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TWI572641B - Composition for optical materials - Google Patents

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TWI572641B
TWI572641B TW102106959A TW102106959A TWI572641B TW I572641 B TWI572641 B TW I572641B TW 102106959 A TW102106959 A TW 102106959A TW 102106959 A TW102106959 A TW 102106959A TW I572641 B TWI572641 B TW I572641B
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TW
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composition
optical material
sulfur
mass
bis
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TW102106959A
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English (en)
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TW201345957A (zh
Inventor
Hiroaki Tanaka
Hiroshi Horikoshi
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=49116624&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TWI572641(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Mitsubishi Gas Chemical Co filed Critical Mitsubishi Gas Chemical Co
Publication of TW201345957A publication Critical patent/TW201345957A/zh
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Description

光學材料用組成物
本發明係有關一種光學材料用組成物等，特別是有關塑膠鏡片、稜鏡、光纖、資訊記錄基盤、過濾片等之光學材料，其中以塑膠鏡片為宜的光學材料用組成物等。
塑膠材料由於輕量且富含韌性，並可容易予以染色，近年來大多被使用於各種光學材料、特別是眼鏡鏡片。光學材料中眼鏡鏡片特別要求的性能，物理性質為低比重、高透明性及低黃色度、高耐熱性、高強度等，光學性能為高折射率與高阿貝數(Abbe Number)。高折射率可使鏡片薄片化，高阿貝數可減低鏡片之色收差，由於折射率愈為上升時，阿貝數反而愈為降低，故實施同時使兩者上升的檢討。於此等之檢討中最為典型的方法，係使用專利文獻1所示的環氧硫化物化合物之方法。
另外，亦進行著重於高折射率之檢討，提案有專利文獻2所示之由選自具有硫原子及/或硒原子的無機化合物中之1種以上的無機化合物、環氧硫化物化合物而成的組成物。
此外，含有硫與環氧硫化物化合物之組成物，由於聚合硬化時有白濁情形，為提高透明性時提案有專利文獻3~5。
然而，於上述提案中無法解決稱為正度數鏡片之中心厚度厚的鏡片時仍有的白濁問題。正度數鏡片為彙集透過光時，即使僅透明性稍微降低，仍容易以肉眼辨認，形成容易白濁的形狀。而且，用於光學材料用途時，於硬化後產生白濁時，全部變得不佳，產生龐大的損失。因此，企求於硬化前的階段中，可預測是否有硬化後之白濁產生且判斷良否的方法。
