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TWI580014B - Display devices and electronic machines - Google Patents

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Publication number
TWI580014B
TWI580014B TW103127981A TW103127981A TWI580014B TW I580014 B TWI580014 B TW I580014B TW 103127981 A TW103127981 A TW 103127981A TW 103127981 A TW103127981 A TW 103127981A TW I580014 B TWI580014 B TW I580014B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
region
lyophobic
pixel
display device
pixels
Prior art date
Application number
TW103127981A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201513319A (zh
Inventor
Tsutomu Mori
Yasuhiro Tanaka
Hiroshi Sagawa
Original Assignee
Joled Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Joled Inc filed Critical Joled Inc
Publication of TW201513319A publication Critical patent/TW201513319A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI580014B publication Critical patent/TWI580014B/zh

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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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    • H10K71/191—Deposition of organic active material characterised by provisions for the orientation or alignment of the layer to be deposited
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

顯示裝置及電子機器
本揭示係關於一種有機電致發光(EL，Electroluminescence)顯示裝置等較佳之顯示裝置及具備其之電子機器。
顯示裝置係積層配線、電極、發光層、層間絕緣膜等多層而構成。該等層之材料為無機膜或有機膜等多種。又，有形成於基板上之大致整個面之層，亦有於基板上以期望之圖案形成之層。
作為於基板上之大致整個面形成層之方法之一，有真空蒸鍍法。真空蒸鍍法係特別用於有機EL元件之發光層等有機材料之成膜。具體而言，藉由於蒸鍍源與基板之間夾著具有與基板之大致整體對向之開口之遮罩，而於開口內形成層。
另一方面，於藉由真空蒸鍍法使有機材料圖案成膜之情形時，使用具有與圖案相應之開口之遮罩。因此，存在對準較難且材料之利用效率低等問題，故而摸索轉印法或塗佈法等其他成膜方法。
例如，於欲以塗佈法製作條紋狀之圖案之情形時，於一個頭部，與條紋圖案之間距相應地設置複數個開口部，且使頭部移動。藉此，可利用一次掃描形成複數行之條紋狀之層。此種條紋狀之塗佈法例如適用於使有機EL元件之顏色不同之發光層成膜之情形(例如，參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-256587號公報
然而，於真空蒸鍍法或塗佈法等現有之成膜方法中，因成膜材料之潤濕擴散等，而導致有於較期望區域更寬之區域形成層之虞，於圖案精度提高之方面仍有改善之餘地。
因此，較理想為提供一種可實現高精度之圖案化之顯示裝置及具備其之電子機器。
本揭示之一實施形態之第1顯示裝置包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；且像素區域係於複數個像素之行間區域具有第1疏液區域，周邊區域具有與第1疏液區域連續之第2疏液區域。
於本揭示之一實施形態之第1顯示裝置中，於像素區域，於複數個像素之行間區域設置第1疏液區域，於周邊區域，設置有與第1疏液區域連續之第2疏液區域。因此，於像素區域係藉由第1疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而高精度地規定圖案，於周邊區域係藉由第2疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而高精度地規定圖案。
本揭示之一實施形態之第2顯示裝置包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；且周邊區域係在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側，具有第3疏液區域者。
於本揭示之一實施形態之第2顯示裝置中，於周邊區域，在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側，設置有第3疏液區域。因此，藉由第3疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而高精度地規定圖案。
本揭示之一實施形態之第3顯示裝置包含：像素區域，其具有配 置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；且像素區域係於複數個像素之行間區域具有第1疏液區域，周邊區域包含：第2疏液區域，其與第1疏液區域連續；第3疏液區域，其設置在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍第2疏液區域及第3疏液區域。
於本揭示之一實施形態之第3顯示裝置中，於周邊區域，設置有包圍第2疏液區域及第3疏液區域之槽部。因此，藉由槽部而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而高精度地規定圖案。
本揭示之一實施形態之第1電子機器包含顯示裝置，顯示裝置包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；且像素區域係於複數個像素之行間區域具有第1疏液區域，周邊區域具有與第1疏液區域連續之第2疏液區域。
本揭示之一實施形態之第2電子機器包含顯示裝置，顯示裝置包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；周邊區域係在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側，具有第3疏液區域。
本揭示之一實施形態之第3電子機器包含顯示裝置，顯示裝置包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及像素區域之外側之周邊區域；像素區域係於複數個像素之行間區域具有第1疏液區域，周邊區域包含：第2疏液區域，其與第1疏液區域連續；第3疏液區域，其設置在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍第2疏液區域及第3疏液區域。
於本揭示之一實施形態之第1至第3電子機器中，藉由顯示裝置進行圖像顯示。
