[go: up one dir, main page]

TWI578431B - 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置 - Google Patents

基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI578431B
TWI578431B TW104130931A TW104130931A TWI578431B TW I578431 B TWI578431 B TW I578431B TW 104130931 A TW104130931 A TW 104130931A TW 104130931 A TW104130931 A TW 104130931A TW I578431 B TWI578431 B TW I578431B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
cover
supporting member
frame
contact portion
Prior art date
Application number
TW104130931A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201624597A (zh
Inventor
本庄一大
高橋光和
波多野章人
橋本光治
Original Assignee
思可林集團股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 思可林集團股份有限公司 filed Critical 思可林集團股份有限公司
Publication of TW201624597A publication Critical patent/TW201624597A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI578431B publication Critical patent/TWI578431B/zh

Links

Classifications

    • H10P72/1914
    • H10P72/1922
    • H10P72/18
    • H10P72/1912
    • H10P72/1916
    • H10P72/1918
    • H10P72/1921
    • H10P72/3406
    • H10P72/3411
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65DCONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D85/00Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Description

基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置
本發明係關於收容半導體晶圓、光罩用之玻璃基板、液晶顯示裝置用之玻璃基板、光碟用之基板等(以下,簡稱為「基板」)之基板收納容器、及可應用於此基板收納容器之裝載埠裝置及基板處理裝置。
習知,基板收納容器具備框體及蓋。蓋自框體脫離時,有框體內之基板會自適宜之位置或範圍(例如,搬送位置等)脫落或飛出之情況。以下適宜地稱其為「位置偏離」。
若產生位置偏離,則無法適宜地自框體搬出基板。於該情況下,將蓋暫時安裝於框體,然後重新將蓋自框體卸下。其結果,只要基板位於適宜之位置或範圍,便可將基板自框體搬出。
[先前技術文獻] [專利文獻]
日本專利特開2009-49096號公報
然而,於具有此種構成之習知例之情況,存在有以下之問題。亦即,即使反覆地進行蓋之裝卸,仍有可能不斷地產生基 板之位置偏離,從而無法確實地抑制基板之位置偏離。此外,若反覆地進行蓋之裝卸,會造成基板之處理變慢,生產率降低。
本發明係鑒於上述情況而完成者,其目的在於提供一種於蓋自框體脫離時能適宜地管理基板之位置之基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置。
為了達成此種目的,本發明採用如下之構成。亦即,本發明係一基板收納容器,其包含:框體,於其內部可收容基板,且於其前面具有開口;架構件,其設於上述框體之內部,且以大致水平姿勢載置基板;蓋,其裝卸於上述框體,以開閉上述開口;蓋用支撐構件,其安裝於上述蓋之背面側,支撐基板之端部;及基板脫離機構,其安裝於上述蓋之背面側,使上述蓋用支撐構件支撐之基板自上述蓋用支撐構件分離;上述基板脫離機構具有與基板直接接觸之接觸部,上述接觸部可相對於上述蓋用支撐構件移動,藉由上述蓋朝上述開口前進,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退,上述蓋用支撐構件支撐基板之端部,藉由上述蓋自上述開口後退,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進,上述基板脫離機構使基板自上述蓋用支撐構件分離。
(作用功效)蓋朝開口前進時,接觸部相對於蓋用支撐構件後退。藉此,蓋被安裝於框體,蓋用支撐構件支撐基板之端部。由於基板脫離機構不妨礙蓋用支撐構件之對基板之支撐,因而蓋用支撐構件可適宜地支撐基板。藉此,於蓋安裝於框體之狀態下,可適宜地保護基板。
蓋自開口後退時,接觸部相對於蓋用支撐構件前進。 藉此,蓋自框體脫離,基板脫離機構使基板自蓋用支撐構件分離。藉此,於蓋自框體脫離時,可適宜地管理框體內之基板之位置。
再者,於「上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退」時,接觸部既可位於較蓋用支撐構件靠後方,也可不是如此。亦即,「上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退」,係規定接觸部相對於蓋用支撐構件之相對移動者,並非限制接觸部相對於蓋用支撐構件之位置者。同樣地,於「上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進」時,接觸部既可位於較蓋用支撐構件靠前方,也可不是如此。
再者,藉由基板脫離機構而自蓋用支撐構件分離之基板,可為蓋安裝於框體時蓋用支撐構件所支撐之所有基板,也可僅為該等基板中,蓋自開口後退時不會自然地自蓋用支撐構件分離之基板。換言之,基板脫離機構也可使蓋自開口後退時自然地自蓋用支撐構件分離之基板,自蓋用支撐構件分離。或者,基板脫離機構也可使蓋自開口後退時自然地自蓋用支撐構件分離之基板,及不會自然地自蓋用支撐構件分離之基板之雙方,自蓋用支撐構件分離。
