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TWI571611B - 平整度檢測裝置 - Google Patents

平整度檢測裝置 Download PDF

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TWI571611B
TWI571611B TW104141709A TW104141709A TWI571611B TW I571611 B TWI571611 B TW I571611B TW 104141709 A TW104141709 A TW 104141709A TW 104141709 A TW104141709 A TW 104141709A TW I571611 B TWI571611 B TW I571611B
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TW104141709A
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Inventor
徐繼彭
賴陽球
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英業達股份有限公司
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  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)

Description

平整度檢測裝置
本發明係關於一種平整度檢測裝置。
近年來,隨著大資料應用的興起和雲端計算的快速增長,對長時間、大容量、高運算能力的伺服器需求日益凸顯,從而使得伺服器的集成度不斷提升,導致其重量也越來越重,進而伺服器下墜的程度也越來越嚴重,如此,提高了部署在機櫃內部的伺服器(業界也稱為節點)的運作以及維護難度。先前技術中,通常會對伺服器的下墜(Sag)程度,即平整度進行嚴格的管控,以優化伺服器結構,從而降低機櫃內伺服器的運作以及維護難度。
目前,伺服器的平整度是透過測量其底面上的若干點相對於基準面的高度進行檢測。具體檢測時,首先將待測伺服器水準懸空放置於承載臺上,之後,將該待測伺服器與承載台之間的支點調整為零點,以形成該基準面,隨後,透過測量設備測量該待測伺服器底面上的若干點相對於該基準面的高度,從而以若干測量到的高度,評價該待測伺服器的下墜程度。其中,平整度檢測中,尤為重要的是,保證該零點的準確性,因此,在測量時,需要準確地將該待測伺服器與承載台之間的支點調整為零點。
然而,發明人發現,先前的零點的調整通常是透過人為目測的方式完成,導致零點的調整精度和調整效率低。
本發明的目的在於提供一種平整度檢測裝置,以解決先前技術中零點調整精度和調整效率低中的一個或者多個問題。
為解決上述技術問題,本發明提供了一種平整度檢測裝置,包括:一承載機構,用於承載一待測裝置,藉以限定一承載面;一可升降支撐機構,用於支撐承載機構,並帶動承載機構作升降運動直至將承載面調整為一基準面;以及一測量機構,用於測量待測裝置的一底面與基準面的一高度差,藉以檢測待測裝置的平整度。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,承載機構為一多棱柱,每個承載機構透過其中一個棱邊承載待測裝置。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,承載機構為一三棱柱。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,承載機構承載待測裝置的區域具有容納測量機構的缺口。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,承載機構之兩端具有一定位孔,可升降支撐機構包括:一第一杆件組件,包括:一第一杆件,具有一第一杆端及與第一杆端對應的一第二杆端;一第一旋擰件,設置於第一杆端,並能夠沿第一杆件旋擰以調整高度;一定位柱,設置於第一杆端;以及一固定柱,剛性固設於第一杆件並設置於第二杆端一移動距離;以及一第二杆件元件,包括:一第二杆件,具有一第三杆端及與第三杆端對應的一第四杆端,第三杆端具有一盲孔,盲孔之深度為一盲深;以及一第二旋擰件,設置於第三杆端,並能夠沿第二杆件旋擰以調整高度,且能夠使第一杆件之第二杆端插入第二杆件之盲孔; 其中,移動距離大於盲深,可升降支撐機構透過定位柱插入定位孔支撐承載機構。