根據本揭示之一實施形態之第1顯示裝置、或本揭示之一實施形態之第1電子機器，於像素區域，於複數個像素之行間區域設置第1疏 液區域，於周邊區域，設置與第1疏液區域連續之第2疏液區域。因此，於像素區域係藉由第1疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而可實現高精度之圖案化，於周邊區域係藉由第2疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而可實現高精度之圖案化。
根據本揭示之一實施形態之第2顯示裝置、或本揭示之一實施形態之第2電子機器，於周邊區域，在位於複數個像素之列方向之端之像素行之外側，設置第3疏液區域。因此，藉由第3疏液區域而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而可實現高精度之圖案化。
根據本揭示之一實施形態之第3顯示裝置、或本揭示之一實施形態之第3電子機器，於周邊區域，設置包圍第2疏液區域及第3疏液區域之槽部。因此，藉由槽部而抑制成膜材料之潤濕擴散等，從而可實現高精度之圖案化。
1‧‧‧顯示裝置
1A‧‧‧顯示裝置
1B‧‧‧顯示裝置
1C‧‧‧顯示裝置
1D‧‧‧顯示裝置
2‧‧‧基板/電子設備(顯示裝置)
3‧‧‧像素區域
3A‧‧‧第1疏液區域
3B‧‧‧第1親液區域
4‧‧‧周邊區域
4A‧‧‧第2疏液區域
4B‧‧‧第2親液區域
4C‧‧‧第3疏液區域
4D‧‧‧槽部
4E‧‧‧密封部
4F‧‧‧端子
4G‧‧‧區域
5‧‧‧像素
5A‧‧‧像素行
5AB‧‧‧像素行
5AG‧‧‧像素行
5AR‧‧‧像素行
5ARG‧‧‧像素行
5B‧‧‧藍色像素
5G‧‧‧綠色像素
5R‧‧‧紅色像素
6‧‧‧液珠形成區域
7‧‧‧擴寬部
8‧‧‧凹部
8A‧‧‧底面
8B‧‧‧膜
9‧‧‧可撓性印刷配線基板
10‧‧‧有機EL元件
10B‧‧‧藍色有機EL元件
10G‧‧‧綠色有機EL元件
10R‧‧‧紅色有機EL元件
12‧‧‧陽極電極
13‧‧‧親液層
14‧‧‧疏液層
15‧‧‧有機層
15A‧‧‧電洞注入層
15B‧‧‧電洞輸送層
15C‧‧‧發光層
15CB‧‧‧藍色發光層
15CG‧‧‧綠色發光層
15CR‧‧‧紅色發光層
15CY‧‧‧黃色發光層
15D‧‧‧電子輸送層
15E‧‧‧電子注入層
16‧‧‧陰極電極
16A‧‧‧第1層
16B‧‧‧第2層
16C‧‧‧第3層
17‧‧‧保護層
18‧‧‧密封基板
20‧‧‧TFT
21‧‧‧閘極電極
22‧‧‧第1閘極絕緣膜
23‧‧‧第2閘極絕緣膜
24‧‧‧氧化物半導體層
25‧‧‧通道保護膜
26‧‧‧汲極電極
27‧‧‧平坦化層
120‧‧‧信號線驅動電路
120A‧‧‧信號線
130‧‧‧掃描線驅動電路
130A‧‧‧掃描線
140‧‧‧像素驅動電路
210‧‧‧電子書
211‧‧‧顯示部
212‧‧‧非顯示部
213‧‧‧操作部
220‧‧‧智慧型手機
221‧‧‧顯示部
222‧‧‧操作部
223‧‧‧相機
230‧‧‧電視裝置
231‧‧‧前面板
232‧‧‧濾光玻璃
233‧‧‧影像顯示畫面部
240‧‧‧平板個人電腦
241‧‧‧觸控面板部
242‧‧‧殼體
250‧‧‧數位靜態相機
251‧‧‧發光部
252‧‧‧顯示部
253‧‧‧選單開關
254‧‧‧快門按鈕
260‧‧‧筆記型個人電腦
261‧‧‧本體
262‧‧‧鍵盤
263‧‧‧顯示部
270‧‧‧攝像機
271‧‧‧本體部
272‧‧‧透鏡
273‧‧‧開始/停止開關
274‧‧‧顯示部
280‧‧‧電子書
281‧‧‧支持基板
282‧‧‧顯示部
283‧‧‧鉸鏈部
283A‧‧‧書背部
284‧‧‧蓋
285‧‧‧保護片
290‧‧‧行動電話機
291‧‧‧上側殼體
292‧‧‧下側殼體
293‧‧‧連結部
294‧‧‧顯示器
295‧‧‧次顯示器
296‧‧‧圖片燈
297‧‧‧相機
B‧‧‧液珠
CF‧‧‧彩色濾光片
CFG‧‧‧綠濾光片
CFR‧‧‧紅濾光片
Cs‧‧‧電容器
D1‧‧‧間隔
D2‧‧‧間隔
GND‧‧‧第2電源線
H‧‧‧頭部
I‧‧‧墨水
Id‧‧‧驅動電流
LB‧‧‧藍色光
LG‧‧‧綠色光
LR‧‧‧紅色光
LY‧‧‧黃色光
S‧‧‧掃描方向
Tr1‧‧‧驅動電晶體
Tr2‧‧‧寫入電晶體
Vcc‧‧‧第1電源線
圖1係表示本揭示之第1實施形態之顯示裝置之構成之俯視圖。
圖2係表示圖1所示之一個像素之一例之剖面圖。
圖3係表示圖2所示之有機層之一例之剖面圖。
圖4係表示圖2所示之有機層之另一例之剖面圖。
圖5係說明圖3所示之發光層之形成方法之模式圖。
圖6係表示繼圖5之後之步驟之模式圖。
圖7係表示自其他方向觀察圖6所見之狀態之模式圖。
圖8係表示本揭示之第2實施形態之顯示裝置之構成之俯視圖。
圖9係表示圖8所示之顯示裝置之變化例之俯視圖。
圖10係表示圖8所示之顯示裝置之另一變化例之俯視圖。
圖11係表示圖8所示之顯示裝置之又一變化例之俯視圖。
圖12係表示本揭示之第3實施形態之顯示裝置之構成之俯視圖。
圖13係表示圖12所示之凹部之一例之剖面圖。
圖14係表示圖12所示之凹部之另一例之剖面圖。
圖15係表示本揭示之第4實施形態之顯示裝置之構成之俯視圖。
圖16係表示於圖15所示之顯示裝置中研究像素區域內之距離、與膜厚之關係所得之結果之圖。
圖17係表示本揭示之第5實施形態之顯示裝置之構成之俯視圖。
圖18係將圖17所示之周邊區域放大而表示之俯視圖。
圖19係表示圖1所示之顯示裝置之整體構成之概略圖。
圖20係表示圖19所示之顯示裝置之像素驅動電路之一例之圖。
圖21係表示包含上述實施形態之顯示裝置之模組之概略構成之俯視圖。
圖22係表示應用例1之外觀之立體圖。
圖23係表示應用例1之外觀之另一立體圖。
圖24係表示自應用例2之正側所見之外觀之立體圖。
圖25係表示自應用例2之背側所見之外觀之立體圖。
圖26係表示應用例3之外觀之立體圖。
圖27係表示應用例4之外觀之立體圖。
圖28係表示自應用例5之正側所見之外觀之立體圖。
圖29係表示自應用例5之背側所見之外觀之立體圖。
圖30係表示應用例6之外觀之立體圖。
圖31係表示應用例7之外觀之立體圖。
圖32係表示應用例8之開啟之狀態之立體圖。
圖33係表示應用例8之關閉之狀態之立體圖。
圖34係表示應用例9之關閉之狀態之圖。
圖35係表示應用例9之開啟之狀態之圖。
以下，針對本揭示之實施形態，參照圖式而詳細說明。再者， 說明係按以下順序進行。
1.第1實施形態(於像素區域具有第1親液區域及第1疏液區域，且於周邊區域具有第2親液區域、第2疏液區域及第3疏液區域之例)
2.第2實施形態(於第2親液區域具有擴寬部之例)
3.第3實施形態(於第2親液區域設置有凹部之例)
4.第4實施形態(於第2親液區域設置有擴寬部及凹部之兩者之例)
5.第5實施形態(於周邊區域設置有槽部之例)
6.顯示裝置之整體構成
7.應用例(電子機器)
(第1實施形態)
圖1係表示本揭示之第1實施形態之顯示裝置1之平面構成的圖。該顯示裝置1係作為電視裝置或監視器裝置等而使用之有機EL顯示裝置，具有基板2之中央部之像素區域3、該像素區域3之外側之周邊區域4。
像素區域3係複數個像素5配置成矩陣狀(matrix state)之矩形狀之區域。複數個像素5例如為紅色像素5R、綠色像素5G、藍色像素5B。於該等各像素5(5R、5G、5B)，例如設置有分別對應之顏色之下述有機EL元件10(10R、10G、10B)。紅色像素5R、綠色像素5G及藍色像素5B之排列並無特別限定，例如於電視用途方面，相同顏色之像素5(5R、5G、5B)沿行方向排列而成之像素行5A(5AR、5AG、5AB)係沿列方向排列。該等像素行5A(5AR、5AG、5AB)係整體上構成橫向之矩形狀之像素區域3。紅色像素5R、綠色像素5G及藍色像素5B之各者構成子像素，且相鄰之紅色像素5R、綠色像素5G及藍色像素5B之組合構成一個顯示像素(Pixel)。再者，此處所言及之像素區域3包含實際顯示圖像之所謂之有效區域、及其外側之虛設像素。
周邊區域4係包圍像素區域3之矩形框狀之區域，設置有外部連 接端子、密封部等(於下文敍述)。又，周邊區域4係沿像素區域3之對向之兩邊、即上邊及下邊具有液珠形成區域6。液珠形成區域6係藉由塗佈法形成有機EL元件之發光層15C(於下文敍述)時，於周邊區域4內之塗佈開始位置噴出墨水而形成液柱(液珠)之區域。