本發明中較佳為,藉由上述接觸部以靠近上述蓋之方式,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退,藉由上述接觸部以遠離上述蓋之方式移動,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進。藉此,接觸部可相對於蓋用支撐構件適宜地前進及後退。
本發明中較佳為,上述蓋自上述開口後退時,至少至基板自上述蓋用支撐構件分離為止,上述接觸部持續與基板接觸。基板脫離機構可確實地使基板自蓋用支撐構件分離。
本發明中較佳為,上述基板脫離機構具備使上述接觸部移動之彈性構件,藉由上述彈性構件彈性變形,上述接觸部相對 於上述蓋用支撐構件後退,藉由上述彈性構件恢復,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進。換言之,藉由接觸部相對於蓋用支撐構件後退,彈性構件彈性變形,朝使接觸部相對於蓋用支撐構件前進之方向推壓。根據此種彈性構件,可適宜地實現使接觸部相對於蓋用支撐構件之接觸部的前進及後退。此外,可簡化基板脫離機構之構造。
本發明中較佳為,於上述蓋朝上述開口前進時,上述框體內之基板,藉由與上述接觸部接觸,使上述接觸部相對於蓋用支撐構件後退。由於利用基板使接觸部相對於蓋用支撐構件後退,因此可簡化基板收納容器之構造。
本發明中較佳為,具備擋止構件,其設於上述框體內,藉由與上述基板脫離機構抵接,限制上述接觸部較上述框體內之規定位置更為前進。可避免接觸部於框體內過度前進。藉此,可適宜地保護框體內之基板。
本發明中較佳為,上述規定位置係設定在與下述基板之端部相接之位置,或上述端部之附近,該基板係在上述蓋安裝於上述框體時由上述蓋用支撐構件所支撐者。於蓋安裝於框體時,基板脫離機構不會對基板作用不需要之力,從而無基板損傷之虞。
本發明中較佳為,具備框體用支撐構件,其設於上述框體之內部,支撐基板之端部,上述框體用支撐構件與上述蓋用支撐構件夾持基板之端部。於蓋安裝於框體之狀態下,框體用支撐構件與蓋用支撐構件可適宜地支撐基板。再者,於框體用支撐構件與蓋用支撐構件支撐基板時,基板之下面可與架構件接觸,也可不接觸。
本發明中較佳為,藉由上述框體用支撐構件與上述蓋用支撐構件夾持上述基板之端部,使上述基板自上述架構件上昇,於上述蓋用支撐構件自上述開口後退,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進時,上述基板脫離機構使基板自上述蓋用支撐構件分離,使上述基板自上述蓋用支撐構件下降至上述架構件。於上述蓋用支撐構件自上述開口後退,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進時,基板脫離機構使蓋用支撐構件自基板分離,因此可確實地使基板自蓋用支撐構件下降至架構件。
此外,本發明係一種裝載埠裝置,其包含:載置台,其可載置上述發明之基板收納容器;及開閉機構,其對載置於上述載置台之上述基板收納容器的上述蓋進行開閉。
(作用功效)根據本發明之裝載埠裝置,可適宜地載置上述基板收納容器。
此外,本發明係一種基板處理裝置,其包含:載置台,其可載置上述發明之基板收納容器;開閉機構,其對載置於上述載置台之上述基板收納容器的上述蓋進行開閉;處理單元,其對基板進行處理;及搬送機構,其自載置於上述載置台之上述基板收納容器搬出基板,且搬入上述處理單元。
(作用功效)根據本發明之基板處理裝置,可對收容於上述基板收納容器之基板進行處理。
根據本發明之基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置,可在蓋安裝於框體之狀態下適宜地保護基板,因此可適宜地輸送基板收納容器。此外,於蓋自框體脫離時,能適宜地管理框體 內之基板之位置,因此可適宜地自框體搬出基板。
A‧‧‧開口
P1、P2、P3‧‧‧位置
S‧‧‧空間
W、Wa‧‧‧基板
1‧‧‧基板收納容器
2‧‧‧框體
3‧‧‧蓋
3b‧‧‧背面
4‧‧‧上板部
5‧‧‧底板部
6‧‧‧右側壁部
7‧‧‧左側壁部
8‧‧‧後壁部
11、11a、11b、11c‧‧‧架構件
12‧‧‧右架構件
13‧‧‧左架構件
14‧‧‧框體用支撐塊
16、16a、16b、16c‧‧‧框體用支撐構件
17‧‧‧槽部
17a‧‧‧下傾斜部
17b‧‧‧最深部
17c‧‧‧上傾斜部
21‧‧‧蓋用支撐塊
23、23a、23b、23c‧‧‧蓋用支撐構件
24‧‧‧槽部
24a‧‧‧下傾斜部
24b‧‧‧最深部
24c‧‧‧上傾斜部
31‧‧‧基板脫離機構
32‧‧‧彈簧(彈性構件)
33‧‧‧接觸部
35‧‧‧連結板
41‧‧‧基板處理裝置;擋止構件
42‧‧‧裝載埠部
43‧‧‧處理部
44‧‧‧載置台
45‧‧‧開閉機構
45a‧‧‧擋門構件
45b‧‧‧擋門構件用驅動機構
47‧‧‧搬送機構
47a‧‧‧保持臂
47b‧‧‧保持臂用驅動機構
48‧‧‧處理單元
51‧‧‧基板脫離機構
52‧‧‧彈簧(彈性構件)
52a‧‧‧基端部
52b‧‧‧接觸部
420、421、422‧‧‧裝載埠(裝載埠裝置)
圖1(a)為顯示蓋安裝於框體時之基板收納容器的外觀之立體圖,圖1(b)為顯示蓋未被安裝於框體時之基板收納容器的外觀之立體圖。
圖2(a)為顯示框體內部之俯視圖,圖2(b)為顯示框體內部之側視圖,圖2(c)為顯示框體內部之前視圖。
圖3(a)為蓋之俯視圖,圖3(b)為蓋之後視圖,圖3(c)為蓋之側視圖。
圖4(a)為基板處理裝置之俯視圖,圖4(b)為基板處理裝置之側視圖。
圖5(a)至圖5(c)為顯示將蓋裝卸於框體時之基板收納容器內部之側視圖及俯視圖。
圖6(a)至圖6(c)為顯示將蓋裝卸於框體時之基板收納容器內部之側視圖及俯視圖。
圖7為顯示蓋自開口後退時之基板收納容器內部之側視圖及俯視圖。
圖8(a)至圖8(c)為顯示將蓋裝卸於框體時之基板收納容器內部之俯視圖。
[實施例1] 1. 基板收納容器之構成
參照圖1(a)、1(b)。基板收納容器1之外形為大致長 方體。基板收納容器1可收容複數之基板W。「基板W」例如為半導體晶圓、光罩用之玻璃基板、液晶顯示裝置用之玻璃基板、電漿顯示器用之基板、光碟用之基板、磁碟用之基板、光磁碟用之基板等。
基板收納容器1具備框體2及蓋3。蓋3安裝於框體2之前面。如圖1(b)所示,於框體2之前面形成有開口A。蓋3係開閉開口A。開口A為大致垂直之虛擬面。於蓋3裝卸於框體2時,蓋3維持與開口A對向之狀態而朝與開口A大致正交之前後方向移動。前後方向為大致水平。於框體2之內部形成有用以收容基板W之空間S(參照圖2)。基板收納容器1構成為可收納至少一片基板W。標準上,基板收納容器1收納25片基板W。以下之說明中為了方便,以可收納至3片基板W之基板收納容器1為例進行說明。
除圖1(a)、(b)外並參照圖2(a)至圖2(c)。框體2具有上板部4、底板部5、右側壁部6、左側壁部7及後壁部8。各部4至8係界定上述空間S。圖2(a)中,為了方便圖示,省略上板部4及底板部5之圖示。圖2(b)中省略右側壁部6及左側壁部7之圖示。圖2(c)中省略後壁部8之圖示。