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,第一旋擰件調整承載機構與可升降支撐機構之間的配合深度。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,,第二旋擰件調整待測裝置的底面與基準面的高度差。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,測量機構包括:一測量部,用於測量待測裝置的底面與基準面的高度差;以及一支撐部,用於支撐測量部。
由上述必要技術手段所衍生之一附屬技術手段為,測量部為一數顯千分錶。
綜上所述,本發明的平整度檢測裝置透過設置可升降支撐機構,能夠快速將承載機構的承載面調整為一基準面,相比於先前的人工目測手動將承載面調整為基準面,提高了基準面的調整精度和調整效率。
此外,本發明的可升降支撐機構透過杆件和旋擰件的螺紋配合實現升降,運行安全可靠,使用成本低,而且由於螺紋的間距可以得到精確的控制,因而,透過螺紋來調整所述可升降支撐機構的移動量,調整精度高。
本發明所採用的具體實施例,將藉由以下之實施例及圖式作進一步之說明。
10‧‧‧承載機構
101‧‧‧缺口
20‧‧‧可升降支撐機構
210‧‧‧第一杆件組件
211‧‧‧第一杆件
212‧‧‧第一旋擰件
213‧‧‧定位柱
214‧‧‧固定柱
220‧‧‧第二杆件元件
221‧‧‧第二杆件
222‧‧‧第二旋擰件
30‧‧‧測量機構
311‧‧‧支撐部
311a‧‧‧底座
311b‧‧‧支架
312‧‧‧測量部
40‧‧‧待測裝置
第一圖係顯示本發明較佳實施例的平整度檢測裝置的示意圖;第二圖係顯示本發明較佳實施例中之承載機構的示意圖; 第三圖係顯示本發明較佳實施例中之可升降支撐機構的示意圖;以及第四圖係第三圖所示的可升降支撐機構的縱向剖視示意圖。
為使本發明的目的、優點和特徵更加清楚,以下結合第一圖至第四圖對本發明提出的平整度檢測裝置作進一步詳細說明。需說明的是,圖式均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
第一圖為本發明較佳實施例的平整度檢測裝置的示意圖。如第一圖所示,平整度檢測裝置包括承載機構10、可升降支撐機構20和測量機構30,其中,承載機構10用於承載一待測裝置40,藉以限定一承載面,可升降支撐機構20用於支撐承載機構10,並帶動承載機構10作升降運動直至將承載面調整為一基準面,測量機構30用於測量待測裝置40的底面與基準面的高度差,以檢測待測裝置40的平整度。
本實施例的平整度檢測裝置透過設置可升降支撐機構20,使得承載面能夠快速地調整為基準面,相比於採用人工目測且手動調整的方式,提高了基準面的調整精度和調整效率。
本實施例中,待測裝置40例如為一伺服器,藉由透過平整度檢測裝置對伺服器的下墜度(即平整度)進行檢測,從而優化伺服器結構,並增強伺服器的結構強度,進而確保伺服器的正常運行。同時也可降低佈置於機櫃內的伺服器的運維難度。在此,將以伺服器為例,對上述平整度檢測裝置作更進一步的詳細說明。然而,待測裝置40包括但不局限於伺服器,凡需進行平整度檢測的其他裝置也可適用,具體本發明並不限定。
繼續參閱第一圖,承載機構10的數量為兩個,且兩個承載機構10水準排列,從而承載待測裝置40。第二圖係顯示本發明較佳實施例中之承載機構的示意圖。如第二圖所示,承載機構10為一多棱柱,每個承載機構10透過其中一個棱邊承載待測裝置40。本實施例的承載機構10透過線接觸方式承載待測裝置40,可以避免機構干涉,從而確保測量機構30能夠順利測量。較佳者,承載機構10為一三棱柱,這樣,在滿足承載強度的情況下,結構最為簡單,加工成本低。