像素區域3係於複數個像素5之行間區域具有第1疏液區域3A。周邊區域4包含與第1疏液區域3A連續之第2疏液區域4A。藉此，於該顯示裝置1中，可實現高精度之圖案化。
第1疏液區域3A具有作為藉由塗佈法按顏色不同地形成有機EL元件10之發光層15C(於下文敍述)時之墨水之堤(bank)之功能。第1疏液區域3A係抑制噴出至像素行5A上之墨水之過度之潤濕擴散、具體而言向像素行5A浸入者，且設置成區劃或分割像素行5A之線狀。
作為第1疏液區域3A之材料，可列舉有機材料、例如聚醯亞胺或酚醛等，藉由對該等材料進行電漿處理而賦予疏液性。
第2疏液區域4A係抑制塗佈開始時噴出至周邊區域4之墨水之潤濕擴散者，設置成與第1疏液區域3A相連之線狀。第2疏液區域4A之材料與第1疏液區域3A相同，藉由對該等材料進行電漿處理而賦予疏液性。
第1疏液區域3A及第2疏液區域4A較佳為呈包圍複數個像素5之一行或複數行之封閉之框狀。溶解有用以形成發光層15C之有機材料之墨水之黏度較低，為低接觸角而潤濕性較高。藉由利用第1疏液區域3A及第2疏液區域4A包圍像素行5A而成為封閉之框狀，可抑制墨水之潤濕擴散等，從而高精度地形成發光層15C。
像素區域3較佳為於複數個像素5之列間區域及行間區域，具有被第1疏液區域3A包圍之第1親液區域3B。周邊區域4較佳為具有被第2疏液區域4A包圍且與第1親液區域3B連續之第2親液區域4B。
第1親液區域3B係用以提高墨水之潤濕性者，被覆像素區域3之 整體且與各像素5(5R、5G、5B)對向地具有開口。又，第1親液區域3B係藉由第1疏液區域3A而區劃或分割成各行，故可高精度地形成顏色不同之發光層15C，而可實現更高精度之圖案化。
作為第1親液區域3B之材料，使用無機材料，例如二氧化矽(SiO2)、碳化矽(SiC)、氮化矽(Si3N4)、銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋁(Al)、鈦(Ti)或鉬(Mo)等，且藉由真空蒸鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法或PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法等形成。
第2親液區域4B係提高液珠形成區域6之潤濕性，易形成液珠者。即，於作為在第1親液區域3B塗佈墨水而形成發光層15C時之準備階段的液珠之形成中，可於第2親液區域4B形成足夠之液體積存(液珠)。藉此，可對第1親液區域3B進行穩定之墨水之塗佈，從而可高精度地形成發光層15C。意即，與墨水之濃度(黏度)無關，可利用簡便之方法進行發光層15C之準確之圖案化，而使元件特性得以提高。藉此，可利用簡便之方法提供特性穩定之全彩之顯示裝置1。
第2親液區域4B及液珠形成區域6較佳為如圖1所示，於像素區域3之對向之兩邊(上邊及下邊)、即像素行5A之長度方向兩端，以對稱圖案設置。再者，第2親液區域4B及液珠形成區域6亦可設置於像素行5A之長度方向一端。第2親液區域4B係藉由與第1親液區域3B相同材料及方法形成。
較佳為，第1親液區域3B與第2親液區域4B連續，且於兩者間未設置有疏液區域。其原因在於，若於第1親液區域3B與第2親液區域4B之間設置有疏液區域，則墨水會於該處中斷。
進而，周邊區域4較佳為在位於複數個像素5之列方向之端之像素行5A之外側，具有第3疏液區域4C。第3疏液區域4C係於與掃描方向垂直之方向上，抑制有機成膜材料向設置於周邊區域4之配線部等 之液體流動，藉此可實現高精度之圖案化。第3疏液區域4C係可藉由與第1疏液區域3A及第2疏液區域4A相同之材料構成。又，第3疏液區域4C亦可如圖1所示般設置一條，亦可設置複數條。
第1疏液區域3A與第3疏液區域4C之間之距離、或第2疏液區域4A與第3疏液區域4C之距離，若設為裝置之對準精度X μm，則較佳為2X μm以上。即便於使用不具有高精度對準機構之裝置之情形時，藉由以與其相符之尺寸配置第3疏液區域4C，亦可利用簡便之裝置構成而實現高精度之圖案化。因此，可形成特性穩定之顯示裝置1。
圖2係表示一個像素5之剖面構成之一例的圖。各像素5係於基板2上具有TFT(thin-film transistor，薄膜電晶體)20、及有機EL元件10。有機EL元件10例如為產生紅色光之紅色有機EL元件10R、產生綠色光之綠色有機EL元件10G、及產生藍色光之藍色有機EL元件10B中之任一者。
TFT20係利用例如主動矩陣方式驅動有機EL元件10之驅動元件。具體而言，TFT20係所謂之底閘極型之TFT，且係通道(活性層)使用例如氧化物半導體者。於該TFT20中，於包含玻璃等之基板2上，依序形成有閘極電極21、閘極絕緣膜(第1閘極絕緣膜22、第2閘極絕緣膜23)、氧化物半導體層24、通道保護膜25及源極、汲極電極26A、26B。於源極、汲極電極26A、26B上，遍及基板2之整個面而形成有用於使TFT20之凹凸平坦化之平坦化層27。
閘極電極21係藉由施加於TFT20之閘極電壓，來發揮控制氧化物半導體層24中之載子密度(此處為電子密度)之作用。該閘極電極21係藉由包含例如Mo、Al及鋁合金等中之1種之單層膜、或包含2種以上之積層膜而構成。再者，作為鋁合金，例如可列舉鋁-釹合金。
第1閘極絕緣膜22、第2閘極絕緣膜23係包含SiO2、Si3N4、矽氮化氧化物(SiON)及氧化鋁(Al2O3)等中之1種之單層膜、或包含該等之 中的2種以上之積層膜。此處，第1閘極絕緣膜22、第2閘極絕緣膜23係具有雙層構造，絕緣膜22係藉由例如SiO2膜而構成，絕緣膜23係藉由例如Si3N4膜而構成。閘極絕緣膜22、23之總膜厚例如為200nm~300nm。
氧化物半導體層24係包含例如銦(In)、鎵(Ga)、鋅(Zn)、錫(Sn)、Al、Ti中之至少1種氧化物作為主成分。該氧化物半導體層24係藉由閘極電壓之施加而於源極、汲極電極26A、26B間形成通道者。該氧化物半導體層24之膜厚較理想為如下述負電荷之影響波及通道般，不會引起薄膜電晶體之導通電流之惡化之程度，具體而言較理想為5nm~100nm。
通道保護膜25係形成於氧化物半導體層24上，防止源極、汲極電極26A、26B形成時之通道之損傷。通道保護膜25之厚度例如為10nm~300nm。
源極、汲極電極26A、26B係包含例如Mo、Al、銅(Cu)、Ti、ITO及TiO等中之1種之單層膜或包含該等之中的2種以上之積層膜。例如，較理想為使用以50nm、500nm、50nm之膜厚依序積層Mo、Al、Mo而成之三層膜、或如ITO及氧化鈦等含氧之金屬化合物般與氧之連結較弱之金屬或金屬化合物。藉此，可穩定地保持氧化物半導體之電氣特性。
平坦化層27使用例如聚醯亞胺、酚醛等有機材料。該平坦化層27之厚度例如為500nm~4000nm，較佳為2000nm以下。於平坦化層27上，形成著有機EL元件10之陽極電極12。
有機EL元件10例如具有於平坦化層27上依序積層有陽極電極12(第1電極)、親液層13、疏液層(間隔壁)14、有機層15及陰極電極16(第2電極)之構成。有機EL元件10係上表面發光型(頂部發光型)之顯示元件，自陽極電極12注入之電洞與自陰極電極16注入之電子於發光 層15C(於下文敍述)內再結合時產生之發出之光係自與基板2相反側(陰極電極16側)提取。藉由使用上表面發光型之有機EL元件10，而使顯示裝置1之發光部之開口率得以提高。再者，有機EL元件10不限定於上表面發光型，亦可設為例如自基板2側提取光之透過型、即下表面發光型(底部發光型)之顯示元件。
陽極電極12係於例如顯示裝置1為上表面發光型之情形時，包含高反射性材料、例如Al、Ti、Cr等。又，於顯示裝置1為透過型之情形時，陽極電極12使用透明材料、例如ITO、IZO、IGZO等。
親液層13係構成圖1所示之第1親液區域3B及第2親液區域4B者，如上所述，藉由SiO2、Si3N4等構成。親液層13被覆平坦化層27之上表面、陽極電極12之上表面端部及側面。親液層13係與陽極電極12對向地具有開口13A，且該開口13A成為有機EL元件10之發光區域。
疏液層14係構成圖1所示之第1疏液區域3A、第2疏液區域4A及第3疏液區域4C者，如上所述，藉由聚醯亞胺或酚醛等有機材料構成，例如藉由電漿處理而被賦予疏液性。又，疏液層14亦具有確保陽極電極12與陰極電極16之絕緣性之作用，且一般作為間隔壁而發揮功能。疏液層14設置於親液層13之一部分區域。具體而言，疏液層14係設置於親液層13之開口13A即發光區域之兩側。又，疏液層14係設置於TFT20之源極．汲極電極26與陽極電極12之連接部上。
