和X4皆為CR3，且如果R3 為C1-12烷基，該取代基R3末端之碳係彼此連接，藉以形成飽和或不飽和環。
在本發明之一實施例中，由化學式I表示之化合物係選自由巰基咪唑、巰基甲基咪唑、苯基巰基四唑、巰苯並噻二唑、巰基苯並咪唑、巰苯並噻二唑、巰基苯並噁唑以及前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之一實施例中，該前述之有機溶劑係為胺溶劑。在此情況下，無論水是否包括於其中，皆可選擇性地移除該金屬電路表面之氧化物。
在本發明之一實施例中，該胺溶劑係選自由單乙醇胺、單異丙胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、二異丙胺、氨基丙醇、單甲基乙醇胺、氨乙基乙醇胺、二甲基乙醇胺、嗎啉、N-甲基嗎啉、N-乙基嗎啉、N-氨基乙基哌嗪、二甲基哌嗪、二甲基氨基丙胺、二甲基哌嗪、氨基丙基嗎啉、二甲基氨基丙胺、甲氧基丙胺、氨基丙基嗎啉、五甲基二乙烯胺、乙烯二胺、二乙烯基三胺、三乙烯基四胺、四乙烯基五胺以及由前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之另一實施例中，該有機溶劑係選自由醇溶劑、醯胺溶劑、甘醇溶劑、甘醇乙醚溶劑以及前述物質之混合物所組成之群組，且包括重量百分率0%到70%之水。換言之，於有機溶劑不包括該胺溶劑，但包括該醇溶劑、該醯胺溶劑、該甘醇溶劑、該甘醇乙醚溶劑，且必須包含水之情況下，藉此可選擇性地移除在金屬線路表面之氧化物。
在本發明之一實施例中，該有機溶劑係選自由乙二醇單甲基醚、丙二醇丙基醚、二乙二醇單甲基醚、乙二醇單丁基醚、三乙二醇丁基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、三丙二醇 甲基醚、乙二醇甲基醚乙酸酯、3-甲氧基-1-丁醇、二丙二醇單甲基醚、丙二醇二甲基醚、3-甲氧基-1-丙醇、2-乙氧基乙基乙酸酯、n-甲基-2-吡咯烷酮、乙烯基卡必醇、丙烯基卡必醇、γ-丁內酯、二甲基亞碸、環丁碸、二甲基甲醯胺、四氫糠醇、炔丙醇、三乙二醇單乙基醚、聚乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、乙二醇單異丙醚、乙二醇單異丁基醚、二乙二醇單苯基醚以及由前述物質之混合物所組成之群組。
在本發明之一實施例中，該金屬係為銅。
在本發明中，將金屬電路表面氧化物移除之機制如第8A圖、第8B圖所示。
步驟1：如果有水存在，將與該化合物結合的巰基之硫原子(S)以該化學式I表示，與金屬(銅)形成配位鍵，且構成由該式I表示之化合物以及具有一非共價電子對的雜原子(N、O或S)(X)，係藉由氫原子之媒介，經與該組合物內的雜原子或氫離子(H+)結合，而與該金屬氧化物中之氧原子(O)形成配位鍵。
步驟2：接下來，該氫離子(H+)和與其結合的金屬氧化物中之氧原子被結合到組合物中之氫離子(H+)上，而以水(H2O)的形式存在於該組合物中。
如果該氧原子從金屬氧化物被除去而使其露出一純金屬表面，藉由化學式I所表示、以巰基與金屬形成配位鍵之化合物，可防止額外金屬氧化物之產生。
此外，由該化學式I所表示、以巰基與金屬形成配位鍵之該化合物，係可保護該金屬電路之表面，以防止腐蝕。
此外，如果水不存在，金屬氧化物之氧原子可由該組合物中之胺基或羥基自表面移除。
最後，由於結合到金屬表面的巰基(SH)是非常弱的結合，因此極易被水的氫鍵所斷裂，而於隨後的超純清洗過程中從金屬表面被移除。
下文中，本發明將經由參考實例詳加描述。然而，應該理解的是，這些實例之目的僅用於說明，而非欲限制本發明的範圍。
實例
被金屬沉積於其上之玻璃置於170度的加熱板上20分鐘，而以人工方式於該金屬膜表面上產生氧化物。同時將溫度保持在40度，將在於其上產生有氧化物之金屬膜浸入根據本發明所揭露之組合物中20分鐘，其後取出，藉此可以肉眼觀察到具有從該金屬表面去除之氧化物之玻璃以及具有該腐蝕金屬之玻璃。於此實驗中，銅金屬膜係用作為位於該玻璃上半部之金屬膜。
表1顯示胺溶劑係用作為有機溶劑，表2則顯示以非胺溶劑作為有機溶劑使用。該組成之單位係如下列表1和表2中所示之重量百分比。實驗結果係按以下標準進行評估且顯示於表1和表2中。
[該氧化物是否被移除]
◎：在兩分鐘內除去該金屬氧化物
△：在兩分鐘後除去該金屬氧化物
X：金屬氧化物未被移除
[金屬腐蝕等級]
◎：具有與控制組基板相同之狀況
○：具有與該控制組基板相同之膜厚度，且於表面上具有輕微腐蝕。
△：與該控制組基板相比，膜厚度稍微減少，且於表面上具有腐蝕。
X：由於腐蝕之緣故，與該控制組基板相比，膜厚度減少一半或以上。
MI：巰基咪唑
MBO：巰基苯並噁唑
MBTD：巰苯並噻二唑
MEA：單乙醇胺
MIPA：單異丙胺
DEA：二乙醇胺
TEA：三乙醇胺
MDEA：n-甲基二乙醇胺
DIPA：二異丙胺
AMP：氨基丙醇
MMEA：單甲基乙醇胺
AEEA：氨乙基乙醇胺
DMEA：二甲基乙醇胺
MOR：嗎啉
NMM：N-甲基嗎啉
NEM：N-乙基嗎啉
AEP：N-氨基乙基哌嗪
DMP：二甲基哌嗪
DMAPA：二甲基氨基丙胺
MOPA：二甲基哌嗪
APM：氨基丙基嗎啉
DMCHA：二甲基氨基丙胺
MOPA：甲氧基丙胺
APM：氨基丙基嗎啉
PMDETA：五甲基二乙烯胺
EDA：乙烯二胺
DETA：二乙烯基三胺
TETA：三乙烯基四胺
TEPA：四乙烯基五胺
NMP：n-甲基-2-吡咯烷酮
EC：乙烯基卡必醇
PC：丙烯基卡必醇
GBL：γ-丁內酯
DMSO：二甲基亞碸
Sulforan：環丁碸
DMF：二甲基甲醯胺
THFA：四氫糠醇
PA：炔丙醇
MG：乙二醇單甲基醚
MDG：二乙二醇單甲基醚
EG：乙二醇單乙基醚
EDG：二乙二醇單乙基醚
ETG：三乙二醇單乙基醚
EPG：聚乙二醇單乙基醚
BDG：二乙二醇單丁基醚
MFG：丙二醇單甲基醚
IPG：乙二醇單異丁醚
IBG：乙二醇單異丁基醚
BFG：二乙二醇單苯醚
PGPE：丙二醇丙基醚
EGMEA：乙二醇單丁基醚乙酸酯
本發明係以示例性實施例描述，但本領域技術人員將理解到，可作出各種改變以及以等效元件代替，而不脫離本發明的範圍。此外，對於本發明揭露之內容可以做出許多修飾，以應用於特定的情況或材質，而不脫離其基本範圍。因此，本發明並不限於所揭露之最佳具體實施例，本發明將包括所有落入本發明之申請專利範圍中之所有實施例。

