TWI412051B - X-ray tubes and X-ray sources containing them - Google Patents

Description

X射線管及包含其之X射線源

本發明關於將內部產生之X射線取出於外部的X射線管，及該X射線管與電源部構成一體的X射線源。

X射線為對物體具有良好透過性之電磁波，大多用於物體內部構造之非破壞/非接觸之觀察。習知技術作為此領域可使用之X射線照射裝置，有以下專利文獻1揭示之X射線管。該專利文獻1揭示之X射線管之X射線產生部，係具備筒狀框體用於收納標把(target)。於該框體安裝連通於內部空間的排氣管(參照專利文獻1之第4圖)。於X射線管製造時，框體之內部空間經由該排氣管抽成真空。抽成真空後，該排氣管被閉鎖，收納有標把之內部空間成為真空狀態(減壓成為特定真空度的狀態)。

專利文獻1：美國專利第6229876號

本發明人針對習知X射線管檢討結果發現以下問題：亦即，於習知X射線管，於安裝有排氣管之框體內壁面，形成有抽成真空用之排氣口，於排氣口緣部、在和框體內壁面之境界，其前端存在銳角。X射線管驅動時，框體與陽極間產生高電位差時，受該角部影響而使框體與陽極間之電場有可能產生紊亂。因此排氣口形成引起之必定會形成之角部之存在，將增大框體與陽極間產生放電之可能性。但是，習知X射線管並無揭示抑制該放電之對策，該放電引起之X射線輸出不穩之可能性存在。

本發明係為解決上述問題，目的在於提供X射線管及包含其之X射線源，其具有構造可有效抑制X射線產生用之電子被照射之陽極前端部之放電。

本發明之X射線管，係使電子槍射出之電子射入陽極之X射線標靶，而使該X射線標靶所產生之X射線照射至外部。該X射線管具備：框體，設於上述框體之照射窗(X射線射出窗)，排氣口，及遮蔽構造。框體，其界定內部空間用於收納電子被照射之陽極前端部。照射窗，設於界定內部空間用的上述框體，用於將上述X射線標靶所產生之X射線取出至上述框體外部。排氣口，設於框體內壁面，用於將內部空間抽成真空。特別是，遮蔽構造，以使排氣口由陽極前端部予以隱蔽的方式設於框體之內部空間。

作為上述遮蔽構造之第1態樣，較好是包含：具有面對陽極前端部之內側面與面對該內側面的外側面，由導電性材料形成之遮蔽構件。

具有上述構造之X射線管，係於框體內壁面設置排氣口，因而於該排氣口緣部與框體內壁面之境界之前端形成銳角部。該X射線管之構造設為，藉由遮蔽構件可使排氣口由陽極前端部被隱蔽，因此，於該X射線管驅動時，陽極與排氣口緣部間之電場紊亂可以緩和，陽極前端部之放電可有效抑制。

又，為有效達成上述作用，遮蔽構件較好是，自框體排氣口側之內壁面起分離特定距離之狀態下，配置於陽極前端部與排氣口之間。另外，較好是，面對陽極前端部之遮蔽構件之至少內側面，具有大於上述排氣口之開口面積的面積。依此構成，可以確實覆蓋排氣口緣部(前端為銳角部)。又，X射線管製造時，以遮蔽構件與排氣口側之內壁面之間之間隙作為空氣通到而進行內部空間之抽成真空。

述遮蔽構件，以自框體之照射窗側內壁面起分離特定距離之狀態下，配置於內部空間亦可。依此構成，X射線管製造時，可以遮蔽構件與照射窗側之內壁面之間之間隙作為空氣通到而進行內部空間之抽成真空。

遮蔽構件，可具有分別連通於面對陽極前端部之內側面與面對該內側面的外側面的多數貫穿孔。此情況下，X射線管製造時，進行內部空間之抽成真空時，彼等貫穿孔成為來自內部空間之空氣之通到，更能有效進行抽成真空。

遮蔽構件，亦可為自框體內壁面朝內部空間延伸的該框體之一部分。此情況下，面對陽極前端部之遮蔽構件的內側面，係和該一部分之內壁面一致。如此則，遮蔽構件表面與框體內壁面可呈現圓滑之連續。因此可緩和電場之紊亂，陽極前端部之放電可有效抑制。

遮蔽構件具有分別連通於內側面與外側面的多數貫穿孔，以面對陽極前端部之該內側面，和框體內壁面成為一致而被配置亦可。此情況下，排氣口藉由遮蔽構件塞住，因此，於該遮蔽構件需要抽成真空時之空氣通道的多數貫穿孔。依據該X射線管，堵住排氣口的遮蔽構件，係和形成有排氣口的框體之內壁面被形成為面一致，因此於排氣口緣部不存在前端為銳角之部分，因此，陽極前端部與排氣口間之電場紊亂可以緩和，陽極前端部之放電可有效抑制。遮蔽構件上形成的多數連通孔成為空氣通道，製造時可以無礙地進行內部空間之抽成真空。

又，本發明之X射線管中，上述遮蔽構造可由和上述第1態樣之第2態樣予以實現，具體言之為，框體由第1陽極收納部與第2陽極收納部構成。另外，於框體內部空間配置內筒構件作為遮蔽構造亦可。又，第1陽極收納部為，由包圍陽極前端部之導電性材料形成之中空構件，於其內壁面設置排氣口之同時，具有照射窗。第2陽極收納部，藉由和第1陽極收納部接合，而和該第1陽極收納部共同界定用於收納陽極的內部空間。第2態樣之遮蔽構造之內筒構件為，在框體內部空間內以至少包圍陽極前端部之方式被配置的中空構件，其之一部分，於自第1陽極收納部之內壁面起分離特定距離之狀態下，位於該第1陽極收納部內壁面與陽極前端部之間，而發揮由陽極前端部隱蔽排氣口之功能。

在具由上述第2態樣之遮蔽構造的X射線管中，設於第1陽極收納部內壁面之排氣口，藉由至少一部分位於第1陽極收納部內壁面與陽極前端部之間之內筒構件，而可被隱蔽於陽極前端部。因此，於該X射線管，即使於排氣口緣部與第1陽極收納部內壁面之境界出現角部時，亦可藉由內筒構件緩和驅動時之陽極與排氣口緣部間之電場紊亂，陽極前端部之放電可有效抑制，結果可抑制該X射線管之X射線輸出之不穩定。又，X射線管製造時，可以內筒構件與第1陽極收納部之內壁面之間之間隙作為空氣通到而進行內部空間之抽成真空。