於框體2之內部設置有架構件11a、11b、11c。架構件11a、11b、11c係於上下方向排列配置。各架構件11a、11b、11c分別載置各1片基板W。各架構件11a、11b、11c係以大致水平姿勢自下方向支撐基板W。各架構件11a、11b、11c僅與基板W之下面接觸。再者,於本說明書中,「基板W之下面」係指包含基板W之下部周緣之概念。以下,於未特別區別架構件11a、11b、11c 之情況,簡稱為「架構件11」。如後述,設於基板收納容器1外部之保持臂47a,將基板W搬入各架構件11,且自各架構件11搬出基板W。搬入基板W時,保持臂47a進入各架構件11之上方之位置,然後略微下降,藉以將基板W載置於各架構件11上。此外,搬出基板W時,保持臂47a進入各架構件11之下方之位置,然後略微上昇,藉以保持各架構件11上之基板W(參照圖4(a)、4(b))。因此,於各架構件11之上方及下方設置有可供保持臂47a安全地進入(例如,保持臂47a不與基板W或架構件11碰撞而可進入)之間隙。此外,各架構件11之上下方向之間隔,係設定為能使保持臂47a安全地進入。
本實施例中,各架構件11包含右架構件12及左架構件13。右架構件12與左架構件13相互分離。右架構件12自右側壁部6突出,左架構件13自左側壁部7突出。
於框體2之內部還設置有框體用支撐塊14。框體用支撐塊14連結於框體2(後壁部8)。於框體用支撐塊14形成有框體用支撐構件16a,16b,16c。框體用支撐構件16a,16b,16c係於上下方向排列配置。各框體用支撐構件16a,16b,16c係支撐基板W之端部。以下,於未特別區別框體用支撐構件16a,16b,16c之情況,簡稱為「框體用支撐構件16」。
框體用支撐構件16之材質,例如為樹脂。於各框體用支撐構件16形成有一個槽部17。如圖2(b)所示,槽部17朝後方向凹陷。槽部17例如側視為呈橫向之大致「V」字形。
槽部17具有下傾斜部17a、最深部17b及上傾斜部17c。下傾斜部17a與最深部17b之下側鄰接,上傾斜部17c與最 深部17b之上側鄰接。
參照圖3(a)、3(b)。於蓋3安裝於框體2之狀態下,稱與框體2之內部(即空間S)相接觸之蓋3的面為「背面3b」。於背面3b固定有蓋用支撐塊21。於蓋用支撐塊21形成有蓋用支撐構件23a、23b、23c。蓋用支撐構件23a、23b、23c係於上下方向排列配置。各蓋用支撐構件23a、23b、23c係支撐基板W之端部。以下,於未特別區別蓋用支撐構件23a、23b、23c之情況,簡稱為「蓋用支撐構件23」。
蓋用支撐構件23之材質,例如為樹脂。更佳為,蓋用支撐構件23之材質為具有彈性之樹脂。蓋用支撐構件23具有與框體用支撐構件16同樣之形狀。亦即,於各蓋用支撐構件23形成有槽部24。各槽部24具有下傾斜部24a、最深部24b及上傾斜部24c。
參照圖5(a)至圖5(c)。於蓋3與開口A對向時,框體用支撐構件16a之最深部17b及蓋用支撐構件23a之最深部24b之位置,分別設定在與大致水平地載置於架構件11a之基板W的端部大致相同之高度。支撐構件16b,23b與架構件11b之高度關係,及支撐構件16c,23c與架構件11c之高度關係,也同樣。
再次參照圖3(a)、3(b)。於蓋3安裝有基板脫離機構31。基板脫離機構31係使蓋用支撐構件23支撐之基板W自蓋用支撐構件23脫離。基板脫離機構31具備複數(例如4個)之彈簧32及複數(例如2個)之接觸部33。
彈簧32可相對於蓋3移動地支撐接觸部33。彈簧32例如為壓縮線圈彈簧。彈簧32配置於蓋3與接觸部33之間。各彈 簧32之一端連結於蓋3之背面3b。2個彈簧32係於蓋用支撐構件23之右側被配置為相互於上下方向排列。該等2個彈簧32之另一端連結於一接觸部33。另外2個彈簧32係於蓋用支撐構件23之左側被配置為相互於上下方向排列。該等2個彈簧32之另一端連結於另一接觸部33。彈簧32係本發明中之彈性構件之例子。
一接觸部33配置於蓋用支撐構件23之右側,另一接觸部33配置於蓋用支撐構件23之左側。各接觸部33係於上下方向延伸,可一併與框體2內之複數之基板W接觸。接觸部33藉由彈簧32變形,可相對於蓋用支撐構件23朝前後方向移動。換言之,若接觸部33接近於蓋3,則彈簧32壓縮變形,朝接觸部33自蓋3遠離之方向推壓。
本說明書中,前後方向中的,自開口A朝後壁部8之方向為「前方向」,稱其之相反方向為「後方向」。前方向對蓋3、蓋用支撐構件23、接觸部33等設於框體2外部之構件而言,為靠近開口A之方向。後方向對設於框體2外部之構件而言,為自開口A遠離之方向。本說明書中,適宜地稱設於框體2外部之構件朝前方向移動之情況為「前進」。此外,適宜地稱設於框體2外部之構件朝後方向移動之情況為「後退」。
2. 裝載埠裝置及基板處理裝置之構成
參照圖4(a)、4(b),對使用基板收納容器1之基板處理裝置41進行說明。基板處理裝置41具備裝載埠部42及處理部43。裝載埠部42具有複數之裝載埠420、421、422。各裝載埠420、421、422分別具備載置台44及開閉機構45。載置台44載置基板收納容器1。開閉機構45開閉載置於載置台44之基板收納容器1。 開閉機構45具備擋門構件45a及擋門構件用驅動機構45b。擋門構件45a係裝卸載置台44上之基板收納容器1的蓋3,並保持自基板收納容器1卸下之蓋3。於蓋開閉機構45卸下蓋3時,擋門構件用驅動機構45b使擋門構件45a移動至位置P1、P2、P3(參照圖4(b))。擋門構件45a在位置P1與位置P2之間移動時,擋門構件45a可維持蓋3與開口A對向之狀態,而使蓋3沿前後方向移動。裝載埠裝置420、421、422係本發明之裝載埠裝置之例子。
處理部43具備搬送機構47及處理單元48。搬送機構47搬送基板W。搬送機構47進出於載置在載置台44之基板收納容器1。並且,搬送機構47進出於處理單元48。搬送機構47具備用以保持基板W之保持臂47a、及用以使保持臂47a移動之保持臂用驅動機構47b。處理單元48對基板W進行洗淨處理等之處理。
3. 動作例
其次,對實施例1之基板收納容器1之動作例進行說明。以下,首先對蓋3自框體2卸下之狀態進行說明。接著,對將蓋3安裝於框體2時之動作例、及自框體2卸下蓋3時之動作例進行說明。最後,對自基板收納容器1搬出基板W之動作例簡單地進行說明。
3.1. 蓋3自框體2卸下之狀態
參照圖4(a)、4(b)。於載置台44上載置有基板收納容器1。蓋3被自框體2卸下,基板收納容器1被開放。擋門構件45a例如於位置P2或位置P3保持蓋3。
參照圖5(a),更詳細地說明。圖5(a)、5(b)、5(c)中,左側之圖為側視圖,右側之圖為俯視圖。蓋3例如位於虛線所圖示 之位置,自框體2卸下。蓋用支撐構件23及接觸部33自基板W分離。彈簧32不彈性變形,以自然長度支撐接觸部33。於框體2之內部,各基板W載置於各架構件11,並且各基板W之端部與框體用支撐構件16之最深部17b接觸。
