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TWI586721B - An optical film manufacturing method, an optical film, and an image display device - Google Patents

An optical film manufacturing method, an optical film, and an image display device Download PDF

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TWI586721B
TWI586721B TW103130377A TW103130377A TWI586721B TW I586721 B TWI586721 B TW I586721B TW 103130377 A TW103130377 A TW 103130377A TW 103130377 A TW103130377 A TW 103130377A TW I586721 B TWI586721 B TW I586721B
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TW
Taiwan
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film
adhesive composition
optical film
adhesive
layer
Prior art date
Application number
TW103130377A
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English (en)
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TW201518352A (zh
Inventor
Masashi Shinagawa
Ryuuichi Inoue
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of TW201518352A publication Critical patent/TW201518352A/zh
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Description

光學薄膜之製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關於光學薄膜及其製造方法，該光學薄膜包含積層構造，其係隔著接著劑組成物或黏著劑組成物之硬化物層所構成之接著劑層或黏著劑層，至少貼合有第1薄膜及第2薄膜者。再者，本發明係有關於使用有前述光學薄膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置在時鐘、手機、PDA、筆記型電腦、電腦用顯示器、DVD播放器、電視等急速展開其市場。液晶顯示裝置係藉由液晶之轉向使偏光狀態可視化者，從其顯示原理，可使用偏光件。尤其，在電視等用途越發要求高亮度、高對比、廣視角，在偏光薄膜亦越發要求高透光度、高偏光度、高顏色再現性等。
作為偏光件，從具有高透光度、高偏光度來看，最普遍被廣泛使用的，例如於聚乙烯醇(以下，亦只記為「PVA」)吸附碘，並進行延伸之構造的碘類偏光件。一般而言偏光薄膜，係使用藉由將聚乙稀醇類材料溶解於水之 所謂的水性接著劑，於偏光件之兩面貼合透明保護薄膜者。然而，到了近年，因為有乾燥步驟為可省略且尺寸變化較少等優點，使用不含水或有機溶劑之活性能量射線硬化型樹脂漸漸成為主流。
在使用活性能量射線硬化型樹脂組成物，貼合複數之薄膜製造光學薄膜的情況下，例如，一般而言，僅於透明保護薄膜之貼合面塗布接著劑組成物，且自如此之貼合面側貼合偏光件等，製造包含積層構造之光學薄膜。然而，在以往之製造方法，在於塗布接著劑組成物等前之偏光件、透明保護薄膜等的表面附著有垃圾或塵埃等異物，或接著劑組成物含有微小異物的情況下，會於接著劑層殘存異物，其結果有產生外觀缺陷的情況。
在下述專利文獻1，在包含於透明支撐體上或於形成於該透明支撐體上之底塗層上，將濕塗布量為10mL/m2以下之光學功能層進行薄層塗布之步驟的光學薄膜之製造方法中，記載有具備在塗布光學功能層前，將高度為10μm以上之異物自透明支撐體上或底塗層上除去之步驟的光學薄膜之製造方法。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2008-180905號公報
發明概要
然而，本發明人進行檢討之結果，上述專利文獻1所記載之技術，係在異物已存在於透明支撐體上等的狀態下，嘗試藉由壓延處理等將異物壓潰除去者，因此異物之除去精度並不高，微小的異物在除去步驟後依然會殘留。 因此，事實上，上述專利文獻1所記載之技術，尤其難以適用於厚度較薄且即使存在微小異物也會造成外觀缺陷的薄型光學薄膜之製造方法。
本發明係考慮上述實際情形後所完成者，其目的在於提供一種光學薄膜之製造方法，即使光學薄膜為薄型，亦可防止起因於異物及/或氣泡之外觀缺陷產生。
本發明人為了解決前述課題不斷努力檢討的結果，發現在製造包含至少貼合有2張薄膜之積層構造的光學薄膜時，藉由採用特定之塗布方式，於所欲貼合之2張薄膜雙方的貼合面塗布接著劑組成物或黏著劑組成物，可同時實施異物及/或氣泡之除去與接著劑組成物或黏著劑組成物之塗布。本發明係經過如此努力後所得者，並具備下述構成。
亦即本發明係有關於一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜包含積層構造，其係隔著接著劑組成物或黏著劑組成物之硬化物層所構成之接著劑層或黏著劑層，至少貼合有第1薄膜及第2薄膜者，前述光學薄膜之製造方法之特徵在於具有塗布步驟，係使用後計量塗布方式，於前述第1薄膜之貼合面及前述第2薄膜之貼合面雙方塗布前 述接著劑組成物或前述黏著劑組成物，藉此除去異物及/或氣泡。
在貼合2張薄膜、製造具有積層構造之光學薄膜時，一般係於2張薄膜其中一方的薄膜塗布接著劑組成物或黏著劑組成物，且將另一方的薄膜貼合於此進行製造(以下亦稱為「單面塗布方法」)。然而，本發明係於第1薄膜的貼合面及第2薄膜的貼合面雙方塗布接著劑組成物或黏著劑組成物，並採用後計量塗布方式之塗刷方式，在除去異物及/或氣泡的同時實施該塗布。具體而言，乃使用後計量塗布方式，刮取存在於所欲貼合之2張薄膜雙方之貼合面的垃圾或塵埃等異物，亦自2張薄膜雙方之貼合面刮取來自接著劑組成物或黏著劑組成物之膠狀物或凝集物，同時於2張薄膜雙方之貼合面塗布接著劑組成物或黏著劑組成物。其結果，在本發明之光學薄膜之製造方法下，於2張薄膜雙方之貼合面存在有異物的可能性極低。其結果，以本發明之光學薄膜之製造方法而言，可製造防止產生起因於異物之外觀缺陷的光學薄膜。