作為第2態樣之遮蔽構造，採用上述內筒構件時，較好是於該內筒構件端部與第1陽極收納部之照射窗側內壁面之間形成間隙。依此構成，X射線管製造時，可以內筒構件與第1陽極收納部之照射窗側之內壁面之間之間隙作為空氣通到而進行內部空間之抽成真空。

又，於內筒構件，至少於位於第1陽極收納部之內壁面與陽極前端部之間的部分，較好是設有多數貫穿孔。此情況下，製造時進行內部空間之抽成真空時，彼等貫穿孔本身成為來自內部空間之空氣之通道，可有效進行內部空間之抽成真空。

本發明之X射線管中較好是，第1陽極收納部具有導電性材料形成之頭部；第2陽極收納部具有絕緣性材料形成之殼體部，及接合於該殼體部之端部之同時，接合於上述頭部之由導電性材料形成之連結部。於此構成，內筒構件具有於內部空間內朝第2陽極收納部側延伸之形狀，而可使殼體部與連結部間之接合部分由陽極予以隱蔽。亦即，於該X射線管，電氣絕緣性材料之殼體部與導電性材料之連結部間之接合部分，在其與陽極間較容易產生放電。因此，於該X射線管，藉由採用上述構造之內筒構件之採用，接合部分可由陽極被隱蔽。因此，陽極與接合部分間之電場紊亂可以緩和，陽極與接合部分間之放電可有效抑制。結果，可抑制該X射線管之X射線輸出之不穩定。

於本發明之X射線管中，第2陽極收納部具有電氣絕緣性材料之殼體部；第1陽極收納部具有：導電性材料之頭部，及設於該頭部之端部之同時，接合於第2陽極收納部之殼體部之導電性材料形成的連結部亦可。又，內筒構件較好是，具有於內部空間內朝第2陽極收納部側延伸之形狀，而使殼體部與連結部間之接合部分可由陽極予以隱蔽。於具有此種構造之X射線管，電氣絕緣性材料之殼體部與導電性材料之連結部間之接合部分，在其與陽極間較容易產生放電。因此，於該X射線管，藉由採用上述構造之內筒構件之採用，接合部分可由陽極被隱蔽。因此，陽極與接合部分間之電場紊亂可以緩和，陽極與接合部分間之放電可有效抑制。結果，可抑制該X射線管之X射線輸出之不穩定。

又，內筒構件亦可具有第2陽極收納部側之端部回折為R形狀的回折部。此情況下較好是，回折部之前端接合於第1陽極收納部，於回折部形成貫穿孔。依據此構成，內筒構件之第2陽極收納部側之端部具有R形狀，前端未形成為銳角部。因此，該端部與陽極間之電場紊亂可有效抑制。結果，該端部與陽極間之放電可有效抑制，可抑制該X射線管之X射線輸出之不穩定。又，此情況下，在回折之內筒構件與第1陽極收納部所包圍區域形成空間。但是，該X射線管製造時進行內部空間之抽成真空時，形成於回折部之貫穿孔成為空氣之通道，可防止空氣殘留於該空間。

本發明之X射線源，係具備：具有上述構造之X射線管(本發明之X射線管)之同時，具備電源部，可對配置有上述X射線標靶之陽極供給電壓，而於X射線標靶產生X射線。

又，本發明各實施形態可由以下詳細說明及附加圖面予以理解。彼等實施形態僅為例圖示，並非用於限定該發明。

又，本發明之應用範圍可由以下詳細說明而理解。但是，實施形態僅為本發明較佳實施例，在背照光省電功能之思想及範圍內可做各種變更實施。

以下參照圖1－20說明本發明之X射線管及包含其之X射線源之各實施形態。於圖面說明中，針對同一部位、同一要素附加同一符號並省略重複說明。

(第1實施形態)

首先，參照圖1－3說明本發明之X射線管之第1實施形態。

圖1為本發明第1實施形態之X射線管之構成斜視圖。圖2為圖1之第1實施形態之X射線管之垂直斷面圖。圖3為圖1之第1實施形態之X射線管之水平斷面圖。

如圖1－3所示，X射線管1A，係使電子槍3射出之電子，射入設於真空中之陽極5前端部5a的電子射入部位(X射線產生部位)之標靶5d，使該射入而產生之X射線照射於外部。X射線管1A具備：以絕緣狀態保持棒狀陽極5的玻璃製殼體部9，及用於收納陽極前端部5a、用於產生X射線的X射線產生部11。

X射線產生部11，具有收納陽極前端部5a之金屬框體之頭部13，陽極5，係於頭部13與殼體部9隔成之密封狀態之內部空間R，與頭部13呈絕緣狀態下幾乎全體被收納。陽極前端部5a於其端面設有傾斜面5c，於該傾斜面5c上配置標靶5d，可藉由電子射入而產生具有所要能源之X射線。如上述說明，陽極前端部5a被和陽極5構成同軸圓柱面的頭部13之內壁面19包圍。在安裝於頭部13之電子槍收納部14收納電子槍3，該電子槍3之前端朝向前端部5a之側。亦即，電子槍3之軸線與陽極5之軸線呈現大略正交，可使電子槍3射出之電子，射入和電子槍3呈對向配置之傾斜面5c上的標靶5d。另外，於頭部13之陽極前端部5a側之端部，設有由X射線透過率高之材料構成之圓形照射窗(X射線射出窗)15，可使標靶5d產生之X射線透過，照射至外部。

為使內部空間R成為真空狀態(減壓至特定真空度之狀態)，而於頭部13之內壁面19設有排氣口17可對內部空間R內之空氣進行排氣。於頭部13之外壁面，安裝有介由排氣口17連通於內部空間R的排氣管21。X射線管製造時，經由排氣口17與排氣管21將內部空間R抽成真空後，藉由封閉該排氣管21而封閉管口，使內部空間R以真空狀態被密封。此時，排氣口17，於X射線管組裝完成後於內部空間R乃殘留為開口狀態。

該X射線管1A，由殼體部9露出之陽極5之基端部5b(高電壓施加部)，係被連接於高電壓供給電路。驅動時，由該高電壓供給電路介由基端部5b對陽極5施加100kV前後之高電壓。此狀態下，可使電子槍3射出之電子射入標靶5d，藉由該射入而於標靶5d產生X射線，產生之X射線透過照射窗15照射至外部。

驅動時，陽極5被施加高電壓，陽極5與金屬框體之頭部13之間產生高電位差。特別是陽極前端部5a被包圍、收納於頭部13之故，陽極前端部5a與頭部13之內壁面19之間有可能產生放電。在內壁面19形成之排氣口17之緣部，作為和內壁面19間之境界，而前端存在銳角。該角部之影響而使陽極5與頭部13間之電場變為紊亂。結果，在排氣口17之緣部與陽極前端部5a之間之放電可能性變為特別高。放電產生時X射線管1A之X射線輸出變為不穩定之問題存在，因而需要抑制該放電。

