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TWI405775B - Iodine polarized film and its manufacturing method - Google Patents

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TWI405775B
TWI405775B TW098126936A TW98126936A TWI405775B TW I405775 B TWI405775 B TW I405775B TW 098126936 A TW098126936 A TW 098126936A TW 98126936 A TW98126936 A TW 98126936A TW I405775 B TWI405775 B TW I405775B
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iodine
film
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polarizing film
polyvinyl alcohol
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TW201022293A (en
Inventor
Manabu Miyazaki
Minoru Miyatake
Hiroaki Mizushima
Daisuke Ogomi
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Description

碘系偏光薄膜及其製造方法 技術領域
本發明係有關於一種在液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置、電漿顯示器(PD)及場發射顯示器(FED：Field Emission Display)等畫面顯示裝置中使用之碘系偏光薄膜及其製造方法。又，本發明係有關於一種使用該碘系偏光薄膜之偏光板。
 背景技術
影像顯示裝置(特別是液晶顯示裝置)中所使用的偏光薄膜，為了能提供明亮、顏色再現性良好的影像，需兼備高穿透率與偏光度。此種偏光薄膜，以往係藉由在聚乙烯醇(PVA)薄膜上，使具有二色性的碘及二色性染料等的二色性物質吸附配向而製造。
在該等偏光薄膜中，使碘吸附配向之碘系偏光薄膜，相較於染料系偏光薄膜，係具有可得到高穿透率及高偏光度即高對比之特徴。因此，碘系偏光薄膜係廣泛地使用作為液晶顯示裝置之部件。
然而，於將適用前述碘系偏光薄膜的2片偏光板配置以使得其等之光穿透軸相互垂直的液晶顯示裝置中，會有發生可見光的光漏，顯示畫面變色的問題。特別是，使碘吸附配向於聚乙烯醇薄膜之碘系偏光薄膜，由於在可見光範圍(360~830nm)中短波長範圍(360~410nm)及長波長範圍(700~830nm)中的光吸收較少，故希望能有此改善。
[專利文獻1]日本專利特願昭56-207374號公報
本發明係有鑒於前述問題點而作成者，其目的在於提供一種在將2片偏光板以其等之光穿透軸相互垂直的方式配置於液晶顯示裝置中時，防止在可見光長波長範圍中光漏的發生，且可抑制顯示畫面變色之碘系偏光薄膜及其製造方法。
本發明人發現到藉由含有第2族元素的碘系偏光薄膜，可改善於可見光的長波長範圍與短波長範圍之光吸收，從而完成本發明。
亦即，關於本發明的碘系偏光薄膜係使碘吸附配向於聚乙烯醇薄膜之碘系偏光薄膜，且其特徴在於含有第2族元素。
本發明人認為由聚乙烯醇所構成的碘系偏光薄膜係藉由聚乙烯醇與碘所形成的錯合物，而在可見光(360~830nm)的長波長範圍(700~830nm)內進行光吸收。另一方面，本發明人亦認為第2族元素的陽離子係引發對薄膜表面碘吸附部位的形成，因此，如前述構成般，含有第2族元素的碘系偏光薄膜係於該薄膜表面形成碘吸附部位，而更為促進碘的吸附。結果，可増大於可見光的長波長範圍或短波長範圍的光吸收，且可防止光漏。又，由於第2族元素之標準電極電位較其他多價過渡金屬標準電極電位為低，因此即使在嚴格條件下使用本發明的碘系偏光薄膜，第2族元素不會助長碘的氧化還原反應。結果，由於在可見光長波長範圍內的光吸收性能沒有降低，光學信賴性亦優良
在前述的構成中，其中前述第2族元素之存在量係在5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g之範圍內。若第2族元素存在量在前述數值範圍內，可使在可見光的短波長範圍及長波長範圍內的垂直穿透率的平衡良好。若存在量小於5.6×10-5 mol/g，可見光的短波長範圍(360~410nm)的垂直穿透率會變得過高，而會有發生在前述短波長範圍中的光漏的情形。另一方面，若存在量大於9.7×10-5 mol/g，則會使可見光的長波長範圍中的垂直穿透率變得過高，而會有發生在前述長波長範圍中的光漏的情形。
關於本發明的碘系偏光薄膜的製造方法，該碘系偏光薄膜係使碘吸附配向於聚乙烯醇薄膜者，該製造方法之特徵在於包含使含有第2族元素之鹽的水溶液與前述已使碘吸附配向後之聚乙烯醇薄膜接觸的步驟。
