TWI584085B - 光阻移除裝置及使用其的光阻移除方法 - Google Patents

Description

光阻移除裝置及使用其的光阻移除方法 【對相關申請之交叉參考】

本申請案主張2014年11月18日在韓國智慧財產局申請的韓國專利申請案第10-2014-0161179號的優先權權益，其全部內容以引用的方式併入本文中。

本發明是關於一種光阻移除裝置及一種使用所述光阻移除裝置的光阻移除方法。更具體而言，本發明是關於一種能夠防止由用於移除光阻的剝離劑的蒸發引起的損耗(此情形減小用於移除光阻的剝離劑的量)並維持用於移除光阻的剝離劑的剝離能力的光阻移除裝置；且是關於一種使用所述光阻移除裝置的光阻移除方法。

液晶顯示器件的微電路或半導體積體電路的製造製程包 括以下若干步驟：在基板上形成多種下部膜，諸如由鋁、鋁合金、銅、銅合金、鉬或鉬合金製成的導電金屬膜，或絕緣膜，諸如氧化矽膜、氮化矽膜或丙烯醯基絕緣膜；在此下部膜上均勻地塗佈光阻；視情況使所塗佈光阻曝光及顯影以形成光阻圖案；以及使用光阻圖案作為罩幕來圖案化下部膜。

在這些圖案化步驟之後，進行移除下部膜上剩餘之光阻的製程。為此目的，使用用於移除光阻的剝離劑。

一般而言，歸因於在使用用於移除光阻的剝離劑來移除形成於基板上的光阻的製程期間的溫度條件及其類似者，光阻經蒸發並產生煙霧，且因此存在如下問題：用於移除光阻的剝離劑的量經減小，且因此用於移除光阻必要的剝離劑的總量增加。

詳言之，在用於移除水性光阻的剝離劑的狀況下，存在水的蒸發量大的限制，因此減小了剝離劑的剝離能力。

因此，需要開發一種能夠防止用於移除光阻的剝離劑由蒸發引起的損耗(此情形減小用於移除光阻的剝離劑的量)並維持用於移除光阻的剝離劑的剝離能力的光阻移除裝置；及一種使用所述光阻移除裝置的光阻移除方法。

本發明的目標為提供一種光阻移除裝置，其能夠防止用於移除光阻的剝離劑由蒸發引起的損耗，此情形減小用於移除光阻的剝離劑的量；且能夠維持用於移除光阻的剝離劑的剝離能力。

本發明的另一目標為提供一種使用上述光阻移除裝置的光阻移除方法。

在本發明中，提供一種光阻移除裝置，其包含：剝離腔室，所述剝離腔室包含用於移除光阻的剝離劑儲存槽、用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件、用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑於基板移動器件上的剝離劑噴灑器，及用於將用於移除光阻的剝離劑自儲存槽轉移至剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件；冷卻器件，其位於剝離腔室的頂部處且冷卻在剝離腔室中蒸發的材料；以及輸送器件，其用於輸送在冷卻器件中冷卻的材料至剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。

在本發明中，提供一種使用上述光阻移除裝置的光阻移除方法。

下文中，將詳細地描述根據本發明的特定實施例的光阻移除裝置及光阻移除方法。

1‧‧‧剝離腔室

2‧‧‧剝離劑噴灑器

3‧‧‧基板移動器件

4‧‧‧用於移除光阻的剝離劑儲存槽

5‧‧‧泵

6‧‧‧轉移管線

7‧‧‧冷卻器件

8‧‧‧第一流動速率控制閥

9‧‧‧輸送器件

10‧‧‧輸送器件

11‧‧‧第二流動速率控制閥

12‧‧‧排泄器件

13‧‧‧第四管道

14‧‧‧廢液槽

15‧‧‧管道

16‧‧‧剝離劑轉移器件

17‧‧‧過濾器件

圖1為說明用於實例中的光阻移除裝置的結構的示意圖。

圖2為說明用於比較性實例中的光阻移除裝置的結構的示意圖。

根據本發明的一個實施例，提供一種光阻移除裝置，其包含：剝離腔室1，其包含用於移除光阻的剝離劑儲存槽4、用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件3、用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑至基板移動器件上的剝離劑噴灑器2以及用於將用於移除光阻的剝離劑自儲存槽轉移至剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件16；冷卻器件7，其用於冷卻在剝離腔室中蒸發的材料；轉移管線6，其用於將在剝離腔室中蒸發的材料轉移至冷卻器件；以及輸送器件，其用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。