於X射線管1A，為抑制排氣口17之緣部與陽極前端部5a之間之放電而採用特殊之遮蔽構造(第1態樣)。亦即，可將排氣口17由陽極前端部5a予以隱蔽的直立狀遮蔽構件25，被設於排氣口17與陽極前端部5a之間。遮蔽構件25，為導電性材料構成之矩形狀加工之平板構件，具有大於排氣口17之開口口徑的面積。遮蔽構件25配置為，對向2邊被固定於內壁面19，於中央部、在和內壁面19之間具有間隙d1而覆蓋排氣口17。又，在遮蔽構件25與設有照射窗15之內壁面29之間，亦形成稍許之間隙d2，而使遮蔽構件25延伸至內壁面29之附近。藉由該遮蔽構件25，由陽極前端部5a看不到排氣口17之緣部。

於X射線管1A，藉由遮蔽構件25之設置，可緩和陽極前端部5a與排氣口17之緣部間之電場紊亂，因此可抑制陽極前端部5a與排氣口17之緣部間之放電。又，藉由間隙d1、d2使排氣管21內部與內部空間R被連通，該間隙d1、d2作為空氣通道功能，因此X射線管製造時，可以無礙地介由排氣口17進行內部空間R之抽成真空。又，亦可配置遮蔽構件25而不產生間隙d2，此情況下，抽成真空稍微需要時間。此情況下，僅間隙d1作為空氣通道進行內部空間R之抽成真空。又，遮蔽構件25不限定於平板形狀構件，亦可為曲率半徑大於頭部13之內壁面的曲板形狀構件。

(第1實施形態之X射線管之第1變形例)

以下，參照圖4－5說明第1實施形態之X射線管之第1變形例。圖4為第1實施形態之X射線管之第1變形例之構成斜視圖。圖5為圖4所示X射線管1B之斷面圖。

和第1實施形態之X射線管1A比較，圖4、5所示X射線管1B之不同點為，將排氣口57有陽極前端部5a予以隱蔽的遮蔽構件之構造。於該X射線管1B，排氣口57位於，自內壁面58起一部分朝頭部13之外壁面方向被挖低而形成之內壁面59。在排氣口57與陽極前端部5a之間設置遮蔽構件61而使排氣口57由陽極前端部5a被隱蔽。該遮蔽構件61為，面對陽極前端部5a之內壁面61a係和內壁面58成為一致(該變形例中實質上為頭部13之一部分)，具有大於排氣口57之開口口徑的面積之矩形狀。遮蔽構件61配置為，在和排氣口57之間具有間隙d3。又，在遮蔽構件61與設有照射窗15之內壁面29之間亦形成稍許之間隙d4，而使遮蔽構件61延伸至內壁面29之附近。藉由該遮蔽構件61，由陽極前端部5a看不到排氣口57之緣部。

此種構造之遮蔽構件61及排氣口57之製造，係殘留遮蔽構件61之同時，挖掘頭部13之遮蔽構件61與內壁面59所挾持之正方體形狀區域之後，形成排氣口57及間隙d4而進行。或者挖掘內壁面58形成內壁面59，於該內壁面59形成排氣口57之後，使獨立之遮蔽構件61之內側面和內壁面58成為一致而設置亦可。

於X射線管1B，藉由遮蔽構件61之設置，可緩和陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之電場紊亂，因此可抑制陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之放電。又，藉由間隙d3、d4使排氣管21內部與內部空間R被連通，該間隙d3、d4作為空氣通道功能，因此X射線管製造時，可以無礙地介由排氣口57進行內部空間R之抽成真空。又，使遮蔽構件61之內側面61a與包圍陽極前端部5a之內壁面58成為一致而形成，則遮蔽構件61之內側面61a與內壁面58可以圓滑地連接。藉由該構造可抑制遮蔽構件61引起之標靶前端部5a周圍之電場紊亂於最小限。

(第1實施形態之X射線管之第2變形例)

以下，參照圖6－7說明第1實施形態之X射線管之第2變形例。圖6為第1實施形態之X射線管之第2變形例之構成斜視圖。圖7為圖6所示X射線管1C之斷面圖。

和第2實施形態之X射線管1B比較，圖6、7所示X射線管1C之不同點為遮蔽構件63之構造。該遮蔽構件63為，設有多數貫穿孔63f之網格形狀之導電性構件，和遮蔽構件61具有同一形狀。該遮蔽構件63為，面對陽極前端部5a之內壁面63a係和包圍陽極前端部5a之內壁面58成為一致而被形成。

藉由遮蔽構件63，使貫穿孔63f構成為更細，則和上述X射線管1B之遮蔽構件61同樣，可緩和陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之電場紊亂。因此，於X射線管1C，可抑制陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之放電。又，製造時內部空間R之抽成真空時，不僅間隙d3、d4，貫穿孔63f亦可作為空氣通道功能，因此可以無礙地進行內部空間R之抽成真空。又，貫穿孔63f之孔徑，就電場紊亂之緩和，及圓滑地進行抽成真空而言，較好是0.1~1mm。

(第1實施形態之X射線管之第3變形例)

以下，參照圖8－9說明第1實施形態之X射線管之第3變形例。圖8為第1實施形態之X射線管之第2變形例之構成斜視圖。圖9為圖8所示X射線管1D之斷面圖。

和第1實施形態之X射線管1A比較，圖8、9所示X射線管1D之不同點為，將排氣口17由陽極前端部5a予以隱蔽的遮蔽構件65之構造。該遮蔽構件65為，面對陽極5之內側面係和內壁面19成為一致狀態下，堵住排氣口17而被設置，為設有多數貫穿孔65f之網格形狀之導電性構件。

藉由遮蔽構件65，於排氣口17之緣部，使端部不出現於內壁面19，因此可緩和陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之電場紊亂。因此，可抑制陽極前端部5a與排氣口57之緣部間之放電。又，藉由遮蔽構件65上設置之多數貫穿孔65f，使排氣管21內部與內部空間R連通，貫穿孔65f可作為空氣通道功能。因此，製造時可以介由排氣口17無礙地進行內部空間R之抽成真空。又，貫穿孔65f之孔徑，就電場紊亂之緩和，及圓滑地進行抽成真空而言，較好是0.1~1mm。