[習知技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平9-110979號公報
[專利文獻2]日本特開2001-2783號公報
[專利文獻3]日本特開2004-43526號公報
[專利文獻4]日本特開2004-137481號公報
[專利文獻5]日本特開2004-269673號公報
本發明解決的課題，係提供一種可抑制將含有硫與環氧硫化物化合物之組成物聚合硬化而得的硬化物之白濁情形，特別是可抑制在稱為正度數之鏡片的中心厚度厚的鏡片中產生的白濁。另外，於聚合硬化前的階段中，可預測、判斷是否有產生硬化後之白濁且判斷其良否的光學材 料用組成物。
本發明人等再三深入研究檢討該情形的結果，發現藉由含有於作成30質量%之二硫化碳溶液時之濁度值為10ppm以下的硫、與環氧硫化物之光學材料用組成物等，可解決本課題，遂而完成本發明。
換言之，本發明如下所述。
<1>一種光學材料用組成物，其特徵為含有於作成30質量%之二硫化碳溶液時之濁度值為10ppm以下的硫、與環氧硫化物化合物。
<2>如上述<1>記載之光學材料用組成物，其中進一步含有聚硫醇化合物。
<3>如上述<1>記載之光學材料用組成物，其中預先聚合前述硫與環氧硫化物化合物。
<4>如上述<1>記載之光學材料用組成物，其中預先聚合前述硫之10質量%以上與環氧硫化物化合物。
<5>如上述<3>或<4>記載之光學材料用組成物，其中進行預先聚合後，實施脫氣處理。
<6>一種光學材料，其係藉由將如上述<1>至<5>中任一項記載之光學材料用組成物聚合而得。
<7>一種光學材料用組成物之製造方法，其特徵為包含將於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值為10ppm以下之硫與環氧硫化物化合物預先聚合的步驟。
<8>如上述<7>記載之光學材料用組成物之製造方法，其中進一步具有添加聚硫醇化合物之步驟。
<9>如上述<7>或<8>記載之光學材料用組成物之製造方法，其中進一步具有脫氣處理的步驟。
藉由本發明，提供一種習知技術不易達成的可抑制將含有硫與環氧硫化物化合物之組成物聚合硬化而得的硬化物之白濁情形，特別是可抑制稱為正度數之鏡片的中心厚度厚的鏡片中產生的白濁，以及在聚合硬化前之階段中預測或判斷硬化後是否有白濁產生且可判斷良否的光學材料用組成物。
於本發明中，濁度係依照JIS K0101為基準，以高嶺土標準液為標準，使用濁度計進行測定。進行此等測定係使用於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值為10ppm以下之硫。較佳者為6ppm以下，更佳者為3ppm以下，最佳者為2ppm以下。
濁度值超過10ppm時，於形成稱為正度數之鏡片的中心厚度厚的鏡片時，於組成物硬化後產生很多的白濁情形。因此，藉由測定濁度值，可預測或判斷硬化後是否有白濁產生且可判斷生產性良否的光學材料用組成物。
於本發明中，30質量%之二硫化碳溶液係藉由在小瓶(vial)中量取硫9.0g後，加入二硫化碳21.0g，放入攪拌子，使用起動機、在室溫下進行攪拌30分鐘予以調製。
硫之製法係有自天然硫礦之昇華精製法、藉由埋藏於地底下之硫的熔融法予以採掘、以自石油或天然氣之脫硫 步驟等而得的硫化氫等為原料之回收法等，惟本發明所使用的硫，只要是於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值為10ppm以下之任何方法而得的硫皆可。較佳者為以自脫硫步驟而得的硫化氫為原料之回收法。此外，一般市售的硫，視其形狀或精製法而不同，有微粉硫、膠體硫、沉澱硫、結晶硫、昇華硫等，惟本發明所使用的硫，只要是於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值為10ppm以下之任何形狀或精製方法而得的硫皆可。較佳者為粒子微細的微粉硫，更佳者為使熔融硫慢慢地冷卻固化後，形成粉末之微粉硫。就考慮溶解性時，較佳者較10篩目更為微細，更佳者較30篩目更為微細，最佳者較60篩目更為微細。