本發明人經由大量實驗發現，當使用上述特定光阻移除裝置時，由於在剝離製程中產生的蒸發材料經冷卻，且接著與用於移除光阻的剝離劑再次混合，因此有可能防止用於移除光阻的剝離劑由蒸發引起的損耗，且因此減小移除光阻必要的剝離劑的量。已基於此發現完成本發明。

詳言之，光阻移除裝置可包含輸送器件，其用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。

因此，光阻移除裝置可防止用於移除光阻的剝離劑由蒸發引起的損耗，其減小用於移除光阻的剝離劑的量。輸送器件的特定實例不特別受限，且可無限制地使用具有多種形狀、長度、直徑及其類似者的管道。

以上光阻移除裝置可包含用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離劑儲存槽4的輸送器件9，或用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離腔室1的輸送器件10。

用於輸送至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4的輸送器件9及用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離腔室1的輸送器件10分別連接至分離冷卻器件，或可藉由一個管道組合地連接至冷卻器件。

此外，用於輸送在冷卻器件中冷卻的材料至用於移除光阻的剝離劑儲存槽的輸送器件9可在用於移除光阻的剝離劑儲存槽4的高度的大於50%或55%至100%或者60%至95%的位置處連接。

若用於輸送在冷卻器件中冷卻的材料至用於移除光阻的剝離劑儲存槽的輸送器件9連接至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4所在的位置低於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4的高度的50%以下，則包含於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中的剝離劑可流回至用於輸送在冷卻器件中冷卻的材料至用於移除光阻的剝離劑儲存槽的輸送器件9。

用於輸送在冷卻器件中冷卻的材料至剝離腔室的輸送器件10可在如下兩者之間的位置處連接：用於移除光阻的剝離劑儲存槽4的高度，及用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件3的高度。

因此，由於用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離腔室的輸送器件10可連接於用於移除光阻的剝離劑儲存槽的高度與用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件的高度之間的位置處，因此自冷卻器件排出的材料可移動至用於移除光阻的剝離劑儲存槽而不會因為基板轉移管線影響基板移動。

光阻移除裝置可包含閥8，其可調整輸送器件的開啟及關 斷，所述輸送器件用於將在冷卻器件中冷卻的材料輸送至剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。術語「開啟及關斷」指使用閥8開啟並關斷輸送器件。

當輸送器件開啟時，在冷卻器件中冷卻的材料可經輸送至剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。當關斷輸送器件時，在冷卻器件中冷卻的材料可經輸送至隨後描述的廢液槽14而非剝離劑儲存槽或用於移除光阻的剝離腔室。

另外，光阻移除裝置可包含：剝離腔室1，其包含用於移除光阻的剝離劑儲存槽4；基板移動器件3，其用於移動光阻形成於表面上的基板；剝離劑噴灑器2，其用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑至基板移動器件上；以及剝離劑轉移器件16，其用於將用於光阻移除的剝離劑自儲存槽轉移至剝離劑噴灑器。

包含於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中的用於移除光阻的剝離劑並不受限於特定類型，且可無限制地使用具有作為用於移除光阻的剝離劑的功能的任一組合物。

舉例而言，可使用38wt%的蒸餾水、10wt%的(1-腔基)-異丙醇(AIP)、10wt%的N-甲基甲醯胺(NMF)、41.9wt%的二乙二醇單丁醚(BDG)及0.1wt%的2,2'[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞胺基]雙乙醇的混合物。

用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件3的實例並不特別受限。舉例而言，可使用帶式輸送器及其類似者。基板移動器件可在平行於水平面的方向上位於剝離腔室1的內部。

在用於移動光阻形成於表面上的基板的方法的實例中，光阻形成於表面上的基板置放於基板移動器件3上，從而允許在 平行於水平面的方向上沿著基板移動器件3移動基板。

用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑至基板移動器件上的剝離劑噴灑器2的實例並不特別受限，而可使用例如是具有80個孔的噴嘴，具體言之，家用噴嘴、針形噴嘴、節流針形噴嘴、扁平針形噴嘴及其類似者。

