TWI421530B

TWI421530B - 硬塗膜

Info

Publication number: TWI421530B
Application number: TW097101427A
Authority: TW
Inventors: Kenta Tomioka; Satoru Shoshi
Original assignee: Lintec Corp
Priority date: 2007-01-18
Filing date: 2008-01-15
Publication date: 2014-01-01
Also published as: CN101224647B; KR101496456B1; KR20080068550A; TW200903018A; JP5047636B2; JP2008173856A; CN101224647A

Description

硬塗膜

本發明涉及硬塗膜，更詳細地，涉及具有作為各種圖像顯示裝置的表面保護膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收縮產生的捲曲(curl)小的硬塗膜。

目前，硬塗膜基於以表面保護為代表的防眩性和防反射性等目的，用於各種圖像顯示裝置，例如LCD(液晶顯示器)、觸摸面板、CRT(陰極射線管)、PDP(電漿顯示面板)、EL(致電發光元件)等。而且，還在LCD中使用，以保護偏光板。該硬塗膜通常是在基材薄膜上具有由熱固化、活性能量線固化等形成的硬塗層。

另一方面，近年來還要求圖像顯示裝置的薄型化。在這種情況下，希望硬塗層能使用具有現有的厚度(80~125μm左右)的一半左右的厚度的基材薄膜。然而，如果在該厚度薄的基材薄膜上形成現有的那些硬塗層，則會由於硬塗層的固化收縮，而在硬塗膜中產生捲曲，從而導致難以作為表面保護膜而使用的困難等不合適的問題。

因此，為了抑制固化收縮，抑制捲曲的產生，還公開了在基材上塗布固化性組合物，使其固化，且固化後的硬塗層的膜厚為15μm以上、200μm以下的硬塗處理物品，該固化性組合物包括在同一分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基和1個以上的異三聚氰酸酯環的化合物(例如，參照專利文獻1)。然而，在這種情況下，為了得到足夠的硬度，還具有必須較大地設定硬塗層的厚度的問題。

另外，還公開了將包含含有2個乙烯性不飽和基的異三聚氰酸酯衍生物和季戊四醇丙烯酸酯的組合物固化，形成硬塗層的技術(例如，參照專利文獻2)。然而，該技術中，前述異三聚氰酸酯衍生物單體的固化物的硬度不足，所以組合物固化形成的硬塗層的硬度還有進一步改良的餘地。

專利文獻1：日本特開2004-141732號公報

專利文獻2：日本特開2005-103973號公報

本發明是基於這些問題提出的，其目的在於提供具有作為各種圖像顯示裝置的表面保護膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收縮產生的捲曲小的硬塗膜。

本發明人為了開發出具有前述良好的性質的硬塗膜，重複鑽研，結果發現使用具有各自特定的結構、以指定比例含有活性能量線固化型化合物和活性能量線固化型異三聚氰酸酯衍生物的硬塗層形成材料，藉由在基材薄膜上設置由活性能量線固化樹脂層形成的硬塗層，得到實現本發明的目的係可見的，基於該認識，完成本發明。

也就是，本發明提供：(1)一種硬塗膜，其特徵在於：具有使用硬塗層形成材料在基材薄膜上形成的活性能量線固化樹脂層形成的硬塗層，且該硬塗層形成材料包含(A)分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基，而且是異三聚氰酸酯衍生物以外的活性能量線固化型化合物，相對於其100質量份，(B)分子內具有 3個以上的乙烯性不飽和基的活性能量線固化型的異三聚氰酸酯衍生物150~550質量份。

(2)根據上述(1)所記載的硬塗膜，其中(B)成分的異三聚氰酸酯衍生物具有異三聚氰酸骨架的3個氮原子全部結合乙烯性不飽和基的結構。

(3)根據上述(1)或(2)所記載的硬塗膜，其中將裁斷為10cm的正方形的硬塗膜搭載在平板上時產生的4個角的捲曲的高度總計為100mm以下，而且鉛筆硬度為2H以上。

(4)根據上述(1)~(3)任一項所記載的硬塗膜，其中基材薄膜是厚度為80μm以下的三乙醯基纖維素薄膜。

(5)根據上述(1)~(4)任一項所記載的硬塗膜，其中硬塗層的厚度為3~10μm。

根據本發明可以提供具有作為各種圖像顯示裝置的表面保護膜所必須的、足夠的表面硬度，而且固化收縮產生的捲曲小的硬塗膜。

本發明的硬塗膜是在基材薄膜上具有使用硬塗層形成材料形成的活性能量線固化樹脂層形成的硬塗層，且該硬塗層形成材料包含(A)異三聚氰酸酯衍生物以外的活性能量線固化型化合物，以及(B)活性能量線固化型異三聚氰酸酯衍生物。