本發明所使用的環氧硫化物化合物，包含全部的環氧硫化物化合物，具體而言例如具有鏈狀脂肪族骨架、脂肪族環狀骨架、芳香族骨架之化合物。
具有鏈狀脂肪族骨架之化合物，例如以下述(1)式表示的化合物。
(式中，m為0~4之整數，n為0~2之整數)。
具有脂肪族環狀骨架之化合物，例如下述(2)式或(3) 式表示的化合物。
(p,q係各表示0~4之整數)。
(p,q係各表示0~4之整數)。
具有芳香族骨架之化合物，例如以下述(4)式表示的化合物。
(p,q係各表示0~4之整數)。
更佳的具體例，具有鏈狀脂肪族骨架之上述(1)式表 示的化合物，如雙(β-環硫丙基)硫醚、雙(β-環硫丙基)二硫醚、雙(β-環硫丙基硫)甲烷、1,2-雙(β-環硫丙基硫)乙烷、1,3-雙(β-環硫丙基硫)丙烷、1,4-雙(β-環硫丙基硫)丁烷、雙(β-環硫丙基硫乙基)硫醚。
此外，具有脂肪族環狀骨架之環氧硫化物化合物，例如以1,3-及1,4-雙(β-環硫丙基硫)環己烷、1,3-及1,4-雙(β-環硫丙基硫甲基)環己烷、2,5-雙(β-環硫丙基硫)-1,4-二噻蒽、2,6-雙(β-環硫丙基硫乙基硫甲基)-1,4-二噻蒽較佳。
另外，具有芳香族骨架之環氧硫化物化合物，例如以1,3-及1,4-雙(β-環硫丙基硫)苯、1,3-及1,4-雙(β-環硫丙基硫甲基)苯較佳。
其中，較佳的化合物為具有鏈狀脂肪族骨架之以(1)式表示的化合物，具體而言有雙(β-環氧丙基)硫醚、雙(β-環氧丙基)二硫醚、雙(β-環氧丙基硫)甲烷、1,2-雙(β-環氧丙基硫)乙烷、1，3-雙(β-環氧丙基硫)丙烷、1，4-雙(β-環氧丙基硫)丁烷、雙(β-環氧丙基硫乙基)硫醚。更佳的化合物為雙(β-環氧丙基)硫醚((1)式中n=0)、雙(β-環氧丙基)二硫醚((1)式中m=0,n=1)，最佳的化合物為雙(β-環氧丙基)硫醚((1)式中n=0)。
本發明之光學材料用組成物所使用的硫，以硫與環氧硫化物化合物之合計量為100質量份時，通常為0.1~40質量份，較佳者為0.5~30質量份，更佳者為5~25質量份。
而且，本發明之光學材料用組成物，以預先使環氧硫化物化合物與硫反應較佳。該預先聚合反應之條件，較佳者在-10~120℃下進行0.1~240小時，更佳者在0~100℃下進行0.1~120小時，最佳者在20~80℃下進行0.1~60小時。為進行預先反應時，使用觸媒極為有效，較佳例如2-巰基-1-甲基咪唑、三苯基膦、3,5-二甲基吡唑、N-環己基-2-苯并噻唑基亞磺醯胺、二-五亞甲基四硫化鋶、四丁基二硫化鋶、四乙基二硫化鋶、1,2,3-三苯基胍、1,3-二苯基胍、1,1,3,3-四亞甲基胍、胺基胍尿素、三甲基硫尿素，四乙基硫尿素、二甲基乙基硫尿素、二丁基二硫胺基甲酸鋅、二苯甲基二硫胺基甲酸鋅、二乙基二硫胺基甲酸鋅、二甲基二硫胺基甲酸鋅、甲基哌啶基二硫胺基甲酸哌錠等。此外，藉由該預先聚合反應，以消耗10質量%以上之硫(反應前為100質量%)較佳，更佳者消耗20質量%以上。預先反應係在大氣、氮氣等惰性氣體下、藉由常壓或加減壓之密閉下等任意的氣體環境中進行。而且，為檢測預先反應之進度時，亦可使用液體色層分析法或折射率計。