用於噴灑用於移除光阻的剝離劑的方法的實例可包含在0.01MPa至0.9MPa的壓力下在30℃至50℃的溫度下經由剝離劑噴灑器2噴灑用於移除光阻的剝離劑的方法。

具體言之，用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件3位於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4的頂部處，且用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑至基板移動器件上的剝離劑噴灑器2可位於基板移動器件的頂部處。術語「頂部」指基於水平面的較高位置。

因此，用於移除光阻的剝離劑自用於噴灑剝離劑的剝離劑噴灑器2噴灑至位於最高點處的基板移動器件的頂部，且經噴灑的剝離劑可接觸光阻形成於表面上的基板。

另外，與光阻形成於表面上的基板接觸的用於移除光阻的剝離劑可移動至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中。

具體言之，排泄器件12可更包含於基板移動器件3與用於移除光阻的剝離劑儲存槽4之間。

歸因於包含排泄器件12，可收集噴灑於基板上用於移除光阻的剝離劑，且接著將其引入至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中。

剝離腔室1可包含剝離劑轉移器件16，其用於將用於移 除光阻的剝離劑自儲存槽轉移至剝離劑噴灑器。剝離劑轉移器件16的實例並不特別受限，且可不限制地使用具有多種形狀、長度、直徑及其類似者的管道。

用於自所述儲存槽轉移用於移除光阻的剝離劑至所述剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件16可更包含過濾器件17。

歸因於包含過濾器件17，可藉由移除外來材料來維持用於移除光阻的剝離劑的品質及效能，所述外來材料可包含於在用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中包含的用於移除光阻的剝離劑中。過濾器件17的實例並不特別受限，而是(例如)可使用過濾器。

過濾器的材料亦不特別受限，且可使用諸如聚乙烯或聚丙烯的聚合物樹脂或諸如聚偏二氟乙烯的鐵氟龍基樹脂。包含於過濾器中的孔的直徑可為0.1μm至300μm。過濾器的大小並不特別受限，且可使用具有各種大小的過濾器。

另外，用於自儲存槽轉移用於移除光阻的剝離劑至剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件16可包含泵5。

如上文所描述，由於用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑於基板轉移管線的頂部上的剝離劑噴灑器2位於比用於移除光阻的剝離劑儲存槽4高的部分處，因此用於將用於移除光阻的剝離劑轉移至剝離劑噴灑器以便自用於移除光阻的剝離劑儲存槽4轉移至剝離劑噴灑器2的剝離劑轉移器件16可更包含泵5，所述剝離劑噴灑器2用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑於基板轉移管線的頂部上。

具體言之，在以上儲存槽中，用於將用於移除光阻的剝離劑轉移至剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件16可連接至用於噴灑用 於移除光阻的剝離劑的剝離劑噴灑器2及用於移除光阻的剝離劑儲存槽4。

另外，光阻移除裝置可包含冷卻器件7，其位於剝離腔室的頂部處且冷卻剝離腔室中蒸發的材料。

冷卻器件7可經由冷卻使在光阻移除製程期間由蒸發損耗的材料液化，此情形減小對於移除光阻必要的剝離劑的量。

冷卻器件7可例如包含冷凝器及其類似者。在冷卻器件中，冷凝可在-10℃至50℃、-8℃至30℃或-5℃至10℃的溫度下由致冷劑進行。

致冷劑為致冷循環中的工作流體，且指自低溫對象獲取熱並將熱轉移至高溫對象的媒體，且可無限制地使用廣泛地用於此領域中的多種致冷劑。

冷卻器件7可位於剝離腔室的頂部上。術語「頂部」指基於水平面在較高位置處的位置。即，冷卻器件7的高度可高於剝離腔室1的高度。

在剝離腔室1中進行剝離製程的過程中，包含於用於移除光阻的剝離劑中的一部分組分可歸因於剝離腔室1的內部溫度而蒸發。

同時，為了防止剝離劑歸因於經蒸發組分的損耗，收集經蒸發的組分。為了經由冷卻器件來液化並恢復所收集的組分，冷卻器件可位於比剝離腔室高的點處。

此外，本發明的裝置可更包含用於儲存廢棄的用於移除光阻的剝離劑的廢液槽14。

廢棄的用於移除光阻的剝離劑可包含：在用於移除光阻 的剝離劑於剝離製程期間產生的外來材料；歸因於歷時長時間儲存於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中而改變性質的用於移除光阻的剝離劑；在過濾器件17中過濾的外來材料；及其類似者。