若依據前述方法，藉由使含有第2族元素之鹽的水溶液與聚乙烯醇薄膜表面接觸，可使第2族元素的陽離子對薄膜表面引發碘吸附部位的形成。據此，在薄膜表面形成碘吸附部位，可更促進碘的吸附。結果，可製造可増大於可見光的長波長範圍內的光吸收，而可防止光漏發生的碘系偏光薄膜。又，由於藉由前述方法得到的偏光薄膜不會使所含有的第2族元素助長碘的氧化還原反應，因此即使在嚴格條件下使用，亦可抑制碘吸附量的減少。藉此，可得到可抑制可見光長波長範圍內光吸收降低，而使光學可靠性優異的碘系偏光薄膜。
於前述方法中，前述步驟係於以下步驟之後進行為佳：延伸聚乙烯醇薄膜的步驟、在包含碘與含碘化鉀的水溶液中將該聚乙烯醇薄膜染色的步驟、於包含硼酸的水溶液中浸漬處理染色後的聚乙烯醇薄膜的步驟。
再者，於前述的方法中，前述含有第2族元素之鹽的水溶液較佳係使用第2族元素之碘化物的水溶液。
再者，有關本發明的偏光板之特徵在於：在前述記載的碘系偏光薄膜之至少一邊的面上設有透明保護薄膜。
本發明藉由於前述說明之方法，可達成其以下所述的效果。
亦即，依據關於本發明的碘系偏光薄膜，藉由使聚乙烯醇薄膜與含有第2族元素之鹽的水溶液接觸而使其含有第2族元素，可引發其表面上碘吸附部位的形成而増強碘的吸附。據此，可増大於可見光的長波長範圍內的光吸收、而可防止光漏發生。又，由於與其他的多價過渡金屬比較之下第2族元素不會助長碘的氧化還原反應，因此即使在嚴格條件下使用，於可見光的長波長範圍內的光吸收之性能亦不會降低。結果，於光學可靠性上亦優異。
再者，依據關於本發明的碘系偏光薄膜的製造方法，由於可藉由僅使含有第2族元素之鹽的水溶液與聚乙烯醇薄膜表面接觸，而於該薄膜表面引發碘吸附部位的形成，故藉此可製造更可吸附碘的碘系偏光薄膜。結果，可得到可防止光漏發生且於光學可靠性亦優異的碘系偏光薄膜。
 實施發明的最佳形態
關於本實施形態的碘系偏光薄膜(以下稱為「偏光薄膜」。)係藉由將聚乙烯醇薄膜(以下稱為「PVA薄膜」。)浸漬於含有第2族元素之鹽的溶液中而含有前述第2族元素之構成。
前述PVA薄膜係由聚乙烯醇系樹脂組成，可舉例如，藉由將聚醋酸乙烯系樹脂鹼化而獲得。聚醋酸乙烯系樹脂可舉例如，醋酸乙烯酯的均聚物聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體的共聚物等。與醋酸乙烯酯共聚合的其他單體，可舉例如不飽和羧酸類、不飽和磺酸類、烯烴類、乙烯基醚類等。
聚乙烯醇系樹脂的聚合度一般為500~10,000，且以1,000~8,000的範圍為佳，又以1,400~7,000的範圍更佳。再者，於鹼化時，其鹼化度可舉例如，由對水溶解性點來看，以75莫耳%以上為宜，且以98莫耳%以上為佳，又以98.3莫耳%以上的範圍更佳。
由聚乙烯醇系樹脂所組成之PVA薄膜的製法係可適當地使用：以將溶解於水或有機溶劑的原液延流成膜之延流法、鑄塗法、擠壓法等任意方法成膜者。此時的相位差值係可使用5nm~100nm者。又，為得到面內均一的偏光薄膜，PVA薄膜面內的相位差偏差以儘可能小者為宜，作為生薄膜的PVA薄膜的面內相位差偏差，在測量波長1000nm中以10nm以下為宜，且以5nm以下為佳。
前述第2族元素，具體而言係表示至少1種選自於由鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鐳所組成之群者。該等第2族元素之中，從安全性及操作容易性的觀點來看，以鎂、鈣為佳。該等第2族元素係可單獨使用，或併用2種以上來使。已認為第2族元素的陽離子(即2價陽離子)可對PVA薄膜表面引發碘吸附部位的形成。因此，如前述構成般，使薄膜與含有第2族元素之鹽的水溶液接觸，會於該薄膜表面上形成碘吸附部位。結果，可更為促進於PVA薄膜表面上碘的吸附。又，多價離子的離子強度係與離子價數的平方成比例。因此，2價的陽離子比1價陽離子的離子強度更高，結果，2價的陽離子對形成碘吸附部位的引發力也高。又，其他多價過渡金屬其標準電極電位較第2族元素高，若在嚴格條件下使用含有如此的多價過渡金屬的偏光薄膜，多價過渡金屬會助長碘氧化還原反應，結果會減少碘的吸附量。藉此，會使可見光(360~830nm)的長波長範圍(700~830nm)中光吸收性能降低，而會招致光漏的發生，而降低光學可靠性。
前述第2族元素於偏光薄膜的存在量以5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g的範圍內為宜，且以6.4×10-5 ~7.3×10-5 mol/g的範圍內為佳。若在5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g的範圍內，可使可見光短波長範圍(360~410nm)及長波長範圍內的垂直穿透率的平衡良好。若存在量小於5.6×10-5 mol/g，短波長範圍的垂直穿透率會過高，而會有在短波長範圍內發生光漏的情形。另一方面，若比9.7×10-5 mol/g大，則長波長範圍的垂直穿透率會過高，而會有在長波長範圍內發生光漏的情形。
偏光薄膜的厚度雖無特別限定，但一般而言係5~80μm左右。可藉由於該偏光薄膜的單面或兩面上積層透明保護薄膜而成為偏光板(詳如後述。)。