於本發明中，亦可添加聚硫醇化合物。本發明中可使用的聚硫醇化合物，包含全部的聚硫醇化合物，具體而言，可例如甲烷二硫醇、1,2-二巰基乙烷、2,2-二巰基丙烷、1,3-二巰基丙烷、1,2,3-三巰基丙烷、1,4-二巰基丁烷、1,6-二巰基己烷、雙(2-巰基乙基)硫醚、1,2-雙(2-巰基乙基硫)乙烷、1,5-二巰基-3-氧化戊烷、1,8-二巰基-3,6- 二氧化辛烷、2,2-二甲基丙烷-1,3-二硫醇、3,4-二甲氧基丁烷-1,2-二硫醇、2-巰基甲基-1,3-二巰基丙烷、2-巰基甲基-1,4-二巰基丙烷、2-(2-巰基乙基硫)-1,3-二巰基丙烷、1,2-雙(2-巰基乙基硫)-3-巰基丙烷、1,1,1-參(巰基甲基)丙烷、肆(巰基甲基)甲烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫十一烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫十一烷、1,1,3,3-肆(硫基甲基硫)丙烷、乙二醇雙(2-巰基乙酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、1,4-丁二醇雙(2-巰基乙酸酯)、1,4-丁烷二醇雙(3-巰基丙烯酸酯)、三羥甲基丙烷參(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷參(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇肆(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇肆(3-巰基丙酸酯)、1,1-二巰基環己酮、1,2-二巰基環己烷、1,3-二巰基環己烷、1,4-二巰基環己烷、1,3-雙(巰基甲基)環己烷、1,4-雙(巰基甲基)環己烷、2,5-雙(巰基甲基)-1,4-二噻蒽、2,5-雙(巰基乙基)-1,4-二噻蒽、1,2-雙(巰基甲基)苯、1,3-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯、雙(4-巰基苯基)硫醚、雙(4-巰基苯基)醚、2,2-雙(4-巰基苯基)丙烷、雙(4-巰基甲基苯基)硫醚、雙(4-巰基甲基苯基)醚、2,2-雙(4-巰基甲基苯基)丙烷等。
於上述中較佳的化合物之具體例，如雙(2-巰基乙基)硫醚、季戊四醇肆(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇肆(3-巰基丙酸酯)、2,5-雙(巰基甲基)-1,4-二噻蒽、1,2-雙(2-巰基乙基硫)-3-巰基丙烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫 十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫十一烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫十一烷、1,1,3,3-肆(巰基甲基硫)丙烷、1,3-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯。此外，更佳的化合物之具體例，如雙(2-巰基乙基)硫醚、1,3-雙(巰基甲基)苯。
本發明使用的聚硫醇化合物，以硫與環氧硫化物化合物之合計量為100質量份時，通常使用1~30質量份，較佳者為2~20質量份，更佳者為3~15質量份。
本發明以相對於光學材料用組成物而言預先進行脫氣處理較佳。脫氣處理係在可與部分或全部的組成成分反應的化合物、聚合觸媒、添加劑之混合前、混合時或混合後，於減壓下進行。較佳者係於混合時或混合後、減壓下進行。處理條件係在0.001~50torr之減壓、0~100℃下進行1分鐘~24小時。減壓度以0.005~25torr較佳，更佳者為0.01~10torr，在此等範圍內可改變減壓度。脫氣時間以5分鐘~18小時較佳，更佳者為10分鐘~12小時。脫氣時之溫度，以5℃~80℃較佳，更佳者為10℃~60℃，在該範圍內可改變溫度。於脫氣處理時，藉由攪拌、氣體吹入、超音波等之震動等來更新光學材料用組成物之界面，就提高脫氣效果而言為較佳的操作。藉由脫氣處理所除去的成分，主要為硫化氫等之溶存氣體或低分子量的硫醇等之低沸點物等，只要具有本發明效果者即可，沒有特別限制除去對象成分之種類。
於下述中，說明有關使本發明之光學材料用組成物聚 合，製造光學材料的方法。
