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TWI554840B - 微影投射曝光裝置之多鏡面反射鏡 - Google Patents

微影投射曝光裝置之多鏡面反射鏡 Download PDF

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TWI554840B
TWI554840B TW100119952A TW100119952A TWI554840B TW I554840 B TWI554840 B TW I554840B TW 100119952 A TW100119952 A TW 100119952A TW 100119952 A TW100119952 A TW 100119952A TW I554840 B TWI554840 B TW I554840B
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mirror
lifting
placement
contact surface
displacement
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TW100119952A
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TW201224669A (en
Inventor
松斯頓 雷塞
馬可斯 赫夫
Original Assignee
卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司
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Publication date
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Description

微影投射曝光裝置之多鏡面反射鏡
本發明一般係關於微影投影曝光裝置之多鏡面反射鏡。這種反射鏡通常用於例如次世代EUV設備的照明系統內。
微影(也稱為光微影或簡影)為積體電路、液晶顯示器以及其他微結構裝置的製造技術。微影處理結合蝕刻處理，用於在例如矽晶圓這類基板上已經形成的薄膜堆疊內產生圖案。在每一製造層上，首先在該晶圓上塗抹光阻，就是對電磁輻射敏感的材料。接下來，頂端上含該光阻的該晶圓透過投影曝光裝置內的光罩，暴露在投影光線之下。該光罩包含要投影到該光阻上的電路圖案。曝光之後，該光阻顯影產生對應至該光罩內含電路圖案的影像，然後一蝕刻處理將該電路圖案轉換至該晶圓上的該薄膜堆疊上。最後，去除該光阻。使用不同的光罩重複此處理，產生多層微結構組件。
投影曝光裝置一般包含一照明系統、用於對齊該光罩的一光罩對齊台階、一投影物鏡(有時也稱為「透鏡」)以及用於對齊已塗抹該光阻的該晶圓之一晶圓對齊台階。利用該照明系統照射在該光罩上，該投影物鏡將該電路圖案的一部分成像在該光阻上，通常為縮小尺寸。
微影投影曝光裝置發展的主要目標之一為可微影定義晶圓上尺寸越來越小的部件。小部件造成高整合密度，這通常對於在這種設備幫助之下，所產生的微結構組件效能有不錯的效果。
可用微影定義的最小部件大小大約與投影光線的波長成比例。因此，這種設備的製造致力使用波長越來越短的投影光線。目前使用的最短波長為248 nm、193 nm以及157 nm，這落在深紫外線(deep ultraviolet，DUV)或真空紫外線(vacuum ultraviolet，VUV)頻譜範圍內。
次世代上市的設備將使用波長更短的投影光線，大約是13.4 nm，這在極紫外線(extreme ultraviolet，EUV)頻譜範圍內。因為目前並無光學材料可讓EUV光線穿透，所以這種設備當中就不可能使用透鏡或其他折射光學元件。取而代之是這種設備的光學系統具有反射性，這表示所有光學元件(包括光罩)都可反射。