有關本實施的形態的偏光薄膜係藉由使含有第2族元素之鹽的水溶液與使碘吸附配向後的聚乙烯醇薄膜接觸而製造。該步驟宜在將初始生薄膜即聚乙烯醇薄膜經膨潤、染色、交聯、延伸等一連串步驟之後施行。再者，可藉由於該步驟之後進行乾燥步驟而製造關於本實施形態的偏光薄膜。在除了乾燥步驟外之該等各個步驟中，宜一邊浸漬於由各種溶液組成的浴中一邊進行各個處理。此時各步驟的順序、次數及有無實施並無特別限定，可在一個處理步驟中同時進行數個處理，亦可不進行數個處理。例如、延伸處理可在染色處理後進行，亦可與膨潤或染色處理同時進行，或是可以在延伸處理後進行染色處理。甚者，可於全部步驟之後進行洗淨步驟，亦可僅於特定的處理之後進行。
前述膨潤步驟可舉例如浸漬於注滿水的膨潤浴中。藉此水洗PVA薄膜，而可洗淨PVA薄膜表面的污垢或抗結塊劑，且藉由使PVA薄膜膨潤可期待有防止染色不均勻等不均勻性的效果。於此膨潤浴中，可適當地添加甘油或碘化鉀等，且在甘油的情況下添加濃度宜為5重量%以下，而在碘化鉀的情況下添加濃度宜為10重量%以下。膨潤浴的溫度係以20~45℃的範圍為宜，且以25~40℃為佳。浸漬入膨潤浴的浸漬時間係以2~180秒為宜，且以10~150秒為佳，又以60~120秒為特佳。又，在此膨潤浴中可延伸PVA薄膜，此時的延伸倍率也包含因膨潤所造成的伸展，而相對於未延伸狀態的薄膜為1.1~3.5倍左右。
前述染色步驟係可例如，藉由將前述PVA薄膜浸漬於含有碘等的二色性物質的染色浴中，以使前述二色性物質吸附於PVA薄膜上。
前述二色性物質係可使用迄今眾所皆知的物質，且可列舉如碘或有機染料等。有機染料例如可使用：RED-BR、RED-LR、RED-R、PINK-LB、RUBIAN-BL、BORDO GS、SKY BLUE-LG、LEMON YELLOW、BLUE-BR、BLUE-2R、NAVY-RY、GREEN-LG、VIOLET-LB、VIOLET-B、BLACK-H、BLACK-B、BLACK-GSP、YELLOW-3G、YELLOW-R、ORANGE-LR、ORANGE-3R、SCARLET-GL、SCARLET-KGL、CONGO RED、BRILLIANT VIOLET-BK、SUPRA BLUE-G、SUPRA BLUE-GL、SUPRA ORANGE-GL、直接染料SKY BLUE、高堅牢度直接染料ORANGE-S、高堅牢度BLACK等。
該等二色性物質可以一種類來使用，亦可合併二種類以上來使用。在使用前述有機染料時，舉例而言，從謀求可見光範圍的中和化的觀點來看，較佳係組合二種類以上。具體例係可舉例如：CONGO RED與SUPRA BLUE-G的組合、SUPRA ORANGE-GL與直接染料SKY BLUE的組合，或是直接染料SKY BLUE與高堅牢度BLACK的組合。
前述染色浴的溶液可使用將前述二色性物質溶解於溶劑而成的溶液。一般雖使用水作為前述溶劑，但亦再添加與水具有相溶性的有機溶劑。二色性物質的濃度係以0.010~10重量%的範圍為宜，且以0.020~7重量%的範圍為佳，又以0.025~5重量%特佳。
又，在使用碘作為前述二色性物質時，由可使染色效率更為提升的觀點來看，宜再添加碘化物。該碘化物可舉例如：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。此等碘化物於前述染色浴中的添加比例，係以0.010~10重量%為宜，且以0.10~5重量%為佳。其等之中以添加碘化鉀更佳，且碘與碘化鉀的比例(重量比)以1:5~1:100的範圍為宜，且以1:6~1:80的範圍為佳，又以1:7~1:70的範圍特佳。
將PVA薄膜浸漬入前述染色浴的浸漬時間，雖沒有特別限定，但以1~20分的範圍為宜，且以2~10分為佳。又，染色浴的溫度係以在5~42℃的範圍內為宜，且以在10~35℃的範圍內為佳。再者，亦可在此染色浴中延伸PVA薄膜，且此時的累積總延伸倍率係1.1~4.0倍左右。
又，染色處理除了前述般浸漬於染色浴中的方法之外，舉例而言，亦可為將含有二色性物質的水溶液塗布或噴霧於前述PVA薄膜上的方法，此外，亦可在前述PVA薄膜製膜時預先混入二色性物質。
前述交聯步驟可例如將PVA薄膜浸漬於含交聯劑的浴中而進行交聯。前述交聯劑係可使用迄今眾所皆知的物質。可舉例如硼酸、硼砂等硼化合物，或乙二醛、戊二醛等。其等可使用一種類，亦可併用二種類以上。當併用二種類以上時，舉例而言，以硼酸和硼砂的組合為宜，又，其添加比例(莫耳比)以在4：6~9：1的範圍內為宜，且以5.5：4.5~7：3的範圍為佳，又以6：4為最佳。
前述交聯浴的溶液係可使用將前述交聯劑溶解於溶劑而成的溶液。前述溶劑雖可例如使用水，但此除此之外，亦可包含與水具有相溶性的有機溶劑溶液。於前述溶液中交聯劑的濃度，雖並非限定於此，但以在1~10重量%的範圍內為宜，且以2~6重量%為佳。
由可得到偏光薄膜面內均一特性的觀點來看，亦可於前述交聯浴中添加碘化物。碘化物可舉例如：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。其含量係0.05~15重量%，更佳為0.5~8重量%。其中以硼酸與碘化鉀之組合為佳，且硼酸與碘化鉀的比例(重量比)以在1:0.1~1:3.5的之範圍內為宜，且以在1:0.5~1:2.5的範圍內為佳。