另一方面，單面塗布方法無法除去存在於未塗布接著劑組成物或黏著劑組成物之薄膜貼合面的異物，因此在積層後形成之接著劑層(或黏著劑層)中殘存異物的可能性變高。而且，在單面塗布方法中，其中一方薄膜的接著劑(或黏著劑)塗布面，係與另一方(不存在接著劑組成物(或黏著劑組成物))的薄膜貼合面直接接觸進行貼合。在此情況下，具有黏性之接著劑組成物(或黏著劑組成物)直接接觸另 一方薄膜之貼合面，因此貼合時氣泡容易進入。反之，本發明的方法係將接著劑組成物(或黏著劑組成物)塗布於第1薄膜之貼合面及第2薄膜之貼合面雙方，因此第1薄膜之接著劑(或黏著劑)塗布面係與第2薄膜之接著劑(或黏著劑)塗布面接觸貼合。亦即，具有黏性之接著劑組成物(或黏著劑組成物)彼此相互重疊貼合，因此貼合時氣泡難以進入，且氣泡容易被排出。從而，本發明的方法與單面塗布方法相比，在氣泡除去效果上亦較優良，因此可製造防止產生起因於氣泡之外觀缺陷的光學薄膜。
另外，本發明中所謂「後計量塗布方式」，係指對液膜施加外力除去過剩液體，獲得預定之塗布膜厚的方式。本發明之光學薄膜之製造方法在施加所述外力於接著劑組成物或黏著劑組成物所構成之液膜時，可刮取存在於貼合面之垃圾或塵埃等異物等。作為後計量塗布方式之具體例，可舉出凹版印刷輥塗布方式、順輥(forward roll)塗布方式、氣動刮刀塗布方式、桿/棒塗布方式等，從異物之除去精度或塗布膜厚之均勻性等觀點來看，本發明中，前述塗布方式以使用凹版印刷輥之凹版印刷輥塗布方式為佳。此外，在本發明中所謂「除去異物及/或氣泡」，係指將異物及氣泡中至少一方或雙方除去。
在上述製造方法中，後計量塗布方式係使前述接著劑組成物或黏著劑組成物循環進行塗布的方式，且宜具備異物除去功能，係藉由塗布將自前述第1薄膜及/或前述第2薄膜混入前述接著劑組成物或黏著劑組成物之異物，自 前述接著劑組成物或黏著劑組成物去除。後計量塗布方式係將接著劑組成物或黏著劑組成物所構成之塗布液塗布於第1薄膜及第2薄膜的貼合面，該塗布液若含有藉由塗布自第1薄膜及/或第2薄膜之貼合面除去的異物，則異物存在於塗布後之第1薄膜及第2薄膜之貼合面的可能性會變高。然而，在所使用之塗布方式具備有異物除去功能、藉由塗布將自前述第1薄膜及/或前述第2薄膜混入前述接著劑組成物或黏著劑組成物之異物自前述接著劑組成物或黏著劑組成物去除的情況下，可顯著減低塗布液中之異物量。從而，可顯著減低異物存在於塗布後之第1薄膜及第2薄膜之貼合面的可能性。
在上述製造方法中，前述凹版印刷輥之旋轉方向，宜與前述第1薄膜及前述第2薄膜之行進方向為逆向。在此情況下，刮取存在於第1薄膜之貼合面及第2薄膜之貼合面的垃圾或塵埃等異物的效果、還有刮取來自接著劑組成物或黏著劑組成物之膠狀物或凝集物的效果將有效提高，可更有效防止最終獲得之光學薄膜的外觀缺陷。
在前述凹版印刷輥的表面，可形成各種圖形，例如可形成蜂巢狀網格圖形、梯形圖形、格子圖形、金字塔圖形或斜線圖形等。為了有效防止最終獲得之光學薄膜產生外觀缺陷，於前述凹版印刷輥表面形成的圖形係以蜂巢狀網格圖形為佳。若為蜂巢狀網格，為了提高經塗布接著劑組成物或黏著劑組成物後之塗布面的面精度，網坑容積宜為1~5cm3/m2，並以2~3cm3/m2為佳。同樣地，為了提高 經塗布接著劑組成物或黏著劑組成物後之塗布面的面精度，輥每英寸之網坑線數係以200~3000線/英寸為佳。此外，相對於前述第1薄膜及前述第2薄膜的行進速度，前述凹版印刷輥的旋轉速度比宜為100~300%。
接著劑層(或黏著劑層)的厚度、還有光學薄膜的總厚度越厚，異物越不容易被發現，愈發難以被當成外觀缺陷問題。另一方面，接著劑層(或黏著劑層)的厚度越薄，還有光學薄膜的總厚度越薄，異物越容易被發現，結果外觀缺陷成為問題的情況便多。然而，由於本發明之光學薄膜之製造方法可製造接著劑層(或黏著劑層)中之異物出現率極低的光學薄膜，因此在光學薄膜中對薄型化之要求特別大之偏光薄膜之製造方法上，具體而言，在前述第1薄膜為透明保護薄膜、前述第2薄膜為偏光件的情況下，本發明之製造方法尤為有用。本發明之製造方法在譬如前述偏光件之厚度為10μm以下的情況下，尤其在製造薄型偏光薄膜的情況下，仍可製造防止在接著劑層(或黏著劑層)中產生起因於異物或氣泡之外觀缺陷的薄型偏光薄膜，故而為佳。
此外，本發明係有關特徵在於藉由前述任一製造方法所製造的光學薄膜、還有使用有前述記載之光學薄膜的影像顯示裝置。
本發明之光學薄膜之製造方法可有效率除去存在於所欲貼合之2張薄膜雙方之貼合面的異物、及存在於接著劑組成物中或黏著劑組成物中的異物，且可防止氣泡混入接著劑層中或黏著劑層中，因此可製造防止產生起因於 異物及/或氣泡之外觀缺陷的光學薄膜。從而，本發明之光學薄膜之製造方法在作為起因於異物之外觀缺陷尤須防範之接著劑層厚度較薄的光學薄膜、還有總厚度較薄的光學薄膜特別是薄型偏光薄膜之製造方法上，尤為有效。
1‧‧‧第1薄膜
2‧‧‧第2薄膜
3‧‧‧接著劑組成物
4‧‧‧凹版印刷輥
5‧‧‧容器
6‧‧‧儲槽
7‧‧‧過濾器
8‧‧‧泵功能
9‧‧‧壓送輥
10‧‧‧凹版印刷輥塗布方式
圖1係本發明之光學薄膜之製造方法的概略圖一例。
圖2係作為本發明所用後計量塗布方式之凹版印刷輥塗布方式的概略圖一例。
用以實施發明之形態
以下參照圖式說明本發明之光學薄膜之製造方法。
本發明之光學薄膜之製造方法具有一塗布步驟，係使用後計量塗布方式，於第1薄膜之貼合面及第2薄膜之貼合面雙方塗布接著劑組成物或黏著劑組成物，同時除去異物。
圖1係表示本發明之光學薄膜之製造方法的概略圖一例，在本實施形態，表示作為後計量塗布方式，使用凹版印刷輥塗布方式，塗布接著劑組成物的例。圖1中，第1薄膜1係在使用凹版印刷輥塗布方式10塗布接著劑組成物3的階段，在圖1中為朝右方進行運送，另一方面，凹版印刷塗布方式10所提供之凹版印刷輥以順時針方向旋轉。亦即，凹版印刷輥的旋轉方向與第1薄膜的行進方向為逆向。 同樣地，在第2薄膜2與凹版印刷輥的關係，凹版印刷輥的旋轉方向與第2薄膜2的行進方向亦為逆向。在此情況下，刮取存在於第1薄膜1之貼合面及第2薄膜2之貼合面的垃圾或塵埃等異物，還有來自接著劑組成物之膠狀物或凝集物的效果係有效提高，可更有效防止最終獲得之光學薄膜的外觀缺陷。
為了有效防止最終獲得之光學薄膜產生外觀缺陷，相對於第1薄膜1及第2薄膜2之行進速度，凹版印刷輥的旋轉速度宜為100~300%，並以150~250%為佳。
圖2係表示作為本發明所用後計量塗布方式之凹版印刷輥塗布方式的概略圖一例，特別是表示使用凹版印刷塗布方式10，於第1薄膜1塗布接著劑組成物3的情形。如圖2所示，若在對第1薄膜1，按壓凹版印刷輥4的同時除去異物，則可更有效除去存在於第1薄膜1之貼合面的垃圾或塵埃等異物，還有來自接著劑組成物的膠狀物或凝集物。
如圖2所示，凹版印刷塗布方式10係至少具備有凹版印刷輥4。在凹版印刷輥的表面，形成有蜂巢狀網格圖形、梯形圖形、格子圖形、金字塔圖形或斜線圖形等凹凸圖形。為了提高接著劑組成物或黏著劑組成物塗布後之塗布面的面精度，以形成蜂巢狀網格圖形為佳，網坑容積宜為1~5cm3/m2，並以2~3cm3/m2為佳。同樣地，為了提高接著劑組成物或黏著劑組成物塗布後之塗布面的面精度，輥每英寸之網坑線數宜為200~3000線/英寸。凹版印刷輥4之凹凸圖形，具有在刮起接著劑組成物(塗布液)3的同時，於 第1薄膜之貼合面塗布接著劑組成物3的功能。在本發明中，為了防止異物混入接著劑組成物3中，接著劑塗布液宜為不暴露在空氣中之密閉系統。