例如圖3所示，有機層15具有自陽極電極12側依序積層有電洞注入層15A、電洞輸送層15B、發光層15C(紅色發光層15CR、綠色發光層15CG、藍色發光層15CB)、電子輸送層15D及電子注入層15E之構成。有機層15之上表面係由陰極電極16被覆。紅色發光層15CR產生紅色光LR。綠色發光層15CG產生綠色光LG。藍色發光層15CB產生藍色光LB。
或者，例如圖4所示，有機層15具有自陽極電極12側依序積層有 電洞注入層15A、電洞輸送層15B、發光層15C(黃色發光層15CY、藍色發光層15CB)、電子輸送層15D及電子注入層15E之構成。於該情形時，黃色發光層15CY產生黃色光LY。黃色光LY係藉由彩色濾光片CF(紅濾光片CFR、綠濾光片CFG)而色彩分離成紅色光LR及綠色光LG。
有機層15中之電洞注入層15A、電洞輸送層15B、電子輸送層15D及電子注入層15E係藉由例如真空蒸鍍法，於像素區域3之整個面作為共通層而形成。另一方面，紅色發光層15CR、綠色發光層15CG、及黃色發光層15CY係藉由例如塗佈法而按顏色不同地形成。藍色發光層15CB既可藉由例如真空蒸鍍法，於像素區域3之整個面作為共通層而形成，亦可藉由例如塗佈法而按顏色不同地形成。
構成有機層15之各層之膜厚及構成材料等並無特別限定，以下示出一例。
電洞注入層15A係用以提高對發光層15C之電洞注入效率且防止洩漏之緩衝層。電洞注入層15A之厚度例如較佳為5nm~200nm，進而較佳為8nm~150nm。電洞注入層15A之構成材料只要根據與電極或鄰接之層之材料之關係而適當選擇即可，例如可列舉聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯乙炔、聚伸噻吩基乙烯(polythienylene vinylene)、聚喹啉、聚喹喏啉及其等之衍生物、使芳香族胺結構包含於主鏈或側鏈之聚合物等導電性高分子、金屬酞菁(酞菁銅等)、碳等。作為導電性高分子之具體例，可列舉苯胺低聚物及聚(3,4-乙二氧基噻吩)(PEDOT)等之聚二氧基噻吩。
電洞輸送層15B係用以提高對發光層15C之電洞輸送效率者。電洞輸送層15B之厚度亦根據元件之整體構成而定，例如較佳為5nm~200nm，進而較佳為8nm~150nm。作為構成電洞輸送層15B之材料，可使用可溶於有機溶劑之發光材料，例如聚乙烯咔唑、聚茀、聚 苯胺、聚矽烷或其等之衍生物、於側鏈或主鏈具有芳香族胺之聚矽氧烷衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚吡咯或Alq3等。
於發光層15C中，若施加電場，則引起電子與電洞之再結合而發光。發光層15C之厚度亦根據元件之整體構成而定，例如較佳為10nm~200nm，進而較佳為20nm~150nm。發光層15C亦可分別為單層或積層構造。
構成發光層15C之材料只要使用與各自之發光色相應之材料即可，例如可列舉聚茀系高分子衍生物、或(聚)對苯乙炔衍生物、聚苯衍生物、聚乙烯咔唑衍生物、聚噻吩衍生物、苝系色素、香豆素系色素、若丹明系色素、或於上述高分子中摻雜有機EL材料而成者。作為摻雜材料，例如可使用紅熒烯、苝、9,10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、及香豆素6等。再者，構成發光層15C之材料亦可混合2種以上之上述材料而使用。又，不限於上述高分子量之材料，亦可組合低分子量之材料而使用。作為低分子材料之例，可列舉苯炔、苯乙烯胺、三苯胺、卟啉、苯并菲、氮雜苯并菲、四氰基對醌二甲烷、三唑、咪唑、噁二唑、聚芳基烷烴、苯二胺、芳基胺、噁唑、蒽、茀酮、腙、茋或其等之衍生物、或聚矽烷系化合物、乙烯咔唑系化合物、噻吩系化合物或苯胺系化合物等之雜環式共軛系之單體或低聚物。
作為構成發光層15C之材料，除上述材料外，作為發光性客體發光體材料，可使用發光效率較高之材料，例如低分子螢光材料、磷光色素或金屬錯合物等有機發光材料。
再者，發光層15C可作為兼作例如上述電洞輸送層15B之電洞輸送性之發光層，亦可作為兼作下述電子輸送層15D之電子輸送性之發光層。
電子輸送層15D及電子注入層15E係用以提高對發光層15C之電子 輸送效率者。電子輸送層15D及電子注入層15E之總膜厚係根據元件之整體構成而定，例如較佳為5nm~200nm，更佳為10nm~180nm。
作為電子輸送層15D之材料，較佳為使用具有優異之電子輸送能力之有機材料。藉由提高發光層15C之輸送效率，而抑制因電場強度引起之發光色之變化。具體而言，較佳為使用例如芳基吡啶衍生物及苯并咪唑衍生物等。藉此，即便以較低之驅動電壓亦可維持較高之電子之供給效率。作為電子注入層15E之材料，可列舉鹼金屬、鹼土類金屬、稀土類金屬及其氧化物、複合氧化物、氟化物、碳酸鹽等。
陰極電極16係例如厚度為10nm左右，藉由光透過性良好且功函數較小之材料構成。又，藉由使用氧化物形成透明導電膜，亦可擔保光提取。於該情形時，可使用ZnO、ITO、IZnO、InSnZnO等。進而，陰極電極16雖可為單層，但此處為例如自陽極電極12側依序積層有第1層16A、第2層16B、第3層16C之構造。
第1層16A較佳為藉由功函數較小且光透過性良好之材料形成。具體而言，例如可列舉鈣(Ca)、鋇(Ba)等鹼土類金屬、鋰(Li)、銫(Cs)等鹼金屬、銦(In)、鎂(Mg)、銀(Ag)。進而，可列舉Li2O、Cs2CO3、Cs2SO4、MgF、LiF或CaF2等鹼金屬氧化物、鹼金屬氟化物、鹼土類金屬氧化物、鹼土類氟化物。
第2層16B係以薄膜之MgAg電極或Ca電極等具有光透過性且導電性良好之材料構成。第3層16C較佳為，為了抑制電極之劣化而使用透明之鑭系氧化物。藉此，可作為可自上表面提取光之密封電極而使用。又，於底部發光型之情形時，作為第3層15C之材料，使用金(Au)、鉑(Pt)或AuGe等。
再者，第1層16A、第2層16B及第3層16C係藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、或電漿CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法等方 法形成。又，於使用該有機EL元件10所構成之顯示裝置1之驅動方式為主動矩陣方式之情形時，陰極電極16亦可於藉由疏液層14(間隔壁)及有機層15而對陽極電極12絕緣之狀態下，於基板2上形成為整版膜狀，而作為有機EL元件10之共用電極。
又，於陰極電極16亦可為含有喹啉鋁錯合物、苯乙烯胺衍生物、酞菁衍生物等有機發光材料之混合層。於該情形時，進而亦可另外具有如MgAg般之具有光透過性之層作為第3層16C(未圖示)。又，陰極電極16不限定於如上所述之積層構造，當然只需根據所要製作之設備之構造採用最佳之組合、積層構造即可。例如，上述本實施形態之陰極電極16之構成係電極各層之功能分離，即分離促進對有機層15之電子注入之無機層(第1層16A)、管理電極之無機層(第2層16B)、及保護電極之無機層(第3層16C)之積層構造。然而，促進對有機層15之電子注入之無機層亦可兼作管理電極之無機層，亦可將該等層設為單層構造。
進而，於該有機EL元件10成為空腔構造之情形時，較佳為使用半透過半反射材料構成陰極電極16。藉此，於陽極電極12側之光反射面、與陰極電極16側之光反射面之間多重干涉之發出之光自陰極電極16側被提取。該情形時，陽極電極12側之光反射面與陰極電極16側之光反射面之間之光學距離係由欲提取之光之波長規定，且以滿足該光學距離之方式設定各層之膜厚。於此種上表面發光型之顯示元件中，藉由積極地使用該空腔構造，可進行向外部之光提取效率之改善或發光光譜之控制。
保護層17係用以防止水分浸入至有機層15者，使用透過性及透水性較低之材料，以例如厚度2~3μm形成。作為保護層17之材料，可藉由絕緣性材料或導電性材料之任一者構成。作為絕緣性材料，較佳為無機非晶性之絕緣性材料，例如非晶矽(α-Si)、非晶碳化矽(α- SiC)、非晶氮化矽(α-Si1-xNx)、非晶碳(α-C)等。此種無機非晶性之絕緣性材料，因未構成晶粒(grain)，故透水性較低，而成為良好之保護膜。
