TWI540483B - 觸控顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

Description

觸控顯示裝置及其製造方法

本發明係一種顯示裝置及其製造方法，尤指一種觸控顯示裝置及其製造方法。

按，近年來，越來越多的電子產品為了讓使用者不需經過複雜的學習即能簡單且直覺的使用該電子產品，已將傳統的實體按鍵或滑鼠整合於顯示面板，而轉為觸控面板以作為輸入裝置。觸控面板為一貼附在顯示器上之裝置，使用者可以透過手指觸碰面板或由觸碰筆輕壓面板來操作電子產品，此項技術不但省略了鍵盤的配置空間之外，亦能把空間挪至顯示裝置上，以加大使用者之可視區域。

然而，一般觸控顯示裝置之製造方法是將複數感測電極直接設置於顯示模組的某一側基板上，並且該些感測電極分別經由一導線連接至感測電路，而由於該基板之材質通常為玻璃或塑膠，其表面容易因為加工或者其他外在因素而受到傷害，例如受到外力而產生刮痕，因此其表面勢必會有許多不平整之處，若將該些感測電極及所連接之導線直接設置於該基板的表面上，則容易造成導線斷裂，進而導致觸控顯示裝置之製程良率過低與高製造成本的 問題。

此外，由於現今觸控顯示裝置之觸控精準度越來越高，因此設置於顯示模組上之感測電極的數量隨之增加而密集，即連接於該些感測電極之導線的數量亦對應增加，且為了避免該些導線彼此干擾，一般會增加該些導線之間的線距，所以該些導線之線寬勢必較細。在此情況下，若直接將該些感測電極及所連接之該些導線直接設置於顯示模組之基板上，則更容易發生導線斷裂的情形。

因此，本發明針對上述問題提供了一種觸控顯示裝置及其製造方法。

本發明之一目的，係提供一種觸控顯示裝置及其製造方法，藉由將一緩衝層形成於顯示模組之表面，以平坦化顯示模組之表面，之後再形成感測電極於緩衝層之上，如此即可增加觸控顯示裝置之製程良率。

為了達到上述所指稱之各目的與功效，本發明係揭示了一種觸控顯示裝置之製造方法，其步驟包含：提供一顯示模組，並形成一緩衝層於顯示模組之上；以及形成一感測電極層於緩衝層之上。

本發明更揭示了一種觸控顯示裝置，其包含：一顯示模組，其具有一第一基板與一第二基板，第一基板具有一第一側表面與一第二側表面，第一基板之第一側表面與第二基板之間夾置一液晶層；一緩衝層，其位於顯示模組之第一基板之第二側表面；以及一感測電極層，位於緩衝層之上。

100‧‧‧顯示模組

101‧‧‧第一基板

1011‧‧‧第一側表面

1013‧‧‧第二側表面

103‧‧‧液晶層

105‧‧‧第二基板

201‧‧‧緩衝層

203‧‧‧感測電極層

203a‧‧‧透明導電層

205‧‧‧保護層

207‧‧‧光學膜

209‧‧‧透明基板

S10-S13、S20-S25、S30-S37、S220-S222‧‧‧步驟

第1圖為本發明之第一實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖；第2圖為本發明之第二實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖；第3A-3F圖為本發明之第二實施例之觸控顯示裝置於製造過程的剖面圖；第4圖為本發明之感測電極層之形成方法的流程圖；以及第5圖為本發明之第三實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖。

為使 貴審查委員對本發明之特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以較佳之實施例及配合詳細之說明，說明如後：請參閱第1圖，其為本發明之第一實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖。如圖所示，本實施例之觸控顯示裝置之製造方法首先執行步驟S10，提供一顯示模組，接著執行步驟S11，形成一緩衝層於顯示模組之上，接著執行步驟S12，形成一感測電極層於緩衝層之上，最後執行步驟S13，設置一透明基板至感測電極層之上方，以完成觸控顯示裝置的製造過程。