又，本發明不限定於第1實施形態及其變形例，可做各種變更實施。例如，於陽極5之傾斜面5c上另外設置標靶5d，但陽極5與標靶5d亦可構成一體，而使傾斜面5c之一部分構成標靶亦可。又，陽極5係具有於圓柱前端設有傾斜面5c之形狀，但於陽極5之前端藉由各種挖掘而具有其他形狀亦可。此情況下，於陽極前端部即使存在角形狀部位時，亦可藉由遮蔽構件有效抑制排氣口與陽極前端部之間之放電。

(第2實施形態)

以下，參照圖10－14說明本發明之X射線管之第2實施形態。圖10為本發明第2實施形態之X射線管之構成斜視圖。圖11為圖10之第2實施形態之X射線管2A之垂直斷面圖。圖12為圖10之第2實施形態之X射線管2A之水平斷面圖。圖13為圖10所示第2實施形態之X射線管2A之通過排氣管中心軸的斷面圖。圖14為圖10所示第2實施形態之X射線管之中排氣管之安裝部分附近之斷面圖。

和第1實施形態之X射線管1A同樣，如圖10－13所示，X射線管2A，係使電子槍3射出之電子，射入設於真空中之陽極5前端部5a的電子射入部位(X射線產生部位)之標靶5d，使該射入而產生之X射線照射於外部。X射線管2A具備：以絕緣狀態保持棒狀陽極5的筒部(第2陽極收納部)9，及包圍陽極前端部5a之金屬框體的頭部(第1陽極收納部)13。

筒部9，係由電氣絕緣性材料之玻璃製殼體部9a，及連結殼體部9a與頭部13的連結部9b構成。殼體部9a之一端側為開口，另一端側保持陽極5。於該殼體部9a之開口側，使金屬製圓筒狀連結部9b之一端藉由溶接而被接合。於連結部9b之另一端設有朝外方延伸之凸緣，於該凸緣，連結部9b被溶接於頭部13。亦即殼體部9a與頭部13介由連結部9b被連結。藉由上述連結而成之殼體部9a、頭部13、與連結部9b來界定密閉之內部空間R。陽極5，於該內部空間R內，以和頭部13及連結部9b呈絕緣狀態而全體被收納。於陽極前端部5a設有傾斜面5c，於該傾斜面5c上配置標靶5d，可藉由電子射入而產生具有所要能源之X射線。

其他構成例可為，第1陽極收納部藉由將溶接於殼體部9a用的圓筒狀連結部9b，一體設於頭部13之端部而構成。此情況下，殼體部9a構成第2陽極收納部。

頭部13，具有和陽極5構成同軸圓柱面的內壁面19、20，陽極前端部5a被內壁面19、20包圍。在貫穿頭部13側壁而設的安裝孔13a，安裝有電子槍收納部14用於收納電子槍3。此時，使電子槍3之軸線與陽極5之軸線呈現大略正交而配置電子槍3。亦即，使電子槍3之前端朝向前端部5a之側，而使電子槍3射出之電子可以射入和電子槍3呈對向配置之傾斜面5c上的標靶5d。另外，於金屬框體頭部13之陽極前端部5a側之端部，設有由X射線透過率高之材料構成之圓形照射窗(X射線射出窗)15，可使標靶5d產生之X射線透過，照射至外部。

為使內部空間R成為真空狀態(減壓至特定真空度之狀態)，而於頭部13之內壁面19設有排氣口17可對內部空間R內之空氣進行排氣。於頭部13之外壁面，安裝有介由排氣口17連通於內部空間R的排氣管21。X射線管製造時，經由排氣口17與排氣管21將內部空間R抽成真空後，藉由封閉該排氣管21而封閉管口，使內部空間R以真空狀態被密封。此時，排氣口17，於X射線管組裝完成後於內部空間R乃殘留為開口狀態。於本實施形態中，排氣口17由安裝孔13a看被形成於斜前方之內壁面19上之位置，但排氣口17可形成於內壁面19及20上之任何位置。

於該X射線管2A，由殼體部9a露出之陽極5之基端部5b(高電壓施加部)，係被連接於高電壓供給電路。驅動時，由該高電壓供給電路介由基端部5b對包含標靶5d之陽極5施加約100kV前後之高電壓。此狀態下，可使電子槍3射出之電子射入標靶5d，藉由該射入而於標靶5d產生X射線，產生之X射線透過照射窗15照射至外部。於第2實施形態，係和第1實施形態同樣，「上」、「下」等之用語係以照射窗15側為上，以陽極5之基端部5b側為下加以說明。

驅動時，陽極5被施加高電壓，陽極5與頭部13之間產生高電位差。特別是陽極前端部5a被包圍、收納於頭部13之故，陽極前端部5a與頭部13之內壁面19之間有可能產生放電。如圖14所示，在內壁面19形成之排氣口17之緣部，於排氣管21之內壁面21a與排氣管21之端面21b之境界出現峭立之角部17e，或於排氣口17與內壁面19之境界出現峭立之角部17f。彼等角部17e、17f之影響而使陽極5與頭部13間之電場變為紊亂。結果，在排氣口17之緣部與陽極前端部5a之間之放電可能性變為特別高。放電產生時X射線管2A之X射線輸出變為不穩定之問題存在，因而需要抑制該放電。

於X射線管2A，為抑制排氣口17之緣部與陽極前端部5a之間之放電而採用特殊之遮蔽構造(第2態樣)。亦即，內筒構件31，被設於頭部13之內壁面19與陽極前端部5a之間。該內筒構件31，為厚度較頭部31薄的金屬製導電性構件，具有包圍陽極前端部5a之圓筒形狀。藉由該內筒構件31之設置，於X射線管2A，使排氣口17被由陽極前端部5a隱蔽。亦即由陽極前端部5a看不到排氣口17之緣部。

於頭部13之內壁面19下方，形成和內壁面19為同軸、構成較內壁面19稍小徑之圓柱面的內壁面20。相對於此，內筒構件31之外徑設為和內壁面20中之頭部13之內徑大略同一。圓筒部31之外壁面31a，係於全周圍接觸該內壁面20。圓筒部31配置成為和陽極5及頭部13之內壁面19同軸。藉由該位置關係，於圓筒部31之外壁面31a與頭部13之內壁面19之間形成稍許之間隙S1。又，在圓筒部31之上端31b與設有照射窗15之內壁面29之間，亦形成稍許之間隙S2，而使內筒構件31延伸至內壁面29之附近。藉由上述構造，內部空間R經由間隙S1、S2連通於排氣管21內部，內部空間R之抽成真空時，間隙S1、S2可作為空氣通道之功能。

圓筒部31之下端31c側，係由頭部13之下端突出，延伸至殼體部9a與連結部9b之溶接部分(接合部分)9c之更下方。藉由上述構造，內筒構件31存在於之附近溶接部分(接合部分)9c與標靶5之間。亦即，藉由內筒構件31使溶接部分9c被由陽極5隱蔽而看不到。圓筒部31之下端31c，係折回成為具有曲面之R形狀，面對殼體部9a側之回折部31d之浮游端31e藉由硬焊接合於頭部13之下端面13c。

如上述說明，圓筒部31之下端31c被折回成為R形狀，圓筒部31之下端未出現角部。因此，可抑制內筒構件下端31c和陽極5之間之電場紊亂，可有效抑制內筒構件下端31c和陽極5之間之放電。如上述說明，藉由內筒構件下端31c之被折回，而形成被折回之內筒構件31與頭部13之下端面13c所包圍之小空間Q。於回折部31d形成貫穿孔31f使該小空間Q連通於內部空間R。因此內部空間R之抽成真空時，該貫穿孔31f作為空氣通道功能，可防止空氣殘留於小空間Q。

又，於內筒構件31，在對應於電子槍3之位置形成插通孔31h，收納電子槍3之收納容器之前端3a被插通於該插通孔31h而露出陽極前端部5a側。又，於內筒構件31形成和電子槍3之軸線平行之一對平面部31p。平面部31p被對稱配置而挾持插通孔31h於其間，具有由內壁面31j朝陽極前端部5a側往上隆起之形狀。該插通孔31h，具有使電子槍3射出之電子到達標靶5d之前之電場設為所要狀態之電極功能。

於X射線管2A，藉由內筒構件31之設置，可緩和陽極前端部5a與排氣口17之緣部間之電場紊亂，因此可抑制陽極前端部5a與排氣口17之緣部間之放電。結果，於X射線管2A可抑制放電引起之X射線輸出不穩定，可進行穩定之X射線照射。又，藉由間隙S1、S2使排氣管21內部與內部空間R被連通，該間隙S1、S2作為空氣通道功能，因此X射線管2A製造時，可以無礙地介由排氣口17進行內部空間R之抽成真空。

又，平面部31p之背側被加工為由外壁面31a凹陷之形狀。因此，在由外壁面31a凹陷之部分、於頭部13之內壁面19與平面部31p之背側之間，形成較寬廣空間。排氣口17，係和平面部31p之背側之一方呈對向，而位於內壁面19與平面部31p之背側間之上述較寬廣空間，該空間可使空氣良好地通過，因此，X射線管2A製造時，容易介由排氣口17進行內部空間R之抽成真空。。

內筒構件31安裝於頭部13時，藉由回折部前端31e接觸於頭部13之下端面13c，使陽極5之延伸方向定位成為可能。和陽極5之延伸方向正交的面內之定位，可藉由圓筒部31之外壁面31a接觸於頭部13之內壁面20而進行。如上述說明，藉由頭部13之內壁面20及下端面13c之2面接觸於內筒構件31之定位，可以高精確度地形成間隙S1、S2使連通於內部空間R與排氣管21之內部。

內筒構件31與頭部13為獨立個體，可獨立製造內筒構件31，可獲得高精確度之圓滑之內壁面31j。亦即，由陽極前端部5a隱蔽排氣口17之加工，相較於直接對頭部13實施，可以容易對和陽極前端部5a呈對向之內壁面31j予以圓滑地進行，可有效抑制陽極前端部5a與內筒構件31間之放電。

又，於X射線管2A之殼體部9a，於溶接部分9c形成絕緣性構件與導電性構件之境界。因此較容易引起旗語陽極5間之放電。但是，上述內筒構件31延伸至殼體部9a側，殼體部9a與連結部9b間之溶接部分9c藉由該內筒構件31而由陽極5被隱蔽。依據該構造，可抑制溶接部分9c與陽極5間之電場紊亂，可有效抑制溶接部分9c與陽極5間之放電。

依據具備上述第2態樣之X射線管2A，可有效抑制陽極5之放電，可抑制放電引起之X射線輸出不穩定(可進行穩定之X射線照射)。

(第2實施形態之X射線管之第1變形例)

以下，參照圖15說明第2實施形態之X射線管之第1變形例。圖15為第2實施形態之X射線管之第1變形例之構成斷面圖。

如圖15所示，X射線管2B(第2實施形態之X射線管之第1變形例)，係取代X射線管2A之內筒構件31，改用內筒構件33。該內筒構件33為，較頭部13之下端面13c更朝下突出之部分，係延伸至殼體部9a與連結部9b間之溶接部分9c之更下方之同時，形成為較其他部分更厚，藉由該厚度較厚部分33d，使溶接部分9c被由陽極5隱蔽。另外，該較厚部分33d之下端33c，被加工為R形狀用於抑制其與陽極5間之放電。

內筒構件33組裝於頭部13時，藉由較厚部分33d之段差33e接觸於頭部13之下端面13f，而進行陽極5之延伸方向之定位。因此，於該內筒構件33，藉由內筒構件31之接觸頭部13之內壁面20及下端面13f之2面的定位，可以高精確度地形成間隙S1、S2用於連通內部空間R與排氣管21內部。於該X射線管2B，排氣管21設於和電子槍3呈對向之位置。

藉由上述X射線管2B，可獲得和X射線管2A同樣效果。

(第2實施形態之X射線管之第2變形例)

圖16係作為圖15說明之X射線管2B之變形例，表示第2實施形態之X射線管之第3變形例之重要部分斷面圖。如圖16所示，X射線管2C(第2實施形態之X射線管之第2變形例)，可於內筒構件31，於排氣口17之前方位置形成較排氣口17為小尺寸的多數貫穿孔31k。又，於排氣口17之前方位置，使具有多數貫穿孔之網格狀構件嵌入內筒構件31亦可。藉由該構造，於進行內部空間R之抽成真空時，不僅間隙S1、S2，該貫穿孔31k亦成為空氣通道之故，可以有效進行抽成真空。

(第2實施形態之X射線管之第3變形例)

以下，參照圖17說明第2實施形態之X射線管之第3變形例。圖17為第2實施形態之X射線管之第3變形例之構成斷面圖。

如圖17所示，X射線管2D(第2實施形態之X射線管之第3變形例)，係取代X射線管2A之內筒構件31，改用內筒構件35。該內筒構件35為，具有較內壁面19之頭部13之內徑稍小徑之圓筒形，以包圍陽極前端部5a之方式位於頭部13之內壁面19與陽極前端部5a之間。該內筒構件35藉由內壁面19下方形成之段差部13b而定位。藉由內筒構件35之設置，排氣口17被由陽極前端部5a隱蔽，由陽極前端部5a不會看到排氣口17之緣部。

該內筒構件35之內壁面35j和頭部13之內壁面13c形成一致，因此於內筒構件35之內壁面35j和頭部13之內壁面13c之境界不會出現角部，可抑制內壁面35j及內壁面13c與陽極5間之放電。