使本發明之光學材料用組成物聚合硬化的觸媒，係使用胺、鎓鹽或膦化合物。具體例如胺、四級銨鹽、四級鏻鹽、3級鋶鹽、2級碘鎓鹽、膦化合物。其中，以與組成物之相溶性良好的4級銨鹽及四級鏻鹽、膦化合物較佳。更佳者為4級鏻鹽。較佳的化合物之具體例，如四-n-丁基溴化銨、四苯基溴化銨、三乙基苯甲基氯化銨、乙醯基二甲基苯甲基氯化銨、1-n-十二烷基氯化吡錠等之4級銨鹽、四-n-丁基溴化鏻、四苯基溴化鏻等之4級鏻鹽、三苯基膦等之膦化合物。於此等之中，更佳的化合物為三乙基苯甲基氯化銨、四-n-丁基溴化鏻，最佳的化合物為三乙基苯甲基氯化銨。聚合觸媒可單獨使用，亦可2種以上混合使用。
聚合觸媒之添加量，係視組成物之成分、混合比例及聚合硬化方法而變化，無法一概而論，通常相對於光學材料用組成物全量而言為0.001質量%以上5質量%以下，較佳者為0.01質量%以上1質量%以下，最佳者為0.01質量%以上0.5質量%以下。聚合觸媒之添加量大於5質量%時，會有硬化物之折射率、耐熱性降低，且著色的問題。另外，小於0.001質量%時，無法充分硬化，耐熱性變得不充分。
於使光學材料用組成物聚合硬化時，以延長使用期限或聚合發熱之分散化等為目的時，視其所需可添加聚合調整劑。聚合調整劑例如在周期表上之第13~16族的鹵化 物。於此等之中，較佳的化合物為矽、鍺、錫、銻之鹵化物，更佳者為具有烷基之鍺、錫、銻之氯化物。最佳的化合物、具體例如二丁基二氯化錫、丁基三氯化錫、二辛基二氯化錫、辛基三氯化錫、二丁基二氯化鍺、丁基三氯化鍺、二苯基二氯化鍺、苯基三氯化鍺、三苯基氯化銻，最佳的化合物之具體例如二丁基二氯化錫。聚合調整劑可單獨使用，亦可2種以上混合使用。
聚合調整劑之添加量，通常相對於光學材料用組成物全量而言，為0.0001~5.0質量%，較佳者為0.0005~3.0質量%，更佳者為0.001~2.0質量%。
此外，使本發明之光學材料用組成物聚合硬化而得光學材料時，加入習知的抗氧化劑、紫外線吸收劑、藍色油墨劑等之添加劑，當然可更為提高所得材料之實用性。
抗氧化劑之較佳例，如苯酚衍生物。其中，較佳的化合物為多價苯酚類、鹵素取代的苯酚類，更佳的化合物為兒茶酚、焦培酚、烷基取代兒茶酚類，最佳的化合物為兒茶酚、焦培酚。紫外線防止劑之較佳例，如苯并三唑系化合物。其中，較佳的化合物之具體例，如2-(2-羥基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(3,5-二-第3-丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-第3-丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(3,5-第3-戊基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3,5-二-第3-丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-乙氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-4-辛氧基苯基)-2H-苯并三 唑、2-(2-羥基-5-第3-辛基苯基)-2H-苯并三唑。藍色油墨劑之較佳例如蒽醌系化合物。
此外，本發明之光學材料用組成物於聚合中容易自模具剝離時，亦可使用或添加習知的外部及/或內部密接性改善劑，控制、提高所得的硬化物與模具之密接性。密接性改善劑，例如習知的矽烷偶合劑或鈦酸鹽化合物類等，此等可單獨使用，亦可2種以上混合使用。通常，添加量相對於光學材料用組成物全量而言為0.0001~5質量%。 反之，本發明之組成物於聚合後不易自模具剝離時，亦可使用或添加習知的外部及/或內部脫模劑，提高所得的硬化物自模具之剝離性。脫模劑例如氟系非離子性界面活性劑、聚矽氧系非離子性界面活性劑、磷酸酯、酸性磷酸酯、氧化烯基型酸性磷酸酯、酸性磷酸酯之鹼金屬鹽、氧化烯基型酸性磷酸酯之鹼金屬鹽、高級脂肪酸之金屬鹽、高級脂肪酸酯、鏈烷烴、蠟、高級脂肪族醯胺、高級脂肪族醇、聚矽氧烷類、脂肪族胺氧化乙烯加成物等，此等可單獨使用，亦可2種以上混合使用。通常，添加量相對於光學材料用組成物全量而言為0.0001~5質量%。