EUV投影曝光裝置的照明系統通常包含一或多個多鏡面反射鏡。多鏡面反射鏡包含複數個反射鏡構件(偶而稱為反射鏡鏡面)，每個都具有一平坦或弧形反射表面。有時該EUV照明系統包含一個多鏡面反射鏡，用於決定該照明系統的光瞳表面內之亮度分配。接著，此亮度分配決定EUV投影光線從哪個方向撞擊該光罩。吾人若想變更這些方向，則需要傾斜該多鏡面反射鏡的反射鏡構件。其他多鏡面反射鏡通常用於產生共同照射該光罩的複數個二級光源。依照原理，多鏡面反射鏡也可用於投影物鏡，例如在光瞳表面內或旁邊。
某些多鏡面反射鏡包含可在致動器幫助之下單獨調整的反射鏡構件，這種多鏡面反射鏡說明於US 2005/0030653 A1內。此先前技術多鏡面反射鏡的每個反射鏡構件都具有一基板，具有至少大約是球體切除頂端的形狀。該切除頂端定義一平坦或弧形區域，上面施以反射塗佈。該基板連接至一致動桿，該桿具有縱向軸，與該球形基板的對稱軸重合。該多鏡面反射鏡的支撐板可提供複數個插槽給該等球形基板。該致動桿延伸通過該插槽，並且從該支撐板的底部表面穿出。該致動桿的此突出部分連接到致動器，其設置來側向移動該致動桿，該致動桿自由端的側向位移造成整個反射鏡構件的傾斜動作。
US 2009/0225297 A1描述一透鏡的致動器，包含三個致動器構件，平均分布在該透鏡四周。每一致動器構件都包含三個壓電堆疊，彼此重疊。一個堆疊可沿一個方向改變長度，另兩個堆疊可沿另兩個方向執行切變變形。若所有這些方向彼此垂直，則透鏡可沿任意方向移動，並且也可繞著特定傾斜軸傾斜。
WO 2010/037476 A2描述使用超音波傳感器傾斜多鏡面反射鏡的反射鏡構件。
若這種多鏡面反射境內反射鏡構件的密度非常高，則可用於容納單一致動器的空間就變得非常小。尤其是，若可能的傾斜角度範圍必須大，則難以在反射鏡基板四周橫向界定出來的空間內(至少大約)，該致動桿的一邊上安排一個致動器。
因此本發明的目的在於提供一種微影投影曝光裝置的多鏡面反射鏡，其中用於傾斜該等反射鏡構件的致動器具有非常小的橫向尺寸，如此該等反射鏡構件可密集封裝。
根據本發明的第一態樣，利用包含複數個反射鏡鏡面單元的多鏡面反射鏡，就可達成此目的。每一反射鏡鏡面單元都包含一反射鏡構件，該構件包含一反射鏡本體；在該反射鏡本體的一第一末端上之一反射塗佈；以及在該反射鏡本體與該第一末端反向的一第二末端上之一致動表面。該反射鏡鏡面單元另包含一軸承，讓該反射鏡構件定義一傾斜軸；一放置構件，其上放置該致動表面，而不移動該反射鏡構件；以及一致動器。該致動器構造成關於該傾斜軸傾斜該反射鏡構件，並且包含一接觸表面以及一抬升構件。該傾斜構件構造成沿著一抬升方向移動該致動表面。在該抬升構件的一第一操作狀態中，該致動表面至少主要放置在該放置構件上。在該抬升構件的一第二操作狀態中，該致動表面至少主要放置在該接觸表面上。該致動器另包含一位移構件，其構造成沿著一側向方向移動該接觸表面，只有在該抬升構件位於該第二操作狀態下，形成與該抬升方向夾非0°的角度。
若該抬升構件與該位移構件都構造成執行彼此同步的振動運動，則可非常迅速將該反射鏡構件傾斜大傾斜角度。
本發明係根據若傾斜動作細分成許多小步階，則只能擁有單一致動器可用空間的密集限制認知。然後每一這些步階都伴隨少量位移，因此在整個傾斜過程中，該致動器不必執行如同該反射鏡構件所做的大動作。
將較大動作細分為一連串小步階的概念為業界內所熟知，請參閱上述的US 2009/0225297 A1。不過，若將此概念應用在傾斜多鏡面反射鏡的反射鏡構件之問題上，將造成其中沿著該反射鏡基板的四周分配三個致動構件之構造。如此致動器會具有非常大的側向尺寸，讓該反射鏡構件無法密集封裝。
根據本發明，該等致動器並未作用在該反射鏡基板的四周，而是作用在該反射鏡基板反向上的致動表面，如此可將該致動器安排在該反射鏡基板底下。若該反射鏡本體包含其上供應該反射塗佈的基板、其上形成該致動表面的一平板以及將該基板連接至該平板的一桿子，該致動器甚至可安排在該致動表面底下，如此該致動器的側向尺寸可維持非常小。在本發明的上下文關係中，一桿子為任意長條構件，長度超過往垂直方向測量的寬度。
若該致動表面往外凸，則若該反射鏡構件傾斜，該致動表面與該接觸表面之間的距離並不會顯著改變。