請繼續參閱第二圖,較佳的,承載機構10承載待測裝置40的區域具有容納測量機構30的缺口101。此處,缺口101用以避位,藉以使測量機構30能夠測量到待測裝置40底面上各處的資料,確保平整度檢測的準確度。並且,採用切料讓位的方式形成避位空間,結構簡單,加工方便。具體地說,若承載機構10為三棱柱,缺口101由透過三棱柱的一個用於承載待測裝置10的棱邊切料形成。
請一併參閱第一圖至第四圖,第三圖係顯示本發明較佳實施例中之可升降支撐機構的示意圖;第四圖係第三圖所示的可升降支撐機構的縱向剖視示意圖。如第三圖至第四圖所示,並結合參閱第一圖至第二圖,承載機構10具有相對的兩端,每一端具有一定位孔(第一圖和第二圖中均未標示),可升降支撐機構20的數量為四個,且可升降支撐機構20包括第一杆件元件210和第二杆件元件220。
其中,第一杆件組件210包括第一杆件211、第一旋擰件212、定位柱213和固定柱214。第一杆件211具有第一杆端(即上端)和與第一杆端對應的第二杆端(即下端)。第一旋擰件212設置於第一杆件211的第一杆端並能夠沿第一杆件211旋擰(即第一旋擰件212與第一杆件211螺紋連接),以調整高度。定位柱213設置於第一杆件211的第一杆端。固定柱214剛性固 設於第一杆件211並設置於第一杆件211的第二杆端一移動距離(即距離第一杆件211的第二杆端有一段距離)。
其中,第二杆件元件220包括第二杆件221和第二旋擰件222。第二杆件221具有第三杆端(即上端)和與第三杆端對應的第四杆端(即下端)。所述第二杆件221的第三杆端具有一盲孔,盲孔之深度為一盲深。第二旋擰件222設置於第二杆件221的第三杆端並能夠沿第二杆件221旋擰(即第二旋擰件222與第二杆件221螺紋連接),藉以調整高度。且第二旋擰件222能夠使第一杆件221的第二杆端插入第二杆件221的所述盲孔。值得一提的是,移動距離大於盲深。可升降支撐機構20可透過定位柱213插入定位孔支撐承載機構10。
其中,第一旋擰件212可調整承載機構10與可升降支撐機構20之間的配合深度。第二旋擰件222可調整待測裝置40的底面與基準面的高度差。
具體地說,定位柱213插入定位孔中,以定位待測裝置40的水準安裝位置,而第一旋擰件212提供一承載面,以支撐承載機構10。一方面,可升降支撐機構20透過旋擰第一旋擰件212調節承載機構10與可升降支撐機構20之間的配合深度(也就是定位柱213插入定位孔的深度)。另一方面,可升降支撐機構20透過旋擰第二旋擰件222調節第一杆件組210的高度,從而調整基準面的高度。
在此,第二旋擰件222每旋轉一圈可以上升或者下降若干尺寸,也就是第二旋擰件222每旋轉一圈可以帶動承載機構10產生一定的移動量,從而達到調整承載機構10高度的目的。其中,所述尺寸的數量級通常為毫米。
本實施例的可升降支撐機構20透過杆件和旋擰件的螺紋配合實現升降,不僅運行安全可靠,使用成本低,而且調整方便。
較佳者,第一杆件211和第一旋擰件212的螺紋間距、以及第二杆件221和第二旋擰件222的螺紋間距均根據承載機構10的移動量及定位精度確定,如果螺紋間距太密,旋轉旋擰件的時間久會很長,不方便,如果螺紋間距太大,遠遠大於承載機構10的移動量精度,則透過旋轉旋擰件來確定承載機構10的準確位置又十分困難,而當螺紋間距與承載機構10的移動量精度相同時,調節承載機構10的移動量及準確定位最為方便可靠。
較佳的,第一旋擰件212和第二旋擰件222均經過表面滲碳及表面熱處理,以增強其螺紋的強度,確保使用的安全和可靠。同樣的,與之配合的第一杆件211和第二杆件221的螺紋相應經過表面滲碳及表面熱處理,可靠性更好。
其中,定位柱213與第一杆件211為一體成型。或者,定位柱213透過螺紋結構與第一杆件211固定連接,以便於拆卸更換。
承上述,能夠實現升降功能的可升降支撐機構20並不限於本發明較佳實施例所公開的上述結構,還可以採用其他公知的結構實現升降這一功能,例如採用氣動、液壓、電動等手段,且本領域技術人員明瞭所述功能還可以採用實施例中未提到的其他替代方式來完成,該機構不屬於以特定方式才能完成的機構。
繼續參閱第一圖,測量機構30包括支撐部311和測量部312,其中,支撐部311用於支撐測量部312,測量部312用於測量待測裝置40的底面與基準面的高度差。
其中,測量部312為一數顯千分錶(也可稱數位顯示千分錶或電子分厘表)。由於數顯千分錶能夠快速測量並讀取所測數值,因此,資料測量方便簡單。