密封基板18係位於有機EL元件10之陰極電極16側，與接著層(未圖示)一同密封有機EL元件10者。密封基板18係藉由對有機EL元件10所產生之光透明之玻璃等材料構成。於密封基板18，例如設置有彩色濾光片及作為黑色矩陣之遮光膜(均未圖示)，提取有機EL元件10產生之光，且吸收於各有機EL元件10間之配線中被反射之外界光，從而改善對比度。
於密封基板18上，亦可設置有例如彩色濾光片及遮光膜(均未圖示)。彩色濾光片具有紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片(均未圖示)，且依序配置。紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片分別以例如矩形形狀無間隙地形成。該等紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片係藉由混入有顏料之樹脂分別構成，藉由選擇顏料，以作為目標之紅、綠或藍之波長區域中之光透過率提高，且其他波長區域中之光透過率變低之方式進行調整。
遮光膜藉由例如混入有黑色之著色劑之光學濃度為1以上之黑色之樹脂膜、或利用薄膜之干涉之薄膜濾光片構成。其中，若藉由黑色之樹脂模構成，則由於可廉價且容易地形成，故而較佳。薄膜濾光片係例如積層1層以上之包含金屬、金屬氮化物或金屬氧化物之薄膜且利用薄膜之干涉使光衰減者。作為薄膜濾光片，具體而言可列舉交替積層Cr與氧化鉻(III)(Cr2O3)而成者。
該顯示裝置1可例如以如下之方式製造。再者，於下文中，如圖3所示，對作為發光層15C形成紅色發光層15CR、綠色發光層15CG、藍色發光層15CB之情形進行說明。
首先，於基板2依序形成TFT20、平坦化層26、及陽極電極12。
其次，藉由形成親液層13，而形成第1親液區域3B及第2親液區域4B。
繼而，藉由形成疏液層(間隔壁)14，而形成第1疏液區域3A及第2疏液區域4A。
其後，藉由例如真空蒸鍍法，遍及像素區域3之整個面而形成有機層15之電洞注入層15A及電洞輸送層15B。
於形成電洞輸送層15B後，藉由液滴噴出法等塗佈法而按顏色不同地形成紅色發光層15CR及綠色發光層15CG。
首先，使構成紅色發光層15CR之有機材料溶解於有機溶劑，而調製墨水。自設置於狹縫式塗佈機(或條紋式塗佈機)之頭部之複數個噴出口噴出該墨水，並將該墨水配置於包含像素5R之像素行5AR上。此後，藉由加熱去除溶劑而形成紅色發光層15CR。
具體而言，紅色發光層15CR可以如下之方式形成。
首先，如圖5所示，於周邊區域4之液珠形成區域6之上方，設置狹縫式塗佈機之頭部H。於頭部H，與相同顏色之像素5、此處為紅色像素5R之間距相應地設置有複數個噴出口(未圖示)。自頭部H之噴出口噴出墨水，且以頭部H經由墨水與基板2接觸之方式形成液珠B。藉此，可使頭部H表面之潤濕性均一。
其次，如圖6所示，沿像素行5AR掃描，將墨水I不斷噴出至像素行5AR內之紅色像素5R上。此時，頭部H如圖7所示，維持著經由墨水I與基板2接觸之狀態而沿掃描方向S移動。
此處，於像素區域3，於複數個像素5之行間區域設置第1疏液區域3A，且於周邊區域4設置有與第1疏液區域3A連續之第2疏液區域4A。藉此，於像素區域3中係藉由第1疏液區域3A而抑制墨水I之潤濕擴散，從而高精度地規定紅色發光層15CR之圖案，於周邊區域4中係藉由第二疏液區域4A而抑制墨水I之潤濕擴散，從而高精度地規定紅 色發光層15CR之圖案。
又，由於第1疏液區域3A及第2疏液區域4A呈包圍複數個像素5之一行或複數行之封閉之框狀，故即便於使用低黏度、低接觸角且潤濕性較高之墨水I之情形時，亦可抑制墨水I之潤濕擴散等，從而高精度形成紅色發光層15CR。
進而，於周邊區域4，設置有被第2疏液區域4A包圍且與第1親液區域3B連續之第2親液區域4B。於如上所述之利用塗佈法進行之有機層15之形成中，重要的是藉由液珠B之形成而維持墨水I與基板2之連接。藉由於周邊區域4設置第2親液區域4B，墨水I之表面張力或基板2之疏液性等引起之墨水I與基板2之斷離得到抑制，而使維持墨水I與基板2之連接變得容易。因此，可高精度地塗佈形成紅色發光層15CR。
於形成紅色發光層15CR後，以與紅色發光層15CR同樣之方式，藉由塗佈法形成綠色發光層15CG。
再者，於如圖4所示般使用黃色發光層15CY且以彩色濾光片CF進行色彩分離之方式中，塗佈步驟僅於黃色發光層15CY完成。藉此，有利於削減成本。
於形成綠色發光層15G後，藉由例如真空蒸鍍法，遍及像素區域3之整個面而形成有機層15之電子輸送層15D及電子注入層15E、陰極電極16、及保護膜17。其後，藉由接著層(未圖示)而貼合密封基板18。藉由以上，而完成圖1至圖4所示之顯示裝置1。
如此，於本實施形態中，於像素區域3，於複數個像素5之行間區域設置第1疏液區域3A，且於周邊區域4設置與第1疏液區域3A連續之第2疏液區域4A。藉此，於像素區域3中係藉由第1疏液區域3A而抑制成膜材料之潤濕擴散，從而可實現有機層15之高精度之圖案化，且於周邊區域4中係藉由第2疏液區域4A而抑制成膜材料之潤濕擴散，從而可實現有機層15之高精度之圖案化。因此，可利用簡易之構成實 現特定之穩定之全彩顯示裝置。
又，將第1疏液區域3A及第2疏液區域4A，設為包圍複數個像素5之一行或複數行之封閉之框狀。因此，即便於使用低黏度、低接觸角且潤濕性較高之墨水I之情形時，亦可抑制墨水I之潤濕擴散等，從而高精度地形成有機層15。
進而，於周邊區域4，設置被第2疏液區域4A包圍且與第1親液區域3B連續之第2親液區域4B，因此可提高液珠形成區域6之潤濕性，而使液珠容易形成。因此，可抑制墨水I之表面張力或基板2之疏液性等引起之墨水I與基板2之斷離，而容易維持墨水I與基板2之連接。藉此，可對第1親液區域3B進行穩定之墨水之塗佈，從而可高精度地塗佈形成有機層15。
(第2實施形態)
圖8係表示本揭示之第2實施形態之顯示裝置1A之平面構成的圖。本實施形態係藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7，來提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性。除此之外，該顯示裝置1A具有與上述第1實施形態之顯示裝置1相同之構成、作用及效果，且能夠以與上述第1實施形態同樣之方式製造。因此，對於對應之構成要素附註同一符號來說明。
擴寬部7係藉由使第2疏液區域4A之間隔D1較第1疏液區域3A之間隔D2寬，來使液珠B之形成時之液體積存分散，從而提高塗佈開始之發光層15C之膜厚均一性。
意即，如圖5至圖7所說明般，自頭部H噴出墨水I而塗佈發光層15C之情形時，以頭部H經由墨水I與基板2接觸之方式形成液珠B。於形成液珠B時，噴出較掃描時更多量之墨水I。因此，液珠B之形成時之液體積存隨掃描之進行而被牽引至頭部H。藉此，塗佈開始部分之發光層15C之膜厚變厚，且沿掃描方向產生膜厚之分布。一旦產生膜 厚之分布，就會產生元件特性之差異，而成為發光時之亮度不均等之原因之虞。
於本實施形態中，藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7，可使液珠B之形成時之液體積存沿平面方向分散，而抑制塗佈開始之發光層15C之厚膜化。雖亦考慮到藉由將厚膜化之部分配置於周邊區域4來抑制對像素區域3內之影響，但於該情形時，周邊區域4之尺寸會變寬。藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7，來讓厚膜化之部分之掃描方向之長度變短，而可使周邊區域4之尺寸變窄。因此，顯示裝置1A亦具有設計方面之優點，可謀求商品力之提高。
擴寬部7之平面形狀並無特別限定，較佳為例如圖8所示，於第1疏液區域3A之長度方向上隨著遠離第1疏液區域3A，第2疏液區域4A之寬度D1逐漸變寬。其原因在於，隨著遠離第1疏液區域3A，液量變多。
圖8及圖9中所示之例係如下情形，意即：如於第1實施形態中參照圖3所說明般，發光層15C包含紅色發光層15CR、綠色發光層15CG及藍色發光層15B。紅色發光層15CR及綠色發光層15CG係藉由圖5至圖7所示之塗佈法而按顏色不同地形成。藍色發光層15CB係藉由蒸鍍法形成於像素區域3之整個面。
於圖8之例中，紅色像素行5AR之擴寬部7、與綠色像素行5AG之擴寬部7係沿像素區域3之同邊、例如上邊而設置。於該情形時，紅色發光層15CR與綠色發光層15CG均係自上向下塗佈。於藍色像素行5AB中，第2親液區域4B之寬度變窄。