該致動表面可在與該傾斜軸垂直的一平面內擁有一圓弧外型，其中該曲率中心位於該傾斜軸上。在此情況下，若該反射鏡構件已經傾斜，該致動表面也不會改變與該接觸表面的距離。若有兩垂直的傾斜軸，該致動表面可為球形，曲率中心與該兩傾斜軸的交叉點重合。
若利用壓電堆疊形成該抬升構件與該位移構件，則可非常精準地抬升與位移該反射鏡構件。在一個具體實施例內，該等堆疊彼此重疊，形成一多軸壓電組件。然後在此組件的最上層堆疊之上形成該接觸表面。
該抬升構件可整合入該放置構件，如此該放置構件或其一部分可沿著該抬升方向移動。然後在未整合入該放置構件的該位移構件之上，形成該接觸表面。
在某些具體實施例內，該反射鏡鏡面單元包含一預載裝置，其構造成在至少若該抬升構件位於該第一操作狀態時，施加一預載力量，壓著該致動表面抵住該放置構件。如此一預載裝置確定在不管重力方向之下，該致動表面與該放置構件之間有足夠的摩擦力，如此該反射鏡構件藉由該摩擦力保持在定位上。若該預載裝置也在該第二操作狀態之下施加該壓力，則也會增加該接觸表面動作期間的摩擦力。
該預載裝置可包含一彈性構件，例如一彈簧，或一可控制的壓力構件，例如一壓電堆疊。
該放置構件可至少部分圍繞該位移構件。尤其是，該放置構件可具有一環狀截面，與該抬升方向垂直。在其他具體實施例內，該放置構件包含複數個柱狀體，可具有環形截面。圍繞該位移構件通常導致具有軸向或n折對稱(n-fold symmetry)的構造，幫助該反射鏡鏡面單元達到可靠以及準確的功能。
若該反射鏡構件應繞著一第二傾斜軸傾斜，該反射鏡鏡面單元可包含一進一步位移構件，其構造成沿著一方向移動該接觸表面，只有在該抬升構件位於該第二操作狀態下，形成與該抬升方向夾非0°的一第二角度，以及形成與該側向方向夾非0°的一第三角度。
若該抬升構件與該兩位移構件都由壓電堆疊(piezoelectric stacks)形成，則這些堆疊也可彼此重疊形成一多軸壓電組件。
值得注意的是，另外在該抬升構件的該第一操作狀態下，該致動表面與該接觸表面之間有些接觸。不過在此情況下，該致動表面與該放置表面之間的該摩擦力應該足以讓該致動表面保持在定位，如此該反射鏡構件不會傾斜。
多鏡面反射鏡不僅用於EUV投影曝光裝置，也用於DUV或VUV設備的照明系統。在這種系統當中，該等多鏡面反射鏡可繞著兩垂直傾斜軸自由傾斜，並且用於定義該照明系統的一光瞳表面內的該亮度分配。這種多鏡面反射鏡的許多具體實施例說明於WO 2005/026843 A1內。本發明也可用於這種DUV或VUV投影曝光裝置。
更進一步，本發明也可用於反射鏡構件以外的傾斜機械組件。
根據本發明的第二態樣，利用包含複數個反射鏡鏡面單元的微影投影曝光裝置之多鏡面反射鏡，就可達成上述目的。每一反射鏡鏡面單元都包含一可傾斜的反射鏡構件；一軸承，讓該反射鏡構件定義一傾斜軸；以及一致動器，其構造成繞著該傾斜軸傾斜該反射鏡構件。該致動器包含一位移構件，其構造成執行振動運動，以及一壓放(press and release)系統，其構造成在位移時間上間歇壓下該反射鏡構件與該位移構件彼此抵住，與該位移構件的該振動運動同步。
根據此第二態樣的本發明也根據若傾斜動作細分成許多小步階，則只能擁有單一致動器可用空間的密集限制認知。然後每一這些步階都伴隨少量位移，因此在整個傾斜過程中，該致動器不必執行如同該反射鏡構件所做的大動作。
在該反射鏡構件要沿著一傾斜方向進行傾斜動作時，該壓放系統以在該位移期間該位移構件只沿著兩相反方向其中之一移動之方式同步。
該反射鏡構件可包含一反射鏡本體、提供在該反射鏡本體的一第一末端上之一反射塗佈以及該反射鏡本體上與該第一末端相反配置的一第二末端上提供之一致動表面。然後該位移構件構造成只在該位移期間壓住該致動表面。
I.　投影曝光裝置的一般構造
圖1為依照本發明設計的EUV投影曝光裝置10之極度簡化透視圖。設備10包含一照明系統12，產生波長在EUV頻譜範圍內，例如13.4 nm的投影光線之光束13。光束13從光罩16上一場14底下照射，在該光罩的底下利用複數個小部件形成反射圖案18。在此具體實施例內，照明場14具有矩形形狀。