前述交聯浴的溫度一般在20~70℃的範圍內，且PVA薄膜的浸漬時間通常在1秒~15分的範圍內，且較佳為5秒~10分。再者，交聯處理係與染色處理相同，可使用塗布或噴霧含有交聯劑溶液的方法，且亦可在該交聯浴中延伸PVA薄膜，此時的累積總延伸倍率係1.1~4.0倍左右。
前述之延伸步驟可舉例如濕式延伸法，其係以浸漬在浴中的狀態延伸，以使得累積總延伸倍率成為2~7倍左右。
延伸浴的溶液雖無特別限定，但可舉例如，使用添加各種金屬鹽、碘、硼或鋅的化合物的溶液。該溶液的溶劑係可適當使用水、乙醇或各種有機溶劑。其中，較佳係使用分別添加硼酸及/或碘化鉀2~18重量%左右而成之溶液。當同時使用該硼酸與碘化鉀時，其含有比例(重量比)係以1:0.1~1:4左右的比例使用，且較佳係以1:0.5~1:3左右的比例使用。
前述延伸浴的溫度舉例而言，以在40~67℃的範圍為宜，且以50~62℃為佳。
於前述使PVA薄膜接觸含有第2族元素之鹽的水溶液的步驟，可例如，藉由使PVA薄膜浸漬於該水溶液中來進行。藉此，可使得在PVA薄膜表面上形成碘吸附部位。含有第2族元素之鹽的水溶液，可舉例如，選自於由鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鐳所組成之族中至少任1種的碘化物之水溶液。又，第2族元素鹽的濃度以2.2~3.8重量%為宜，且以2.7~3.3重量%為佳。若前述濃度小於2.2重量%，會有於可見光短波長範圍中的光吸收變得不足的情形。另一方面，若前述濃度大於3.8重量%，則會有於可見光長波長範圍中的光變得不足的情形。又，浸漬時間係以3~25秒為宜，以5~15秒為佳。再者，浴的溫度以10~60℃為宜，且以15~40℃為佳。又，於該步驟中的浸漬處理的次數並無特別限定而實施複數次。再者，亦可因應次數適當地變更浴中添加物的種類或濃度。
前述洗淨步驟可舉例如，可藉由將PVA薄膜浸漬於洗淨浴水溶液中，而沖洗掉於前面的處理中附著的硼酸等不需要的殘存物。於前述水溶液中亦可添加前述第2族元素之鹽，該鹼係，例如前述第2族元素的碘化物可好好使用。於洗淨浴添加第2族元素的鹽時，其濃度通常係2.2~3.8重量%，且以2.7~3.3重量%為宜。此外，洗淨浴的溫度以10~60℃為宜，且以15~40℃為佳。再者，洗淨步驟的次數並無特別限定，而亦可在前述各步驟之後進行等，實施複數次。又，亦可變更各洗淨浴中的添加物種類或濃度。
又，在將PVA薄膜從各處理浴中拉起時，為防止滴液發生，可以用眾所皆知的夾送輥(pinch roller)等的除液輥，亦可藉由用氣刀削落液體等的方法除去多餘的水分。
前述乾燥步驟雖可使用自然乾燥、風乾、加熱乾燥等適當的方法，但通常宜使用加熱乾燥。於加熱乾燥中，舉例而言，加熱溫度為20~80℃左右，乾燥時間以1~10分左右為宜。
經由前述的各步驟製作的偏光薄膜的最終的總延伸倍率，相對於前述處理前的PVA薄膜，係以3.0~7.0倍為宜，且以5.5~6.2倍範圍為佳。當最終總延伸倍率小於3.0倍，則難以得到高偏光度的偏光薄膜，而若大於7.0倍，則薄膜會容易斷裂。
以前述製造方法得到關於本實施形態的偏光薄膜係，在以偏光薄膜單體測量時的單體穿透率以在40%以上為宜，且以在42.0~45.0%的範圍為佳。
亦可於前述偏光薄膜之至少單面上設置透明保護薄膜。此透明保護薄膜的構成材料，舉例而言可使用透明性、機械的強度、熱穩定性、水分遮蔽性、等向性等優異的熱塑性樹脂。如此的熱塑性樹脂的具體例係可舉：三乙醯基纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。又，於偏光薄膜的單側雖可藉由接著劑層貼合透明保護薄膜，但在另一側亦可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護薄膜。透明保護薄膜中亦可包含1種以上任意的適當添加劑。添加劑係可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、離型劑、著色抑制劑、難燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中的前述熱塑性樹脂的含量以50~100重量%為宜，且以50~99重量%為佳，又以60~98重量%更佳，並以70~97重量%最佳。當透明保護薄膜中的前述熱塑性樹脂的含量於50重量%以下時、恐怕會無法充分表現熱塑性樹脂原有的高透明性等。
再者，有關透明保護薄膜可舉在日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜，例如含有以下的樹脂組成物：(A)側鏈上具有取代及/或非取代醯亞胺基的熱塑性樹脂，及(B)側鏈上具有取代及/或非取代苯基以及腈基的熱塑性樹脂。具體例係可舉含有由異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物與丙烯腈‧苯乙烯共聚物之樹脂組成物的薄膜。薄膜係可使用由樹脂組成物的混合擠壓品等所構成的薄膜。由於該等薄膜由於相位差小，且光彈性係數小而可消除因偏光板的變形所造成的不均勻等的不佳狀況，又因透濕度小，故加濕耐久性優良。