在圖2所示之例中於塗布時，存在於第1薄膜1之貼合面的異物，還有來自接著劑組成物3之膠狀物或凝集物，藉由凹版印刷輥4被刮取，移動至盛裝接著劑組成物3之容器5內，而有再次藉由凹版印刷輥4被塗布至第1薄膜之貼合面的情況。從而，尤其在後計量塗布方式為使接著劑組成物或黏著劑組成物循環進行塗布之方式的情況下，有隨著接著劑組成物3之塗布步驟的經過時間越長，藉由凹版印刷輥4刮取之異物等的積蓄量會增大的疑慮。然而，在凹版印刷塗布方式10具備之異物除去功能、藉由塗布將自第1薄膜及/或第2薄膜混入接著劑組成物或黏著劑組成物之異物自接著劑組成物或黏著劑組成物去除的情況下，存在於進行塗布之接著劑組成物3中之異物等的量可經常保持在極微量乃至於零。從而，在最後，可將異物等在第1薄膜1之貼合面上的出現量減低至極低。在本發明中，作為異物除去功能，可舉出過濾器、蒸餾裝置、離心等。在使用過濾器作為異物除去功能的情況下，如圖2所示，例如可於泵功能8之下游側配置過濾器7。此外，亦可在泵功能8之上游側配置過濾器7，其數量不限。過濾器7之網目尺寸，可根據第1薄膜1及第2薄膜之材質或接著劑組成物3之調配設計等適當變更，但以10μm以下為佳，5μm以下較佳。接著劑組成物3，係如圖2所示使用儲槽6，可使其循環，亦可將藉 由凹版印刷輥4塗布後之接著劑組成物3廢棄。
如圖1所示藉由後計量塗布方式之塗布方式，於第1薄膜1之貼合面及第2薄膜2之貼合面雙方塗布接著劑組成物3後，例如使用壓送輥9使第1薄膜1與第2薄膜2隔著接著劑組成物(接著劑層)貼合。
在連續生產線製造光學薄膜的情況下，第1薄膜及/或第2薄膜之生產線速度，係依據接著劑組成物(或黏著劑組成物)之硬化時間而不同，宜為1~500m/min，較宜為5~300m/min，更宜為10~100m/min。在生產線速度太慢的情況下，缺乏生產性，或者對第1薄膜及/或第2薄膜的損傷太大，無法製造可通過耐久性試驗的光學薄膜。在生產線速度太快的情況下，會有接著劑組成物之硬化不充分，無法獲得目標之接著性的情況。
接著，於以下說明有關藉由本發明之製造方法製造的光學薄膜。該光學薄膜包含積層構造，其係隔著接著劑組成物或黏著劑組成物之硬化物層所構成的接著劑層或黏著劑層，至少貼合有第1薄膜及第2薄膜者。
<接著劑層或黏著劑層>
前述接著劑層或黏著劑層係只要在光學上為透明，便無特別限制，可使用水性、溶劑類、熱熔類、自由基硬化型等各種形態者。在作為光學薄膜，製造透明導電性積層體或偏光薄膜的情況下，適宜為透明硬化型接著劑層。
<透明硬化型接著劑層>
透明硬化型接著劑層之形成，作為接著劑組成物，例 如適合使用自由基硬化型接著劑。作為自由基硬化型接著劑，可例示電子束硬化型、紫外線硬化型等活性能量射線硬化型的接著劑。尤其以可在短時間硬化之活性能量射線硬化型為佳，再者以可以低能量硬化之紫外線硬化型接著劑為佳。
作為紫外線硬化型接著劑，大致上可區分為自由基聚合硬化型接著劑與陽離子聚合型接著劑。此外，自由基聚合硬化型接著劑亦可作為熱硬化型接著劑使用。
作為自由基硬化型接著劑之硬化性成分，係可舉出具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。此等硬化性成分，可使用單官能基或二官能基以上之任一者。此外此等硬化性成分，可單獨使用1種，或者可將2種以上組合使用。作為此等硬化性成分，例如適合為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，具體而言例如可舉出，甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、二級丁基(甲基)丙烯酸酯、三級丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(甲基)丙烯酸酯、三級戊基(甲基)丙烯酸酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、正己基(甲基)丙烯酸酯、鯨蠟基(甲基)丙烯酸酯、正辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、正十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基) 丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
此外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，例如可舉出，環烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等)、芳烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，苄基(甲基)丙烯酸酯等)、多環性(甲基)丙烯酸酯(例如，2-異莰基(甲基)丙烯酸酯、2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降莰烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯等)、含羥基(甲基)丙烯酸酯類(例如，羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯)、含烷氧基或苯氧基(甲基)丙烯酸酯類(例如，2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等)、含環氧基(甲基)丙烯酸酯類(例如，環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等)、含鹵素(甲基)丙烯酸酯類(例如，2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯等)、烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。
此外，作為前述以外之具有(甲基)丙烯醯基之化合物，係可舉出羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺等含醯胺基單體等。此外，亦可舉出丙烯醯基嗎福林 等含氮單體等。
此外，作為前述自由基聚合硬化型接著劑之硬化性成分，係可例示具有複數個(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性雙鍵的化合物，該化合物係可作為交聯成分混合至接著劑成分。作為成為如此交聯成分之硬化性成分，係例如，可舉出三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二氧陸圜乙二醇二丙烯酸酯、環氧乙烷改質二甘油四丙烯酸酯、ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHTACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHTACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHTACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等。此外因應必要，可舉出各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、或各種(甲基)丙烯酸酯類單體等。