投影物鏡20將照明場14內的圖案18成像至由基板24支撐的感光層22上。通常感光層22為光阻並且基板24為矽晶圓。基板24安排在一晶圓載台上(未顯示)，如此感光層22的頂端表面精準地位於投影物鏡20的成像平面內。光罩16藉由光罩載台(未顯示)定位在投影物鏡20的物體平面內。因為後者具有倍率β，其中|β|<1，所以在感光層22上形成照明場14內圖案18的縮小影像14'。
因為目前並無光學材料可讓EUV投影光線穿透，所以設備10內就不可能使用透鏡或其他折射光學元件。取而代之，照明系統12與投影物鏡20只內含反射鏡當成光學元件(除了光圈(stop)以外)。另外，光罩16亦係反射性。
投影期間，光罩16沿著掃描方向移動，該方向與圖1內指示的Y方向重合。然後照明場14掃描通過光罩16，如此連續投影出比照明場14還要大的圖案區域。若投影物鏡20顛倒影像(β<0)，則在投影期間，光罩16和基板24往相反方向移動，如圖1內的箭頭A1與A2所示。若投影物鏡20未顛倒影像(β>0)，則光罩與基板24往相同方向移動。在這兩種情況下，基板24與光罩16的速率間之比率等於投影物鏡20之倍率β。
不過，本發明也可用於步進機工具，其中光罩16與基板24在光罩投影期間並不移動。
II.　多鏡面反射鏡
DUV或VUV投影曝光裝置的照明系統通常內含飛眼(fly’s eyes)透鏡或其他光學元件，例如繞射光學元件。在圖1所示的EUV照明系統12內，包含複數個個別反射鏡構件的多鏡面反射鏡取代了光學光柵元件的工作。
圖2為照明系統12內含的多鏡面反射鏡之透視圖，整個用26表示。多鏡面反射鏡26包含一支稱結構28，其具有蓋板30，然後其上突出複數個反射鏡構件32。下列第III段內會有更詳細解釋，每一反射鏡構件32都屬於多鏡面反射鏡單元的一部分，該單元包含致動器，構造成繞著兩垂直傾斜軸傾斜該反射鏡構件。如此撞擊在反射鏡構件32其中之一上的光線，反射進入已經設定給特定反射鏡構件32的該傾斜角度所決定之方向。
吾人應該注意，在真實多鏡面反射鏡26內，反射鏡構件32以及構成的反射鏡鏡面單元之密度通常較高。如此嚴重限制可容納致動器以及各反射鏡鏡面單元中其他組件的空間。
III. 反射鏡鏡面單元
圖3為通過圖2所示多鏡面反射鏡26內含的反射鏡鏡面單元中之一個之圖解與未依照比例的剖面圖。整個標示為34的反射鏡鏡面單元排在蓋板30與也屬於支撐結構28一部分的基座板36之間。複數個冷卻通道38延伸通過基座板36，該通道可具有圓形剖面。在設備10的操作期間，流體，例如水這類液體，流過冷卻通道38，如此用對流方式，從多鏡面反射鏡26去除投影光線吸收所產生的熱量。
反射鏡構件32屬於反射鏡鏡面單元34的一部分，包含為剛性結構的反射鏡本體40，其可由例如鋼或其他金屬製成。反射鏡本體40包含其上施以反射塗佈44的一基板42、一桿子46以及一平板48。在所示的具體實施例內，基板42的頂端表面為平面；在其他具體實施例內，基板42可具有彎曲的頂端表面，其上施以反射塗佈44。基板42透過桿子46連接至圓形的平板48。在圖3內面向下，如此遠離反射塗佈44的平板48的表面為弧形。此表面(底下稱為致動表面50)的曲率中心與兩垂直傾斜軸的交叉點重合。在圖3內，此點由小點52表示。
該等傾斜軸在點52上交叉，因此由軸承54所定義，其圍繞桿子46的一部分並且具有大體上為階梯套管的形狀，包含具有較小內與外直徑的第一部分56，以及具有較寬內與外直徑的第二部分58。如所示，兩部分56、58都可為單獨零件或由單一零件整合為一體。
軸承54的第二部分58放置在預載裝置60上。預載裝置60由薄圓形橋所形成，其延伸通過反射鏡鏡面單元34的支撐板64內所形成之圓形凹槽62。該橋具有彈性，並且構造成在軸承54上施加張力(tensile force)。由於此張力，軸承54和反射鏡本體40與之相連，讓傾斜軸永遠拉向支撐板64。為了讓軸承54和反射鏡本體40有少量縱向移動，蓋板30內讓軸承54延伸通過的孔洞66可具有比軸承54的第一部分56外直徑稍大之直徑，如此造成鬆散裝配。