透明保護薄膜的厚度雖可適當地決定，但一般以強度或操作性等作業性、薄層性等觀點來看宜為1~500μm左右。特別是以1~300μm為佳，且以5~200μm更佳。透明保護薄膜係以5~150μm時特別合宜。
又，當在偏光薄膜兩側設置透明保護薄膜時，在其表裡可使用由相同聚合物材料所形成的保護薄膜，且亦可使用由不同的聚合物材料所形成的保護薄膜。
關於本實施形態的透明保護薄膜宜使用至少一種選自於由纖維素樹脂，聚碳酸酯樹脂，環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂任一者。
纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸的酯。如此的纖維素酯系樹脂的具體例可舉：三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、三丙基纖維素、二丙基纖維素等。在其中以三乙醯基纖維素特佳。三乙醯基纖維素有許多市售製品，故由取得容易性、成本的觀點來看亦有利。以三乙醯基纖維素的市售品之例，可舉例如，富士照相軟片公司製的商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」、KONICA公司製的「KC系列」等。一般而言，該等三乙醯基纖維素之面內相位差(Re)雖大致為零，但厚度方向相位差(Rth)為60nm左右。
環狀聚烯烴樹脂的具體例較佳為降烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元聚合而成的樹脂之總稱，可舉例如日本專利特開平1-240517號公報、特開平3-14882號公報、特開平3-122137號公報等所記載的樹脂。具體例係可舉環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等的α-烯烴之共聚物(代表性的係隨機共聚物)、及將其等不飽和羧酸或其衍生物變性而成的接枝聚合物，以及其等之氫化物等。環狀烯烴的之具體例可舉降烯系單體。
環狀聚烯烴樹脂係有市售各種製品。具體例可舉日本Zeon股份有限公司製的商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」，JSR股份有限公司製的商品名「ARTON」，TICONA公司製的商品名「TOPAS」，三井化學股份有限公司製的商品名「APEL」。
(甲基)丙烯酸系樹脂其Tg(玻璃轉移溫度)以115℃以上為宜，且以120℃以上為佳，又以125℃以上更佳，並以130℃以上最佳。藉由令Tg在115℃以上，可使偏光板的耐久性變得優良。前述(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg之上限值雖無特別限定，但由成形性的觀點來看，較佳係在170℃以下。由(甲基)丙烯酸系樹脂可得到面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為零的薄膜。
(甲基)丙烯酸系樹脂可於不損及本發明效果的範圍內，採用任意適當的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可舉聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚合、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環烴基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較佳地，可舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚甲基丙烯酸C1-6烷酯。更佳地，可舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%，較佳為70~100重量%)的甲基丙烯酸樹脂。
(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，可舉三菱RAYON股份有限公司製的Acrypet VH、Acrypet VRL20A，於日本專利特開2004-70296號公報記載的在分子內具有環構造的(甲基)丙烯酸系樹脂，由分子內交聯或分子內環化反應而得的高Tg(甲基)丙烯酸甲酯樹脂系。
(甲基)丙烯酸系樹脂係可使用具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸系樹脂。因其具有高耐熱性、高透明性、由二軸延伸而造成的高機械強度。
具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸系樹脂可舉例如於日本專利特開2000-230016號公報、特開2001-151814號公報、特開2002-120326號公報、特開2002-254544號公報、特開2005-146084號公報等所記載的具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸系樹脂。