另外，頭部13具有於內部空間R內延伸至殼體部9a與連結部9b間之溶接部分9c之更下方之環狀壁部13e。藉由該環狀壁部13e，使溶接部分9c被由陽極前端部5a隱蔽。另外，該環狀頭部13之下端13d，被加工為R形狀用於抑制其與陽極5間之放電。

藉由上述X射線管2D，可獲得和X射線管2A同樣效果。

又，本發明不限定於上述第2實施形態及其變形例，可做各種變更實施。例如於內筒構件31設有平面部31p，但該平面部31p可省略。另外，殼體部9a與頭部13介由連結部9b接合，但殼體部9a與頭部13亦可直接接合，又，於陽極5之傾斜面5c上另外設置標靶5d，但陽極5與標靶5d亦可構成一體，而使傾斜面5c之一部分構成標靶亦可。又，陽極5係具有於圓柱前端設有傾斜面5c之形狀，但於陽極5之前端藉由各種挖掘而具有其他形狀亦可。此情況下，於陽極前端部即使存在角狀部位時，亦可藉由內筒構件31有效抑制排氣口與陽極前端部之間之放電。

以下，參照圖18、19說明具有上述構造之X射線管(本發明之X射線管)適用之本發明X射線源100。圖18為本發明X射線源之一實施形態之構成之分解斜視圖。圖19為本實施形態之X射線源之內部構造之斷面圖。本發明之X射線源100可適用於上述第1實施形態之X射線管1A~1D及上述第2實施形態之X射線管2A~2D之任一，但為簡單而於以下說明及圖面中，該X射線源100可適用之X射線管全部以"X射線管1"表示。

如圖18、19所示，X射線源100具備：電源部102，配置於絕緣塊102A之上面側的第1板構件103，配置於絕緣塊102A之下面側的第2板構件104，存在於第1板構件103與第2板構件104之間的4個夾緊用間隔構件105，及於第1板構件103上介由金屬製筒構件106被固定的X射線管1。電源部102，具有於環氧樹脂構成之絕緣塊102A中將高電壓產生部102B、高電壓線102C、插座102D等(參照圖19)予以模鑄而成之構造。

電源部102之絕緣塊102A具有大略正方形之上面與下面互為平行之短角柱形狀。於其上面之中心部配置，介由高電壓線102C而連接於高電壓產生部102B之圓筒狀插座102D。於絕緣塊102A之上面配置，和插座102D配置成為同心狀的環狀壁部102E。於絕緣塊102A之周面塗敷導電性塗料而將其電位設為GND電位(接地電位)，又，取代塗敷導電性塗料而改用黏貼導電性捲帶亦可。

第1板構件103與第2板構件104，係和例如4個夾緊用間隔構件105與8個夾緊用螺旋109之從動，而將電源部102之絕緣塊102A由圖示上下方向予以挾持的構件。彼等第1板構件103與第2板構件104，形成為較絕緣塊102A之上面與下面大的大略正方形。於第1板構件103與第2板構件104之4個角部，分別形成螺旋插通孔103A、104A用於插通各個夾緊用螺旋109。於第1板構件103形成圓形開口103B用於包圍絕緣塊102A之上面突出設置的環狀壁部102E。

4個夾緊用間隔構件105，形成角柱形狀配置於第1板構件103與第2板構件104之4個角部，各夾緊用間隔構件105之長度，係稍為短於絕緣塊102A之上面與下面間之間隔，亦即設為僅短小絕緣塊102A之夾緊用用間隙。於各夾緊用間隔構件105之上下端，分別形成螺旋孔105A用於使夾緊用螺旋109被螺入。

金屬製筒構件106形成為圓筒形狀，其基端部形成之安裝凸緣106A，係於第1板構件103之圓形開口103B周邊介由密封構件被螺緊固定。金屬製筒構件106之前端部周面形成於捲帶面106B，藉由該捲帶面106B使金屬製筒構件106構成為前端部無角部的前端變細形狀。又，於金屬製筒構件106之捲帶面106B之連續平坦前端面，形成開口106C用於插通X射線管1之殼體部7。殼體部9aX射線管1具備：以絕緣狀態保持、收納陽極5的殼體部7；導通於陽極5、用於收納在其內端部構成之反射型標靶5d的頭部9的上部9c；及電子槍收納部11，用於收納電子槍15而朝標靶5d之電子射入面(反射面)射出電子束。殼體部7與頭部9構成標靶收納部。

殼體部7與頭部9之上部9c配置成為管軸一致，相對於彼等管軸，電子槍收納部11之管軸配置成為大略正交。於殼體部7與頭部9之上部9c之間，形成固定於金屬製筒構件106之前端面的凸緣9a。陽極5之基端部5a(藉由電源部102被施加高電壓之部分)由殼體部7之中心部突出於下方(參照圖19)。

於X射線管1附設排氣管，介由該排氣管使殼體部7、頭部9之上部9c及電子槍收納部11之內部減壓為特定真空度而構成真空密封容器。

於X射線管1，基端部5a(高電壓施加部)被嵌入模鑄於電源部102之絕緣塊102A的插座102D。如此則，基端部5a介由高電壓線102C有高電壓產生部102B接受高電壓之供給。此狀態下，內藏於電子槍收納部11之電子槍15朝標靶5d之電子射入面射出電子時，來自該電子槍15之電子射入標靶5d而產生之X射線，將由安裝於頭部9之上部9c之開口部的X射線射出窗10射出。

X射線源100例如藉由以下順序被組裝。首先，插通於第2板構件104之各螺旋插通孔104A的4個夾緊用螺旋109，係被旋入4個夾緊用間隔構件105之下端面之各螺旋孔105A。之後，插通於第1板構件103之各螺旋插通孔103A的4個夾緊用螺旋109，係被旋入4個夾緊用間隔構件105之上端面之各螺旋孔105A，如此則，第1板構件103與第2板構件104以由上下方向挾持絕緣塊102A之狀態互相被夾緊。此時，於第1板構件103與絕緣塊102A之上面之間存在密封構件，同樣，於第2板構件104與絕緣塊102A之下之間存在密封構件。

之後，由第1板構件103上固定之金屬製筒構件106之開口106C，對金屬製筒構件106之內部注入液狀絕緣物質之高壓絕緣油110。之後，X射線管1之殼體部7由金屬製筒構件106之開口106C被插入金屬製筒構件106之內部浸漬於高壓絕緣油110中。此時，由殼體部7中心部朝下方突出之基端部5a(高電壓施加部)被嵌入電源部102之插座102D。X射線管1之殼體部9a介由密封構件被旋緊固定於金屬製筒構件106之前端面。