軸承54的第二部分58定義一凹穴68，可容納放置構件70與致動器72。圖4沿著IV-IV線的剖面可了解，本具體實施例的放置構件70為套管形狀，其縱軸與軸承54，尤其是其第二部分58的縱軸重合。接著致動器72容納於放置構件70內部形成的凹穴內。
致動器72包含一抬升構件74、一第一位移構件76以及一第二位移構件78。抬升構件74構造成可沿著Z方向變更長度，該方向與軸承54以及放置構件70的縱軸重合。第一位移構件76構造成可沿著垂直的X方向執行切變變形；因此圖3內用「x」表示。第二位移構件78構造成可沿著與X和Z方向垂直的Y方向執行切變變形；因此圖3內用「y」表示。
在所示的具體實施例內，抬升構件74和位移構件76、78都由壓電堆疊形成，類似於上述文件US 2009/0225297 A1內描述的壓電堆疊。每一構件74、76、78都可單獨控制，如此接觸表面80，也就是本具體實施例內第一位移構件76的頂端表面，可與該Z方向以及與該Z方向垂直的XY平面平行移動。在圖3所示的操作狀態中，致動器72的接觸表面80與反射鏡本體40的致動表面50相鄰。
VI.　反射鏡鏡面單元的功能
下面將參考圖3至圖10，描述如何在致動器72的幫助之下傾斜反射鏡構件32。圖4至圖10顯示不同操作狀態下的反射鏡鏡面單元34。
在圖3中，抬升構件74在第一操作狀態下，其中抬升構件74沿著該Z方向具有最小長度。然後收縮接觸表面80，如此與反射鏡本體40的致動表面50不接觸，或最多只有稍微接觸。另外，反射鏡本體40的致動表面50整個或至少大部分都放置在放置構件70上。由於預載裝置60施加預載，致動表面50壓住放置構件70，如此致動表面50與放置構件70之間的摩擦力足以避免反射鏡本體40繞著傾斜軸有任何動作。預載裝置60進一步確定即使反射鏡鏡面單元34朝下安裝，重力對於致動表面50與放置構件70之間的摩擦力無貢獻時也可保持。
圖5顯示在第二操作狀態下的抬升構件74，其中抬升構件74沿著該Z方向具有最大長度。抬升構件74沿著該Z方向擴展時，致動器72的接觸表面80將先與反射鏡構件32的致動表面50接觸。隨著繼續伸展，抬升構件74將整個反射鏡構件32以及軸承54抬起，抵抗預載裝置60產生的預載力量。在此抬升動作之下，反射鏡構件32的致動表面50離開放置構件70，如此就無任何摩擦力將反射鏡本體40固定在原來位置上。圖5內顯示此狀態。此時若接觸表面80側向位移，例如在與抬升方向Z垂直(即是形成等於90°的角度)的XY平面內，則反射鏡構件32可自由執行傾斜動作。圖5內用箭頭81指示接觸表面80沿著該X方向的側向動作。
圖6顯示抬升構件72的第二操作狀態下之反射鏡鏡面單元34，不過具有接觸表面80側向位移，如圖5內箭頭81所示，造成第一位移構件76額外切變變形。因為反射鏡構件32用其致動表面50完全(或至少大部分)放置在致動器72的接觸表面80上，接觸表面80的側向位移會導致反射鏡構件32繞著與該Y方向平行的傾斜軸傾斜。此傾斜軸與通過點52的抽出板垂直。理所當然，基板42上的反射塗佈44也將繞著此傾斜軸傾斜。
該傾斜角度受限於第一位移構件76所能達到的接觸表面80的最大位移。為了有較大傾斜角度，必須重複上述傾斜動作，直到設定所要的傾斜角度。
圖7例示抬升構件74再次收縮之後的狀態。這允許反射鏡本體40下降至放置構件70，在此用摩擦力固定在定位。因為接觸表面80再次離開致動表面50，則第一位移構件76自由回到原始狀態，如圖7內的箭頭82所示。
圖8顯示在此構造內的反射鏡鏡面單元34。除了反射鏡構件32已經傾斜以外，該構造與圖3內顯示的構造一致。此時重複上面參考圖5和圖6所述之處理。圖9和圖10顯示抬升構件74再次於第二操作狀態下反射鏡鏡面單元34之狀態，其中接觸表面80與致動表面50接觸，並且反射鏡構件32抬離放置構件70。
反射鏡構件32繞著垂直傾斜軸之傾斜，即與該X方向平行的軸，可用相同方式執行。為此，只需要使用第二位移構件78，其可沿著該X方向位移接觸表面80。隨著抬升構件74在第二操作狀態下，其中致動表面50至少大部分放置在接觸表面80上，則位移構件76、78可同時操作，如此反射鏡構件32繞著與該Y方向平行的軸之傾斜動作可與繞著垂直軸之傾斜動作重疊。