前述透明保護薄膜通常係使用正面相位差小於40nm，且厚度方向相位差小於80nm者。正面相位差Re係以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth係以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數係以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[但，分別令薄膜的遲相軸方向、進相軸方向及厚度方向的折射率為nx、ny、nz，且d(nm)係薄膜的厚度。遲相軸方向係薄膜面內的折射率成為最大的方向。]。又，透明保護薄膜宜儘可能不上色。以使用厚度方向相位差值為-90nm~+75nm的保護薄膜為宜。藉由使用如此的厚度方向相位差值(Rth)為-90nm~+75nm者，可消除透明保護薄膜所引起的偏光板著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)係以-80nm~+60nm更佳，且以-70nm~+45nm特佳。
另一方面，前述透明保護薄膜係可使用正面相位差在40nm以上及/或厚度方向相位差在80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差係通常控制在40~200nm的範圍內，而厚度方向相位差係通常控制在80~300nm的範圍內。在將相位差板作為透明保護薄膜使用時，由於該相位差板亦發揮透明保護薄膜的功能，因此可達成薄型化。
前述透明保護薄膜亦可於塗布接著劑前進行表面改質處理。具體的處理可舉例如：電暈處理、電漿處理、底漆處理、鹼化處理等。
在前述透明保護薄膜不接著偏光薄膜的面上，亦可施以硬塗布層或抗反射處理、以黏著抑制、擴散乃至防光眩作為目的之處理。
又，前述抗反射層、黏著抑制層、擴散層、防光眩層等除了可設置於透明保護薄膜上之外，亦可作為其他用途的光學層而設置成與透明保護薄膜不同個體。
本發明的偏光板係藉由使用前述接著劑將透明保護薄膜與偏光薄膜貼合而製造。該製造方法具有：在偏光薄膜的前述接著劑層形成面及/或透明保護薄膜的前述接著劑層形成面上，塗布前述接著劑之步驟；藉由前述偏光板用接著劑貼合偏光薄膜與透明保護薄膜的步驟。
關於本實施形態的偏光板在實際使用時可作為與光學層積層的光學薄膜來使用。關於此光學層雖無特別限定，但例如可使用1層或2層以上反射板或半透射板、相位差板(包含1/2、1/4等的波長板)、視角補償薄膜等用於形成液晶顯示裝置等之光學層。
於偏光板積層前述光學層而成的光學薄膜，雖可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序各個積層的方式而形成，但預先積層而作成的光學薄膜係具有品質穩定性、優於組裝作業而提升液晶顯示裝置等的製造步驟的優點。積層係可使用黏著層等適當的接著方法。在接著前述偏光板或其他的光學薄膜時，其等的光學軸可因應目的之相位差特性等設為適當的配置角度。
在前述偏光板或是至少積層有一層偏光板的光學薄膜上，亦可設置用於與液晶晶胞等其他部件接著的黏著層。形成黏著層的黏著劑雖無特別限制，但例如可適當地選擇下列者來使用：將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基礎聚合物者。特別是，可適宜地使用如丙烯酸系黏著劑，其在光學透明性上優異，且顯示出適度的潤濕性及凝聚性與接著性的黏著特性，並且耐候性或耐熱性等優異者。
對於黏著層的露出面，直到供以實際使用之前，為達防止其汚染等目的，可暫時膠合分隔件而覆蓋之。藉此，可防止慣例操作狀態中與黏著層接觸。分隔件除了前述厚度條件之外，例如可使用將塑膠薄膜、橡膠片材、紙、布、不織布、網、發泡片材、金屬箔、其等之積層體等適當的薄片體，因應需要以聚矽氧系、長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗布處理者等依照既有標準適宜者。
關於本實施形態的偏光板係可適宜地用於液晶顯示裝置、有機電致發光裝置等各種影像顯示裝置。在適用在於液晶顯示裝置時，關於本實施形態的偏光板係可以光透射軸與液晶晶胞的表面及裡面分別垂直的方式配置。藉此，可得到能降低可見光波長範圍中的光漏，且防止顯示畫面產生變色的液晶顯示裝置。前述液晶晶胞並無特別限定，例如可適當使用TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等的任意型式者。
實施例
以下，例示性地詳細說明本發明的較佳實施例。但，本實施例中所記載的材料或掺合量等，並非限於限定性的記載，本發明的範圍絕非僅限於其等之意旨，其等僅為單純的說明例。
(實施例1)
用厚度75μm、薄膜寬度50mm、聚合度2400、鹼化度99.9%以上的聚乙烯醇(PVA)薄膜，以下順序進行各步驟，而製作關於本實施例的碘系偏光薄膜。
＜膨潤步驟＞
將PVA薄膜運送至注滿純水的膨潤浴中，於30℃的純水中浸漬30秒以使其膨潤。再者，進行一軸延伸直到延伸倍率成為2.2倍為止。