經由上述步驟組裝而成之X射線源100，係如圖19所示，相對於X射線管1之陽極5，電源部102之絕緣塊102A之上面突出設置之環狀壁部102E及金屬製筒構件106配置成同蕊狀。又，環狀壁部102E係包圍由X射線管1之殼體部7突出之基端部5a(高電壓施加部)之周圍，突出於遮蔽其和金屬製筒構件106間的高度。

於X射線源100，由電源部102之高電壓產生部102B介由高電壓線102C及插座102D對X射線管1之基端部5a施加高電壓時，高電壓介由陽極5被供給至標靶5d，此狀態下電子槍收納部11收納之電子槍15朝殼體部9之上部9c收納之標靶5d之電子射入面射出電子時，該電子射入標靶5d。依此則，於標靶5d產生之X射線介由殼體部9之上部9c之開口部安裝之X射線射出窗10射出至外部。

其中，於X射線源100，X射線管1之殼體部7被浸漬於高壓絕緣油110狀態下收納之金屬製筒構件106，係突設固定於電源部2之絕緣塊102A外部、亦即第1板構件103上。因此，散熱性良好，可以促進金屬製筒構件106內部之高壓絕緣油110或X射線管1之殼體部7之散熱。

又，金屬製筒構件106具有以陽極5為中心配置之圓筒形狀。此情況下，陽極5至金屬製筒構件106之距離均等，可使陽極5及標靶5d周圍形成之電場穩定。金屬製筒構件106可有效進行帶電之高壓絕緣油110之電荷之放電。

又，突設於電源部102之絕緣塊102A上面的環狀壁部102E，係包圍由X射線管1之殼體部7突出的基端部5a(高電壓施加部)之周圍，遮蔽其與金屬製筒構件106之間。因此可有效防止基端部5a至金屬製筒構件106之異常放電。

又，X射線源100具備，於介由4個夾緊用間隔構件105互為被夾緊用的第1板構件103與第2板構件104之間，把持電源部102之絕緣塊102A的構造件。此意味著絕緣塊102A內不存在感應放電的導電性異物或促使電場紊亂的帶電性異物。因此，依本發明之X射線源100，可有效防止電源部102之無用之放電現象或電場之紊亂。

X射線源100，例如於以透視影像觀察試料內部構造的非破壞性檢測裝置，被組裝於對試料照射X射線的X射線產生裝置而使用。

圖20為作為X射線源之使用例，而被組裝於非破壞性檢測裝置之X射線產生裝置的X射線源(包含本實施形態之X射線管)之作用說明之正面圖。

X射線源100，係對配置於其與X射線攝影機XC之間的試料板SP照射X射線。亦即，X射線源100，係由金屬製筒構件106上方突設之殼體部9之上部9c內藏之標靶5d之X射線產生點XP透過X射線射出窗10對試料板SP照射X射線。

於該使用例，X射線產生點XP至試料板SP之距離越近，X射線攝影機XC產生之試料板SP之透視影像之擴大率越大，因此試料板SP通常近接X射線產生點XP而配置。又，欲以立體觀察試料板SP之內部構造時，使試料板SP傾斜於和X射線照射方向呈正交之軸周圍。

如圖20所示，使試料板SP傾斜於和X射線照射方向呈正交之軸周圍之狀態下，使試料板SP之觀察點P接近X射線產生點XP而以立體觀察時，於X射線源100之金屬製筒構件106之前端部殘留2點虛線所示之角部時，使試料板SP之觀察點P接近X射線產生點XP之距離，僅可以成為試料板SP接觸金屬製筒構件106之前端角部為止之距離、亦即成為X射線產生點XP至觀察點P之間之距離D1。

相對於此，在如圖18、19所示金屬製筒構件106之前端部藉由推拔面106B而構成無角部之前端變細形狀的X射線源100之中，則如圖20之實線所示，可使試料板SP之觀察點P接近X射線產生點XP之距離，成為試料板SP接觸金屬製筒構件106之推拔面106B為止之距離、亦即成為X射線產生點XP至觀察點P之距離D2。結果，試料板SP之觀察點P之透視影像能更進一步擴大，觀察點P之非破壞性檢測能更進一步精密地進行。

本發明之X射線源100不限定於上述實施形態，例如金屬製筒構件106之內周面之斷面形狀較好是圓形，但其外周面之斷面形狀不限定於圓形，可為四角形或其他多角形。此情況下，金屬製筒構件106之前端部周面可形成為斜面狀。

又，電源部102之絕緣塊102A可具有短圓柱形狀，對應於此，第1板構件103及第2板構件104可具有圓板形狀，另外，夾緊用間隔構件105可為圓柱形狀，亦不限定於4個。

另外，X射線管1之構造可具備電子槍配置於殼體部7內之構造。

本發明可做各種變更實施，該變更實施亦包含於本發明範圍之內。

(產業上可利用性)

本發明之X射線管，可於非破壞、非接觸性觀察被多數使用之各種X射線影像攝像裝置中作為X射線產生源被使用。

(發明效果)

依本發明之X射線管，於框體內部採用特殊之遮蔽構造，可有效抑制陽極前端部之放電。

1A、1B、1C、1D、2A、2B、2C、2D、X．．．射線管

3．．．電子槍

5．．．陽極

5a．．．陽極前端部

9．．．殼體部(第2陽極收納部)

9a．．．殼體部

9b．．．連結部

9c．．．溶接部分(接合部分)

13．．．頭部(第1陽極收納部)