由上述可知，本發明是先將緩衝層形成於顯示模組之表面上，再將感測電極層形成於緩衝層之上，如此，可藉由緩衝層來平坦化 該顯示模組之表面，以防止感測電極層之電極與導線因顯示模組之表面不平整，而容易造成導線斷裂的問題，進而增加觸控顯示裝置之製程良率與減少製造成本。

請參閱第2圖，其為本發明之第二實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖。本實施例之步驟S20-S22與第一實施例之步驟S10-S12相同，本實施例與第一實施例之差異僅在於本實施例之步驟S23、S24與S25的部分。本實施例在步驟S22形成感測電極層於緩衝層上之後，藉由執行步驟S23，而形成一保護層於感測電極層上，以包覆感測電極層，之後再執行步驟S24，形成一光學膜於保護層之上，最後執行步驟S25，將透明基板設置於光學膜上。換言之，本實施例藉由將保護層形成於感測電極層與透明基板之間，以保護該感測電極層，避免感測電極層在製造過程中刮傷損壞，並藉由將光學膜形成於保護層與透明基板之間，以用於偏振顯示模組所發出之光。

請一併參閱第3A-3F圖，其為本發明之第二實施例之觸控顯示裝置於製造過程的剖面圖。如圖所示，本發明之觸控顯示裝置包含一顯示模組100，顯示模組100包含一第一基板101、一液晶層103與一第二基板105，第一基板101具有一第一側表面1011與一第二側表面1013，第一基板101之第一側表面1011與第二基板105之間夾持該液晶層103。當執行步驟S21時，如第3A圖所示，將一緩衝層201形成於第一基板101之第二側表面1013。當執行步驟S22時，如第3C圖所示，形成一感測電極層203於緩衝層201上。當執行步驟S23時，如第3D圖所示，形成一保護層205於感測電極層203上，以包覆感測電極層203。接著，執行步驟S24時，如第3E圖所 示，形成一光學膜207於保護層205之上。最後，執行步驟S25時，如第3F圖所示，將一透明基板209設置於光學膜207之上，以完成觸控顯示裝置的製造過程。

另外，步驟S22形成感測電極層203於緩衝層201上之詳細步驟請參閱第4與3B-3C圖，第4圖為本發明之感測電極層之形成方法的流程圖。第4圖為第2圖之步驟S22的詳細步驟，於執行步驟S22以形成感測電極層203於緩衝層201之上時，首先執行步驟S220，如第3B圖所示，形成一透明導電層203a於緩衝層201之上，接著再執行步驟S222，圖案化該透明導電層203a，以形成感測電極層203，即如第3C圖所示。其中，圖案化之方式可為任一本技術領域中所熟知之方式，例如蝕刻或光刻等，且圖案化之方式並非用以限定本發明。

此外，顯示模組100之第一基板101可為一彩色濾光片基板。透明導電層203a例如為銦錫氧化物(ITO)層，而緩衝層201之較佳材料包含二氧化矽、氧化鉭或氮化矽，緩衝層201之較佳厚度介於20至120奈米(nm)之間，緩衝層201之較佳電阻值介於1G歐姆至1T歐姆之間。

再者，光學膜207較佳為一偏光膜(Polarizing Film)，以用於偏振顯示模組100所發出之光，而偏光膜之技術為本領域之技術人員所熟知，因此不多加詳述。

請參閱第5圖，其為本發明之第三實施例之觸控顯示裝置之製造方法的流程圖。本實施例之步驟S30、S33-S37與第二實施例之步驟S20-S25相同，本實施例與第二實施例之差異僅在於本實施例 之步驟S31、S32的部分。如圖所示，本實施例於步驟S33形成緩衝層201於顯示模組100上之前，更藉由執行步驟S31以薄化該顯示模組100，以及藉由執行步驟S32以表面處理該顯示模組100。

如此，本實施例藉由薄化該顯示模組100(步驟S31)，以將顯示模組100薄化至所需之厚度。此外，藉由表面處理該顯示模組100(步驟S32)，以先將顯示模組100之表面處理至較為平滑，再執行後續將緩衝層201形成於顯示模組100上之步驟。其中，薄化處理與表面處理之方式可為任一本技術領域中所熟知之方式，如研磨或拋光等。例如，對顯示模組100進行薄化處理時，對顯示模組100之第一基板101及/或第二基板105進行研磨，以薄化顯示模組100。或者，對顯示模組100進行表面處理時，對顯示模組100之第一基板101之第二側表面1013及/或第二基板105進行拋光，以平滑該顯示模組100之表面。