＜染色步驟＞
將PVA薄膜運送至注滿含碘0.035重量%的碘染色溶液之染色浴中，一邊於30℃的碘染色溶液中浸漬27秒，一邊進行一軸延伸直到其延伸倍率成為相對於初始PVA薄膜為3.3倍為止並進行染色。
＜交聯步驟＞
將前述PVA薄膜運送至注滿含有碘化鉀3.0重量%與硼酸3.0重量%的硼酸水溶液的交聯浴中，一邊於30℃硼酸水溶液中浸漬28秒，一邊進行一軸延伸直到其延伸倍率成為相對於初始PVA薄膜的3.6倍為止並進行交聯。
＜延伸步驟＞
將進行過前述處理的PVA薄膜運送至注滿含有5.0重量%碘化鉀及4.0重量%硼酸的硼酸水溶液之延伸浴中，一邊於60℃的硼酸水溶液中浸漬58秒，一邊進行一軸延伸直到其延伸倍率成為相對於初始PVA薄膜的5.9倍為止。
＜第2族元素導入步驟＞
將PVA薄膜運送至於注滿包含0.093mol/l的MgI2 之水溶液之浴中，使其浸漬於30℃之前述水溶液中10秒。
其後，使用烘箱進行PVA薄膜的乾燥。乾燥條件為乾燥溫度60℃，且通過烘箱內的時間設為4分鐘。
(實施例2、3)
於實施例2及3中，係如下述表2所示，除了在第2族元素導入步驟中分別用CaI2 、BaI2 代替MgI2 之外，與前述實施例1相同地製作各碘系偏光薄膜。
(比較例1~3)
於比較例1~3中，依下述表3所示，除了在第2族元素導入步驟中分別用0.186mol/l的LiI、NaI、KI代替MgI2 之外，與前述實施例1相同地製作各碘系偏光薄膜。
(實施例4~10)
於實施例4~10中，除了在第2族元素導入步驟中依下列表4所示般變更MgI2 的濃度之外，與前實施例1相同地製作各碘系偏光薄膜。又，各偏光薄膜中Mg的存在量係藉由使用EDTA(乙二胺四乙酸)標準液與EBT(染毛色媒黑T)指示劑的螯合滴定所測量之值。
(比較例4)
於比較例4中，除了在第2族元素導入步驟中以0.093mol/l的ZnI2 代替MgI2 之外，與前述實施例1相同地製作碘系偏光薄膜。
＜垂直帶區＞
偏光薄膜的單體穿透率、垂直穿透率係藉由附有積分球的分光光度計(日本分光股份有限公司製的V7100)測量。相對於各直線偏光的穿透率係以將通過葛蘭泰拉-稜鏡偏光薄膜而得的完全偏光設為100%來測量。垂直穿透率的測量波長係以波長410nm及700nm來進行。再者、單體穿透率係與測量波長380nm~780nm的測量結果一起藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)來進行視感度調整之Y值來表示。結果係如表2~5所示。
(偏光板的製作)
透明保護薄膜係使用厚度80μm的三乙醯基纖維素薄膜。再者，使用於貼合各實施例及比較例中得到的碘系偏光薄膜與透明保護薄膜的接著劑細如依下述般製備。亦即，在30℃的溫度條件下，將相對於含有乙醯乙醯基的聚乙烯醇樹脂(平均聚合度1200，鹼化度98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度5莫耳%)100重量份之羥甲基三聚氰胺32重量份溶解於純水中，而製備固態部分濃度調整為3.2%的接著劑水溶液。
使用上述接著劑，在24℃的溫度條件下，滾筒貼合機將上述透明保護薄膜貼合在實施例1及比較例4中製作的碘系偏光薄膜的兩面上之後，以60℃使其乾燥12分鐘而得到偏光板。對所得到的偏光板進行偏光度的評定。
(偏光度)
將所得到的偏光板在溫度80℃的加熱條件下放置120小時，測量其前後的偏光度。結果係如表5所示。又，偏光度係使用附有積分球的分光光度計(日本分光製，V7100)並以測量波長380nm~780nm來進行。再者，偏光度係使用以下的公式求得：將相同的2片偏光板以兩者的光透射軸垂直的方式重合時的穿透率(平行穿透率：H0 )，以及以兩者的透射軸垂直的方式重合時的穿透率(垂直穿透率：H90 )。
偏光度(%)={(H0 -H90 )/(H0 +H90 )}1/2 ×100
各穿透率係以通過葛蘭泰拉-稜鏡偏光薄膜所得的完全偏光設為100%。並以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行視感度調整的Y值來表示者。
(結果)
由前述表2~4可顯知般，確認到關於實施例1~10之本發明碘系偏光薄膜於波長700nm之垂直穿透率可抑制為偏低，且可達成於可見光長波長範圍內光漏的防止。另一方面，確認到關於比較例1~3的偏光薄膜任一者的垂直穿透率皆大而會發生光漏。
再者，由前述表4可顯知般，確認到偏光薄膜每1g之Mg存在量在5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g的範圍內之實施例5~9的碘系偏光薄膜，在410nm及700nm中的垂直穿透率之平衡良好、且可防止於兩波長範圍內光漏的發生。
此外，關於使用實施例1的偏光薄膜之偏光板與使用比較例4的偏光薄膜之偏光板，於80℃放置120小時的耐久試驗後，調查偏光度後得知使用實施例1偏光薄膜之偏光板其偏光度降低較少。藉此，確認到關於本發明的偏光板即便在嚴格條件下使用光學可靠性仍優異。

Claims (4)