若致動器72的構件74、76和78構造成壓電堆疊或類似的高精準致動元件，則反射鏡構件32的傾斜非常精準。雖然由位移構件76、78產生的每次接觸表面80位移都相當小，不過因為上述參考圖3至圖10的操作執行重複率非常高，所以還是可迅速設定大傾斜角度。例如：可在一微秒內執行完整循環。
V.　替代具體實施例
在圖3至圖10所示的具體實施例內，放置構件70具有在XY平面內延伸的平坦前表面84，該平面與放置構件70的縱軸垂直。因為平板48的致動表面50有凸出弧狀，則若抬升構件74在圖3所示的第一操作狀態內，致動表面50與放置構件70的前表面84間之接觸區為圓形。
圖11至圖14顯示根據替代具體實施例，放置構件70的前表面84之不同構造。假設平板48的形狀與上述參照圖3至圖10的具體實施例內相同，然後該接觸區域的外型以及反射鏡構件32放置在放置構件70上將其保持在定位之摩擦力，只取決於前表面84的構造。圖11至圖14之每一圖都內含顯示放置構件70之前表面84的俯視圖，以及通過放置構件70與平板48之剖面圖。該接觸區域標示為86並塗黑。
在圖11所示的具體實施例內，放置構件70的前表面84內凹弧度與致動表面50弧度互補。因此，此具體實施例內致動表面50與放置構件70之間的接觸區域86等於放置構件70的前表面84之總面積。
在圖12所示的具體實施例內，放置構件70的前表面84為圓錐形，如此接觸區域86再次為圓形。不過，此圓形並未在放置構件70的內直徑上，而是在內與外直徑之間，如圖12的俯視圖所示。
在圖13所示的具體實施例內，放置構件70並非由套管形成，而是由角度相差120°的三個柱狀體88所形成。每一柱狀體88都具有環狀的剖面。由三個柱狀體88定義的前表面84同樣為圓錐形。不過，與圖12所示的具體實施例不同，由接觸區域86位於柱狀體88的外直徑附近，來決定圓錐角度。
在圖14所示的具體實施例內，柱狀體88具有方形剖面。三個柱狀體88的前表面84為平面，並且在與柱狀體88的縱向方向垂直之平面內延伸。為此，致動表面50與放置構件70之間的接觸區域86侷限在柱狀體88的內緣上三點。
圖15和圖16以類似於圖5和圖6的方式，顯示其中抬升構件74整合入放置構件70的具體實施例。該放置構件可為圖4或圖11至圖14所示的任何構造。在此具體實施例內，第一位移構件76頂端上形成的接觸表面並未沿著該Z方向移動。相較於圖3至圖10所示的具體實施例，若抬升構件74具有最長長度，即在延伸構造中，可獲得其中致動表面50至少大部分放置在放置構件70上的第一操作狀態。在此第一操作狀態中，如圖15內所示，接觸表面80並未與反射鏡構件32的致動表面50接觸。
若抬升構件74在其中完全收縮的第二操作狀態內，接觸表面80與反射鏡構件32的致動表面50接觸，如圖16內所示。然後在位移構件76、78的幫助之下，側向位移接觸表面80來傾斜反射鏡構件32。
圖17顯示類似於圖5的具體實施例，其中預載裝置60未包含屬於支撐板64一部分的橋，而是包含整合入反射鏡本體40的桿子46之彈性構件90。如此具備軸承54可固定至支撐板64，並壓配進入蓋板30之優點。在傾斜動作期間，反射鏡本體40的基板42並不沿著該Z方向執行任何動作，與上述具體實施例不同。取而代之，反射鏡32傾斜時該桿子的長度縮短。為此，桿子46可分成兩部分46a、46b，對稱顯示在圖17內，可彼此用套筒方式位移，如此改變桿子46的總長度。可用彈簧形成的彈性構件90確定致動表面50總是壓住致動器72的接觸表面80，如此總是維持充分的摩擦力。
圖18顯示類似於圖5的具體實施例，其中該預載裝置包含兩個壓電堆疊60a、60b，構造成改變沿著該Z方向的長度。圖18顯示抬升構件74的第一操作狀態內的反射鏡鏡面單元34，其中接觸表面80離開致動表面50。為了維持致動表面50與放置構件70之間足夠的摩擦力，以在平板48的頂端上施加壓力之方式，控制壓電堆疊60a、60b。
圖19顯示抬升構件74在其第二操作狀態下，此具體實施例的反射鏡鏡面單元34。然後，致動器72的接觸表面80接觸反射鏡構件32的致動表面50。為了維持致動表面50與同樣在此操作狀態內的接觸表面80之間足夠的摩擦力，壓電堆疊60a、60b持續在平板48的頂端上施加壓力。如此，壓電堆疊60a、60b總是與平板48接觸。因為在反射鏡構件32的傾斜動作期間也施加壓力，所以平板48上邊與壓電堆疊60a、60b間之摩擦力可最小化。
在此具體實施例內，壓電堆疊60a、60b形成必須主動控制的預載裝置，如此在一邊的平板48與另一邊的致動器72或放置構件70之間施加所要的摩擦力。
圖20為仍舊依照進一步具體實施例，通過多鏡面反射鏡26一部分的剖面圖。每一反射鏡構件32都具有頂端切除的球形本體基板42，具有其上施以反射塗佈44的平坦或弧形區域。桿子46具有縱軸，其與球形基板42對稱的軸重合。
該蓋板由上平板30a與下平板30b構成，在插入反射鏡構件32之後彼此固定。從圖20的右手邊可了解，其中未顯示反射鏡構件32，上平板30a的孔洞66a具有頂端切除的圓錐67的形狀。在下平板30b內，孔洞具有上圓錐部分66b，具有顛倒的圓錐角度以及圓柱形下半部66b'。上平板30a的孔洞66a與下平板30b的圓錐部分66b一起形成插槽，供反射鏡構件32的球形基板42使用。這些插槽定義傾斜軸的位置。
桿子46延伸通過下平板30b的孔洞66b，並且從下平板30b的底部表面突出。在此具體實施例內，預載裝置60由在下平板30b與反射鏡本體40的平板48之間延伸的彈性構件90形成。
即使已經藉由指定具體實施例來說明本發明，精通技術人士將可了解許多變化與替代具體實施例，例如利用個別具體實施例特徵的組合及/或交換。因此，精通技術人士將了解，本發明也包含這種變化與替代具體實施例，並且本發明的範圍只受限於隨附申請專利範圍及其同等項。
10．．．EUV投影曝光裝置
12．．．照明系統
13．．．光束
14．．．場
14'．．．縮小影像
16．．．光罩
18．．．反射圖案
20．．．投影物鏡
22．．．感光層
24．．．基板
26．．．多鏡面反射鏡
28．．．支撐結構
30．．．蓋板
30a．．．上平板
30b．．．下平板
32．．．反射鏡構件
34．．．反射鏡鏡面單元
36．．．基座板
38．．．冷卻通道
40．．．反射鏡本體
42．．．基板
44．．．反射塗佈
46．．．桿子
46a．．．部分
46b．．．部分
48．．．平板
50．．．致動表面
52．．．傾斜軸
52．．．小點
54．．．軸承
56．．．第一部分
58．．．第二部分
60．．．預載裝置
60a．．．壓電堆疊
60b．．．壓電堆疊
62．．．圓形凹槽
64．．．支撐板
66．．．孔洞
66a．．．孔洞
66b．．．上圓錐部分
66b'．．．圓柱形下半部
67．．．頂端切除的圓錐
68．．．凹穴
70．．．放置構件
72．．．致動器
74．．．抬升構件
76．．．第一位移構件
78．．．第二位移構件
80．．．接觸表面
81．．．箭頭
82．．．箭頭
84．．．平坦前表面
86．．．接觸區域
88．．．柱狀體
90．．．彈性構件
參考下列詳細說明並結合附圖，將會更清楚了解到本發明的許多特徵與優點，其中：
圖1為依照本發明的EUV微影投影曝光裝置之透視圖；
圖2為依照本發明一個具體實施例包含固定至一支稱板的反射鏡鏡面之多鏡面反射鏡的簡單透視圖；
圖3為通過圖2內所示多鏡面反射鏡的部份剖面圖；
圖4為沿著圖3內IV-IV線所示的一部分鏡面反射鏡單元之俯視圖；
圖5至圖10為類似於圖3的剖面圖，用於圖3內所示反射鏡鏡面單元不同的操作狀態；
圖11至圖14為依照許多替代具體實施例通過放置構件的剖面圖與俯視圖；
圖15為依照替代具體實施例，通過其上抬升構件配置在該放置構件頂端之上的多鏡面反射鏡之部分剖面圖；
圖16顯示不同操作狀態下圖15的反射鏡鏡面單元；
圖17為依照進一步具體實施例，通過其中利用將彈性構件整合入該反射鏡本體來產生一預載力量的多鏡面反射鏡之部分剖面圖；
圖18為依照進一步具體實施例，通過其中利用壓電堆疊產生一預載力量的多鏡面反射鏡之部分剖面圖；
圖19顯示不同操作狀態下圖18內的反射鏡鏡面單元；
圖20為仍舊依照進一步具體實施例，通過其中該反射鏡本體的基板具有球體切除頂端形狀的一部分多鏡面反射鏡之剖面圖。
30．．．蓋板
32．．．反射鏡構件
34．．．反射鏡鏡面單元