然而，上述步驟S31與S32並非用以限定本發明，本發明亦可不包含此兩步驟，且此兩步驟亦可同時執行，例如進行薄化處理時即可同時對顯示模組100進行表面處理，或者亦可僅執行其中之一步驟，例如僅執行步驟S31或S32之一。

此外，本發明之緩衝層201之折射率介於1.5至2.0之間，且緩衝層201之穿透率大於等於85%，藉此，可減少顯示模組100上被感測電極層203所遮蔽之區域與未被遮蔽之區域之間的色差，進而達到消影之目的，所以本發明之緩衝層201具有消影之功效。

綜上所述，本發明之觸控顯示裝置及其製造方法，藉由將緩衝層形成於顯示模組之上，以平坦化顯示模組之表面，接著再將感測 電極層形成於緩衝層之上。如此，可防止感測電極層之電極與導線因顯示模組表面不平整，而容易造成導線斷裂的問題，進而增加觸控顯示裝置之製程良率與減少製造成本。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。

本發明係實為一具有新穎性、進步性及可供產業利用者，應符合我國專利法所規定之專利申請要件無疑，爰依法提出發明專利申請，祈 鈞局早日賜准專利，至感為禱。

S10‧‧‧步驟

S11‧‧‧步驟

S12‧‧‧步驟

S13‧‧‧步驟

Claims (20)

1. 一種觸控顯示裝置之製造方法，其步驟包含：提供一顯示模組；形成一緩衝層於該顯示模組之上；以及形成一透明導電層於該緩衝層上，並圖案化該透明導電層，以形成一感測電極層於該緩衝層之上。
2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中於形成一緩衝層於該顯示模組之上之步驟中包含：形成該緩衝層於該顯示模組之一彩色濾光片基板之上。
3. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其步驟更包含：設置一透明基板於該感測電極層之上。
4. 如申請專利範圍第3項所述之製造方法，其步驟更包含：形成一保護層於該感測電極層與該透明基板之間。
5. 如申請專利範圍第4項所述之製造方法，其步驟更包含：形成一光學膜於該保護層與該透明基板之間。
6. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其步驟更包含：表面處理該顯示模組。
7. 如申請專利範圍第6項所述之製造方法，其中於表面處理該顯示模組之步驟中包含：拋光該顯示模組。
8. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其步驟更包含：薄化該顯示模組。
9. 一種觸控顯示裝置，其包含：一顯示模組，具有一第一基板與一第二基板，該第一基板具有一第一側表面與一第二側表面，該第一基板之該第一側表面與該第二基板之間夾置一液晶層；一緩衝層，位於該顯示模組之該第一基板之該第二側表面；以及一感測電極層，位於該緩衝層之上；其中該緩衝層之厚度為20奈米至120奈米之間。
10. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其更包含一透明基板，設置於該感測電極層之上。
11. 如申請專利範圍第10項所述之觸控顯示裝置，其更包含一保護層，位於該感測電極層與該透明基板之間。
12. 如申請專利範圍第11項所述之觸控顯示裝置，其更包含一光學膜，位於該保護層與該透明基板之間。
13. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該顯示模組之該第一基板與該第二基板係經過一薄化處理。
14. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該顯示模組之該第一基板的該第二側表面係經過一表面處理。
15. 如申請專利範圍第14項所述之觸控顯示裝置，其中該表面處理為一拋光處理。
16. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該第一基板為一彩色濾光片基板。
17. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該緩衝層之材料包含二氧化矽、氧化鉭或氮化矽。
18. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該緩衝層之電阻值為1G歐姆至1T歐姆之間。
19. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該緩衝層之折射率為1.5至2.0之間。
20. 如申請專利範圍第9項所述之觸控顯示裝置，其中該緩衝層之穿透率大於等於85%。