  1. 一種碘系偏光薄膜，係使碘吸附配向於聚乙烯醇薄膜者，並含有第2族元素的碘化物，其中前述第2族元素之存在量係在5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g之範圍內。
  2. 一種碘系偏光薄膜之製造方法，該碘系偏光薄膜係使碘吸附配向於聚乙烯醇薄膜者，該製造方法包含使第2族元素之碘化物的水溶液與前述已使碘吸附配向後之聚乙烯醇薄膜接觸的步驟，其中該碘系偏光薄膜中前述第2族元素之存在量係在5.6×10-5 ~9.7×10-5 mol/g之範圍內。
  3. 如申請專利範圍第2項之碘系偏光薄膜之製造方法，其中前述步驟係於以下步驟之後進行：延伸聚乙烯醇薄膜的步驟、在包含碘與碘化鉀之水溶液中將該聚乙烯醇薄膜染色的步驟、於包含硼酸之水溶液中浸漬處理染色後的聚乙烯醇薄膜的步驟。
  4. 一種偏光板，係在如申請專利範圍第1項之碘系偏光薄膜之至少一邊的面上設有透明保護薄膜者。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012198449A (ja) 2011-03-23 2012-10-18 Nitto Denko Corp 偏光膜および偏光フィルム
JP6188187B2 (ja) * 2012-01-05 2017-08-30 日東電工株式会社 ヨウ素系偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2021165809A (ja) * 2020-04-08 2021-10-14 日東電工株式会社 偏光膜および偏光フィルム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070035681A1 (en) * 2003-09-19 2007-02-15 Masaru Okada Polarizing film, polarizing plate and liquid crystal display device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5002701A (en) * 1989-02-10 1991-03-26 Research Frontiers Incorporated Light polarizing materials and suspensions thereof
JPH06254958A (ja) * 1993-03-03 1994-09-13 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The ポリビニルアルコール系樹脂延伸フィルム
JP2005283758A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Nitto Denko Corp 偏光子の製造方法、偏光子、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2006178163A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Nitto Denko Corp 光学フィルムの製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2006276236A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Nippon Kayaku Co Ltd 偏光素膜又は偏光板
JP2007206661A (ja) * 2005-04-25 2007-08-16 Nitto Denko Corp 液晶パネルおよび液晶表示装置
JP2007039636A (ja) * 2005-07-07 2007-02-15 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムおよびその製造方法、並びに、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、光学補償フィルムおよび液晶表示装置。
JP4926548B2 (ja) * 2006-06-09 2012-05-09 株式会社クラレ 偏光フィルムの製造法
JP4919403B2 (ja) * 2006-09-14 2012-04-18 日本化薬株式会社 高耐久性偏光板
JP4335901B2 (ja) * 2006-11-14 2009-09-30 日東電工株式会社 偏光板の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070035681A1 (en) * 2003-09-19 2007-02-15 Masaru Okada Polarizing film, polarizing plate and liquid crystal display device

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