36．．．基座板
38．．．冷卻通道
40．．．反射鏡本體
42．．．基板
44．．．反射塗佈
46．．．桿子
48．．．平板
50．．．致動表面
52．．．傾斜軸
52．．．小點
54．．．軸承
56．．．第一部分
58．．．第二部分
60．．．預載裝置
62．．．圓形凹槽
64．．．支撐板
66．．．孔洞
68．．．凹穴
70．．．放置構件
72．．．致動器
74．．．抬升構件
76．．．第一位移構件
78．．．第二位移構件
80．．．接觸表面
84．．．平坦前表面

Claims (12)

  1. 一種微影投影曝光裝置的多鏡面反射鏡，包含複數個反射鏡鏡面單元(34)，其中每一反射鏡鏡面單元包含a)一反射鏡構件(32)，包含-一反射鏡本體(40)；-一反射塗佈(44)，位於在該反射鏡本體(40)的一第一末端上；以及-一致動表面(50)，位於在該反射鏡本體(40)的一第二末端上，其中該第二末端與該第一末端反向，b)一軸承(54)，讓該反射鏡構件(32)定義一傾斜軸(52)，c)一放置構件(70)，其上放置該致動表面(50)，而不移動該反射鏡構件(32)，d)一致動器(72)，其構造成繞著該傾斜軸(52)傾斜該反射鏡構件(32)，其中該致動器(72)包含-一接觸表面(80)，-一抬升構件(74)，其構造成沿著一抬升方向(Z)移動該致動表面(50)，其中在該抬升構件(74)的一第一操作狀態下，該致動表面(50)至少大部分放置在該放置構件(70)上，並且在該抬升構件(74)的一第二操作狀態下，該致動表面(50)至少大部分放置在該接觸表面(80)上，以及-一位移構件(76，78)，其構造成沿著一側向方向(X，Y)位移該接觸表面(80)，只有在該抬升構件(72)位於該第二操作狀態下，形成與該抬升方向(Z)夾非0°的角度。
  2. 如申請專利範圍第1項之多鏡面反射鏡，其中該抬升構件(72)與該位移構件(76，78)都構造成執行彼此同步的振動運動。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，其中該反射鏡本體(40)包含其上施以該反射塗佈(44)的一基板(42)、其上形成該致動表面(50)的一平板(48)以及將該基板(42)連接至該平板(48)的一桿子(46)。
  4. 如前述申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，其中該致動表面(50)為凸出弧狀。
  5. 如申請專利範圍第4項之多鏡面反射鏡，其中該致動表面(50)在與該傾斜軸(52)垂直的一平面內擁有一圓弧外型，以一曲率中心位於該傾斜軸(52)上。
  6. 如前述申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，其中該抬升構件(72)與該位移構件(74，76)都由壓電堆疊形成。
  7. 如申請專利範圍第6項之多鏡面反射鏡，其中該等堆疊彼此重疊，形成一多軸壓電組件，並且其中該接觸表面(80)形成於該多軸壓電組件上。
  8. 如前述申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，包含一預載裝置(60)，其構造成在若該抬升構件(72)位於該第一操作狀態時，施加一預載力量，壓著該致動表面(50)抵住該放置構件(70)。
  9. 如申請專利範圍第8項之多鏡面反射鏡，其中該預載裝置(60)包含一彈性構件(90)或一可控制的壓力構件(60a，60b)。
  10. 如前述申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，其中該放置構件(70)至少部分圍繞該位移構件(74，76)。
  11. 如前述申請專利範圍第1項或第2項之多鏡面反射鏡，其中該抬升構件(72)整合入該放置構件(70)。
  12. 一種微影投影曝光裝置的照明系統，包含如前述申請專利範圍任一項之多鏡面反射鏡。
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