3.2. 將蓋3安裝於框體2時之動作例
參照圖4(b)。擋門構件45a保持蓋3,自位置P2朝位置P1移動。藉此,將蓋3安裝於框體2。以下,更詳細地進行說明。
參照圖5(a)。若蓋3自虛線所圖示之位置前進,則蓋用支撐構件23及基板脫離機構31與蓋3一體前進。當蓋3到達實線所圖示之位置時,接觸部33與框體2內之基板W之端部接觸。
參照圖5(b)。若蓋3繼續前進,則接觸部33自基板W受到反作用力。因此,即使蓋3前進,接觸部33仍停止在與基板W之端部接觸之位置。藉此,接觸部33朝蓋3靠近。相對於此,蓋用支撐構件23與蓋3一體前進。因此,接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退。於接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退時,接觸部33可較蓋用支撐構件23位於靠前方向之位置,也可較蓋用支撐構件23位於靠後方向之位置。藉由接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退(換言之,藉由接觸部33朝蓋3靠近),彈簧32壓縮變形。彈簧32將接觸部33朝前方向推壓,接觸部33將基板W朝前方向(亦即,朝框體用支撐構件16)推壓。基板W被朝框體用支撐構件16之最深部17b推抵,但基板W之位置不變。
參照圖5(c)。藉由蓋3前進至開口A,將蓋3安裝於框體2。此時,蓋用支撐構件23與蓋3一體前進,蓋用支撐構件 23之最深部24b與基板W之端部接觸。藉此,蓋用支撐構件23及框體用支撐構件16將基板W之端部夾入而進行支撐(以下,適宜地稱為「夾持」)。於蓋3安裝於框體2之狀態下,框體用支撐構件16、蓋用支撐構件23及接觸部33與基板W接觸。
3.3.自框體2卸下蓋3時之動作例
參照圖4(b)。擋門構件45a朝位置P1移動,保持安裝於框體2之蓋3。擋門構件45a於維持對蓋3保持之狀態下,自位置P1朝位置P2移動。藉此,蓋3被自框體2卸下。以下,具體地進行說明。
參照圖5(c)、5(b)。若蓋3自開口A後退,則蓋用支撐構件23與蓋3一體地後退。相對於此,藉由彈簧32恢復(亦即,藉由彈簧32伸展),接觸部33不與蓋3一體後退而保持靜止不動之狀態。藉此,接觸部33以自蓋遠離之方式移動,相對於蓋用支撐構件23前進。接觸部33相對於蓋用支撐構件23前進時,可較蓋用支撐構件23位於靠前方向之位置,也可較蓋用支撐構件23位於靠後方向之位置。並且,即使蓋3開始自開口A後退,接觸部33仍繼續與基板W接觸。藉此,接觸部33阻止基板W朝後方向移動。更具體而言,接觸部33在蓋3安裝於框體2之狀態下將基板W停留於被支撐之位置。接觸部33使基板W自蓋用支撐構件23分離。
基板W自蓋用支撐構件23分離之後,至蓋3後退至圖5(a)中實線所示之位置為止,接觸部33仍不移動而靜止。換言之,直到蓋3後退至圖5(a)中實線所示之位置為止,接觸部33仍相對於蓋用支撐構件23繼續前進,且繼續與基板W接觸。
若蓋3自圖5(a)中實線所示之位置再繼續後退,則接觸部33開始與蓋3一體後退,自基板W分離。接觸部33自基板W分離之後,框體2內之基板W被適宜地對齊。具體而言,蓋3自框體2脫離之後,於框體2內之複數之基板彼此之間,前後方向上之位置大致相等。此外,蓋3自框體2脫離後之基板W之位置,與蓋3安裝於框體2之狀態下之基板W之位置相同。並且,每當蓋3自框體2脫離,基板W之位置皆不會產生偏離。亦即,蓋3自框體2脫離後之基板W之位置始終相同。
3.4. 自基板收納容器1搬出基板W之動作例
參照圖4(a)、4(b)。框體2被開放。框體2內之所有基板W被以大致水平姿勢載置於架構件11。蓋3與擋門構件45a位於位置P3。保持臂47a進入框體2之內部。具體而言,保持臂47a進入載置有欲搬出之基板W之架構件11的下方之位置。然後,保持臂47a略微上昇,使1片基板W自架構件11上浮並將其保持。然後,於維持對基板W保持之狀態下,保持臂47a朝框體2之外部退出。如此,搬送機構47將基板收納容器1內之基板W搬出。然後,保持臂47a將此基板W搬送至處理單元48。
4. 實施例1之功效
於將蓋3安裝於框體2時,蓋3朝開口A前進。此時,接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退,因此,基板脫離機構31不會妨礙蓋用支撐構件23對基板W進行支撐。藉此,於蓋3安裝於框體2之狀態下,蓋用支撐構件23可適宜地支撐框體2內之基板W之端部。因此,即使於蓋3被安裝於框體2之狀態下,即使輸送基板收納容器1,也可適宜地保護基板W。
於將蓋3自框體2卸下時,蓋3自開口A後退。此時,接觸部33相對於蓋用支撐構件23相對地前進,使基板W自蓋用支撐構件23分離。藉此,可將基板W停留於適宜之位置或範圍。例如,可避免基板W仍附著於蓋用支撐構件23上,蓋3被自框體2卸下,而將基板W自框體2抽出之情況發生。如此,於自框體2卸下蓋3時,基板脫離機構31可將基板W停留於框體2內之正確之位置。
接觸部33係設置為相對於蓋3可於前後方向相對移動。換言之,前後方向上之接觸部33與蓋3之間之間隔可變動。藉此,接觸部33可相對於蓋用支撐構件23適宜地前進及後退。蓋用支撐構件23被固定於蓋3。藉此,接觸部33可相對於蓋用支撐構件23更適宜地前進及後退。
蓋3自開口A後退時,基板脫離機構31在蓋3安裝於框體2之狀態下使基板W停留於被支撐之位置。藉此,蓋3自框體2脫離時,可更適宜地管理框體2內之基板W之位置。
蓋3自開口A後退時,至蓋用支撐構件23自基板W分離為止,接觸部33仍繼續與基板W接觸。藉此,基板脫離機構31可確實地使基板W自蓋用支撐構件23分離。
彈簧32藉由彈性變形及恢復,可使接觸部33相對於蓋用支撐構件23適宜地前進及後退。由於基板脫離機構31具備此種彈簧32,因此可簡化基板脫離機構31之構造。
彈簧32利用蓋3朝開口A前進之運動而壓縮變形。藉此,基板脫離機構31不需要另外具備使彈簧32彈性變形之機構。亦即,可進一步簡化基板脫離機構31之構造。
並且,於蓋3朝開口A前進時,藉由框體2內之基板W與接觸部33接觸,使接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退。亦即,利用框體2內之基板W,使接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退。因此,基板收納容器1不需要另外具備使接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退之構件。亦即,還可簡化基板收納容器1之構造。
於蓋3安裝於框體2之狀態下,彈簧32將基板W按壓於框體用支撐構件16。藉此,框體用支撐構件16與蓋用支撐構件23可以適宜之強度夾持基板W。
於蓋用支撐構件23之材質為具有彈性之樹脂之情況,蓋用支撐構件23可確實地保持基板W。