於圖9之例中，紅色像素5R之像素行5AR之擴寬部7係沿像素區域3之對向之兩邊之一者、例如上邊而設置。綠色像素5G之像素行5AG之擴寬部7係沿像素區域3之對向之兩邊之另一者、例如下邊而設置。於該情形時，紅色發光層15CR係自上向下塗佈，且綠色發光層15CG 係自下向上塗佈。於藍色像素5B之像素行5AB中，第2親液區域4B之寬度變窄。
圖10及圖11所示之例表示如下情形，意即：如於第1實施形態中參照圖4所說明般，將來自黃色發光層15CY之黃色光LY藉由彩色濾光片CF而色彩分離成紅色光LR與綠色光LG。藍色發光層15CB係藉由蒸鍍法形成於像素區域3之整個面。
於該例中，亦可如圖10所示，第1疏液區域3A及第2疏液區域4A包圍一條像素行5A(紅．綠像素行5ARG)，且於該紅．綠像素行5ARG內，紅色像素5R及綠色像素5G交替排列成一行。於紅．綠像素行5ARG設置黃色發光層15CY。黃色發光層15CY係自上向下塗佈。
或者，亦可如圖11所示，第1疏液區域3A及第2疏液區域4A包圍兩條像素行5A，即紅色像素行5AR與綠色像素行5AG。於紅色像素行5AR及綠色像素行5AG設置黃色發光層15CY。黃色發光層15CY係自上向下塗佈。
如此，於本實施形態中，藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7，可提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性，抑制亮度不均等而提高顯示品質。因此，可利用簡易之構成實現窄邊框之全彩顯示裝置。
(第3實施形態)
圖12係表示本揭示之第3實施形態之顯示裝置1B之平面構成的圖。本實施形態係藉由於第2親液區域4B設置凹部8，而提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性。除此之外，該顯示裝置1B具有與上述第1實施形態之顯示裝置1相同之構成、作用及效果，且能夠以與上述第1實施形態同樣之方式製造。因此，對於對應之構成要素附註同一符號並予以說明。
如圖13所示，凹部8係藉由使底面8A較第1親液區域3B之上表面低，而使液珠B之形成時之液體積存分散，而提高塗佈開始之發光層 15C之膜厚均一性。意即，藉由於第2親液區域4B設置凹部8，可使液珠B之形成時之液體積存沿深度方向分散，而抑制塗佈開始之發光層15C之厚膜化。
再者，此種凹部8可藉由於圖2所示之平坦化層27設置凹部而形成。或者，亦可如圖14所示，於第2親液區域4B，將由與圖2所示之陽極電極12或親液層13相同材料構成之膜8B以較陽極電極12或親液層13薄之厚度設置。就製造步驟之觀點而言，前者較為容易。
凹部8之深度並無特別限定。例如可如圖13所示，遍及凹部8之整體為相同深度，亦可為深度局部地變化。
如此，於本實施形態中，藉由於第2親液區域4B設置凹部，可提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性，抑制亮度不均等而提高顯示品質。因此，可利用簡易之構成而實現特定之穩定之窄邊框之全彩顯示裝置。
(第4實施形態)
圖15係表示本揭示之第4實施形態之顯示裝置1C之平面構成的圖。本實施形態係藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7及凹部8，而提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性。除此之外，該顯示裝置1C具有與上述第1至第3實施形態之顯示裝置1、1A、1B相同之構成、作用及效果，且能夠以與上述第1實施形態同樣之方式製造。因此，對於對應之構成要素附註同一符號並予以說明。
圖16係表示實際製作圖15所示之顯示裝置1C且研究掃描方向S上膜厚分布之實驗結果的圖。再者，於圖16中示出圖1所示之顯示裝置1中之相同之實驗結果作為參照例。橫軸之0之位置對應於液珠形成區域6與像素區域3之邊界線。
由圖16可知，於第2親液區域4B設置有擴寬部7及凹部8之本實施形態(圖15)中，於塗佈開始之部分，塗佈中膜厚之10%以上之區域距 液珠形成區域6與像素區域3之邊界線約2mm。與此相對，於參照例(第1實施形態、圖1)中，於塗佈開始之部分，塗佈中膜厚之10%以上之區域距液珠形成區域6與像素區域3之邊界線約12mm。認為其原因在於，參照例(第1實施形態、圖1)中未於第2親液區域4B設置擴寬部7及凹部8。即，可知藉由於第2親液區域4B設置擴寬部7及凹部8，可更加提高塗佈開始之有機層15之膜厚均一性。
(第5實施形態)
圖17係表示本揭示之第5實施形態之顯示裝置1D之平面構成的圖。本實施形態係藉由於周邊區域4設置包圍第2疏液區域4A及第3疏液區域4C之槽部4D，而可實現高精度之圖案化。除此之外，該顯示裝置1D具有與上述第1實施形態之顯示裝置1相同之構成、作用及效果，且能夠以與上述第1實施形態同樣之方式製造。因此，對於對應之構成要素附註同一符號並予以說明。
槽部4D係抑制於設置於周邊區域4之配線部等成膜有機層15者，設置成包圍像素區域3之矩形框狀。藉由設置槽部4D，可抑制成膜材料超出第2疏液區域4A及第3疏液區域4C向外側擴散，且於掃描方向S或與掃描方向S垂直之方向上，抑制朝向設置於周邊區域4之配線部等之有機成膜材料之液體流動。槽部4D可例如藉由設置於平坦化層27之槽部而構成。
圖18係將周邊區域4之一部分放大而表示之圖。於周邊區域4設置有密封部4E。密封部4E係設置成包圍像素區域3之矩形框狀。於密封部4E之外側，設置有自像素區域3延長之外部連接用之端子4F。槽部4D係設置於密封部4E與像素區域3之間之區域4G。進而，槽部4D若設置於密封部4E、與第2疏液區域4A及第3疏液區域4C之間，則更佳。
本實施形態之槽部4D不限於藉由塗佈法而按顏色不同地塗佈紅 色發光層15CR、綠色發光層15CG、及黃色發光層15CY之情形，於將電洞注入層15A、電洞輸送層15B、電子輸送層15D及電子注入層15E形成於像素區域3之整個面之情形亦有效。
(顯示裝置之整體構成)
圖19係概略性地表示上述實施形態所說明之顯示裝置1、1A~1D(以下，統稱為顯示裝置1)之整體構成的圖。於該顯示裝置1中，於基板2配置有上述像素區域3及周邊區域4。於周邊區域4，例如設置有影像顯示用之驅動器即信號線驅動電路120及掃描線驅動電路130。於像素區域3內設置有像素驅動電路140。
圖20係表示像素驅動電路140之一例之圖。像素驅動電路140係形成於陽極電極12(第1電極)之下層之主動型之驅動電路。即，該像素驅動電路140具有：驅動電晶體Tr1及寫入電晶體Tr2、該等電晶體Tr1、Tr2之間之電容器(保持電容)Cs、及於第1電源線(Vcc)及第2電源線(GND)之間串聯連接於驅動電晶體Tr1之紅色有機EL元件10R(或綠色有機EL元件10G、藍色有機EL元件10B)。驅動電晶體Tr1及寫入電晶體Tr2係藉由普通薄膜電晶體(TFT，Thin Film Transistor)構成，其構成可為逆交錯構造(所謂之底部閘極型)，亦可為交錯構造(頂部閘極型)，並無特別限定。
於像素驅動電路140中，於行方向配置有複數條信號線120A，且與列方向配置有複數條掃描線130A。各信號線120A與各掃描線130A之交叉點與紅色有機EL元件10R、綠色有機EL元件10G、及藍色有機EL元件10B之任一者對應。各信號線120A係連接於信號線驅動電路120，且自該信號線驅動電路120經由信號線120A對寫入電晶體Tr2之源極電極供給圖像信號。各掃描線130A係連接於掃描線驅動電路130，且自該掃描線驅動電路130經由掃描線130A對寫入電晶體Tr2之閘極電極依序供給掃描信號。
於該顯示裝置1中，對各有機EL元件10自掃描線驅動電路130經由寫入電晶體Tr2之閘極電極供給掃描信號，且圖像信號自信號線驅動電路120經由寫入電晶體Tr2保持於保持電容Cs。即，根據保持於該保持電容Cs之信號，對驅動電晶體Tr1進行開啟關閉控制，藉此，對有機EL元件10注入驅動電流Id，使電洞與電子再結合而引起發光。該光係於下表面發光(底部發光)之情形時透過陽極電極12及基板2，且於上表面發光(頂部發光)之情形時透過陰極電極16、彩色濾光片(未圖示)及密封基板18而被提取。
(應用例)
繼而，參照圖21至圖34，對上述實施形態之顯示裝置之應用例進行說明。上述實施形態之顯示裝置係可應用於電視裝置、數位相機、筆記型個人電腦、行動電話或智慧型手機等行動終端裝置或攝像機等所有領域之電子機器。換言之，該顯示裝置可應用於將自外部輸入之影像信號或內部產生之影像信號作為圖像或影像而顯示之所有領域之電子機器。
(模組)
上述實施形態之顯示裝置係例如作為圖21所示之模組而組裝至下述之應用例1~9等各種電子機器。該模組係例如於基板2之像素區域3之周圍之周邊區域4，延長配線而形成外部連接端子(未圖示)者。於外部連接端子，亦可設置有用以輸入輸出信號之可撓性印刷配線基板(FPC，Flexible Printed Circuit)9。
(應用例1)
圖22及圖23表示電子書210之外觀構成。該電子書210例如具備顯示部211及非顯示部212、及操作部213。再者，操作部213可如圖22所示般設置於非顯示部212之前面，亦可如圖23所示般設置於非顯示部212之上表面。顯示部211由電子設備(顯示裝置)2構成。再者，電 子設備(顯示裝置)2亦可搭載於具有與圖22及圖23所示之電子書同樣之構成之PDA(Personal Digital Assistants，個人數位助理)等。
(應用例2)
圖24及圖25係表示智慧型手機220之外觀之圖。該智慧型手機220例如於正側具有顯示部221及操作部222，且於背側具有相機223，該顯示部221由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例3)
圖26係表示應用上述實施形態之顯示裝置之電視裝置230之外觀之圖。該電視裝置230例如具有包含前面板231及濾光玻璃232之影像顯示畫面部233。影像顯示畫面部233由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例4)
圖27係表示平板個人電腦240之外觀之圖。該平板個人電腦240例如具有觸控面板部241及殼體242，且觸控面板部241由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例5)
圖28及圖29係表示數位靜態相機250之外觀之圖。該數位靜態相機250例如具有閃光用之發光部251、顯示部252、選單開關253、及快門按鈕254，顯示部252由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例6)
圖30係表示筆記型個人電腦260之外觀之圖。該筆記型個人電腦260例如具有本體261、用於文字等之輸入操作之鍵盤262及顯示圖像之顯示部263，顯示部263由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例7)
圖31係表示攝像機270之外觀之圖。該攝像機270例如具有本體部271、設置於該本體部271之前方側面之被攝體攝影用之透鏡272、攝影時之開始/停止開關273及顯示部274。顯示部274由電子設備(顯 示裝置)2構成。
(應用例8)
圖32及圖33係表示另一電子書280之外觀之圖。電子書280係將柔軟之素材組件化而形成之薄型之可撓性顯示器。於該電子書280中，可如裝訂複數張紙(頁)而製作之實體書般，將裝置整體關閉(折叠)或打開。使用者可以如實際讀書般之感覺閱覽顯示於電子書3之內容(例如書籍之頁等)。
電子書280係於支持基板281上具備顯示部282者，於書中之「背」之部分(背283A)，具有鉸鏈部283。於該電子書280之下表面(關閉時成為外側之面)側，設置包含柔軟之樹脂膜之蓋284，且上表面(關閉時位於內側之面)側係由包含柔軟且對顯示光具有透明性之樹脂膜之保護片285覆蓋。顯示部282由電子設備(顯示裝置)2構成。
(應用例9)
圖34及圖35係表示行動電話機290之外觀之圖。該行動電話機290係例如以連結部(鉸鏈部)293連結上側殼體291與下側殼體292者，具有顯示器294、次顯示器295、圖片燈296及相機297。顯示器294或次顯示器295由電子設備(顯示裝置)2構成。
以上，雖列舉實施形態而說明了本技術，但本技術並未限定於該等實施形態，而可進行多種變化。
例如，於上述實施形態中，雖具體列舉顯示裝置1、1A~1D之構成進行了說明，但顯示裝置1、1A~1D並非限定於具備全部圖示之構成要素者。又，亦可將一部分之構成要素置換成其他構成要素。
又，於上述實施形態中所說明之各層之材料及厚度、或成膜方法及成膜條件等並無限定，亦可採用其他材料及厚度，或亦可採用其他成膜方法及成膜條件。例如，於上述實施形態中係使用氧化物半導體作為TFT20中之通道，但並不限於此，亦可使用矽或有機半導體 等。又，於上述實施形態中係使用聚醯亞胺或酚醛等有機材料而形成兼作疏液層14(間隔壁)之第1疏液區域3A及第2疏液區域4A，但並不限於此，亦可由含氟材料形成。
進而，有機層15係除真空蒸鍍法或噴出塗佈法等塗佈法以外，亦可藉由浸漬法、刮板法、旋轉塗佈法、噴塗法等其他塗佈法、噴墨法、平版印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、網版印刷法、微凹版塗佈法等印刷法等而形成，亦可根據有機層15之各層或各構件之性質，併用乾式製程與濕式製程。
除此之外，於上述實施形態中，對如下情形進行了說明，即：如圖3所示，藉由例如塗佈法而按顏色不同地形成紅色發光層15CR、綠色發光層15CG、及藍色發光層15CB，而獲得紅色光LR、綠色光LG、及藍色光LB。又，對如下情形進行了說明，即：如圖4所示，藉由例如塗佈法而按顏色不同地形成黃色發光層15CY及藍色發光層15CB，且使用彩色濾光片CF獲得紅色光LR、綠色光LG、及藍色光LB。然而，本揭示亦可應用於白色發光之有機EL元件10。例如，亦可整版塗佈使紅色發光材料、綠色發光材料及藍色發光材料混合於主體材料而成之混合液而形成塗膜，藉由自發性多層化而形成具有紅色發光層15CR、藍色發光層15CB、及綠色發光層15CG之積層構造之白色發光層。
本揭示係除應用於上述實施形態所說明之有機EL顯示裝置之發光層15C之形成外，亦可應用於配線圖案之形成等。
再者，本技術亦可採取如下構成。
(1)
一種顯示裝置，其係包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且 上述像素區域係於上述複數個像素之行間區域具有第1疏液區域；上述周邊區域具有與上述第1疏液區域連續之第2疏液區域。
(2)
如上述(1)之顯示裝置，其中上述第1疏液區域及上述第2疏液區域係成包圍上述複數個像素之一行或複數行之封閉之框狀。
(3)
如上述(1)或(2)之顯示裝置，其中上述像素區域係於上述複數個像素之列間區域及上述行間區域，具有被上述第1疏液區域包圍之第1親液區域；且上述周邊區域具有被上述第2疏液區域包圍且與上述第1親液區域連續之第2親液區域。
(4)
如上述(3)之顯示裝置，其中上述第2親液區域具有凹部，且上述凹部之底面較上述第1親液區域之上表面低。
(5)
如上述(3)或(4)之顯示裝置，其中上述第2親液區域具有上述第2疏液區域之間隔較上述第1疏液區域之間隔寬之擴寬部。
(6)
如上述(5)之顯示裝置，其中上述擴寬部係於上述第1疏液區域之長度方向上隨著遠離上述第1疏液區域，上述第2疏液區域之間隔逐漸變寬。
(7)
如上述(5)或(6)之顯示裝置，其中上述複數個像素包含第1色之像素行、及第2色之像素行；且包圍上述第1色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部、與包圍上述第2色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部係沿上述像素區域之同邊而設置。
(8)
如上述(5)或(6)之顯示裝置，其中上述複數個像素包含第1色之像素行、與第2色之像素行；且包圍上述第1色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部係沿上述像素區域之對向之兩邊之一者而設置；包圍上述第2色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部係沿上述像素區域之對向之兩邊之另一者而設置。
(9)