自由基聚合硬化型接著劑係包含前述硬化性成分，但除了前述成分之外，因應硬化的類型添加自由基聚合起始劑。在將前述接著劑使用為電子束硬化型的情況下，沒有必要特別使前述接著劑含有自由基聚合起始劑，但在使用為紫外線硬化型、熱硬化型的情況下，可使用自由基聚合起始劑。自由基起始劑之使用量係在硬化性成分每100重量份，通常為0.1~10重量份左右，宜為0.5~3重量份。此外，自由基聚合起始劑亦可因應必要，添加以羰基 化合物等為代表之提高基於電子束之硬化速度或感度的光增感劑。光增感劑之使用量係在硬化性成分每100重量份，通常為0.001~10重量份左右，宜為0.01~3重量份。
作為陽離子聚合硬化型接著劑之硬化性成分，係可舉出具有環氧基或氧雜環丁烷基之化合物。具有環氧基之化合物，只要為在分子內至少具有2個環氧基者便無特別限定，可使用一般公知之各種硬化性環氧化合物。作為適宜之環氧化合物，作為例子可舉出在分子內至少具有2個環氧基與至少1個芳香環的化合物，或者在分子內具有至少2個環氧基，且其中至少1個在構成脂環式環之相鄰的2個碳原子間形成的化合物等。
此外，要形成透明硬化型接著劑層，作為水性之硬化型接著劑，例如可例示，乙烯聚合物類、明膠類、乙烯類乳膠類、聚胺甲酸乙酯類、異氰酸酯類、聚酯類、環氧類等。如此之水性接著劑所構成之接著劑層，可能以水溶液之塗布乾燥層等形式形成，在調製其水溶液時，亦可因應必要調配交聯劑或其他添加劑、酸等觸媒。
作為前述水性接著劑，係以使用含乙烯聚合物之接著劑等為佳，作為乙烯聚合物，以聚乙烯醇類樹脂為佳。此外作為聚乙烯醇類樹脂，從提升耐久性的觀點來看以含具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇類樹脂的接著劑為較佳。此外，作為可調配至聚乙烯醇類樹脂的交聯劑，適宜使用至少具有2個與聚乙烯醇類樹脂有反應性之官能基的化合物。例如，可舉出硼酸或硼砂、羧酸化合物、烷基二胺類； 異氰酸酯類；環氧類；單醛類；二醛類；胺基-甲醛樹脂；還有二價金屬、或三價金屬的鹽及其氧化物。
形成前述硬化型接著劑層之接著劑，係亦可為有必要可含有適當添加劑者。作為添加劑的例，可舉出矽烷耦合劑、鈦耦合劑等耦合劑；以環氧乙烷為代表的助黏劑；提升與透明薄膜之可濕性的添加劑、以丙烯醯氧基化合物或烴類(天然、合成樹脂)等為代表之提升機械強度或加工性等的添加劑、紫外線吸收劑、抗老化劑、染料、加工助劑、離子捕集劑、抗氧化劑、賦黏劑、填充劑(金屬化合物填料以外)、可塑劑、調平劑、消泡劑、抗靜電劑、耐熱穩定劑、耐水解作用穩定劑等穩定劑等。
此外，前述透明硬化型接著劑層的厚度宜為0.01~10μm。較佳為0.1~5μm，且0.3~4μm更佳。另外由於來自異物或氣泡之外觀缺陷之於各薄膜層間的高度係一般為(2~5μm左右之)數μm，因此若接著劑層的厚度在2μm以下，則外觀缺陷的問題變得嚴重。然而，本發明之光學薄膜之製造方法可防止產生外觀缺陷，因此在作為接著劑層厚度為2μm以下之光學薄膜之製造方法上特別有用。
前述黏著劑層係自黏著劑形成。作為黏著劑可使用各種黏著劑，例如可舉出橡膠類黏著劑、丙烯酸類黏著劑、聚矽氧類黏著劑、胺甲酸乙酯類黏著劑、乙烯烷基醚類黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮類黏著劑、聚丙烯醯胺類黏著劑、纖維素類黏著劑等。因應前述黏著劑之種類選擇黏著性之基礎聚合物。即使在前述黏著劑中，亦從顯示適宜之 可濕性、凝集性、接著性之黏著特性，在耐候性與耐熱性為優良的觀點來看，適合使用丙烯酸類黏著劑。
自由基聚合硬化型接著劑，係能夠以電子束硬化型、紫外線硬化型的態樣使用。
在電子束硬化型中，電子束的照射條件，係只要為可使上述自由基硬化型接著劑組成物硬化的條件，便可採用任意之適當的條件。例如，電子束照射，加速電壓宜為5kV~300kV，更宜為10kV~250kV。在加速電壓未達5kV的情況下，會有電子束沒有到達接著劑而硬化不足的疑慮，若加速電壓超過300kV，則穿透試料的浸透力會太強，而有對透明保護薄膜或偏光件造成損傷的疑慮。作為照射線量為5~100kGy，更宜為10~75kGy。在照射線量未達5kGy的情況下，接著劑會硬化不足，若超過100kGy，則會對透明保護膜或偏光件造成損傷，產生機械強度之降低或黃變，無法獲得預定之光學特性。
電子束照射，係通常在惰性氣體中進行照射，但若為必要亦可在大氣中或導入些許氧氣的條件下進行。依據透明保護薄膜的材料，藉由適當導入氧氣，故意於電子束最初照射到之透明保護薄膜面產生氧氣阻礙，可防止對透明保護薄膜的損傷，可有效率地僅對接著劑照射電子束。
另一方面，在紫外線硬化型，在使用賦予紫外線吸收能之透明保護薄膜的情況下，由於會吸收較約380nm短波長的光，較380nm短波長的光不會到達活性能量射線硬化型接著劑組成物，因此不會幫助其聚合反應。再者，因 為透明保護薄膜而被吸收之較380nm短波長的光係被變換成熱，透明保護薄膜本身會發熱，成為偏光薄膜之捲曲、皺褶等不良的原因。因此，在本發明採用紫外線硬化型的情況下，以使用不會發出較380nm短波長之光的裝置作為紫外線產生裝置為佳，較具體而言，以波長範圍380~440nm之累計照度與波長範圍250~370nm之累計照度的比為100：0~100：50為佳，100：0~100：40較佳。作為滿足如此累計照度之關係的紫外線，以充入鎵之金屬鹵素燈、發光之波長範圍為380~440nm的LED光源為佳。或者，亦可以低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光為光源，使用帶通過濾器屏蔽較380nm短波長的光後使用。
第1薄膜及/或第2薄膜只要為透明之光學用薄膜便可使用而無特別限制。如前述，接著劑層(或黏著劑層)的厚度、還有光學薄膜的總厚度越厚，異物越不容易被發現，愈發難以被當成外觀缺陷問題。另一方面，接著劑層(或黏著劑層)的厚度越薄，還有光學薄膜的總厚度越薄，異物越容易被發現視認，結果外觀缺陷成為問題的情況便多。然而，本發明之光學薄膜之製造方法可製造接著劑層(或黏著劑層)中之異物出現率極低的光學薄膜，因此在光學薄膜中對薄型化之要求特別大之偏光薄膜之製造方法上，具體而言，在前述第1薄膜為透明保護薄膜、前述第2薄膜為偏光件的情況下，本發明之製造方法尤為有用。本發明之製 造方法在譬如前述偏光件之厚度為10μm以下的情況下，尤其在製造薄型偏光薄膜的情況下，可製造防止在接著劑層(或黏著劑層)中產生起因於異物或氣泡之外觀缺陷的薄型偏光薄膜，故而為佳。
第1薄膜及/或第2薄膜，係亦可在塗布上述活性能量射線硬化型接著劑組成物前，進行表面改質處理。作為具體的處理，可舉出藉由電暈處理、電漿處理、皂化處理進行的處理等。
另外本發明之光學薄膜之製造方法中，第1薄膜與第2薄膜宜隔著由上述自由基聚合硬化型接著劑組成物之硬化物層形成的接著劑層貼合，在第1薄膜與第2薄膜間，可設置易接著層。易接著層例如可藉由具有聚酯骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧類、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各種樹脂形成。此等聚合物樹脂可單獨使用1種，亦可將2種以上組合使用。此外在易接著層之形成亦可添加其他之添加劑。具體而言亦可進一步使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。