使本發明之光學材料用組成物聚合硬化，製造光學材料的方法，於下述中更詳細地說明。將前述各組成成分、抗氧化劑、紫外線吸收劑、聚合觸媒、自由基聚合起始劑、密接性改善劑、脫模劑等之添加劑，可同時全部在同一容器內進行攪拌、混合，亦可使各原料分段式添加混合，或將數種成分個別混合後，再於同一容器內予以再混合。各原料及副 原料可以任意順序混合。於混合時，設定溫度、所需時間等，基本上只要是可充分混合各成分的條件即可。
該所得的光學材料用組成物，為排除異物等混入且為提高鏡片之品質時，亦可進行過濾。通常，過濾係使用具有0.05~3μm之孔徑的過濾器進行。
實施上述反應、處理的光學材料用組成物，係注入玻璃或金屬製模具中，藉由加熱或照射紫外線等之活性能量線進行聚合硬化反應後，自模具排出至外部。如此製造光學材料。光學材料用組成物，較佳者藉由加熱予以聚合硬化，製造光學材料。此時，硬化時間為0.1~200小時，通常為1~100小時，硬化溫度為-10~160℃，通常為-10~140℃。聚合可在指定的聚合溫度下維持於指定時間內，以0.1~100℃/小時之昇溫、0.1~100℃/小時之降溫及組合此等進行。另外，於本發明光學材料之製造方法中，聚合完成後，對硬化物而言在50~150℃之溫度下實施混練處理約10分鐘~5小時，為避免光學材料變形時為較佳的處理。視其所需可進行染料、硬性塗布、耐衝擊性塗布、防止反射、賦予防曇性等之表面處理。
於下述中，藉由實施例具體地說明本發明，惟本發明不受此等所限制。而且，評估以下述方法進行。
硫之濁度：使用東京電色製T-2600DA濁度計，測定於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值。
硬化物之白濁情形：在暗室內使硬化物照射螢光燈，且以目視觀察硬化物是否有混濁情形。
硬化物之成形狀況，係製作10片鏡片直徑為75mm、度數為+10D之鏡片，完全沒有白濁情形者為A，有9片沒有白濁情形者為B，有7或8片沒有白濁情形者為C，有6片沒有白濁情形者為D，5片以下沒有白濁情形者為E。A至D評估為合格。
[實施例]
實施例1
在濁度為1.8ppm之硫15質量份中加入雙(β-環硫丙基)硫醚85質量份、2-巰基-1-甲基咪唑0.5質量份，在60℃下預先反應至硫之消耗率為50%(藉由GPC方式進行HPLC測定)為止。然後，冷卻至20℃後，加入二丁基二氯化錫0.2質量份、作為聚合觸媒之三乙基苯甲基氯化銨0.03質量份之混合液，均勻混合後，在10Torr、20℃之條件下脫氣1小時，且以孔徑3.0μm之PTFE製薄膜過濾器進行過濾，注入正度數鏡片用模具中。在烤箱中，於22小時內自20℃昇溫至100℃予以聚合硬化、脫模，製得光學材料。結果如表1所示。
實施例2
除使用濁度為2.7ppm之硫外，實施與實施例1相同的操作。結果如表1所示。
實施例3
除使用濁度為5.6ppm之硫外，實施與實施例1相同的操作。結果如表1所示。
實施例4
除使用濁度為10.0ppm之硫外，實施與實施例1相同的操作。結果如表1所示。
比較例1
除使用濁度為12.3ppm之硫外，實施與實施例1相同的操作。結果如表1所示。
實施例5
在濁度為1.8ppm之硫14質量份中加入雙(β-環硫丙基)硫醚79質量份、2-巰基-1-甲基咪唑0.5質量份，在60℃下預先反應至硫之消耗率為50%(藉由GPC方式進行HPLC測定)為止。然後，冷卻至20℃後，加入雙(2-巰基乙 基)硫醚7質量份、二丁基二氯化錫0.2質量份、作為聚合觸媒之三乙基苯甲基氯化銨0.03質量份之混合液，均勻混合後，在10Torr、20℃之條件下脫氣1小時，且以孔徑3.0μm之PTFE製薄膜過濾器進行過濾，注入正度數鏡片用模具中。在烤箱中，於22小時內自20℃昇溫至100℃予以聚合硬化、脫模，製得光學材料。結果如表2所示。