本發明的硬塗膜中使用的基材薄膜沒有特別的限定，可以從作為現有的光學使用的硬塗膜的基材所公知的塑膠薄膜中適當選擇使用。作為這種塑膠薄膜，可以列舉出例如聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚萘乙酯等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、玻璃紙、二乙醯基纖維素薄膜、三乙醯基纖維素薄膜、乙醯纖維素丁酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、降冰片烯類樹脂薄膜、環烯樹脂薄膜等。

這些基材薄膜可以是透明、半透明的，而且可以著色，也可以不著色，可以根據用途適當選擇。例如，在用於保護液晶顯示器的偏光板時，合適的是無色透明的三乙醯基纖維素薄膜。

這些基材薄膜的厚度沒有特別的限定，可以根據情況適當選擇，但是從有效地發揮出抑制捲曲產生的作用出發，較佳為80μm以下，更佳為20~80μm。另外，基於提高設置在基材薄膜表面的層的密合性的目的，該基材薄膜可以根據需要通過氧化法、凹凸化法等，在一面或兩面上進行表面處理。上述氧化法可以列舉出例如電暈放電處理、電漿處理、鉻酸處理(濕式)、火焰處理、熱風處理、臭氧．紫外線照射處理等；另外，凹凸化法可以列舉出例如噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理方法可以根據基材薄膜的種類而適當選擇，但是從效果以及操作性等方面出發，較佳使用電暈放電處理法。

在本發明的硬塗膜中，層疊在前述基材薄膜上的硬塗層通過包括(A)分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基，而且是異三聚氰酸酯衍生物以外的活性能量線固化型化合物，以及(B)分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基的活性能量線固化型異三聚氰酸酯衍生物的硬塗層形成材料來形成。

另外，前述(A)成分中的活性能量線固化型化合物是指在電磁波或者帶電粒子束中，具有能量子的物質，也就是，通過照射紫外線或者電子束，進行交聯、固化的化合物。當然，(B)成分也是活性能量線固化型化合物的1種。

該(A)成分的活性能量線固化型化合物是在分子內具有3個以上乙烯性不飽和基，而且是異三聚氰酸酯衍生物以外的化合物。作為這種化合物，可以列舉出例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。可以單獨使用它們中的1種，也可以將2種以上組合後使用。只要乙烯性不飽和基的數量為3個以上，就沒有特別的限定，從抑制捲曲的觀點出發，較佳為3~6個。

另一方面，作為(B)成分的在分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基的活性能量線固化型異三聚氰酸酯衍生物，只要是具有在異三聚氰酸骨架上結合3個以上的乙烯性不飽和基的結構的化合物，就沒有特別的限定，但是從性能以及容易製造等觀點出發，較佳為異三聚氰酸骨架的3個氮原子全部和乙烯性不飽和基結合的結構。作為乙烯性不飽和基較佳為(甲基)丙烯醯氧基。作為這種異三聚氰酸酯衍生物，可以列舉出例如通式(I)所示的參[(甲基)丙烯醯氧基烷基]異三聚氰酸酯。

(式中，A¹ ~A³ 各自獨立地表示(甲基)丙烯醯氧基，R¹ ~R³ 各自獨立地表示碳原子數2~4的亞烷基)。

前述通式(I)中，R¹ ~R³ 所示的亞烷基可以是直鏈狀或支鏈狀的任何一種，具體地，可以列舉出乙基、丙基、環丙烷基、各種丁基。另外，結合到3個氮原子上的(甲基)丙烯醯氧基烷基彼此之間可以相同，也可以不同。

前述通式(I)所示的參[(甲基)丙烯醯氧基烷基]異三聚氰酸酯可以列舉出例如參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、參(3-丙烯醯氧基丙基)異三聚氰酸酯、參(2-甲基丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、參(3-甲基丙烯醯氧基丙基)異三聚氰酸酯等。

在本發明中，(B)成分可以單獨使用這些化合物中的1種，也可以將2種以上組合後使用。另外，硬塗層形成材料中的該(B)成分的含量相對於100質量份前述(A)成分，在150~550質量份的範圍內選擇。該含量小於150質量份時，所得的硬塗膜無法充分發揮出抑制捲曲的效果，如果超過550質量份，則硬塗膜的表面硬度低下。從抑制捲曲產生的效果和表面硬度的均衡性等觀點出發，(B)成分的較佳含量為180~520質量份。