易接著層之形成，係將易接著層的形成材於薄膜上，藉由公知技術進行塗布、乾燥的方式進行。易接著層的形成材，係作為考慮乾燥後之厚度、塗布之平滑性而稀釋至適當濃度的溶液，進行一般調整。易接著層在乾燥後的厚度，宜為0.01~5μm，更宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。另外，易接著層可設置複數層，在此情況下， 易接著層之總厚度亦以在上述範圍內為佳。
以下，舉出偏光薄膜作為光學薄膜之例進行說明。包含至少貼合有第1薄膜及第2薄膜之積層構造的偏光薄膜，以圖1為例，係可藉由隔著以接著劑組成物構成之接著劑層貼合第1薄膜1與積層第2薄膜2的方式製造，該第1薄膜1係透明保護薄膜，該積層第2薄膜2係在透明保護薄膜或PET基材等上，視需要隔著接著劑層積層有偏光件者。在本實施形態所示之例，係以積層第2薄膜2之偏光件面為貼合面，並於該貼合面塗布接著劑組成物。
本發明之製造方法可製造已有效防止在接著劑層出現異物的光學薄膜，因此適合用來製造起因於異物之外觀缺陷會成為嚴重問題、尤其是厚度較薄的光學薄膜。從而，第1薄膜及第2薄膜(在本實施形態，第1薄膜為保護薄膜，第2薄膜為PET基材+偏光件之積層薄膜)的厚度，以60μm以下為佳，40μm以下較佳。另外，若偏光薄膜之總厚度為100μm以下，則由於厚度較薄因此起因於接著劑層之異物等外觀缺陷成為問題的情況較多。然而，藉由本發明之製造方法可製造已有效防止在接著劑層出現異物的光學薄膜，因此適用於製造總厚度為100μm以下之薄型偏光薄膜的情況，尤其適用於製造總厚度為50μm以下之薄型偏光薄膜的情況。在本發明製造薄型偏光薄膜的情況下，尤其在製造包含厚度為10μm以下之薄型偏光件之薄型偏光薄膜的情況下，亦可有效防止外觀缺陷的產生。
偏光件係無特別限制，可使用各種類者。作為偏 光件，例如可舉出於聚乙烯醇類薄膜、部分縮醛化聚乙烯醇類薄膜、乙烯‧乙酸乙烯酯共聚物類部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜，吸附碘或二色性染料等二色性材料進行單軸拉伸者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯類定向膜等。即使在此等之中亦以聚乙烯醇類薄膜與碘等二色性物質構成之偏光件為適宜。此等偏光件之厚度並無特別限制，一般而言為80μm左右以下。
將聚乙烯醇類薄膜以碘染色進行單軸拉伸之偏光件，係例如可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液進行染色，並拉伸至原本長度的3~7倍進行製作。亦可因應必要浸漬於硼酸或碘化鉀等之水溶液。再者亦可因應必要於染色前將聚乙烯醇類薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由將聚乙烯醇類薄膜進行水洗除了可洗掉聚乙烯醇類薄膜表面的汙垢或抗結塊劑，亦具有防止因聚乙烯醇類薄膜膨潤造成染色不均等不均勻的效果。拉伸亦可在以碘染色後進行，亦可在染色的同時進行，此外亦可在拉伸之後再以碘進行染色。在硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中亦可進行拉伸。
此外作為偏光件可使用厚度為10μm以下之薄型偏光件。從薄型化的觀點而言該厚度係以1~7μm為佳。如此之薄型偏光件，厚度不均較少、目視性優良且尺寸變化較少，因此耐久性優良，再者作為偏光薄膜之厚度亦具有可謀求薄型化的優點。
作為薄型之偏光件，具代表性者係可舉出日本特開昭51-069644號公報、日本特開2000-338329號公報、 WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460之說明書、或者日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書所記載的薄型偏光件。此等薄型偏光件，可藉由包含將聚乙烯醇類樹脂(以下，亦稱為PVA類樹脂)層與拉伸用樹脂基材以積層體狀態進行拉伸之步驟與進行染色之步驟的製法獲得。只要為此製法，即使PVA類樹脂層較薄，藉由被拉伸用樹脂基材支撐可進行拉伸而不會出現因拉伸造成斷裂等問題。
作為前述薄型偏光件，即使在包含以積層體狀態進行拉伸之步驟與進行染色之步驟的製法中，在可高倍率拉伸並提升偏光性能的方面，以如WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460之說明書、或者日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書所記載之包含在硼酸水溶液中進行拉伸之步驟的製法所獲得者為佳，尤其以藉由在日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書所記載之包含在於硼酸水溶液中進行拉伸前輔助性進行空中拉伸之步驟的製法所獲得者為佳。
在上述之PCT/JP2010/001460之說明書所記載之薄型高功能偏光件，為與樹脂基材一體化進行製膜，使二色性物質定向之PVA類樹脂所構成之厚度7μm以下之薄型高功能偏光件，其係具有單體透射率為42.0%以上及偏光度為99.95%以上的光學特性。
上述薄型高功能偏光件，係可藉由以下方式進行 製造，於至少具有20μm厚度之樹脂基材，藉由塗布及乾燥PVA類樹脂生成PVA類樹脂層，並將生成之PVA類樹脂層浸漬於二色性物質之染色液，使二色性物質被吸附至PVA類樹脂層，藉由將吸附有二色性物質之PVA類樹脂層，在硼酸水溶液中，與樹脂基材一體化以總拉伸倍率成為原本長度5倍以上的方式進行拉伸。
此外，可製造上述薄型高功能偏光件的方法，為製造包含使二色性物質定向之薄型高功能偏光件之積層體薄膜的方法，其係包含以下步驟：生成包含至少具有20μm厚度之樹脂基材，與藉由於樹脂基材之單面將含有PVA類樹脂之水溶液進行塗布及乾燥形成PVA類樹脂層之積層體薄膜的步驟；藉由將包含樹脂基材與形成於樹脂基材單面之PVA類樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於含二色性物質之染色液中，使積層體薄膜所包含之PVA類樹脂層吸附二色性物質的步驟；將包含吸附有二色性物質之PVA類樹脂層的前述積層體薄膜，在硼酸水溶液中，拉伸至總拉伸倍率為原本長度5倍以上的步驟；製造藉由吸附有二色性物質之PVA類樹脂與樹脂基材一體化進行拉伸，於樹脂基材的單面，製膜有由使二色性物質定向之PVA類樹脂層構成，厚度為7μm以下，具有單體透射率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上光學特性之薄型高功能偏光件的積層體薄膜的步驟。
上述之日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書中，薄型偏光件，為使二色性物質 定向之PVA類樹脂所構成之連續波的偏光件，其係使包含被製膜於非晶性酯類熱可塑性樹脂基材上之PVA類樹脂層的積層體藉由空中輔助拉伸與硼酸水中拉伸所構成之2段拉伸步驟進行拉伸，而製成10μm以下之厚度者。如此薄型偏光件，以被製成在令單體透射率為T，偏光度為P時，具有滿足P>-(100.929T-42.4-1)×100(但，T<42.3)，及P≧99.9(但，T≧42.3)條件之光學特性者為佳。