為了提升資料測量的效率,支撐部311優選包括底311a、驅動機構和支架311b,其中,驅動機構可驅動底座311a運動(主要是平動),支架311b設置在底座311a上,用於支撐測量部312。
本實施例的測量機構30透過設置可以移動的支撐部311,使得測量部312能夠快速移動至待測區域,由此無需人為移動測量部312,可以有效提高測量效率。
綜上所述,本發明的平整度檢測裝置,透過設置可升降支撐機構20,能夠快速將用於承載待測裝置40的承載機構10的承載面調整為一基準面,相比於先前的人工目測手動將承載面調整為基準面,提高了基準面的調整精度和調整效率。
此外,本發明的可升降支撐機構20透過杆件和旋擰件的螺紋配合實現升降,結構簡單、運行安全可靠,使用成本低,而且由於螺紋的間距可以得到精確的控制,因而,透過螺紋來調整可升降支撐機構20的移動量,調整精度高。
上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述,並非對本發明範圍的任何限定,本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾,均屬於申請專利範圍的保護範圍。
10‧‧‧承載機構
20‧‧‧可升降支撐機構
30‧‧‧測量機構
311‧‧‧支撐部
311a‧‧‧底座
311b‧‧‧支架
312‧‧‧測量部
40‧‧‧待測裝置

Claims (9)

  1. 一種平整度檢測裝置,包括:至少二承載機構,係用以承載一待測裝置,並界定出一承載面;至少四可升降支撐機構,係用以支撐該承載機構,並帶動該承載機構作一升降運動直至將該承載面調整為一基準面;以及一測量機構,係用以測量該待測裝置的一底面與該基準面的一高度差,藉以檢測該待測裝置的平整度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的平整度檢測裝置,其中,該承載機構為一多棱柱,每個該承載機構透過該多棱柱之複數個棱邊中之一者承載該待測裝置。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的平整度檢測裝置,其中,該承載機構為一三棱柱。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述的平整度檢測裝置,其中,該承載機構所承載該待測裝置的區域具有容納該測量機構的缺口。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的平整度檢測裝置,其中,該些承載機構之兩端具有一定位孔,該可升降支撐機構包括:一第一杆件組件,包括:一第一杆件,具有一第一杆端以及對應於該第一杆端的一第二杆端;一第一旋擰件,設置於該第一杆端,並能夠沿該第一杆件旋擰,藉以調整高度;一定位柱,設置於該第一杆端;以及 一固定柱,剛性固設於該第一杆件並設置於該第二杆端之一移動距離;以及一第二杆件元件,包括:一第二杆件,具有一第三杆端以及及與對應於該第三杆端的一第四杆端,該第三杆端具有一盲孔,該盲孔之深度為一盲深;以及一第二旋擰件,設置於該第三杆端,並能夠沿該第二杆件旋擰,藉以調整高度,且能夠使該第一杆件之該第二杆端插入該第二杆件之該盲孔;其中,該移動距離係大於該盲深;該可升降支撐機構透過該定位柱插入該定位孔支撐該承載機構。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的平整度檢測裝置,其中,該第一旋擰件係用以調整該承載機構與該可升降支撐機構之間的配合深度。
  7. 如申請專利範圍第5項所述的平整度檢測裝置,其中,該第二旋擰件係用以調整該待測裝置的該底面與該基準面的該高度差。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的平整度檢測裝置,其中,該測量機構包括:一測量部,係用以測量該待測裝置的該底面與該基準面的該高度差;以及一支撐部,係用以支撐該測量部。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的平整度檢測裝置,其中,該測量部為一數顯千分錶。
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