在該硬塗層形成材料中，除了含有前述(A)成分和(B)成分以外，在不損害本發明的目的的範圍內，根據需要，還可以含有其他活性能量線固化型化合物。

作為其他活性能量線固化型化合物，可以列舉出例如活性能量線聚合性預聚物和/或活性能量線聚合性單官能單體以及2官能單體。

作為活性能量線聚合性預聚物可以列舉出例如聚酯丙烯酸酯類、環氧化丙烯酸酯類、胺基甲酸乙酯丙烯酸酯類、多元醇丙烯酸酯類等。

另一方面，作為活性能量線聚合性單官能單體，例如可以從(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異冰片基酯等中適當選擇出至少1種來使用。

另外，作為活性能量線聚合性2官能單體，例如可以從1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性的二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性的磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、雙[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]異三聚氰酸酯、雙[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]2-羥乙基異三聚氰酸酯等中適當選擇出至少1種來使用。

在該硬塗層形成材料中，可以含有光聚合引發劑。該光聚合引發劑，可以列舉出例如安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香正丁基醚、安息香異丁基醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4,4’-二乙基胺基二苯甲酮、二氯代二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-三級丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基氧硫、2-乙基氧硫、2-氯代氧硫、2,4-二甲基氧硫、2,4-二乙基氧硫、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二甲基胺基苯甲酸酯等。可以使用它們中的1種，也可以組合2種以上後使用，相對於100質量份活性能量線固化型化合物，其添加量通常在0.2~10質量份的範圍內選擇。

在該硬塗層形成材料中可以含有溶劑。作為該溶劑可以列舉出例如己烷、庚烷等脂肪烴，甲苯、二甲苯等芳烴，二氯甲烷、氯乙烯等鹵代烴，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇類，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異佛酮、環己酮等酮類，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯，乙基溶纖劑等溶纖劑類溶劑，丙二醇單甲基醚等二醇醚類溶劑等。這些溶劑可以單獨使用1種，也可以將2種以上混合後使用。

此外，還可以適當含有各種添加成分，例如用於提供抗眩性的填充劑、反應性有機矽化合物、光增敏劑、聚合抑制劑、交聯劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、均化劑、除泡劑等。

作為提供抗眩性的填充劑其可使用從現有作為提供抗眩性填充劑之公知的物質中適當選擇。作為這種填充劑，可以列舉出例如平均粒徑為1.5~7μm左右的二氧化矽粒子，膠體狀的二氧化矽粒子的胺化合物形成的凝聚物，平均粒徑為0.5~10μm左右的，或者平均粒徑為0.5~5μm左右的二氧化矽粒子和平均粒徑為1~60nm左右的金屬氧化物微粒的混合物等。這些填充劑在硬塗層中的含量可以考慮所得的硬塗膜的防眩性能以及耐擦傷性等，而適當選擇。

另外，作為反應性有機矽化合物，可以使用在分子內具有自由基聚合性不飽和基的有機矽化合物。該有機矽化合物可以通過照射活性能量線而交聯，固化，具有對硬塗層賦予耐污染性和低摩擦性等作用。

在本發明中，調製含有前述各成分，調節為適合塗布的濃度的硬塗層形成材料(塗布液)，使用現有公知的方法，例如棒塗布法、刮刀塗布法、輥塗法、刀(blade)塗布法、模縫塗布法、照相凹版印刷法等，塗布到前述基材薄膜上，並使固化後的厚度為規定值，塗布形成未乾燥的塗膜後，在60~130℃左右下進行1~3分鐘左右的乾燥處理後，對乾燥塗膜照射活性能量線，將該塗膜固化形成硬塗層。

作為活性能量線可以列舉出例如紫外線、電子束等。上述紫外線可以由高壓水銀燈、熔合H燈、氙燈等得到，照射量通常為100~500mJ/cm² ，另外，電子束由電子束加速器等得到，照射量通常為150~350kV。該活性能量線中，特別合適的是紫外線。另外，在使用電子束時，不添加光聚合引發劑，也可以得到固化膜。

硬塗層的厚度通常為3~10μm左右。這樣得到的硬塗膜通常在將裁斷為10cm正方形的硬塗膜搭載在平板上時，產生的4角捲曲高度的總量為100mm以下，而且鉛筆硬度為2H以上。另外，捲曲的高度和鉛筆硬度的測定方法在下文中詳細描述。