具體而言，前述薄型偏光件，係可藉由包含以下步驟之薄型偏光件之製造方法進行製造。其步驟如下：藉由對被製膜於連續波之非晶性酯類熱可塑性樹脂基材的PVA類樹脂層進行空中高溫拉伸，生成由已定向之PVA類樹脂層構成之拉伸中間生成物的步驟；藉由對拉伸中間生成物吸附二色性物質，生成由將二色性物質(以碘或碘與有機染料的混合物為佳)定向之PVA類樹脂層構成之著色中間生成物的步驟；藉由對著色中間生成物進行硼酸水中拉伸，生成由將二色性物質定向之PVA類樹脂層構成之厚度10μm以下偏光件的步驟。
在此製造方法中，被製膜於非晶性熱可塑性樹脂基材之PVA類樹脂層在空中高溫拉伸與硼酸水中拉伸之總拉伸倍率，係期望為能夠成為5倍以上。為了進行硼酸水中拉伸之硼酸水溶液的液溫，可為60℃以上。在於硼酸水溶液中拉伸著色中間生成物前，期望對著色中間生成物實施不溶解化處理，在其情況下，期望藉由於液溫不超過40℃之硼酸水溶液浸漬前述著色中間生成物的方式進行。上述 非晶性酯類熱可塑性樹脂基材，可為包含將異酞酸進行共聚合之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物、將環己烷二甲醇進行共聚合之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物或其他聚對苯二甲酸乙二酯共聚物的非晶性聚對苯二甲酸乙二酯，並以透明樹脂所構成者為佳，其厚度係可為被製膜之PVA類樹脂層厚度的7倍以上。此外，空中高溫拉伸之拉伸倍率以3.5倍以下為佳，空中高溫拉伸之拉伸溫度宜為PVA類樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言在95℃~150℃的範圍。在以自由端單軸拉伸進行空中高溫拉伸的情況下，被製膜於非晶性酯類熱可塑性樹脂基材上之PVA類樹脂層的總拉伸倍率，以5倍以上且7.5倍以下為佳。又，在以固定端單軸拉伸進行空中高溫拉伸的情況下，被製膜於非晶性酯類熱可塑性樹脂基材上之PVA類樹脂層的總拉伸倍率，以5倍以上且8.5倍以下為佳。
更具體而言，藉由如以下的方法，可製造薄型偏光件。
製作將異酞酸以6莫耳百分率進行共聚合之異酞酸-聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)共聚物之連續波的基材。非晶性PET之玻璃轉移溫度為75℃。以如以下方式製作由連續波之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層構成之積層體。另外，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。
準備200μm厚之非晶性PET基材，與將聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水之4~5%濃度的PVA水溶液。接著，於200μm厚之非晶性PET基材塗布PVA水溶液，並以50~60℃的溫度進行乾燥，獲得於非晶性 PET基材製膜有7μm厚之PVA層的積層體。
將包含7μm厚之PVA層的積層體，經由包含空中輔助拉伸及硼酸水中拉伸的2階段拉伸步驟之以下步驟，製造3μm厚的薄型高功能偏光件。藉由第1階段之空中輔助拉伸步驟，將包含7μm厚PVA層之積層體與非晶性PET基材一體化進行拉伸，生成包含5μm厚之PVA層的拉伸積層體。具體而言，此拉伸積層體，係將包含7μm厚PVA層之積層體放在配備於設定為130℃拉伸溫度環境之烤箱的拉伸裝置，以使拉伸倍率成為1.8倍的方式進行自由端單軸拉伸者。藉由此拉伸處理，將包含拉伸積層體之PVA層，變化為PVA分子被定向之5μm厚的PVA層。
接著，藉由染色步驟，生成使碘被吸附於PVA分子被定向之5μm厚PVA層的著色積層體。具體而言，此著色積層體，係藉由於液溫30℃之包含碘及碘化鉀的染色液，以構成最後生成之高功能偏光件之PVA層的單體透射率成為40~44%的方式，將拉伸積層體浸漬任意時間，使碘吸附於包含拉伸積層體之PVA層者。在本步驟中，染色液係以水為溶劑，將碘濃度定為0.12~0.30重量%之範圍內，碘化鉀濃度定為0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀的濃度比為1：7。另外，碘要溶於水必須要有碘化鉀。更詳細而言，藉由於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液將拉伸積層體浸漬60秒，生成使碘吸附於PVA分子被定向之5μm厚PVA層的著色積層體。
再者，藉由第2階段之硼酸水中拉伸步驟，將著 色積層體與非晶性PET基材一體化進一步進行拉伸，生成包含構成3μm厚高功能偏光件之PVA層的光學薄膜積層體。具體而言，此光學薄膜積層體，係將著色積層體放在配備於設定為包含硼酸與碘化鉀且液溫範圍為60~85℃硼酸水溶液之處理裝置的拉伸裝置，以使拉伸倍率成為3.3倍的方式進行自由端單軸拉伸者。更詳細而言，硼酸水溶液的液溫為65℃。此外，將硼酸含有量定為相對於水100重量份為4重量份，將碘化鉀含有量定為相對於水100重量份為5重量份。在本步驟中，先將經調整碘吸附量之著色積層體浸漬於硼酸水溶液5~10秒。然後，將該著色積層體直接通過位於被配備於處理裝置之拉伸裝置的轉速不同之複數組的輥間，花費30~90秒以使拉伸倍率成為3.3倍的方式進行自由端單軸拉伸。藉由此拉伸處理，使著色積層體所包含之PVA層，變化為所吸附之碘作為聚碘離子錯合物單方向定向成高次之3μm厚的PVA層。此PVA層係構成光學薄膜積層體的高功能偏光件。
雖然非製造光學薄膜積層體所必須之步驟，但以藉由洗淨步驟，將光學薄膜積體層自硼酸水溶液取出，並以碘化鉀水溶液洗淨附著於被製膜於非晶性PET基材之3μm厚PVA層表面的硼酸為佳。然後，將經洗淨之光學薄膜積層體藉由以60℃溫風進行之乾燥步驟進行乾燥。另外洗淨步驟係用以消除硼酸析出等外觀缺陷的步驟。
同樣非製造光學薄膜積層體所必須之步驟，但藉由貼合及/或轉印步驟，亦可在將接著劑塗布至被製膜於非 晶性PET基材之3μm厚PVA層表面的同時，於貼合80μm厚三乙醯纖維素薄膜後，剝離非晶性PET基材，將3μm厚PVA層轉印至80μm厚的三乙醯纖維素薄膜。
[其他步驟]
上述之薄型偏光件之製造方法，係於上述步驟以外，可包含其他步驟。作為其他步驟，例如可舉出不溶解化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率之調節)步驟等。其他步驟係可在任意之適切時機進行。上述不溶解化步驟，具代表性者，為藉由將PVA類樹脂層浸漬於硼酸水溶液的方式進行。藉由實施不溶解化處理，可賦予PVA類樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度，相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)之液溫，宜為20℃~50℃。不溶解化步驟，宜為在製作積層體後，染色步驟或水中拉伸步驟前進行。上述交聯步驟，具代表性者，為藉由將PVA類樹脂層浸漬於硼酸水溶液的方式進行。藉由實施交聯處理，可賦予PVA類樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度，相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。此外，在於上述染色步驟後進行交聯步驟的情況下，以進一步調配碘化物為佳。藉由調配碘化物，可抑制被吸附至PVA類樹脂層的碘溶出。碘化物之調配量，相對於水100重量份，宜為1重量份~5重量份。碘化物之具體例如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫，宜為20℃~50℃。交聯步驟宜為在上述第2之硼酸水中拉伸步驟前進行。在適宜之實施形態中，以染色步驟、交聯步驟及第2之硼酸水中拉伸步驟的順序進行。