Claims (3)

  1. 一種用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物，包括：由下列化學式I表示之化合物，其重量百分率為0.01%到20%；胺溶劑，其重量百分率為10%到99.99%；以及水，其重量百分率為0%到70%：其中由化學式I表示之化合物係選自由巰基咪唑、巰基甲基咪唑、苯基巰基四唑以及前述物質之混合物所組成之群組； 其中X1係為C或S；X2係為CR1 2、NR2、O或S，其中R1和R2中每一者係獨立地為氫、C1-12烷基、C1-12烷基硫醇，或C1-12烷氧基、C6-12芳基或羥基；X3和X4中每一者係獨立地為CR3或N，其中R3係各自獨立地為氫、C1-12烷基或C1-12烷基硫醇或羥基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物，其中該胺溶劑係選自由單乙醇胺、單異丙胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、二異丙胺、氨基丙醇、單甲基乙醇胺、氨乙基乙醇胺、二甲基乙醇胺、嗎啉、N-甲基嗎啉、N-乙基嗎啉、N-氨基乙基哌嗪、二甲基哌嗪、二甲基氨基丙胺、氨基丙基嗎啉、甲氧基丙胺、 五甲基二乙烯胺、乙烯二胺、二乙烯基三胺、三乙烯基四胺、四乙烯基五胺以及由前述物質之混合物所組成之群組。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於移除與防止於金屬線路表面產生氧化物之組合物，其中該金屬為銅。
TW102126148A 2012-07-24 2013-07-22 用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物 TWI593783B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120080440 2012-07-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201410848A TW201410848A (zh) 2014-03-16
TWI593783B true TWI593783B (zh) 2017-08-01

Family

ID=49997564

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102126148A TWI593783B (zh) 2012-07-24 2013-07-22 用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物
TW104118427A TWI561615B (en) 2012-07-24 2013-07-22 Composition for removal and prevention of formation of oxide on surface of metal wiring

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104118427A TWI561615B (en) 2012-07-24 2013-07-22 Composition for removal and prevention of formation of oxide on surface of metal wiring