廢液槽14的位置並不特別受限，且其較佳地可位於剝離腔室1的底部處。

廢棄的用於移除光阻的剝離劑可直接自剝離腔室1轉移，或冷卻器件7處冷卻的材料可被轉移至廢液槽14。

在廢棄的用於移除光阻的剝離劑直接自剝離腔室1轉移的狀況下，轉移可經由管道13進行。

另外，在冷卻器件中冷卻的材料經轉移至廢液槽的狀況下，所述材料可經由包含閥11的管道15轉移，所述閥可調整管道15的開啟及關斷。

另一方面，根據本發明的其他實施例，可提供使用光阻移除裝置的光阻移除方法。

具體言之，光阻移除方法可包含：將用於移除光阻的剝離劑噴灑至光阻形成於表面上的基板上的步驟；收集在噴灑期間產生的氣體且接著藉由冷卻器件冷卻所述氣體的步驟；以及自用於移除光阻的剝離劑儲存槽恢復經噴灑用於移除光阻的剝離劑及經冷卻材料的步驟。

光阻移除方法可包含將用於移除光阻的剝離劑噴灑於光阻形成於表面上的基板上的步驟。

噴灑方法的實例並不特別受限，且例如可使用如下方法：例如使用家用噴嘴、針形噴嘴、節流針形噴嘴、扁平針形噴嘴及其類似者在0.01MPa至0.9MPa的壓力下在30℃至50℃的溫度下 噴灑用於移除光阻的剝離劑。

在將用於移除光阻的剝離劑噴灑於光阻形成於表面上的基板上的步驟中，用於移除光阻的剝離劑的溫度可為自40℃至60℃。

當用於移除光阻的剝離劑的溫度低於40℃時，剝離能力可能被減低。當用於移除光阻的剝離劑的溫度大於60℃時，存在可燃性的風險，且因此可使用性可能被減小。

用於移除光阻的剝離劑的特定類型並不特別受限，且可不限制地使用具有用於移除光阻功能的剝離劑的任何類型組合物。

在將用於移除光阻的剝離劑噴灑於光阻形成於表面上的基板上的步驟之前，可更包含在過濾器件中對用於移除光阻的剝離劑進行過濾的步驟。

因此，可藉由移除外來材料來維持用於移除光阻的經噴灑剝離劑的品質及效能，所述外來材料可包含於在用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中包含的用於移除光阻的剝離劑中。

過濾步驟的實例並不特別受限。舉例而言，過濾可經由包含於剝離劑轉移器件16中的過濾器件17執行，所述剝離劑轉移器件16用於將用於移除光阻的剝離劑自儲存槽轉移至剝離劑噴灑器。過濾器件17的描述包含於實施例的詳細描述中。

另外，光阻移除方法可包含收集並冷卻在噴灑同時產生的氣體的步驟。

如上文所描述，若用於移除光阻的剝離劑的溫度為自40℃至60℃，則包含於用於移除光阻的剝離劑中的一部分組分可經氣化。

光阻移除方法可包含收集並冷卻在噴灑期間產生的氣體 的步驟，因此使歸因於剝離製程中蒸發損耗的用於移除光阻的剝離劑的量最小化。

具體言之，於收集在噴灑期間產生的氣體且接著用冷卻器件冷卻所收集氣體的步驟中，在噴灑期間產生的氣體的收集可藉由以下的操作方法來進行：經由管道(轉移管線6)連接根據一個實施例的剝離器件中的剝離腔室1與位於剝離腔室的頂部處的冷卻器件7來轉移氣體。

此外，可使用一個實施例的冷卻器件7藉由冷凝方法在-10℃至50℃、-8℃至30℃或-5℃至10℃的溫度下執行冷卻。冷卻器件7的描述包含於以上實施例的詳細描述中。

又，其可包含藉由用於移除光阻的剝離劑儲存槽恢復用於移除光阻的經噴灑剝離劑及經冷卻材料的步驟。

因此，用於移除光阻的剝離劑的歸因於剝離製程中的蒸發損耗的量可經最小化，且因此用於移除光阻必要的剝離劑的量可減小，且用於移除光阻的剝離劑的剝離能力可得以維持。

經冷卻材料的實例並不特別受限。舉例而言，可包含水或有機化合物。

有機化合物的實例並不特別受限。舉例而言，可使用包含於用於移除光阻的剝離劑中的所有組分，諸如胺、醯胺、伸烷基二醇單烷基醚及其類似者。

藉由用於移除光阻的剝離劑儲存槽恢復經噴灑的用於移除光阻的剝離劑的方法的實例並不特別受限。舉例而言，此情形可藉由如下方法來進行：使用位於實施例的裝置的基板移動器件3的底部處的排泄器件12將剝離劑轉移至用於移除光阻的剝離劑儲存 槽4。

用於恢復經冷卻材料的方法的實例並不特別受限。舉例而言，根據實施例，此情形可藉由如下方法來進行：冷卻器件7及剝離腔室1或用於移除光阻的剝離劑儲存槽4經由管道(輸送器件9)連接，且開啟閥8。

在自剝離劑儲存槽恢復經噴灑的用於移除光阻的剝離劑及經冷卻材料的步驟之後，可更包含允許包含於儲存槽中的用於移除光阻的剝離劑處理另一基板的回收步驟。

若包含回收步驟，則用於移除光阻的剝離劑的某量可使用數十次而不使用新的用於移除光阻的剝離劑，因此減小對於移除光阻必要的剝離劑的量。

在光阻移除方法中，藉由以下式1獲得的用於移除光阻的剝離劑的保留率可大於90%，或為自92%至99%。

[式1]用於移除光阻的剝離劑的保留率(%)=(用於移除光阻的剝離劑在移除之後的質量/用於移除光阻的剝離劑在移除之前的質量)×100。

具體言之，移除之後的用於移除光阻的剝離劑是指根據其他實施例的光阻移除方法製備的包含於用於移除光阻的剝離劑儲存槽中的用於移除光阻的剝離劑，所述光阻移除方法包含在移除之前噴灑用於移除光阻的剝離劑，收集並冷卻在噴灑期間產生的氣體，及恢復經噴灑的用於移除光阻的剝離劑及經冷卻材料。

因此，光阻移除方法可顯著地減小用於移除光阻必要的剝離劑的量。

當藉由以上式1獲得的用於移除光阻的剝離劑的保留率低於90%時，用於移除光阻的必要的剝離劑的量可藉由引入額外量的用於移除光阻的剝離劑來增加。

具體言之，參看圖1，使用光阻移除裝置的光阻移除方法的一個實例將描述如下。

儲存於用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中的用於移除光阻的剝離劑由泵5沿著第六管道(剝離劑轉移器件16)轉移，並經由過濾器件17過濾。接著，經由剝離劑噴灑器2將經過濾的剝離劑噴灑於位於剝離腔室1中的基板移動器件3上的基板上，藉此進行移除製程。

在移除製程中，在包含於用於移除光阻的剝離劑中的材料當中，經蒸發材料經由第一管道(轉移管線6)自剝離腔室1流動至冷卻器件7中，且接著在冷卻器件7中進行冷卻。

在剝離腔室1中，已完成移除製程的用於移除光阻的剝離劑經由排泄器件12恢復至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中。第一流動速率控制閥8經開啟，且接著在冷卻器件7中冷卻的材料沿著第二管道(輸送器件9)經轉移至用於移除光阻的剝離劑儲存槽4，或沿著第三管道(輸送器件10)轉移至剝離腔室1。此時，關閉第二流動速率控制閥11。接著，再次進行移除製程。

廢棄的光阻剝離劑或在用於移除光阻的剝離劑儲存槽4中或過濾器件17中產生的外來材料經由第四管道13轉移至廢液槽14。

根據本發明，提供如下兩者：一種光阻移除裝置，其能夠防止由用於移除光阻的剝離劑的蒸發引起的損耗(此情形減小用 於移除光阻之剝離劑的量)，並能夠維持用於移除光阻的剝離劑的剝離能力；以及一種使用所述光阻移除裝置的光阻移除方法。

在下文中，將參考以下實例詳細地解釋本發明。然而，這些實例僅為了說明本發明概念，且本發明概念之範疇不限於此。

<製備實例：用於移除光阻的剝離劑的製備>

混合38wt%的蒸餾水、10wt%的(1-胺基)-異丙醇(AIP)、10wt%的N-甲基甲醯胺(NMF)、41.9wt%的二乙二醇單丁醚(BDG)及0.1wt%的2,2'-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞腔基]雙乙醇以製備用於移除光阻的剝離劑。

<實例：光阻移除方法>

如圖1中所展示，在製備實例中獲得的用於移除光阻的剝離劑置放於剝離腔室的用於移除光阻的剝離劑儲存槽中，使用泵來拉動至剝離劑噴灑器嘴，並在40℃下噴灑至剝離腔室上歷時24小時。

在噴灑製程期間蒸發的材料經由管道移動至冷卻器件，並冷卻至25℃的溫度。

經由用於移除光阻的管道將經冷卻材料注入於剝離劑儲存容器中。

<比較性實例：光阻移除方法>

如圖2中所展示，以與實例中相同的方式進行移除，唯經冷卻材料經由管道注入至廢液容器中外。

<實驗實例：實例及比較性實例的光阻移除效率的量測>

實例及比較性實例的光阻移除方法的效率以如下方法量測，且結果展示於以下表1中。

1.含水量(wt%)

在實例及比較性實例的光阻移除方法中，每6小時收集一次包含於用於移除光阻的剝離劑儲存容器中的用於移除光阻的剝離劑的特定量，且根據卡爾費歇爾(Karl Fischcr)水判定方法來量測含水量。

2.用於移除光阻的剝離劑的保留率(%)

在實例及比較性實例的光阻移除方法中，每6小時量測一次包含於用於移除光阻的剝離劑儲存容器中的用於移除光阻的剝離劑的質量，且根據以下式1來獲得用於移除光阻的剝離劑的保留率。

[式1]用於移除光阻的剝離劑的保留率(%)=(用於移除光阻的剝離劑在移除之後的質量/用於移除光阻的剝離劑在移除之前的質量)×100

如表1中所展示，對於實例的光阻移除方法，包含於用於移除光阻的剝離劑中的含水量為自38wt%至33.02wt%，其減小達約5wt%，而對於比較性實例的光阻移除方法，包含於用於移除光阻的剝離劑中的含水量為自38wt%至18.80wt%，其減小達約 20wt%。因此，可確認，相較於比較性實例的光阻移除方法，實例的光阻移除方法可顯著地防止含有於用於移除光阻的剝離劑中的水的減少。

另外，在實例的光阻移除方法的狀況下，用於移除光阻的剝離劑的保留率即使在24小時移除之後仍為94.16%，而比較性實例的用於移除光阻的剝離劑的保留率為78.25%。因此，相較於比較性實例，實例中用於移除光阻的剝離劑的保留率經極大改良。

自這些結果可確認，相較於比較性實例的光阻移除方法，實例的光阻移除方法可顯著地防止用於移除光阻的剝離劑的減少。

1‧‧‧剝離腔室

2‧‧‧剝離劑噴灑器

3‧‧‧基板移動器件

4‧‧‧用於移除光阻的剝離劑儲存槽

5‧‧‧泵

6‧‧‧轉移管線

7‧‧‧冷卻器件

8‧‧‧第一流動速率控制閥

9‧‧‧輸送器件

10‧‧‧輸送器件

11‧‧‧第二流動速率控制閥

12‧‧‧排泄器件

13‧‧‧第四管道

14‧‧‧廢液槽

15‧‧‧管道

16‧‧‧剝離劑轉移器件

17‧‧‧過濾器件

Claims (13)