作為形成設置於上述偏光件單面或雙面之透明保護薄膜的材料，係以透明性、機械強度、熱穩定性、水分屏蔽性、等向性等優良者為佳。例如，可舉出聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯類聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素類聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸類聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈‧苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯類聚合物、聚碳酸酯類聚合物等。此外，作為形成上述透明保護薄膜之聚合物的例亦可舉出聚乙烯、聚丙烯、環類至具有降莰烯構造之聚烯、如乙烯‧丙烯共聚物之聚烯類聚合物；氯乙烯類聚合物；尼龍或芳族聚醯胺等醯胺類聚合物；醯亞胺類聚合物；碸類聚合物；聚醚碸類聚合物；聚醚醚酮類聚合物；聚苯硫醚類聚合物；乙烯醇類聚合物；二氯亞乙烯類聚合物；聚乙烯醇縮丁醛類聚合物；聚芳酯類聚合物；聚甲醛類聚合物；環氧類聚合物；或上述聚合物之摻合物等。在透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意之適切的添加劑。作為添加劑，例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、離型劑、著色抑制劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂的含有量，宜為50~100重量%，較宜為50~99重量%，更宜為60~98重量%，尤宜為70~97重量%。在透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含有量為50重量%以下的情況下，會有熱可塑性樹脂無法充分表現原本具有之高透明性等的疑慮。
此外，作為透明保護薄膜，係可舉出日本特開 2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜，例如，含有(A)於支鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂；及(B)於支鏈具有取代及/或非取代苯基及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組成物。作為具體例可舉出含有異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物與丙烯腈‧苯乙烯共聚物之樹脂組成物的薄膜。薄膜係可使用樹脂組成物之混合擠製物等構成的薄膜。此等薄膜由於相位差小、光彈性係數小，因此可消除偏光薄膜之翹曲造成之不均等問題，此外由於水蒸氣滲透性小，在增濕耐久性為優良。
透明保護薄膜之厚度，係可適當決定，一般根據強度或可操作性等作業性、薄層性等方面為1~500μm左右。尤以20~80μm為佳，以30~60μm為較佳。
另外，在於偏光件之雙面設置透明保護薄膜的情況下，可使用其表裡為相同聚合物材料構成的透明保護薄膜，亦可使用為不同聚合物材料等構成的透明保護薄膜。
在不接著上述透明保護薄膜之偏光件的面，可設置硬化層、抗反射層、防黏層、擴散層至防眩光層等功能層。另外，上述硬化層、抗反射層、防黏層、擴散層或防眩光層等功能層，除了可設置於透明保護薄膜本身，亦可另外作為不同於透明保護薄膜者進行設置。
本發明之偏光薄膜係於實用時可作為與其他光學層進行積層之光學薄膜使用。關於該光學層並無特別限定，例如可使用1層或2層以上的反射板或半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜等於形成液晶 顯示裝置等時會使用的光學層。尤其，以於本發明之偏光薄膜再積層反射板或半透射板而成之反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜，於偏光薄膜再積層相位差板而成之橢圓形偏光薄膜或圓形偏光薄膜、於偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成之廣視角偏光薄膜、或者於偏光薄膜再積層提高亮度薄膜而成之偏光薄膜為佳。
於偏光薄膜積層上述光學層的光學薄膜，係在液晶顯示裝置等之製造過程以依序分別積層的方式亦可形成，但預先積層而成光學薄膜者，在品質之穩定性或組裝作業等為優良而有提升液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層可使用黏著劑層等適當之接著手段。在接著上述之偏光薄膜或其他光學薄膜時，其等之光軸可因應作為目的之相位差特性等採用適宜之配置角度。
在前述之偏光薄膜或至少積層1層偏光薄膜的光學薄膜，可設置用以接著液晶單元等其他零件的黏著劑層。形成黏著劑層之黏著劑並無特別限定，例如可適宜選擇以丙烯酸類聚合物、聚矽氧類聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟類或橡膠類等聚合物為基礎聚合物者。尤其，適宜使用如同丙烯酸類黏著劑在光學上之透明性為優良，顯示適度之可濕性、凝集性、接著性之黏著特性，在耐候性或耐熱性等為優良者。
黏著劑層亦可作為不同組成或種類等者之重疊層設置於偏光薄膜或光學薄膜的單面或雙面。此外在設置於雙面的情況下，亦可使偏光薄膜或光學薄膜之表裡為不 同組成或種類或厚度等的黏著劑層。黏著劑層之厚度，可因應使用目的或接著力等適當決定，一般為1~500μm，以1~200μm為佳，尤以1~100μm為佳。
對於黏著劑層之露出面，在到實用為止的期間，以防止其被汙染等目的暫時黏貼離型紙以作為保護。藉此，可防止在一般的處理狀態接觸到黏著劑層。作為離型紙，除了上述厚度條件，可使用依照以往標準之適宜者，例如將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、其等之積層體等適宜的薄葉片，因應必要以聚矽氧類或長鏈烷基類、氟類或硫化鉬等適宜之剝離劑進行鍍膜處理者。
本發明之偏光薄膜或光學薄膜係可適宜使用於液晶顯示裝置等各種裝置的形成等。液晶顯示裝置之形成，可依照以往標準進行。亦即液晶顯示裝置係藉由適當組合液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜，及因應必要之照明系統等構成零件並安裝驅動電路等形成，但在本發明中除了使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜之外並無特別限定，可依照以往標準進行。關於液晶單元，亦可使用例如TN型或STN型、π型等任意類型者。