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9353339B2 (zh)
EP (1) EP2878707B1 (zh)
CN (1) CN104662202B (zh)
TW (2) TWI593783B (zh)
WO (1) WO2014017819A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8346672B1 (en) * 2012-04-10 2013-01-01 Accells Technologies (2009), Ltd. System and method for secure transaction process via mobile device
WO2015189354A1 (en) 2014-06-13 2015-12-17 Neuravi Limited Devices for removal of acute blockages from blood vessels
CN105542990A (zh) * 2016-01-29 2016-05-04 苏州佳亿达电器有限公司 一种水基led芯片清洗剂
KR101697336B1 (ko) * 2016-03-03 2017-01-17 주식회사 엘지화학 액정 배향막의 제조방법
MX2021000441A (es) 2018-07-12 2021-06-15 Championx Usa Inc Hidroxiamidas derivadas de alquil lactona e hidroxiésteres derivados de alquil lactona para el control de hidratos de gas natural.
CA3124252A1 (en) 2018-07-12 2020-01-16 Championx Usa Inc. Alkyl lactone- derived corrosion inhibitors
US11955341B2 (en) * 2019-03-11 2024-04-09 Versum Materials Us, Llc Etching solution and method for selectively removing silicon nitride during manufacture of a semiconductor device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776532A (zh) * 2004-06-15 2006-05-24 气体产品与化学公司 从基片上除去残留物的组合物及其方法
CN102498197A (zh) * 2009-09-11 2012-06-13 东友Fine-Chem股份有限公司 清洗组成物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3233886B2 (ja) * 1997-10-29 2001-12-04 株式会社ジャパンエナジー 洗浄用組成物
AU2001241190A1 (en) * 2000-03-21 2001-10-03 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Semiconductor wafer cleaning agent and cleaning method
US8236485B2 (en) * 2002-12-20 2012-08-07 Advanced Technology Materials, Inc. Photoresist removal
TWI362415B (en) 2003-10-27 2012-04-21 Wako Pure Chem Ind Ltd Novel detergent and method for cleaning
US20060003910A1 (en) 2004-06-15 2006-01-05 Hsu Jiun Y Composition and method comprising same for removing residue from a substrate
JP2006114872A (ja) * 2004-09-15 2006-04-27 Daikin Ind Ltd 銅酸化物を含む銅変質層の除去液及び除去方法
US20060063687A1 (en) * 2004-09-17 2006-03-23 Minsek David W Composition and process for ashless removal of post-etch photoresist and/or bottom anti-reflective material on a substrate
US8058219B2 (en) * 2005-10-13 2011-11-15 Advanced Technology Materials, Inc. Metals compatible post-etch photoresist remover and/or sacrificial antireflective coating etchant
WO2008039730A1 (en) * 2006-09-25 2008-04-03 Advanced Technology Materials, Inc. Compositions and methods for the removal of photoresist for a wafer rework application
US8110535B2 (en) * 2009-08-05 2012-02-07 Air Products And Chemicals, Inc. Semi-aqueous stripping and cleaning formulation for metal substrate and methods for using same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776532A (zh) * 2004-06-15 2006-05-24 气体产品与化学公司 从基片上除去残留物的组合物及其方法
CN102498197A (zh) * 2009-09-11 2012-06-13 东友Fine-Chem股份有限公司 清洗组成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP2878707A4 (en) 2016-03-09
WO2014017819A1 (ko) 2014-01-30
EP2878707A1 (en) 2015-06-03
CN104662202B (zh) 2017-06-20
US20150299628A1 (en) 2015-10-22
US9353339B2 (en) 2016-05-31
CN104662202A (zh) 2015-05-27
EP2878707B1 (en) 2019-04-03
TWI561615B (en) 2016-12-11
TW201410848A (zh) 2014-03-16
TW201534691A (zh) 2015-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI593783B (zh) 用於移除與防止於金屬線路表面形成氧化物之組合物
CN102486620B (zh) 用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物
TWI546632B (zh) A photoresist stripping agent composition, a sheet metal wiring substrate, and a method for manufacturing the same
JP4725905B2 (ja) フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法
CN105723284B (zh) 抗蚀剂剥离液
TWI261734B (en) Photoresist removing solution and method for removing photoresist using same
KR20090072546A (ko) 포토레지스트 제거용 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의제조 방법
TWI434150B (zh) 光阻剝離劑組成物
KR101375100B1 (ko) 후막의 네가티브 포토레지스트용 박리액 조성물
TWI611276B (zh) 光微影用剝離液及圖型形成方法
JP2012032757A (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
TWI413874B (zh) 光阻剝離劑組成物
JP6231423B2 (ja) フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法
CN102103334B (zh) 抗蚀剂剥离剂组合物
JP5678616B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
JP5504692B2 (ja) 防食剤及びその用途
CN102498197A (zh) 清洗组成物
JP5533383B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
KR20170103669A (ko) 세정액 및 세정 방법
JP2017120400A (ja) ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物
JP5321389B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
JP2015068844A (ja) レジスト剥離剤、及びそれを用いた銅又は銅合金配線用レジストからのレジスト剥離方法
JP2014010185A (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法