1. 一種光阻移除裝置，包括：剝離腔室，其包含用於移除光阻的剝離劑儲存槽、用於移動光阻形成於表面上的基板的基板移動器件、用於將用於移除光阻的剝離劑噴灑於所述基板移動器件上的剝離劑噴灑器，以及用於將用於移除所述光阻的所述剝離劑自所述剝離劑儲存槽轉移至所述剝離劑噴灑器的剝離劑轉移器件；冷卻器件，其位於所述剝離腔室的頂部處且將在所述剝離腔室中蒸發的材料冷卻；以及輸送器件，其用於輸送在所述冷卻器件中冷卻的所述材料至所述剝離劑儲存槽或用於移除所述光阻的所述剝離腔室。
2. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，其中所述輸送器件在用於移除所述光阻的所述剝離劑儲存槽的高度的大於50%的位置處連接，其中所述輸送器件用於輸送在所述冷卻器件中冷卻的所述材料至所述剝離劑儲存槽。
3. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，其中用於輸送在所述冷卻器件中冷卻的所述材料至所述剝離腔室的所述輸送器件在以下兩者之間的位置處連接：用於移除所述光阻的所述剝離劑儲存槽的高度，以及用於移動所述光阻形成於所述表面上的所述基板的所述基板移動器件的高度。
4. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，更包括閥，所述閥調整所述輸送器件的開啟及關斷，其中所述輸送器件用於輸送在所述冷卻器件中冷卻的所述材料至所述剝離劑儲存槽或用於移除所述光阻的所述剝離腔室。
5. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，其中用於移動所述光阻形成於所述表面上的所述基板的所述基板移動器件位於用於移除所述光阻的所述剝離劑儲存槽的頂部處，且用於噴灑用於移除所述光阻的所述剝離劑的所述剝離劑噴灑器位於所述基板移動器件的頂部處。
6. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，其中用於將用於移除所述光阻的所述剝離劑自所述剝離劑儲存槽轉移至所述剝離劑噴灑器的所述剝離劑轉移器件更包含過濾器件。
7. 如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置，更包括廢液槽，其用於儲存廢棄的用於移除所述光阻的所述剝離劑。
8. 一種光阻移除方法，其使用如申請專利範圍第1項所述的光阻移除裝置而進行，包括：將用於移除所述光阻的所述剝離劑噴灑至所述光阻形成於所述表面上的所述基板上的步驟；收集在噴灑期間產生的氣體且接著藉由所述冷卻器件冷卻所述氣體的步驟；以及自用於移除所述光阻的所述剝離劑儲存槽恢復經噴灑的用於移除所述光阻的所述剝離劑及經冷卻的所述材料的步驟。
9. 如申請專利範圍第8項所述的光阻移除方法，其中在將用於移除所述光阻的所述剝離劑噴灑於所述光阻形成於所述表面上的所述基板上的所述步驟中，用於移除所述光阻的所述剝離劑的溫度為自40℃至60℃。
10. 如申請專利範圍第8項所述的光阻移除方法，其中在將用於移除所述光阻的所述剝離劑噴灑至所述光阻形 成於所述表面上的所述基板上的所述步驟之前，更包含在過濾器件中對用於移除所述光阻的所述剝離劑進行過濾的步驟。
11. 如申請專利範圍第8項所述的光阻移除方法，其中在收集所述噴灑期間產生的所述氣體且接著藉由所述冷卻器件冷卻所述氣體的所述步驟中，在-10℃至50℃的溫度下執行冷卻。
12. 如申請專利範圍第8項所述的光阻移除方法，其中於藉由所述剝離劑儲存槽恢復經噴灑的用於移除所述光阻的所述剝離劑及經冷卻的所述材料的所述步驟之後，更包含用於回收的步驟，使得包含於所述剝離劑儲存槽中的用於移除所述光阻的所述剝離劑處理另一基板。
13. 如申請專利範圍第8項所述的光阻移除方法，其中藉由以下式1獲得的用於移除所述光阻的所述剝離劑的保留率大於90%：[式1]用於移除所述光阻的所述剝離劑的保留率(%)=(用於移除所述光阻的所述剝離劑在移除之後的質量/用於移除所述光阻的所述剝離劑在移除之前的質量)×100。