實施例6
除使用濁度為2.7ppm之硫外，實施與實施例5相同的操作。結果如表2所示。
實施例7
除使用濁度為5.6ppm之硫外，實施與實施例5相同的操作。結果如表2所示。
實施例8
除使用濁度為10.0ppm之硫外，實施與實施例5相同的操作。結果如表2所示。
比較例2
除使用濁度為12.3ppm之硫外，實施與實施例5相同的操作。結果如表2所示。
實施例9
在濁度為1.8ppm之硫11質量份中加入2,5-雙(β-環硫丙基硫)-1,4-二噻蒽79質量份、2-巰基-1-甲基咪唑0.2質量份、雙(2-巰基乙基)硫化物5質量份，在60℃下預先反應至硫之消耗率為50%(藉由GPC方式進行HPLC測定)為止。然後，冷卻至20℃後，加入1,3-雙(巰基甲基)苯5質量份、二丁基二氯化錫0.2質量份、作為聚合觸媒之三乙基苯甲基氯化銨0.03質量份之混合液，均勻混合後，在10Torr、20℃之條件下脫氣1小時，且以孔徑3.0μm之PTFE製薄膜過濾器進行過濾，注入正度數鏡片用模具中。在烤箱中，於22小時內自20℃昇溫至100℃予以聚合硬化、脫模，製得光學材料。結果如表3所示。
實施例10
除使用濁度為2.7ppm之硫外，實施與實施例9相同的操作。結果如表3所示。
實施例11
除使用濁度為5.6ppm之硫外，實施與實施例9相同的操作。結果如表3所示。
實施例12
除使用濁度為10.0ppm之硫外，實施與實施例9相同的操作。結果如表3所示。
比較例3
除使用濁度為12.3ppm之硫外，實施與實施例9相同的操作。結果如表3所示。
實施例13
在濁度為1.8ppm之硫14質量份中加入雙(β-環硫丙基)硫醚79質量份、2-巰基-1-甲基咪唑0.2質量份、1,3-雙(巰基甲基)苯2質量份，在60℃下預先反應至巰之消耗率為50%(藉由GPC方式進行HPLC測定)為止。然後，冷卻至20℃後，加入1,3-雙(巰基甲基)苯5質量份、二丁基二氯化錫0.2質量份、作為聚合觸媒之三乙基苯甲基氯化 銨0.03質量份之混合液，均勻混合後，在10Torr、20℃之條件下脫氣1小時，且以孔徑3.0μm之PTFE製薄膜過濾器進行過濾，注入正度數鏡片用模具中。在烤箱中，於22小時內自20℃昇溫至100℃予以聚合硬化、脫模，製得光學材料。結果如表4所示。
實施例14
除使用濁度為2.7ppm之硫外，實施與實施例13相同的操作。結果如表4所示。
實施例15
除使用濁度為5.6ppm之硫外，實施與實施例13相同的操作。結果如表4所示。
實施例16
除使用濁度為10.0ppm之硫外，實施與實施例13相同的操作。結果如表4所示。
比較例4
除使用濁度為12.3ppm之硫外，實施與實施例13相同的操作。結果如表4所示。

Claims (9)

  1. 一種光學材料用組成物，其特徵為含有於作成30質量%之二硫化碳溶液時之濁度值為10ppm以下的硫、與環氧硫化物化合物。
  2. 如請求項1之光學材料用組成物，其中進一步含有聚硫醇化合物。
  3. 如請求項1之光學材料用組成物，其中預先聚合前述硫與環氧硫化物化合物。
  4. 如請求項1之光學材料用組成物，其中預先聚合前述硫之10質量%以上與環氧硫化物化合物。
  5. 如請求項3或4之光學材料用組成物，其中進行預先聚合後，實施脫氣處理。
  6. 一種光學材料，其係藉由將如請求項1至5中任一項之光學材料用組成物聚合而得。
  7. 一種光學材料用組成物之製造方法，其特徵為包含將於作成30質量%之二硫化碳溶液時的濁度值為10ppm以下之硫與環氧硫化物化合物預先聚合的步驟。
  8. 如請求項7之光學材料用組成物之製造方法，其中進一步具有添加聚硫醇化合物之步驟。
  9. 如請求項7或8之光學材料用組成物之製造方法，其中進一步具有脫氣處理的步驟。
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