如上述(1)至(8)中任一項之顯示裝置，其中上述周邊區域係在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，具有第3疏液區域。
(10)
如上述(9)之顯示裝置，其中周邊區域具有包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域之槽部。
(11)
如上述(10)之顯示裝置，其中上述周邊區域具有密封部；且上述槽部設置於上述密封部與上述像素區域之間之區域。
(12)
一種顯示裝置，其係 包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且上述周邊區域係在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，具有第3疏液區域。
(13)
一種顯示裝置，其係包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且上述像素區域於上述複數個像素之行間區域具有第1疏液區域；上述周邊區域包含：第2疏液區域，其與上述第1疏液區域連續；第3疏液區域，其設置在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域。
(14)
如上述(13)之顯示裝置，其中上述周邊區域具有密封部；且上述槽部設置於上述密封部與上述像素區域之間之區域。
(15)
一種電子機器，其係包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；上述像素區域於上述複數個像素之行間區域具有第1疏液區域；上述周邊區域具有與上述第1疏液區域連續之第2疏液區域。
(16)
一種電子機器，其係包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；上述周邊區域在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，具有第3疏液區域。
(17)
一種電子機器，其係包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其具有配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；上述像素區域於上述複數個像素之行間區域具有第1疏液區域；上述周邊區域包含：第2疏液區域，其與上述第1疏液區域連續；第3疏液區域，其設置在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域。
本申請案係以在日本專利廳於2013年9月20日申請之日本專利申請案號第2013-195769號為基礎而主張優先權者，藉由參照該申請之全部內容而引用於本申請。
只要為本領域技術人員，根據設計上之要件或其他要因便可想到各種修正、組合、次組合、及變更，且應當理解該等亦涵蓋於隨附之申請專利範圍或其均等物之範圍內。
1‧‧‧顯示裝置
2‧‧‧基板
3‧‧‧像素區域
3A‧‧‧第1疏液區域
3B‧‧‧第1親液區域
4‧‧‧周邊區域
4A‧‧‧第2疏液區域
4B‧‧‧第2親液區域
4C‧‧‧第3疏液區域
5‧‧‧像素
5A‧‧‧像素行
5AB‧‧‧像素行
5AG‧‧‧像素行
5AR‧‧‧像素行
5B‧‧‧藍色像素
5G‧‧‧綠色像素
5R‧‧‧紅色像素
6‧‧‧液珠形成區域

Claims (17)

  1. 一種顯示裝置，其包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且上述像素區域係於上述複數個像素之行間區域包含第1疏液區域；上述周邊區域包含第2疏液區域，該第2疏液區域係與上述第1疏液區域連續且包含自第1疏液區域延伸於大致行方向上之部分。
  2. 如請求項1之顯示裝置，其中上述第1疏液區域及上述第2疏液區域形成包圍上述複數個像素之一行或複數行之封閉之框狀。
  3. 如請求項1之顯示裝置，其中上述像素區域係於上述複數個像素之列間區域及上述行間區域，包含被上述第1疏液區域包圍之第1親液區域；且上述周邊區域包含被上述第2疏液區域包圍且與上述第1親液區域連續之第2親液區域。
  4. 如請求項3之顯示裝置，其中上述第2親液區域包含凹部，且上述凹部之底面較上述第1親液區域之上表面低。
  5. 如請求項3之顯示裝置，其中上述第2親液區域包含上述第2疏液區域之間隔較上述第1疏液區域之間隔寬之擴寬部。
  6. 如請求項5之顯示裝置，其中上述擴寬部係於上述第1疏液區域之長度方向上，隨著遠離上述第1疏液區域，上述第2疏液區域之間隔逐漸變寬。
  7. 如請求項5之顯示裝置，其中上述複數個像素包含第1色之像素行、及第2色之像素行；且包圍上述第1色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區 域中之上述擴寬部、與包圍上述第2色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部，係沿上述像素區域之同邊而設置。
  8. 如請求項5之顯示裝置，其中上述複數個像素包含第1色之像素行、及第2色之像素行；且包圍上述第1色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部，係沿上述像素區域之對向之兩邊之一者而設置；包圍上述第2色之像素行之上述第1疏液區域及上述第2疏液區域中之上述擴寬部，係沿上述像素區域之對向之兩邊之另一者而設置。
  9. 如請求項1之顯示裝置，其中上述周邊區域係在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，包含第3疏液區域。
  10. 如請求項9之顯示裝置，其中周邊區域包含包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域之槽部。
  11. 如請求項10之顯示裝置，其中上述周邊區域包含密封部；且上述槽部設置於上述密封部與上述像素區域之間之區域。
  12. 一種顯示裝置，其包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且上述周邊區域係在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，包含第3疏液區域。
  13. 一種顯示裝置，其包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；且上述像素區域係於上述複數個像素之行間區域包含第1疏液區域；上述周邊區域係包含： 第2疏液區域，其與上述第1疏液區域連續且包含自第1疏液區域延伸於大致行方向上之部分；第3疏液區域，其設置在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域。
  14. 如請求項13之顯示裝置，其中上述周邊區域包含密封部；且上述槽部設置於上述密封部與上述像素區域之間之區域。
  15. 一種電子機器，其包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；上述像素區域係於上述複數個像素之行間區域包含第1疏液區域；上述周邊區域包含第2疏液區域，該第2疏液區域係與上述第1疏液區域連續且包含自第1疏液區域延伸於大致行方向上之部分。
  16. 一種電子機器，其包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域；上述周邊區域係在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側，包含第3疏液區域。
  17. 一種電子機器，其包含顯示裝置；且上述顯示裝置係包含：像素區域，其包含配置成矩陣狀之複數個像素；及上述像素區域之外側之周邊區域； 上述像素區域係於上述複數個像素之行間區域包含第1疏液區域；上述周邊區域係包含：第2疏液區域，其係與上述第1疏液區域連續且包含自第1疏液區域延伸於大致行方向上之部分；第3疏液區域，其設置在位於上述複數個像素之列方向之端之像素行之外側；及槽部，其包圍上述第2疏液區域及上述第3疏液區域。
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