14．．．電子槍收納部

15．．．照射窗

17、57．．．排氣口

19、59．．．排氣口之內壁面

25、61、63、65．．．遮蔽構件

29．．．照射窗之內壁面

31、33、35．．．內筒構件

31d．．．回折部

31e．．．回折部之浮游端

31f．．．貫穿孔

31k．．．連通孔

58．．．內壁面

61a、63a．．．遮蔽構件之表面

63f、65f．．．連通孔

R．．．內部空間

d1、d2、d3、d4、S1、S2．．．間隙

100．．．X射線源

102．．．電源部

102A．．．絕緣塊

102B．．．高電壓產生部

102C．．．高電壓線

102D．．．插座

103．．．第1板構件

103A．．．螺旋插通孔

104．．．第2板構件

104A．．．螺旋插通孔

105．．．夾緊用間隔構件

105A．．．螺旋孔

106．．．金屬製筒構件

106A．．．安裝凸緣

106B．．．迴避面

106C．．．插通孔

108．．．導電性塗料

109．．．夾緊用螺旋

110．．．高壓絕緣油

XC．．．X射線攝影機

SP．．．試料板

P．．．觀察點

XP．．．X射線產生點

圖1為本發明第1實施形態之X射線管之構成斜視圖。

圖2為圖1之第1實施形態之X射線管之垂直斷面圖。

圖3為圖1之第1實施形態之X射線管之水平斷面圖。

圖4為第1實施形態之X射線管之第1變形例之構成斜視圖。

圖5為圖4所示X射線管(第1實施形態之X射線管之第1變形例)之斷面圖。

圖6為第1實施形態之X射線管之第2變形例之構成斜視圖。

圖7為圖6所示X射線管(第1實施形態之X射線管之第2變形例)之斷面圖。

圖8為第1實施形態之X射線管之第3變形例之構成斜視圖。

圖9為圖8所示X射線管(第1實施形態之X射線管之第3變形例)之斷面圖。

圖10為本發明第2實施形態之X射線管之構成斜視圖。

圖11為圖10所示第2實施形態之X射線管之分解斜視圖。

圖12為圖10所示第2實施形態之X射線管之斷面圖。

圖13為圖10所示第2實施形態之X射線管之通過排氣管中心軸的斷面圖。

圖14為圖10所示第2實施形態之X射線管之中排氣管之安裝部分附近之斷面圖。

圖15為第2實施形態之X射線管之第1變形例構成之斷面圖。

圖16為作為圖15所示X射線管(第2實施形態之X射線管之第2變形例)，第2實施形態之X射線管之第3變形例之重要部分斷面圖。

圖17為第2實施形態之X射線管之第3變形例構成之斷面圖。

圖18為本發明X射線源之一實施形態之構成之分解斜視圖。

圖19為本實施形態之X射線源之內部構造之斷面圖。

圖20為被組裝於非破壞檢測裝置之X射線產生裝置的X射線源(包含本實施形態之X射線管)之作用說明之正面圖。

1A．．．X射線管

3．．．電子槍

5．．．陽極

5a．．．陽極前端部

5b．．．基端部

5c．．．傾斜面

5d．．．標靶

9．．．殼體部(第2陽極收納部)

11．．．X射線產生部

13．．．頭部(第1陽極收納部)

17．．．排氣口

19．．．排氣口之內壁面

21．．．排氣管

25．．．遮蔽構件

R．．．內部空間

Claims (14)

1. 一種X射線管，係使電子槍射出之電子射入位於陽極前端部之X射線標靶，將該X射線標靶所產生之X射線取出於外部者；具備：框體，其界定內部空間用於收納上述陽極前端部；照射窗，設於上述框體，用於將上述X射線標靶所產生之X射線取出於上述框體之外部；排氣口，設於面對上述陽極之上述框體內壁面之特定位置，用於將上述內部空間抽成真空；及遮蔽構造，設於上述框體之內部空間，用於使上述排氣口隱蔽於上述陽極前端部。
2. 如申請專利範圍第1項之X射線管，其中，上述遮蔽構造，包含：具有面對上述陽極前端部之內側面與面對該內側面的外側面，由導電性材料形成之遮蔽構件。
3. 如申請專利範圍第2項之X射線管，其中，上述遮蔽構件，係自上述框體內壁面起分離特定距離之狀態下，配置於上述陽極前端部與上述排氣口之間；上述遮蔽構件之至少內側面，具有大於上述排氣口之開口面積的面積。
4. 如申請專利範圍第2或3項之X射線管，其中， 上述遮蔽構件，係自上述框體內壁面之中上述照射窗側之區域起分離特定距離之狀態下，配置於上述陽極前端部與上述排氣口之間。
5. 如申請專利範圍第2或3項之X射線管，其中，上述遮蔽構件，具有分別連通於上述內側面與上述外側面的多數貫穿孔。
6. 如申請專利範圍第2或3項之X射線管，其中，上述遮蔽構件，包含自上述框體內壁面延伸至內部空間的該框體之一部分。
7. 如申請專利範圍第2項之X射線管，其中，上述遮蔽構件，具有分別連通於上述內側面與上述外側面的多數貫穿孔，上述遮蔽構件，係以面對上述陽極前端部之上述遮蔽構件之內側面，和上述框體內壁面成為一致的方式被配置。
8. 如申請專利範圍第1項之X射線管，其中，上述框體為，由包圍上述陽極前端部之導電性材料形成之中空構件，具有：第1陽極收納部，於其內壁面設置上述排氣口之同時，具有上述照射窗；及第2陽極收納部，藉由和上述第1陽極收納部接合，而和該第1陽極收納部共同界定用於收納上述陽極的內部空間；上述遮蔽構件為，在上述框體內部空間內以至少包圍上述陽極前端部之方式被配置的中空構件，包含：自上述第1陽極收納部內壁面起分離特定距離之狀態下，使其之 一部分位於該第1陽極收納部內壁面與上述陽極前端部之間，而發揮由上述陽極前端部隱蔽上述排氣口之功能的內筒構件。
9. 如申請專利範圍第8項之X射線管，其中，上述內筒構件，係以其端部自上述第1陽極收納部之照射窗側內壁面起分離特定距離之狀態下，被配置於上述框體之內部空間內。
10. 如申請專利範圍第8或9項之X射線管，其中，上述內筒構件之一部分具有：自上述陽極前端部朝上述第1陽極收納部之內壁面分別延伸的多數貫穿孔。
11. 如申請專利範圍第8或9項之X射線管，其中，上述第1陽極收納部具有導電性材料形成之頭部；上述第2陽極收納部具有：絕緣性材料形成之殼體部，及接合於該殼體部之端部之同時，接合於上述頭部之由導電性材料形成之連結部；上述內筒構件，具有於上述內部空間內朝上述第2陽極收納部側延伸之形狀，而使上述殼體部與上述連結部間之接合部分可由上述陽極予以隱蔽。
12. 如申請專利範圍第8或9項之X射線管，其中，上述第2陽極收納部具有絕緣性材料形成之殼體部；上述第1陽極收納部具有：導電性材料形成之頭部，及設於上述頭部之端部之同時，接合於上述殼體部之由導電性材料形成之連結部；上述內筒構件，具有於上述內部空間內朝上述第2陽 極收納部側延伸之形狀，而使上述殼體部與上述連結部間之接合部分可由上述陽極予以隱蔽。
13. 如申請專利範圍第11項之X射線管，其中，上述內筒構件，具有上述第2陽極收納部側之端部回折為R形狀的回折部，上述回折部之前端接合於上述第1陽極收納部，上述回折部具有1或以上之貫穿孔。
14. 一種X射線源，係具備：申請專利範圍第1項之X射線管；及電源部，對上述X射線標靶供給電壓用於產生X射線。