本發明的硬塗膜中，在硬塗層上根據需要可以設置10~45nm左右厚的透明導電性薄膜層。該透明導電性薄膜層的形成方法沒有特別的限定，可以採用現有公知的方法，例如濺射等物理氣相蒸鍍法(PVD法)等。

另外，作為透明導電性薄膜的材料，可以列舉出例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫氧化物、錫-銻氧化物、鋅-鋁氧化物、銦-鋅氧化物等。

在表面設置透明導電性薄膜層的具有硬塗層的本發明的硬塗膜由於該硬塗層的耐擦傷性高，所以將該硬塗膜用於電阻膜方式的觸摸面板中的觸摸側的透明塑膠基板，可以解決觸摸側的透明塑膠基板的透明導電性薄膜磨損，或者產生裂痕，進而從基材剝落的問題。

在本發明中，根據需要可以在前述硬塗層的表面設置用於提供防反射性的防反射層、例如矽氧烷類覆膜、氟類覆膜等。在這種情況下，該防反射層的合適的厚度是0.05~0.2μm左右。另外，波長550nm的反射率較佳為3.5%以下。通過設置該防反射層可以消除由於太陽光、螢光燈等的反射產生的畫面的映射，而且可以抑制表面的反射率，全部光線的透過率上升，透明性提高。

在本發明中，在和基材薄膜的硬塗層相反側的面上，可以形成用於貼合被黏附體的黏合劑層。作為構成該黏合劑層的黏合劑，較佳為使用光學用途中使用的黏合劑，例如丙烯酸類黏合劑、聚胺酯類黏合劑、有機矽類黏合劑。該黏合劑層的厚度通常為5~100μm，較佳為10~60μm。

此外，在該黏合劑層上根據需要可以設置剝離片。作為該剝離片，可以列舉出例如玻璃紙、塗紙、層壓紙等紙，以及在各種塑膠薄膜上塗布的有機矽樹脂等的剝離劑。該剝離片的厚度沒有特別的限制，通常為20~150μm左右。

本發明的硬塗膜具有作為各種圖像顯示裝置的表面保護膜所必要的、足夠的表面硬度，而且固化收縮產生的捲曲小。

實施例

接著，通過實施例對本發明進行更詳細地說明，但是本發明並不受到這些例子的任何限定。

另外，各例子得到的硬塗膜的性能根據下述方法評價。

(1)鉛筆硬度

使用鉛筆劃痕塗膜硬度試驗機((股)東洋精機製作所製，型號“NP”)，根據JIS K5600-5-4，通過鉛筆法測定。

(2)捲曲

將硬塗膜裁斷為10cm的正方形，製作成試驗片，在23℃、相對濕度(RH)55%的環境下靜置24小時後，在水準玻璃板上搭載試驗片，並使上方為凹部，通過刻度尺測定4個角上升量，求得其總值。

調製例1 塗布液A的調製

在100質量份(A)季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製，商品名“NK ESTER A-TMM-3”，固體成分濃度100%)中，添加200質量份(B)參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯(東亞合成化學工業(股)製，商品名“ARONIX M-315”，固體成分濃度100%)、6質量份作為光聚合引發劑的1-羥基-環己基苯基酮(汽巴特用化學(CIBA SPECIALTY CHEMICALS)公司製，商品名“IRGACURE 184”)，用丙二醇單甲基醚稀釋到固體成分濃度為40質量%，調製塗布液A。

調製例2 塗布液B的調製

除了將調製例1中，(B)參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯的量改變為500質量份，將1-羥基-環己基苯基酮的量改變為12質量份以外，和調製例1同樣地調製塗布液B。

調製例3 塗布液C的調製

除了將調製例1中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製，商品名“NK ESTER A-TMMT”，固體成分濃度100%)以外，和調製例1同樣地調製塗布液C。

調製例4 塗布液D的調製

除了將調製例2中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為季戊四醇四丙烯酸酯(前述的)以外，和調製例2同樣地調製塗布液D。

調製例5 塗布液E的調製

除了將調製例1中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為二季戊四醇六丙烯酸酯(東亞合成化學工業(股)製，商品名“ARONIX M-400”，固體成分濃度100%)以外，和調製例1同樣地調製塗布液E。

調製例6 塗布液F的調製

除了將調製例2中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和調製例2同樣地調製塗布液F。

調製例7 塗布液G的調製

除了將調製例1中，(B)參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯的量改變為350質量份以外，和調製例1同樣地調製塗布液G。