可形成在液晶單元之單側或兩側配置偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置，或在照明系統使用背光源或反射板者等適當的液晶顯示裝置。在其情況下，本發明之偏光薄膜或光學薄膜係可設置於液晶單元之單側或兩側。在於兩側設置偏光薄膜或光學薄膜的情況下，其等可為相 同者，亦可為不同者。再者，在形成液晶顯示裝置時，例如可將擴散板、防眩光層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當零件於適當位置配置1層或2層以上。
[實施例]
以下，記載本發明之實施例，但本發明之實施形態不被此等所限定。另外，組成物中之「重量份」，係指將組成物之全量當成100重量份時的量。
(1)接著劑組成物之調整
<活性能量射線硬化型接著劑組成物之調整>
將HEAA(羥乙基丙烯醯胺)[興人公司製]38.5重量份、ARONIX M-220(三丙二醇二丙烯酸酯)[東亞合成公司製]20.0重量份、ACMO(丙烯醯基嗎福林)[興人公司製]38.5重量份、KAYACURE DETX-S(二乙基硫雜酮，diethyl thioxanthone)[日本化藥公司製]1.5重量份、IRGACURE907(2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-嗎福林基丙烷-1-酮)[BASF公司製]1.5重量份進行混合並以50℃攪拌1小時獲得活性能量射線硬化型接著劑。
<聚乙烯醇類接著劑組成物之調整>
相對於具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇類樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳百分率，乙醯乙醯化度：5莫耳百分率)100份，將羥甲基三聚氰胺50份，在30℃的溫度條件下溶解於純水，調整為固形物濃度被調整為3.7%的水溶液。相對於前述水溶液100份，加入膠態氧化鋁(平均粒 子徑15nm，固形物濃度10%，帶正電)18份調整接著劑水溶液。
<有機溶劑類接著劑組成物>
使用CEMEDINE198L(Cemedine公司製)。
(2)薄型偏光件之製作
為了製作薄型偏光件，首先，將於非晶性PET基材製膜有24μm厚PVA層之積層體藉由拉伸溫度130℃之空中輔助拉伸生成拉伸積層體，接著，將拉伸積層體藉由染色生成著色積層體，並進一步將著色積層體藉由拉伸溫度65℃之硼酸水中拉伸，生成包含以使總拉伸倍率成為5.94倍的方式與非晶性PET基材一體化進行拉伸之10μm厚PVA層的光學薄膜積層體。藉由如此之2階段拉伸使被製膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子被定向成高次，構成藉由染色吸附之碘作為聚碘離子錯合物單方向定向成高次的薄型偏光件，可生成包含厚度5μm之PVA層的光學薄膜積層體(第2薄膜(總厚度40μm))。
作為第1薄膜，使用具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸樹脂所構成之透明保護薄膜(厚度40μm)。
實施例1
在圖1、2所示之生產線，使用具備凹版印刷輥4之凹版印刷塗布方式10(MCD塗布機(富士機械公司製)(網坑形狀：蜂巢狀網格圖形，凹版印刷輥之網坑線數：1000條/英寸，旋轉速度比140%)，藉由於第1薄膜1之貼合面及第2薄膜2之貼合面雙方塗布接著劑組成物3，在除去異物及氣泡 的同時製造偏光薄膜。PET基材及薄型偏光件所構成之第2薄膜2，以使薄型偏光件面成為貼合面的方式，塗布接著劑組成物3。另外，接著劑組成物3，以使乾燥後之接著劑層厚度成為1μm的方式塗布於第1薄膜及第2薄膜。作為凹版印刷輥塗布方式10，使用具備圖2所示之異物除去功能(使用過濾器之異物除去方法)者。
<活性能量射線>
通過圖1所示之生產線後，作為活性能量射線，使用紫外線(鎵金屬鹵素燈)照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製Light HAMMER10燈泡：V燈泡最大照度：1600mW/cm2，累計照射量：1000/mJ/cm2(波長380~440nm)，使接著劑組成物3硬化，製造光學薄膜。另外，紫外線之照度，使用Solatell公司製之Sola-Check系統進行測定。
實施例2~9，比較例1~6
除了將第1薄膜及第2薄膜貼合之接著劑組成物的種類、有無對第1薄膜及/或第2薄膜塗布接著劑組成物、後計量塗布方式的種類、凹版印刷輥表面之形成圖形變更為記載於表1者以外，藉由與實施例1相同的方法製造光學薄膜。在棒塗塗布方式及氣動刮刀塗布方式，分別使用市售之塗布裝置。
<接著劑中之異物數的計算方法>
藉由使用目視檢查與自動檢查裝置之反射檢查，計算在偏光薄膜之接著劑層中的外觀缺陷數(來自異物及來自 (貼合)氣泡之外觀缺陷數(個/m2))。將結果表示於表1。
[表1]
1‧‧‧第1薄膜
2‧‧‧第2薄膜
3‧‧‧接著劑組成物
9‧‧‧壓送輥
10‧‧‧凹版印刷輥塗布方式

Claims (10)

  1. 一種光學薄膜之製造方法，該光學薄膜包含積層構造，其係隔著接著劑組成物或黏著劑組成物之硬化物層所構成之接著劑層或黏著劑層，至少貼合有第1薄膜及第2薄膜者；前述光學薄膜之製造方法之特徵在於：具有塗布步驟，係使用後計量塗布方式，於前述第1薄膜之貼合面及前述第2薄膜之貼合面雙方塗布前述接著劑組成物或前述黏著劑組成物，藉此除去異物、氣泡，或者異物及氣泡。
  2. 如請求項1之光學薄膜之製造方法，其中該後計量塗布方式係使前述接著劑組成物或黏著劑組成物循環進行塗布的方式，並具備異物除去功能，該功能係藉由塗布將自前述第1薄膜、前述第2薄膜，或者前述第1薄膜及前述第2薄膜混入前述接著劑組成物或黏著劑組成物的異物，自前述接著劑組成物或黏著劑組成物去除。
  3. 如請求項1之光學薄膜之製造方法，其中前述塗布方式係使用凹版印刷輥之凹版印刷輥塗布方式。
  4. 如請求項3之光學薄膜之製造方法，其中前述凹版印刷輥之旋轉方向與前述第1薄膜及前述第2薄膜之行進方向為逆向。
  5. 如請求項3之光學薄膜之製造方法，其中於前述凹版印刷輥之表面形成的圖形係蜂巢式網格圖形。
  6. 如請求項3之光學薄膜之製造方法，其中相對於前述第1 薄膜及前述第2薄膜之行進速度，前述凹版印刷輥的旋轉速度比係100~300%。
  7. 如請求項1~6中任一項之光學薄膜之製造方法，其中前述第1薄膜係透明保護薄膜，前述第2薄膜係偏光件。
  8. 如請求項7之光學薄膜之製造方法，其中前述偏光件之厚度係10μm以下。
  9. 一種光學薄膜，其係藉由請求項1~8中任一項之製造方法製造者。
  10. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有如請求項9之光學薄膜。
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