於框體2之內部設置有框體用支撐構件16。藉此,於蓋3安裝於框體2之狀態下,框體用支撐構件16與蓋用支撐構件23可適宜地支撐基板W。
本實施例中,無論是架構件11支撐基板W時,還是支撐構件16,23支撐基板W時,基板W之高度位置皆不變。換言之,無論是蓋3安裝於框體2之狀態,還是蓋3自框體2卸下之狀態,基板收納容器1內之基板W之高度位置皆不變。因此,基板收納容器1可稱是FOUP(Front-Opening Unified Pod)之一形態。如此,基板脫離機構31可適宜地應用於FOUP型之基板收納容器1。
此外,裝載埠裝置420、421、422可適宜地載置基板收納容器1。
基板處理裝置41可對收容於基板收納容器1之基板W進行液處理或熱處理等之處理。
[實施例2]
以下,參照圖式對本發明之實施例2進行說明。以下之說明中,對與實施例1相同之構成,賦予相同之符號並省略詳細之說明。
1. 基板收納容器之構成
參照圖6(a)、(b)、(c)。於圖6(a)、(b)、(c)中,左側之圖為側視圖,右側之圖為俯視圖。實施例2中,於蓋3與開口A對向時,框體用支撐構件16a之下傾斜部17a之位置及蓋用支撐構件23a之下傾斜部24a之位置,分別被設定在可與大致水平地載置於架構件11a之基板W的端部接觸之高度。此外,框體用支撐構件16a之最深部17b及蓋用支撐構件23a之最深部24b,係設定為於基板W自架構件11上昇之狀態下可支撐基板W之端部之高度。
實施例2中,基板脫離機構31除具備彈簧32及接觸部33外,還具備連結板35。連結板35連結於接觸部33之下端部。連結板35延伸於接觸部33之下方。連結板35與接觸部33一體沿上下方向移動。
並且,實施例2中,基板收納容器1具備擋止構件41。擋止構件41固定於框體2。當連結板35移動至圖6(a)中實線所示之位置時,擋止構件41與連結板35抵接。藉此,擋止構件41限制接觸部33較圖6(a)中實線所示之規定位置超出前進。亦即,規定位置係接觸部33能於框體2內朝前方向最深地進入之位置,是藉由擋止構件41界定之接觸部33之位置。本實施例中,規定位置係設定在蓋3被安裝於框體2之狀態下藉由蓋用支撐構件23支撐之基板W之端部附近。於蓋3安裝於框體2,且接觸部33位於 規定位置時,接觸部33隔開略微之間隙而靠近基板W之端部。
2. 動作例 2.1. 自框體2卸下蓋3之狀態
參照圖6(a)。蓋3例如位於虛線所圖示之位置。基板W載置於架構件11。框體用支撐構件16之下傾斜部17a與基板W之後部端部接觸。
2.2. 將蓋3安裝於框體2時之動作例
參照圖6(a)。若蓋3自虛線所圖示之位置前進,則蓋用支撐構件23及基板脫離機構31與蓋3一體前進。
當蓋3到達實線所圖示之位置時,則接觸部33到達規定位置,擋止構件41與基板脫離機構31抵接。此時,蓋3尚未被安裝於框體2。接觸部33可與框體2內之基板W接觸,也可不接觸。於圖6(a)中,例示接觸部33與基板W不接觸之情況。
此外,若蓋3前進至實線所圖示之位置,則蓋用支撐構件23之下傾斜部24a與基板W之前部端部接觸。
參照圖6(b)。若蓋3繼續前進,則蓋用支撐構件23與蓋3一體前進,相對地,接觸部33不再前進而於抵接在擋止構件41之狀態下停留於該位置。藉此,接觸部33以靠近蓋3之方式移動,相對於蓋用支撐構件23後退。藉由接觸部33朝蓋3靠近(換言之,藉由接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退),彈簧32壓縮變形。彈簧32朝前方向推壓接觸部33。
藉由蓋用支撐構件23與蓋3一體前進,蓋用支撐構件23將基板W朝前方向推壓。基板W之前方向之端部滑上於框體用支撐構件16之下傾斜部17a,基板W之後方向之端部滑上於蓋 用支撐構件23之下傾斜部24a。藉此,基板W朝上方向且前方向移動。藉由基板W朝上方向移動,基板W自架構件11上昇(亦即,基板W自架構件11上浮)。藉由基板W朝前方向移動,基板W自接觸部33遠離。
參照圖6(c)。藉由使蓋3前進至開口A,將蓋3安裝於框體2。基板W之前部之端部到達最深部17b,基板W之後部之端部到達最深部24b。藉此,蓋用支撐構件23與框體用支撐構件16,於架構件11與基板W之下面不接觸之狀態下夾持基板W。此時,接觸部33隔開略微之間隔與基板W之端部對向。
2.3. 自框體2卸下蓋3時之動作例
參照圖6(c)、6(b)。若蓋3自開口A後退,則蓋用支撐構件23與蓋3一體後退。相對於此,藉由彈簧32恢復(伸展),接觸部33不與蓋3一體後退,於抵接在擋止構件41之狀態下停留於規定位置。亦即,接觸部33以自蓋3遠離之方式移動,相對於蓋用支撐構件23前進。
在此,當蓋3自開口A後退時,有時基板W會自然地自蓋用支撐構件23分離之情況,有並非如此之情況。
於前者之情況,基板W與接觸部33不接觸,而自蓋用支撐構件23分離。具體而言,如圖6(b)所示,若蓋3自開口A後退,則各基板W藉由自重而自最深部24b分離,各基板W藉由自重而滑落於下傾斜部24a。並且,如圖6(a)所示,各基板W自然地被載置於架構件11,且自然地自蓋用支撐構件23之下傾斜部24a分離。於該等動作中,基板W與接觸部33不接觸。
作為後者之例子,例如,會有即使蓋3自開口A後 退,基板W仍不會自然地自最深部24b分離之情況,或基板W不會自然地滑落於下傾斜部24a之情況等。不會自然地自蓋用支撐構件23分離之基板W,有與後退之蓋用支撐構件23一併移動之虞。例如,有基板W被蓋用支撐構件23朝後方向拉扯之虞。
參照圖7。圖7例示蓋3自開口A後退時,不會自然地自蓋用支撐構件23分離之基板Wa。如圖示,即使蓋3自開口A後退,基板Wa之端部仍維持被最深部24b支撐之狀態,未自最深部24b脫離。基板Wa與蓋用支撐構件23一併朝後方向移動。
如上述,於蓋3安裝於框體2之狀態下,基板W被夾持於兩支撐構件16、23之間,接觸部33藉由彈簧32及擋止構件41而靜止於規定位置,基板W與接觸部33相隔微小間隔而靠近。蓋3自開口A開始後退之後,藉由彈簧32之恢復,接觸部33仍停留在與基板W之端部靠近之規定位置。因此,假設基板Wa在附著於蓋用支撐構件23之狀態下與蓋用支撐構件23一併開始朝後方向移動,則基板Wa會很快地(或者立即)接觸於接觸部33。若基板Wa接觸於接觸部33,則基板Wa不能朝後方向進而移動。這是因為接觸部33阻止了基板Wa之朝後方向之移動。藉由蓋用支撐構件23繼續朝後方向移動,由接觸部33而被停留之基板Wa,自蓋用支撐構件23分離。更詳細而言,基板Wa自最深部24b分離,且滑落於下傾斜部24a而下降至架構件11,然後自下傾斜部24a分離。
於接觸部33將基板Wa自蓋用支撐構件23分離時,接觸部33位於規定位置。藉此,自蓋用支撐構件23分離後之基板Wa之位置,係蓋3安裝於框體2之狀態下之基板Wa之位置附近。 如此,即使為於蓋3自框體2卸下時不會自然地自蓋用支撐構件23分離之基板Wa,於蓋3自框體2卸下後,仍可將基板Wa之位置停留於適宜之範圍內。假設即使為蓋3自框體2卸下時有2片以上之基板W不會自然地自蓋用支撐構件23分離之情況,於蓋3自框體2卸下後,也可分別適宜地管理框體2內之所有基板W之位置。
3. 實施例2之功效
當蓋3朝開口A前進時,接觸部33相對於蓋用支撐構件23後退,因此,基板脫離機構31不會妨礙蓋用支撐構件23對基板W進行支撐。藉此,於蓋3安裝於框體2時,蓋用支撐構件23可適宜地支撐框體2內之基板W之端部。
於蓋3自開口A後退時,藉由接觸部33相對於蓋用支撐構件23前進,基板脫離機構31使基板W自蓋用支撐構件23分離。藉此,於蓋3自框體2脫離時,可將基板W停留於適宜之位置或範圍。如此,於蓋3自框體2脫離時,可適宜地管理框體2內之基板W之位置。
此外,基板脫離機構31不與蓋3自開口A後退時自然地自蓋用支撐構件23分離之基板W接觸,因此可更適宜地保護基板W。
基板收納容器1具備擋止構件41。藉此,可適宜地防止接觸部33越過規定位置而前進。藉此,可更適宜地保護基板W。
於蓋3自開口A後退時,藉由擋止構件41之限制及彈簧32之恢復,接觸部33停留於規定位置。藉此,可適宜地防止基板W較規定位置超出而朝前方向移動。
規定位置係設定在蓋3被安裝於框體2時藉由蓋用支撐構件23支撐之基板W之端部附近。藉此,於蓋3安裝於框體2之狀態下,接觸部33不與基板W接觸。藉此,可適宜地保護基板W。此外,可將蓋3自框體2卸下之狀態下之基板W之位置設定在與蓋3安裝於框體2之狀態下之基板W之位置為相同之位置或其附近。
本實施例中,於架構件11支撐基板W時,及支撐構件16、23支撐基板W時,基板W之高度位置變化,因此,基板收納容器1可稱是MAC(Multi Application Carrier)之一形態。如此,基板脫離機構31可適宜地應用於MAC型之基板收納容器1。
本發明不限上述實施形態,也可如下述變形實施。
(1)可適宜地變更基板脫離機構31之構造。
參照圖8(a)、(b)、(c)。如圖示,基板收納容器1具備基板脫離機構51。基板脫離機構51具備複數之彈簧52。彈簧52例如為單臂彈簧或懸臂彈簧。彈簧52具有基端部52a及接觸部52b。基端部52a固定於蓋3。一部分之彈簧52之基端部52a固定於蓋用支撐構件23之右側,另一彈簧52之基端部52a固定於蓋用支撐構件23之左側。藉由彈簧52撓曲(或者是翹曲或彎曲),接觸部52b可以朝蓋3靠近之方式移動,且接觸部52b可以自蓋3遠離之方式移動。
接觸部52b直接與基板W接觸。接觸部52b可一併與複數之基板W接觸,也可僅與一片基板W接觸。於後者之情況,複數之彈簧52配置為於上下方向排列。彈簧52係本發明中之彈性構件之例子。
本變形實施例中,於蓋3朝開口A前進時,接觸部52b相對於蓋用支撐構件23後退,蓋用支撐構件23支撐基板W之端部。此外,於蓋3自開口A後退時,接觸部52b相對於蓋用支撐構件23前進,基板脫離機構51使基板W自蓋用支撐構件23分離。藉此,即便根據本變形實施例,也可獲得與實施例1、2同樣之功效。此外,接觸部52b為彈簧52之一部分,因而可更進一步簡化基板脫離機構51之構造。
(2)也可適宜地變更藉由擋止構件41界定之規定位置。例如,也可將規定位置設定在與基板W之端部相接之位置,該基板W係在蓋3安裝於框體2之狀態下藉由蓋用支撐構件23所支撐者。本變形實施例中,於蓋3自開口A後退時,基板脫離機構31嚴格阻止框體2內之基板W之朝後方向之移動。其結果,即使蓋3自開口A後退,基板W連朝後方向些許地移動都不會產生。藉此,可使蓋3自框體2卸下後之基板W之位置與蓋3安裝於框體2之狀態下之基板W之位置一致。
(3)上述實施例1中,基板W自蓋用支撐構件23分離之後,接觸部33仍與基板W接觸,但不限於此。只要基板脫離機構31能使基板W自蓋用支撐構件23分離,也可適宜地變更接觸部33與基板W接觸之期間。例如,也可為於基板W與蓋用支撐構件23分離時,接觸部33也自基板W分離。
(4)上述實施例1中,於蓋3朝開口A前進時,接觸部33與基板W之接觸,較蓋用支撐構件23與基板W之接觸先開始,但不限於此。接觸部33與基板W之接觸、及蓋用支撐構件23與基板W之接觸,也可同時開始,接觸部33與基板W之接觸也可 較蓋用支撐構件23與基板W之接觸後開始。實施例2中,也可適宜地變更接觸部33與基板W之接觸、及蓋用支撐構件23與基板W之接觸之時間上的前後關係。
(5)上述各實施例及變形實施例中,於蓋用支撐構件23之兩側配置有基板脫離機構31、51(接觸部33、52b),但不限於此。也可於基板脫離機構31、51(接觸部33、52b)之兩側配置蓋用支撐構件23。
(6)上述各實施例中,複數之框體用支撐構件16被一體成形,但不限於此。例如,各框體用支撐構件16也可相互分離。關於蓋用支撐構件23之構造,也可同樣地變更。
(7)上述各實施例中,於蓋3自框體2卸下之狀態下,框體用支撐構件16與基板W接觸,但不限於此。即,也可為於蓋3自框體2卸下之狀態下,框體用支撐構件16不與基板W接觸。
(8)上述各實施例中,框體用支撐構件16被固定於框體2,但不限於此。框體用支撐構件16也可相對於框體2移動。同樣地,蓋用支撐構件23被固定於蓋3,但不限於此。蓋用支撐構件23也可相對於蓋3移動。
(9)上述各實施例中,也可適宜地變更框體用支撐構件16及蓋用支撐構件23之形狀。例如,如實施例1,於框體用支撐構件16僅以最深部17b與基板W接觸之情況下,也可省略下傾斜部17a及上傾斜部17c。同樣地,於蓋用支撐構件23僅以最深部24b與基板W接觸之情況下,也可省略下傾斜部24a及上傾斜部24c。
(10)上述各實施例中,複數之框體用支撐構件16配 置為於上下方向排列成一列,但不限於此。複數之框體用支撐構件16也可配置為於上下方向排列成複數列。複數之框體用支撐構件16也可於上下方向交錯配置。關於蓋用支撐構件23之配置,也可同樣地變更。
(11)上述各實施例及變形實施例中,基板收納容器1也可進而具備覆蓋基板脫離機構31、51之一部分之遮蔽構件。或者,基板收納容器1也可進而具備用以保持框體2內之基板W周圍之空間的清潔之遮蔽構件。作為遮蔽構件例如,例示有覆蓋彈簧32之波紋管、覆蓋彈簧52之基端部52a之隔壁等。根據此構成,即使於基板脫離機構31、51產生粉塵之情況,也可防止該粉塵沾附於基板W之情形。
(12)上述各實施例中,裝載埠裝置420、421、422分別具備1個載置台44,但不限於此。亦即,也可變更為具備複數個載置台之裝載埠裝置。此外,上述實施例中,裝載埠裝置420、421、422分別為載置1個基板收納容器1者,但不限於此。亦即,也可變更為可載置複數之基板收納容器1之裝載埠裝置。
(13)關於上述各實施例及上述(1)至(12)中說明之各變形實施例,也可藉由再將各構成與其他實施例之構成或其他變形實施例之構成置換或組合等而適宜地變更。
A‧‧‧開口
S‧‧‧空間
W‧‧‧基板
1‧‧‧基板收納容器
2‧‧‧框體
3‧‧‧蓋
11‧‧‧架構件
16‧‧‧框體用支撐構件
23‧‧‧蓋用支撐構件
31‧‧‧基板脫離機構
32‧‧‧彈簧(彈性構件)
33‧‧‧接觸部

Claims (10)

  1. 一種基板收納容器,其為基板收納之容器,其包含:框體,於其內部可收容基板,且於其前面具有開口;架構件,其設於上述框體之內部,且以大致水平姿勢載置基板;蓋,其裝卸於上述框體,以開閉上述開口;蓋用支撐構件,其安裝於上述蓋之背面側,支撐基板之端部;及基板脫離機構,其安裝於上述蓋之背面側,使上述蓋用支撐構件支撐之基板自上述蓋用支撐構件分離;上述基板脫離機構具有與基板直接接觸之接觸部,上述接觸部可相對於上述蓋用支撐構件移動,藉由上述蓋朝上述開口前進,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退,上述蓋用支撐構件支撐基板之端部,藉由上述蓋自上述開口後退,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進,上述基板脫離機構使基板自上述蓋用支撐構件分離,上述基板收納容器係具備擋止構件,其設於上述框體內,藉由與上述基板脫離機構抵接,限制上述接觸部較上述框體內之規定位置更為前進。
  2. 如請求項1之基板收納容器,其中,藉由上述接觸部以靠近上述蓋之方式移動,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退,藉由上述接觸部以遠離上述蓋之方式移動,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進。
  3. 如請求項2之基板收納容器,其中,上述蓋自上述開口後退時,至少至基板自上述蓋用支撐構件分離 為止,上述接觸部持續與基板接觸。
  4. 如請求項1至3中任一項之基板收納容器,其中,上述基板脫離機構具備使上述接觸部移動之彈性構件,藉由上述彈性構件彈性變形,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件後退,藉由上述彈性構件恢復,上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進。
  5. 如請求項1至3中任一項之基板收納容器,其中,於上述蓋朝上述開口前進時,上述框體內之基板,藉由與上述接觸部接觸,使上述接觸部相對於蓋用支撐構件後退。
  6. 如請求項1至3中任一項之基板收納容器,其中,上述規定位置係設定在與上述基板之端部相接之位置,或上述端部之附近,該基板係在上述蓋安裝於上述框體時由上述蓋用支撐構件所支撐者。
  7. 如請求項1至3中任一項之基板收納容器,其中,具備框體用支撐構件,其設於上述框體之內部,支撐基板之端部,上述框體用支撐構件與上述蓋用支撐構件夾持基板之端部。
  8. 如請求項7之基板收納容器,其中,藉由上述框體用支撐構件與上述蓋用支撐構件夾持上述基板之端部,使上述基板自上述架構件上昇,於上述蓋用支撐構件自上述開口後退,且上述接觸部相對於上述蓋用支撐構件前進時,上述基板脫離機構使基板自上述蓋用支撐構件分離,使上述基板自上述蓋用支撐構件下降至上述架構件。
  9. 一種裝載埠裝置,其包含: 載置台,其可載置請求項1至8中任一項之基板收納容器;及開閉機構,其對載置於上述載置台之上述基板收納容器的上述蓋進行開閉。
  10. 一種基板處理裝置,其包含:載置台,其可載置請求項1至8中任一項之基板收納容器;開閉機構,其對載置於上述載置台之上述基板收納容器的上述蓋進行開閉;處理單元,其對基板進行處理;及搬送機構,其自載置於上述載置台之上述基板收納容器搬出基板,且搬入上述處理單元。
TW104130931A 2014-09-29 2015-09-18 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置 TWI578431B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014198697A JP6430195B2 (ja) 2014-09-29 2014-09-29 基板収納容器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201624597A TW201624597A (zh) 2016-07-01
TWI578431B true TWI578431B (zh) 2017-04-11

Family

ID=55629990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104130931A TWI578431B (zh) 2014-09-29 2015-09-18 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10381249B2 (zh)
JP (1) JP6430195B2 (zh)
KR (1) KR101931038B1 (zh)
TW (1) TWI578431B (zh)
WO (1) WO2016051944A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102400424B1 (ko) * 2014-09-05 2022-05-19 로제 가부시키가이샤 로드 포트 및 로드 포트의 분위기 치환 방법
KR102325657B1 (ko) 2017-08-09 2021-11-12 미라이얼 가부시키가이샤 기판 수납 용기
JP7374683B2 (ja) * 2019-09-19 2023-11-07 株式会社Screenホールディングス 基板搬送装置および基板搬送装置のハンドの位置補正方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200305247A (en) * 2002-02-26 2003-10-16 Entegris Inc Wafer container for holding a plurality of wafers, method for restraining a plurality of wafers in a front opening wafer container, and method for disengaging wafers from an elastomeric wafer restraint cushion in a front opening wafer carrier
TW200519004A (en) * 2003-12-02 2005-06-16 Miraial Co Ltd Thin-plate supporting container
JP2006120791A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
WO2006058089A2 (en) * 2004-11-23 2006-06-01 Entegris, Inc. Wafer container with secondary wafer restraint system
US20140178162A1 (en) * 2012-12-25 2014-06-26 Tokyo Electron Limited Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and storage medium

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4043451A (en) * 1976-03-18 1977-08-23 Fluoroware, Inc. Shipping container for silicone semiconductor wafers
US5228568A (en) * 1991-08-30 1993-07-20 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Semiconductor wafer basket
US6267245B1 (en) * 1998-07-10 2001-07-31 Fluoroware, Inc. Cushioned wafer container
JP3938293B2 (ja) * 2001-05-30 2007-06-27 信越ポリマー株式会社 精密基板収納容器及びその押さえ部材
JP4667769B2 (ja) * 2004-06-11 2011-04-13 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
KR101472145B1 (ko) * 2006-11-07 2014-12-12 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 기판 수납 용기
JP4866315B2 (ja) 2007-08-16 2012-02-01 大日本スクリーン製造株式会社 載置台
WO2009131016A1 (ja) 2008-04-25 2009-10-29 信越ポリマー株式会社 リテーナ、及びリテーナを備えた基板収納容器
CN102362340B (zh) * 2009-05-13 2013-12-25 未来儿株式会社 半导体晶片收纳容器
JP5374640B2 (ja) 2010-04-20 2013-12-25 ミライアル株式会社 基板収納容器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200305247A (en) * 2002-02-26 2003-10-16 Entegris Inc Wafer container for holding a plurality of wafers, method for restraining a plurality of wafers in a front opening wafer container, and method for disengaging wafers from an elastomeric wafer restraint cushion in a front opening wafer carrier
TW200519004A (en) * 2003-12-02 2005-06-16 Miraial Co Ltd Thin-plate supporting container
JP2006120791A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
WO2006058089A2 (en) * 2004-11-23 2006-06-01 Entegris, Inc. Wafer container with secondary wafer restraint system
US20140178162A1 (en) * 2012-12-25 2014-06-26 Tokyo Electron Limited Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and storage medium

Also Published As

Publication number Publication date
US20170294328A1 (en) 2017-10-12
JP6430195B2 (ja) 2018-11-28
KR101931038B1 (ko) 2018-12-19
WO2016051944A1 (ja) 2016-04-07
US10381249B2 (en) 2019-08-13
KR20170038188A (ko) 2017-04-06
TW201624597A (zh) 2016-07-01
JP2016072369A (ja) 2016-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105405799B (zh) 基板容纳容器、加载端口装置以及基板处理装置
TWI523140B (zh) Loading port
CN102844249B (zh) 基板收纳容器
TWI574896B (zh) 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置
TWI578431B (zh) 基板收納容器、裝載埠裝置及基板處理裝置
CN103959454A (zh) 基板保持装置
KR20150027704A (ko) 로드 포트 장치 및 기판 처리 장치
JP6232253B2 (ja) ウェーハカセット
US10043695B1 (en) Apparatus for carrying and shielding wafers
TWI653103B (zh) 晶圓盒清洗裝置
JP2013030660A (ja) ロードポート装置及び当該装置に用いられるクランプ装置
JP6522476B2 (ja) 搬送機構
TWM532314U (zh) 晶圓盒清洗裝置
US20090142164A1 (en) Container lid opening/closing system and substrate processing method using the system
JP2004047839A (ja) 密閉容器開閉装置
JP2025042783A (ja) 保管・搬送容器
EP3379569A1 (en) Apparatus for carrying and shielding wafers
TW201724330A (zh) 基板處理系統
JPH11145239A (ja) 基板処理装置
KR20070076208A (ko) 웨이퍼 수납용 캐리어.