調製例8 塗布液H的調製

除了將調製例1中，(B)參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯的量改變為100質量份，將1-羥基-環己基苯基酮的量改變為5質量份以外，和調製例1同樣地調製塗布液H。

調製例9 塗布液I的調製

除了將調製例8中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和調製例8同樣地調製塗布液I。

調製例10 塗布液J的調製

除了將調製例1中，(B)參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯的量改變為600質量份，將1-羥基-環己基苯基酮的量改變為14質量份以外，和調製例1同樣地調製塗布液J。

調製例11 塗布液K的調製

除了將調製例10中，(A)季戊四醇三丙烯酸酯改變為二季戊四醇六丙烯酸酯(前述的)以外，和調製例10同樣地調製塗布液K。

實施例1

使用棒塗布機，在作為基材膜的厚度40μm的三乙醯基纖維素薄膜(富士照相軟片(股)製，商品名“T40UZ”)上塗布調製例1~7調製的塗布液A~G，並使乾燥後的厚度為3μm，在70℃下乾燥1分鐘後，對塗布面照射紫外線，照射光量為230mJ/cm² ，固化，製造各硬塗膜。硬塗層的厚度為3μm。

各硬塗膜的性能評價結果如表1所示。

實施例2

除了使實施例1中，按照乾燥後的厚度為6μm進行塗布以外，和實施例1同樣地，製造各種硬塗膜。硬塗層的厚度為6μm。

各硬塗膜的性能評價結果如表1所示。

實施例3

除了使實施例1中，按照乾燥後的厚度為10μm進行塗布以外，和實施例1同樣地，製造各種硬塗膜。硬塗層的厚度為10μm。

各硬塗膜的性能評價結果如表1所示。

比較例1

使用棒塗布機，在作為基材的厚度40μm的三乙醯基纖維素薄膜(前述的)上塗布調製例8、9調製的塗布液H、I，並使乾燥後的厚度為6μm，在70℃下乾燥1分鐘後，對塗布面照射紫外線，照射光量為230mJ/cm² ，固化，製造各硬塗膜。

各硬塗膜的性能評價結果如表1所示。

比較例2

使用棒塗布機，在作為基材薄膜的厚度40μm的三乙醯基纖維素薄膜(前述的)上塗布調製例10、11調製的塗布液J、K，並使乾燥後的厚度為6μm，在70℃下乾燥1分鐘後，對塗布面照射紫外線，照射光量為230mJ/cm² ，固化，製造各硬塗膜。

各硬塗膜的性能評價結果如表1所示。

從表1可以知道，本發明的硬塗膜(實施例1~3)的鉛筆硬度都為2H以上，而且捲曲量(4角總量)小於100mm。

相對於此，比較例1的鉛筆硬度雖為2H以上、較高，但是捲曲量大，不合格。另外，雖然比較例2的捲曲量小，但是鉛筆硬度為H，不合格。

本發明的硬塗膜具有作為各種圖像顯示裝置的表面保護膜所必要、充足的表面硬度，而且固化收縮產生的捲曲小，適合作為例如觸摸面板使用以及偏光板、1/4波長板使用，或者作為光碟的覆蓋膜以及各種顯示器的保護膜等使用。

Claims

一種硬塗膜，其特徵在於：具有使用硬塗層形成材料在厚度80μm以下的基材薄膜上形成的活性能量線固化樹脂層形成的硬塗層，且該硬塗層形成材料包含(A)分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基，而且是異三聚氰酸酯衍生物以外的活性能量線固化型化合物；以及相對於其100質量份，(B)分子內具有3個以上的乙烯性不飽和基的活性能量線固化型的異三聚氰酸酯衍生物150~550質量份。
如申請專利範圍第1項的硬塗膜，其中(B)成分的異三聚氰酸酯衍生物具有：異三聚氰酸骨架的3個氮原子全部結合乙烯性不飽和基的結構。
如申請專利範圍第1或2項的硬塗膜，其中將裁斷為邊長10cm的正方形的硬塗膜搭載在平板上時產生的4個角的捲曲的高度總計為100mm以下，而且鉛筆硬度為2H以上。
如申請專利範圍第1或2項的硬塗膜，其中基材薄膜是三乙醯基纖維素薄膜。
如申請專利範圍第1或2項的硬塗膜，其中硬塗層的厚度為3~10μm。
如申請專利範圍第1或2項的硬塗膜，其中(A)成分為季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯或二季戊四醇六丙烯酸酯。
如申請專利範圍第1或2項的硬塗膜，其中(B)成分為參(2-丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯。