TWI400702B - Optical recording media - Google Patents
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Description
本發明係關於記錄再生光碟等之光記錄媒體,更詳言之,係關於可對應溫度變化及環境溫度之變化,亦可利用於高密度型光碟的光記錄媒體。
近年來,作為記錄或保存動畫資訊等龐大資訊的資訊記錄媒體,大多使用再生專利光碟或光記錄光碟等之光資訊媒體。其中之一,提案有例如利用波長400nm之雷射光的高密度型光碟(所謂藍光光碟,以下有時適當稱為「藍光光碟」)(參照專利文獻1)。上述藍光光碟係依序具備樹脂基板、記錄再生功能層、保護層及硬塗層的光記錄媒體。對於上述硬塗層係要求耐擦傷性及硬度。另一方面,為了即使環境溫度或濕度發生變化仍可穩定地進行資訊寫入,對光碟整體係要求於發生環境溫度或環境濕度變化時之光碟變形較小。
於此,環境溫度變化所伴隨之光碟變形,根據本發明者等人之研討,闡明了其係由上述保護層之彈性模數所支配。亦即,若保護層之彈性模數較大,溫度變化所伴隨之光碟變形變大。相反地,若保護層之彈性模數較小,則上述變形變小。從而,由環境溫度變化所伴隨之變形較少的觀點而言,較佳係保護層之彈性模數較小。
然而言,一般而言,保護層之彈性模數越小,形成於保護層上之硬塗層的硬度越降低。因此,由硬塗層之硬度、亦即光記錄媒體之耐擦傷性或硬度等觀點而言,較佳係保護層之彈性模數較大。
另外,環境濕度變化所伴隨之光記錄媒體的變形,推判係由樹脂基板之吸脫水所伴隨的變化所支配。此事實亦可由僅具有樹脂基板與記錄再生功能層之光記錄媒體的變形非常大而得知。若於上述記錄再生功能層上進一步形成保護層或硬塗層,則通常可使上述變形減小。此情況認為係因保護層或硬塗層之吸脫水所伴隨的變形,與經由記錄再生功能層之較硬層而存在於相反側的樹脂基板之變形相抵銷所致。又,使上述變形減低的程度,認為係依存於膜厚較厚之層,一般認為主要依存於具有較硬塗層更大膜厚之保護層的彈性模數。亦即,在保護層之彈性模數為適當範圍(較高彈性模數)時,環境濕度之變化所伴隨的光碟變形較小,故較佳。在保護層之彈性模數過小時,無法完全抑制因環境濕度變化造成之樹脂基板之吸脫水所伴隨的變形,結果,有環境濕度變化所造成之光碟整體的變形變大的情形。另外,在保護層之彈性模數過大時,保護層之變形變得較樹脂基板之變形更大,而使與樹脂基板相反側之變形增大。從而,由環境濕度之變化所伴隨之變形較少的觀點而言,保護層之彈性模數較佳係適度範圍內的較高彈性模數。
若整合以上保護層之彈性模數與所要求之性能之間的關係,(1)由光記錄媒體之表面硬度的觀點而言,較佳係保護層為高彈性模數;(2)由環境溫度變化所伴隨之變形的觀點而言,較佳係保護層為低彈性模數;再者,(3)由環境濕度變化所伴隨之變形的觀點而言,較佳係適度範圍內之較高彈性模數。
於此,關於對上述(2)環境溫度變化及(3)環境濕度之變化而變形較少的材料,提案有例如專利文獻1。上述文獻中,揭示了含有胺基甲酸乙酯丙烯酸酯與其他丙烯酸酯的組成物適合作為光資訊媒體的光穿透層用材料,根據本發明者等人之探討,若使用上述光穿透層用材料,則有可製造環境溫度變化、濕度變化所伴隨之變形不那麼大之光記錄媒體的可能性。
另外,例如專利文獻2提案有(1)表面硬度較高,且(3)對環境濕度變化之變形較少的材料。
專利文獻1:日本專利特開2003-263780號公報
專利文獻2:日本專利特開2007-131698號公報
然而,本發明者等人得知,於使用了上述專利文獻1所記載之光穿透層用材料的光記錄媒體中,有(1)無法使表面硬度充分的情況。又,於使用了上述專利文獻2所記載之材料的光記錄媒體中,有(2)對環境溫度變化發生變形的可能性。
另外,關於(2)對環境溫度變化發生之變形較少,且(1)表面硬度較高之光記錄媒體,尚無相關報告。由以上事實,期望提供一種滿足上述所有要求之光記錄媒體,亦即對環境溫度及環境濕度之變化所伴隨的變形較少,且表面硬度高之光記錄媒體。
本發明係有鑑於上述問題而完成者。亦即,本發明之目的在於提供一種具有充分表面硬度,且環境溫度及環境濕度發生變化時之變形較少,特性之均衡優越的光記錄媒體。
本發明者等人針對可滿足上述目的之光記錄媒體進行潛心研究,結果發現,重要的是用於形成保護層之放射線硬化性組成物的材料、及保護層之吸水時之彈性模數(modulus of elasticity)。具體而言,發現藉由使上述保護層含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(urethane (metha)acrylate)(A)及其以外之(甲基)丙烯酸酯化合物(B),以及將保護層之一般時間之彈性模數與吸水時之彈性模數的比設為既定值以上,則可作成使環境溫度發生變化時之變形、及環境濕度剛變化後之變形較少,並具有充分表面硬度光記錄媒體,遂完成本發明。
亦即,本發明具有以下要旨。
一種光記錄媒體,係依序具有下述者:樹脂基板;記錄再生功能層;保護層,其為含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)的放射線硬化性組成物的硬化物;與硬塗層,其表面硬度為B以上;其特徵為,上述保護層飽和吸水時之拉伸彈性模數相對於25℃、濕度45%之拉伸彈性模數的比為0.20以上。
此時,上述保護層之25℃下之吸水率較佳為2(wt/wt)%以下。
另外,針對於25℃環境下靜置一定時間後再於5℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,以及於25℃環境下靜置一定時間後再於55℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,測定上述光記錄媒體之可記錄再生區域中距中心最遠之位置的上述樹脂基板表面於垂直方向上的變位量時,較佳係上述變位量均為150μm以下。
另外,上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)較佳為單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)及/或多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)。
另外,上述硬塗層之表面硬度為HB以上,上述保護層為含有下述物質之放射線硬化性組成物之硬化物:胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A),係使含有聚異氰酸酯(a1)、分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上之多元醇(a3)及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)的組成物進行反應之反應生成物;單官能(甲基)丙烯酸酯(b1);與多官能(甲基)丙烯酸酯(b2);上述保護層之飽和吸水時之彈性模數較佳為200MPa~1100MPa之範圍內,上述保護層之膜厚較佳為70μm~105μm之範圍內。
於此,上述保護層為含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)、單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)與多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)之放射線硬化性組成物的硬化物,各成分之含量係相對於硬化物總量,較佳為(A)10~85重量%、(b1)10~80重量%、(b2)0~30重量%。
另外,上述分子量400以上之多元醇(a3)較佳係含有分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)、及分子量1500以上之多元醇(a3-2)。
另外,上述分子量400以上之多元醇(a3)較佳為聚醚多元醇。
另外,上述分子量未滿400之二元醇(a2)較佳為使2個羥基以碳連接之二元醇。
另外,上述單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)及/或多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)較佳為脂環式(甲基)丙烯酸酯,上述多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)較佳為脂肪族多官能(甲基)丙烯酸酯。
另外,本發明之光記錄媒體可使用作為藍光光碟。
根據本發明,可提供具有充分表面硬度,環境溫度發生變化時之變形及環境濕度剛發生變化後之變形較少,特性之均衡優越的光記錄媒體。
以下詳細說明本發明,但本發明並不限定於以下說明,在其要旨之範圍內可進行各種變化而實施。
本發明係關於記錄再生光碟等之光記錄媒體,本發明之光記錄媒體係依序具備:樹脂基板;記錄再生功能層;保護層,其為含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)的放射線硬化性組成物的硬化物;與硬塗層,其表面硬度為B以上。又,本發明中,(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
另外,本發明之光記錄媒體之特徵為,以下式所示之上述保護層飽和吸水時之拉伸彈性模數相對於25℃、濕度45%之拉伸彈性模數的比e(以下亦適當稱為「拉伸彈性模數」)為0.20以上。
e=(飽和吸水時之拉伸彈性模數)/(於25℃、45%RH之拉伸彈性模數)
上述拉伸彈性模數係指形成0.1mm厚之薄膜,使用拉伸強度試驗機,以拉伸速度1mm/min進行拉伸試驗時的彈性模數。又,本發明中之飽和吸水時之彈性模數,係指針對將上述薄膜於25℃下於水中浸漬3小時後之薄膜,馬上進行上述拉伸試驗時之彈性模數。
由完成作為光記錄媒體之製品,測定本發明中之保護層之上述彈性模數、吸水率時,可藉以下方法進行。
一般之光記錄媒體中,自保護層與記錄再生功能層之界面,可較容易地由保護層將表面側部分剝離成碟狀。在保護層上形成有其他層(例如硬塗層等之樹脂層)時,難以使兩層分離,但藉由掃瞄型電子顯微鏡(SEM)觀察或顯微FT-IR(傅立葉轉換紅外分光分析法)測定等方法,可把握到經剝離之層的剖面以何種程度之膜厚積層著相異層。於把握到膜厚後,例如可使用旋轉式之研磨機去除剝離困難之層後,將保護層部分剝離。如此得到保護層單獨之膜後,可藉上述測定方法測定彈性模數、吸水率。
在欲同定保護層之組成物時,係藉由將上述所得之保護層單獨之膜以熱分解GC-MS法(氣體色層質量分析法)等進行分析,則亦可得知樹脂組成。
根據本發明,由於上述保護層含有既定材料(胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)),故可使光記錄媒體之表面硬度提高,並可使對於環境溫度之變形性減少。
可使表面硬度及耐環境溫度性良好的理由雖尚未明朗,但在使用既定材料時,形成來自其骨架的類似微小結晶區域(domain)之物,該區域發揮如無機填充材般之功能而造成高表面硬度,另一方面,交聯密度本身係適當地低,存在分子運動之緩衝(緩衝物),而推定其抑制熱膨脹收縮。
另外,本發明中,由於將保護層之上述拉伸彈性模數的比設為既定值以上,故可使環境濕度剛變化後之變形減少。其機制推測如下。
如上述,環境濕度變化時之光記錄媒體之變形,係由保護層及樹脂基板之吸脫水所伴隨的變形所支配。本發明中,係於記錄再生功能層上形成吸濕時之拉伸彈性模數與一般時之拉伸彈性模數的比在既定範圍內的保護層。一般之放射線硬化性組成物等之樹脂材料,係於吸濕時發生膨潤而變軟,彈性模數大幅降低。該降低較大之材料係吸濕時之拉伸彈性模數與一般時之拉伸彈性模數的比變小。
本發明中,由於保護層之吸濕時彈性模數相對於一般時彈性模數為較大,亦即吸濕時彈性模數不易降低,故吸濕時之保護層之與樹脂基材吸濕時所發生的變形相抵銷的應力變大,而可充分抑制其變形。因此,認為即使在發生環境濕度變化時,光記錄媒體仍可不易發生變形。
由上述,本發明之光記錄媒體可作成為表面硬度充分、且環境溫度變化時之變形較少,環境濕度剛變化後之變形亦較少之成品。
以下,針對本發明之光記錄媒體之各構件進行說明。
首先,針對本發明之光記錄媒體所使用之保護層進行說明。本發明所使用之保護層係與後述之記錄再生功能層鄰接設置,一般可作成為具有平面圓環形狀者。又,此種保護層係由可穿透於記錄再生所使用之雷射光的材料所形成。
以下,針對本發明之光記錄媒體所使用之保護層的物性、保護層之材料及形成方法進行說明。
上述保護層之上述拉伸彈性模數的比e通常為0.2以上、較佳0.3以上、更佳0.5以上、特佳0.7以上。又,上限通常為1以下。若上述拉伸彈性模數之比e較小,則有吸濕時之彈性模數變小的傾向,於環境濕度發生變化時,無法完全抑制樹脂基板之變形,而有光記錄媒體之變形變大的傾向。
另外,上述保護層之吸水率較佳為2(wt/wt)%以下,更佳為1.5(wt/wt)%以下、再更佳1(wt/wt)%以下、特佳0.7(wt/wt)%以下。若保護層之吸水率過高,則有上述拉伸彈性模數之比e小於上述範圍的傾向,並有環境濕度變化所伴隨之光記錄媒體之變形變大的情形。上述吸水率係藉下述方法求得。形成0.1mm厚之薄膜並測定初期重量W0
。接著將上述薄膜於25℃下浸漬於裝滿純水之容器中3小時後,取出薄膜,將附著之純水以刮刷輕輕拭除,立即測定重量W。藉由求取相對於初期重量W0
之浸漬後的重量增加(W-W0
)而算出。亦即,以下式表示吸水率。
吸水率(wt/wt)(%)=(W-W0
)/W0
×100
上述保護層較佳係具有既定之飽和吸水時彈性模數,具體而言,上限較佳為1100MPa以下、更佳900MPa以下、再更佳700MPa以下、特佳600MPa以下。又,下限較佳為200MPa以上、更佳250MPa以上、再更佳300MPa以上、特佳400MPa以上。若上述飽和吸水時彈性模數過高,則於環境濕度急遽變化時保護層之變形顯著增大,有光記錄媒體之變形增大的傾向。另外,若低於上述範圍,則有來自保護層之吸脫水的變形較小,抑制樹脂基板變形之效果變小的傾向。
另外,組合了上述保護層與後述硬塗層之複合層,較佳係其飽和吸水時彈性模數為既定範圍內。複合層之飽和吸水時彈性模數之上限,一般為1200MPa以下、較佳1000MPa以下、更佳900MPa以下、再更佳800MPa以下、特佳700MPa以下。又,複合層之飽和吸水時彈性模數之下限,一般為300MPa以上、較佳350MPa以上、更佳400MPa以上、再更佳450MPa以上、特佳500MPa以上。若上述飽和吸水時彈性模數過高,則有於環境濕度急遽變化時光記錄媒體之變形明顯增大的傾向。相反地若過低,則有抑制來自樹脂基板之吸脫水之變形的效果變小的傾向。
另外,上述保護層之膜厚,一般為10μm以上、較佳20μm以上、更佳30μm以上、再更佳70μm以上、特佳85μm以上,又,一般為300μm以下、較佳130μm以下、更佳115μm以下、再更佳105μm以下。藉此,可使雜物等對資訊寫入所造成的影響與穿透率之均衡良好。
另外,上述保護層較佳係通常對溶劑等顯示不溶不融的性質,即使經厚膜化,仍具有有利於光學構材用途的性質,密黏性、表面硬化度優越。具體而言,較佳係顯示低光學應變性(低雙折射性)、高光線穿透率、機械強度、尺寸穩定性、高密黏性、高表面硬度、一定以上之耐熱.耐濕變形性以及低收縮性。
另外,上述保護層較佳係具有對於光記錄媒體之記錄再生所使用之波長附近之雷射光呈充分之透明性,且保護後述樹脂基板上所形成之記錄再生功能層免於水或塵埃,並防止劣化的性質。
上述保護層之硬度,係以根據JIS K5400之鉛筆硬度試驗之表面硬度計,一般為6B左右、較佳4B以上、更佳3B以上。藉此,可提高後述之硬塗層的表面硬度,並可作成耐磨損性或記錄膜保護性優越之光記錄媒體。
另外,上述保護層之光線穿透率,係波長550nm之每0.1mm光徑(optical path)長之光線穿透率,一般為80%以上、較佳85%以上、更佳89%以上。又,並無上限,較佳係接近100%。若光線穿透率過低,則保護層之透明性差劣。因此,於光記錄媒體中,有於將所記錄之資訊進行讀出時錯誤增加的傾向。
另外,保護層之光線穿透率係在記錄.再生所使用之光波長下,一般為80%以上、較佳85%以上、更佳89%以上。若為此種範圍,則可使記錄再生光之吸收的損失成為最小限度。另一方面,光線穿透率特佳雖為100%,但於所使用之材料的性能上,通常為99%以下。上述光線穿透率例如可藉由Hewlett-Packard公司製HP8453型紫外.可見吸光光度計,以公知方法,於室溫下進行測定。
將保護層之光線穿透率設為上述範圍時,較佳係使用光線穿透率較高者作為構成後述放射線硬化性組成物之各成分。具體而言,為了使可見光區域之光線穿透率降低,較佳係各成分中之有色物或分解物等之雜質量較少。又,較佳係製造各成分時之觸媒量較少。又,為了使紫外線區域之光線穿透率不降低,較佳係於各成分選擇不含芳香環的脂肪族或脂環式骨架者。
再者,較佳係上述保護層與後述記錄再生功能層之間的密黏性高,經時密黏性亦以較高者為佳。具體而言,於80℃、80%RH環境下放置100小時(更佳200小時)後之保護層與記錄再生功能層之間的密黏面積之比例,較佳為保持在初期密黏面積之50%以上、更佳80%以上、特佳100%。
上述保護層係含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之放射線硬化性組成物的硬化物。上述放射線硬化性組成物中,視需要亦可適當含有上述以外之材料。
於用以形成上述保護層之放射線硬化性組成物中,含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)。藉此,可減小光記錄媒體對於環境溫濕度變化之變形,且使光記錄媒體具有高表面硬度。
上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)並無特別限定,通常使含有羥基之化合物、聚異氰酸酯、與含羥基之(甲基)丙烯酸酯進行反應而獲得。
本發明中,上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)特佳為使含有聚異氰酸酯(a1)、分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上之多元醇(a3)及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)的組成物進行反應的反應生成物。
再者,分子量400以上之多元醇(a3)較佳為含有分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)及分子量1500以上之多元醇(a3-2)。
尚且,本發明之分子量在未特別限定之下,係指數量平均分子量。
聚異氰酸酯係指於分子中具有2個以上異氰酸酯基的化合物。本發明所使用之聚異氰酸酯並無特別限定,可舉例如:四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等之脂肪族二異氰酸酯;雙(異氰酸基甲基)環己烷、環己烷二異氰酸酯、雙(異氰酸基環己基)甲烷、異佛酮二異氰酸酯等之脂環式二異氰酸酯;甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、間伸苯基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯等之芳香族二異氰酸酯;此等可單獨使用1種,亦可依任意比率及組合使用2種以上。此等之中,由所得之胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)之色相(color phase)良好的觀點而言,較佳為雙(異氰酸基甲基)環己烷、環己烷二異氰酸酯、雙(異氰酸基環己基)甲烷、異佛酮二異氰酸酯等之脂環式二異氰酸酯。
尚且,作為聚異氰酸酯(a1)之分子量,由保護層之強度與彈性模數之間均衡的方面而言,一般為100以上、較佳150以上。又,一般為1000以下、較佳500以下。
上述聚異氰酸酯(a1)係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)與上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之總和中,通常使用2×10-4
mol/g以上、較佳6×10-4
mol/g以上,又,通常使用22×10-4
mol/g以下、較佳16×10-4
mol/g以下。
所謂分子量未滿400之二元醇係指含有2個羥基之分子量未滿400的化合物。本發明所使用之分子量未滿400之二元醇並無特別限定,特佳為使2個羥基以碳連接的二元醇。
作為其具體例,可舉例如:乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、2-甲基-1,5-戊二醇、新戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2,3,5-三甲基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2-乙基-1,6-己二醇、2,2,4-三甲基-1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、2-甲基-1,8-辛二醇、1,2-二羥甲基環己烷、1,3-二羥甲基環己烷、1,4-二羥甲基環己烷、二環戊二烯基二甲醇等之烷二醇類,此等可單獨使用1種或依任意比率及組合使用2種以上。
上述之中,較佳係碳數4~10之脂肪族二醇,具體而言,1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、2-甲基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、2-甲基-1,8-辛二醇等由於可使光記錄媒體之變形不易發生,且具有光記錄媒體之表面硬度變高的傾向,故特佳。
尚且,作為分子量未滿400之二元醇(a2)之分子量,由來自硬化收縮之樹脂基板變形與表面硬度之均衡的方面而言,較佳為250以下、更佳150以下,又通常為80以上、較佳100以上。
另外,上述分子量未滿400之二元醇(a2)係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)與及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之總和中,通常使用1×10-4
mol/g以上、較佳3×10-4
mol/g以上,又通常使用10×10-4
mol/g以下、較佳8×10-4
mol/g以下。
本發明之分子量400以上之多元醇(a3),較佳係含有分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)及分子量1500以上之多元醇(a3-2)。
所謂分子量400以上且未滿1500之多元醇,係指分子量400以上且未滿1500,且於分子中具有2個以上羥基的化合物。
作為上述分子量400以上且未滿1500之多元醇,可舉例如:上述分子量未滿400之二元醇(a2)(以下有時適當簡稱為「二元醇」)之多聚物的聚醚多元醇;具有上述二元醇與多元酸之反應所造成的酯鍵結、或環狀酯之開環聚合所造成之酯鍵結的聚酯多元醇;具有上述二元醇與碳酸酯之反應所造成之碳酸酯鍵結的聚碳酸酯多元醇等。
作為上述聚醚多元醇之具體例,可舉例如:上述二元醇之多聚物;作為四氫呋喃等之環狀醚之開環聚合體的聚四亞甲基二醇;上述二元醇之環氧乙烷、環氧丙烷、1,2-環氧丁烷、1,3-環氧丁烷、2,3-環氧丁烷、四氫呋喃、表氯醇等之環氧烷加成物;等。
作為上述聚酯多元醇之具體例,可舉例如:上述二元醇與順丁烯二酸、反丁烯二酸、己二酸、癸二酸、酞酸等之多元酸的反應物;作為己內酯等之環狀酯之開環聚合物的聚己內酯等。
另外,作為聚碳酸酯多元醇之具體例,可舉例如上述二元醇與下述碳酸酯的反應物:碳酸伸乙酯、碳酸1,2-伸丙酯、碳酸1,2-伸丁酯等之碳酸伸烷酯,或碳酸二苯酯、碳酸4-甲基二苯酯、碳酸4-乙基二苯酯、碳酸4-丙基二苯酯、碳酸4,4’-二甲基二苯酯、碳酸2-甲苯基-4-甲苯酯、碳酸4,4’-二乙基二苯酯、碳酸4,4’-二丙基二苯酯、碳酸苯基甲苯酯、碳酸雙氯苯酯、碳酸苯基氯苯酯、碳酸苯基萘酯、碳酸二萘酯等之碳酸二芳基酯,或碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸二正丙酯、碳酸二異丙酯、碳酸二正丁酯、碳酸二異丁酯、碳酸二第三丁酯、碳酸二正戊酯、碳酸二異丙酯等之碳酸二烷基酯等。
此等多元醇類可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。上述多元醇類中,較佳為聚醚多元醇,其中更佳為聚烷二醇,特佳為聚四亞甲基二醇。
上述分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)之分子量的上限,係由提升表面硬度的觀點而言,較佳為1100以下、更佳900以下、特佳800以下。
上述分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)與及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之總和中,通常使用0.1×10-4
mol/g以上、較佳0.5×10-4
mol/g以上,又通常使用2.0×10-4
mol/g以下、較佳1.3×10-4
mol/g以下。
所謂分子量1500以上之多元醇,係指數量平均分子量為1500以上,且分子中具有2個以上羥基的化合物。
作為此種分子量1500以上之多元醇,並無特別限定,可舉例如於上述分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)之欄所例示之多元醇等。上述中較佳為聚醚多元醇,更佳為聚烷二醇,特佳為聚四亞甲基二醇。又,上述分子量1500以上之多元醇(a3-2)可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。
上述分子量1500以上之多元醇(a3-2)之分子量的下限,係由保護層吸水時之彈性模數降低變小的觀點而言,較佳為1900以上。
另外,上述分子量1500以上之多元醇(a3-2)係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)與及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之總和中,通常使用0.05×10-4
mol/g以上、較佳0.1×10-4
mol/g以上,又通常使用1×10-4
mol/g以下、較佳0.5×10-4
mol/g以下。
所謂含有羥基之(甲基)丙烯酸酯係指合併具有羥基與(甲基)丙烯醯基的化合物。含有羥基之(甲基)丙烯酸酯並無特別限定,可舉例如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、環氧丙基醚與(甲基)丙烯酸之加成反應物、二醇之單(甲基)丙烯酸酯物等,此等可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。
尚且,作為含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)之分子量,較佳為40以上、更佳80以上,又較佳為800以下、更佳400以下。
上述含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)與及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)之總和中,通常使用2×10-4
mol/g以上、較佳6×10-4
mol/g以上,又通常使用21×10-4
mol/g以下、較佳17×10-4
mol/g以下。
藉由使含有上述聚異氰酸酯(a1)、分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)、分子量1500以上之多元醇(a3-2)及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)的組成物進行加成反應,可製造胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)。
於上述加成反應時,較佳係將含有上述(a1)、(a2)、(a3-1)、(a3-2)及(a4)之組成物中的異氰酸酯基及羥基成為化學計量之量。
另外,製造胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)時,所使用之上述分子量1500以上之多元醇(a3-2)相對於(a3-1)分子量400以上且未滿1500之多元醇的重量比,亦即{(a3-2)之重量}/{(a3-1)之重量},通常為0.05以上、較佳0.1以上,又通常為10以下、較佳7以下。若此比過小,則有保護層吸水時之彈性模數降低的傾向。相反地若過大,則表面硬度降低。
另外,製造胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)時所使用之上述含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)之羥基的量,係相對於上述分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)、分子量1500以上之多元醇(a3-2)、及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)中所含有之總羥基量,通常為20莫耳%以上、較佳40莫耳%以上,又通常為80莫耳%以下、較佳60莫耳%以下。配合上述比例,可控制所得之胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)的分子量。
上述含有聚異氰酸酯(a1)、分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)、分子量1500以上之多元醇(a3-2)、及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)之組成物的加成反應,可依公知之任意方法進行。例如,將含有聚異氰酸酯(a1)、(a2)、(a3-1)、(a3-2)及(a4)之組成物(以下有時稱為含羥基組成物),與含加成反應觸媒之混合物,於一般40℃以上、較佳50℃以上且通常90℃以下、較佳75℃以下之條件下進行混合。作為此時之混合方法,可為於聚異氰酸酯(a1)存在下,將含有上述含羥基組成物與加成反應觸媒之混合物同時或依序滴下的方法。
此時,作為所使用之加成反應觸媒,較佳為例如月桂酸二丁基錫、二辛酸二丁基錫、二月桂酸二辛基錫、二辛酸二辛基錫等,此等可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。
尚且,於製造胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)時,如上述般,亦可含有(a1)、(a2)、(a3-1)、(a3-2)及(a4)以外之成分之一種,或依任意比率及組合含有2種以上。又,由於胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)通常黏度較高、作業性低,故為了提升作業性,可混合後述之(甲基)丙烯酸酯等低黏度液狀之化合物使黏度降低。
作為胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A),較佳為高透明性者,例如較佳為不具有芳香環之化合物。在胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)具有芳香環時,具有芳香環之放射線硬化性組成物及其硬化物係有所得物為著色物,或最初雖未著色但於保存中發生著色或著色變強(所謂黃變)的情形。其原因認為係形成芳香環之雙鍵部分因能源射線而使其構造發生不可逆變化。因此,胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)係藉由具備不具芳香環之構造,而可不使色相惡化,且不使光線穿透率降低。不具芳香環之胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A),可藉由分別選擇不具有芳香環者作為上述(a1)、(a2)、(a3-1)、(a3-2)及(a4)而進行製造。
尚且,本發明中,由作為放射線硬化性組成物之表面硬化性優越、黏性(黏瘩)不易殘留之方面而言,上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)特佳為胺基甲酸乙酯丙烯酸酯。
另外,上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)之重量平均分子量,由黏度與機械特性間之均衡的方面而言,通常為1,000以上、較佳1,500以上,又通常為10,000以下、更佳5,000以下。
尚且,較佳係於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)中,使用2種以上之分子量相異的多元醇,而胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)中是否含有2種以上之分子量相異的多元醇,可組合使用熱分解GC-MS或鹼性甲基化熱分解GC-MS等方法,對胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)進行多元醇之分子量分析,藉此進行判斷。又,亦可藉由實施凝膠滲透層析法(GPC)分析,判定所得之分子量分佈之態樣(profile)是否具有2個極大點。
於用以形成保護層之放射線硬化性組成物中,含有上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)(以下有時適當稱為「(甲基)丙烯酸酯(B)」)。(甲基)丙烯酸酯(B)係發揮使胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)黏度降低之稀釋劑效果,可形成平滑且均質之保護層,同時具有有助於高表面硬度表現的作用。
作為上述(甲基)丙烯酸酯(B),可舉例如單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)及/或多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)。上述單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)及多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。
作為單官能(甲基)丙烯酸酯(b1),可舉例如N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺等之(甲基)丙烯醯胺類;(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯等之(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類;(甲基)丙烯醯基 啉、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸異 基酯、(甲基)丙烯酸環己基酯、具有三環癸烷骨架之(甲基)丙烯酸酯等之脂環式(甲基)丙烯酸酯類等,此等之中,較佳為脂環式(甲基)丙烯酸酯類。又,可較佳地使用例如具有1個以上環基之雜脂環式(甲基)丙烯酸酯,該環基係碳數5以上、較佳5以上、7以下之脂環式烴環之1個以上碳原子被氮原子、氧原子或硫原子等之雜原子所取代的環基。
作為雜脂環式(甲基)丙烯酸酯,可舉例如(甲基)丙烯醯基啉、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、己內酯改質(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯等。
本發明中,上述之中特佳為(甲基)丙烯醯基啉、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸異基酯、(甲基)丙烯酸環己酯、具有三環癸烷骨架之(甲基)丙烯酸酯等之脂環式(甲基)丙烯酸酯類,由於(甲基)丙烯酸異基酯、具有三環癸烷骨架之(甲基)丙烯酸酯之(甲基)丙烯酸二環戊二烯基酯於吸水時之彈性模數降低,故特佳。
另外,作為多官能(甲基)丙烯酸酯(b2),可舉例如脂肪族聚(甲基)丙烯酸酯類、脂環式聚(甲基)丙烯酸酯類、芳香族聚(甲基)丙烯酸酯類等,作為具體例,可舉例如:聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2-聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-聚丙四醇二(甲基)丙烯酸酯、聚四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2-聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚異丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A、雙酚F或雙酚S等的雙酚之環氧乙烷、環氧丙烷或環氧丁烷等之環氧烷加成物之二(甲基)丙烯酸酯,雙酚A、雙酚F或雙酚S等之雙酚之氫化衍生物之二(甲基)丙烯酸酯,各種聚醚多元醇化合物與其他化合物之嵌段物或無規共聚物之二(甲基)丙烯酸酯等的具有聚醚骨架之(甲基)丙烯酸酯類,以及己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙[4-(甲基)丙烯醯氧基苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]丙烷、雙(羥基甲基)三環[5.2.1.02,6
]癸烷=二(甲基)丙烯酸酯、對-雙[β-(甲基)丙烯醯氧基乙硫基]苯二甲基、4,4’-雙[β-(甲基)丙烯醯氧基乙硫基]二苯基碸等之2官能(甲基)丙烯酸酯類,三羥甲基丙烷參(甲基)丙烯酸酯、甘油參(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇參(甲基)丙烯酸酯等之3官能(甲基)丙烯酸酯類,季戊四醇肆(甲基)丙烯酸酯等之4官能(甲基)丙烯酸酯類,二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之5官能(甲基)丙烯酸酯類等的不定多官能(甲基)丙烯酸酯類等。
上述之中,由交聯生成反應之控制性而言,較佳為2官能之(甲基)丙烯酸酯類。作為2官能之(甲基)丙烯酸酯類,較佳為脂肪族聚(甲基)丙烯酸酯或脂環式聚(甲基)丙烯酸酯,更佳為己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基辛二醇二(甲基)丙烯酸酯。又,於抑制保護層之環境溫度變化所伴隨之變形、及表面硬度之提升等目的下,可較佳地使用3官能以上之(甲基)丙烯酸酯類。作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯類,可舉例如上述所例示之三羥甲基丙烷參(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇參(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等,以及具有三聚異氰酸酯骨架之3官能(甲基)丙烯酸酯等。
上述之中,由於雙(羥基甲基)三環[5.2.1.02,6
]癸烷=二(甲基)丙烯酸酯等之脂環式多官能(甲基)丙烯酸酯於保護層之吸水時之彈性模數降低較少,故特佳。
本發明之形成保護層所使用之放射線硬化性組成物中之胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)的較佳含量下限,係相對於放射線硬化性組成物之總量,為10重量%、較佳15重量%、更佳30重量%。又,上限為85重量%、較佳80重量%、更佳70重量%。若過少,則有硬化時之收縮變大而樹脂基板之曲翹變形變大的傾向,故不佳。相反地若過多,則由於組成物之黏度顯著增大,故不佳。
本發明之形成保護層所使用之放射線硬化性組成物中,單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)之較佳含量下限係相對於放射線硬化性組成物之總量,為10重量%、較佳15重量%、更佳30重量%。又,上限為80重量%、較佳60重量%、更佳40重量%。若過少,則組成物之黏度變得過大,故不佳。相反地若過多,則硬化物之表面硬化性降低,故不佳。
本發明之形成保護層所使用之放射線硬化性組成物中,多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)之較佳含量下限係相對於放射線硬化性組成物之總量,為0重量%、較佳3重量%、更佳6重量%。又,上限為30重量%、較佳20重量%、更佳15重量%。若過少,則組成物之表面硬度容易變低,故不佳。相反地若過多,則有硬化物之收縮變大而樹脂基板之曲翹變形變大的傾向,故不佳。
上述多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)之分子量,係由提升硬化性及表面硬度之觀點而言,通常較佳為300以下、更佳280以下。相反地,由硬化收縮變小之觀點而言,較佳為200以上、更佳250以上。
尚且,形成保護層所使用之放射線硬化性組成物中,相對於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及其以外之(甲基)丙烯酸酯(B)的合計重量,上述分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)及(a3-2)分子量1500以上之多元醇的合計重量之比例,亦即{(a3-1)之重量+(a3-2)之重量}/{(A)之重量+(B)之重量}最好為既定範圍內。具體而言,下限通常為0.03以上、更佳0.08以上,上限通常為0.3以下、較佳0.1以下。若此比例過小,則使放射線硬化性組成物硬化時,其硬化收縮率變得過大,而有使光記錄媒體變形的情形。相反地若過大,則有表面硬度降低的情形。
形成保護層所使用之放射線硬化性組成物,亦可進一步含有用於使藉放射線(例如,活性能量射線、紫外射、電子束等)而進行之聚合反應起始的聚合起始劑或輔助成分等。
作為聚合起始劑,一般為屬於具有因光而產生自由基之性質之化合物的自由基產生劑,在不明顯損及本發明效果之下,可使用公知的任意之自由基產生劑,且亦可為自由基產生劑與增感劑之併用系。
作為此種自由基產生劑之具體例,可舉例如二苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯基酮、4-苯基二苯基酮、甲基鄰苯甲醯基苯甲酸酯、9-氧硫、二乙基9-氧硫、異丙基9-氧硫、氯9-氧硫、2-乙基蒽醌、第三丁基蒽醌、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、甲基苯甲醯基甲酸酯、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基丙-1-酮、2,6-二甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、2-羥基-1-[4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]-苯基]-2-甲基-丙-1-酮等。
此等之中,由於硬化速度快而可充分提升交聯密度,較佳為二苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2-羥基-1-[4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]-苯基]-2-甲基-丙-1-酮等,更佳為1-羥基環己基苯基酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2-羥基-1-[4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]-苯基]-2-甲基-丙-1-酮等。
尚且,在將本發明之光記錄媒體使用於以波長380~800nm之雷射作為光源的裝置時,較佳係以使讀取所需之雷射光充分通過上述保護層的方式,選擇使用自由基產生劑之種類及使用量。此時,特佳係於放射線硬化性組成物中使用難以吸收雷射光的短波長感光型之自由基產生劑。
上述自由基產生劑中,作為此種短波長感光型之自由基產生劑,可舉例如二苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮、4-苯基二苯基酮、甲基鄰苯甲醯基苯甲酸酯、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、甲基苯甲醯基甲酸酯等,其中特佳為1-羥基環己基苯基酮等之具有羥基者。
此等自由基產生劑可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。另外,自由基產生劑之使用量,係相對於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及其以外之(甲基)丙烯酸酯(B)的合計100重量份,通常為0.1重量份以上、較佳1重量份以上、更佳2重量份以上,又,通常為10重量份以下、較佳7重量份以下、更佳5重量份以下、最佳4重量份以下。若使用量過少,則有無法使放射線硬化性組成物充分硬化的傾向,另一方面,若過多,則聚合反應急遽地進行,不僅造成光學應變增大,且有色相亦惡化的傾向。
另外,亦可與此等自由基產生劑一起併用例如4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸戊酯、4-二甲基胺基苯乙酮等之公知增感劑。增感劑可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。
另外,於使用二苯基酮系聚合起始劑作為聚合起始劑時,相對於上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及其以外之(甲基)丙烯酸酯(B)的總合100重量份,二苯基酮系聚合起始劑較佳為2重量份以下、更佳1重量份以下,又通常使用0.5重量份以上。若二苯基酮系聚合起始劑量過多,則保護層中之揮發成分變多,而有於高溫、高濕環境下之膜厚減少的情形。
尚且,在以電子束作為放射線使聚合反應起始時,雖然亦可使用上述自由基產生劑,但較佳係不使用自由基起始劑或其他起始劑。此係因為即使不使用聚合起始劑仍可進行充分硬化。又,作為上述自由基起始劑以外之聚合起始劑,可舉例如氧化劑等。
此等聚合起始劑可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。
另外,形成保護層所使用之放射線硬化性組成物中,在不顯著損及本發明效果之下,視需要亦可含有添加劑等之輔助成分。作為該輔助成分之具體例,可舉例如:抗氧化劑、熱穩定劑或光吸收劑等之穩定劑類;玻璃纖維、玻璃珠、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅、氧化鈦、雲母、滑石、高嶺土、金屬纖維、金屬粉等之填充材類;碳纖維、碳黑、黑鉛、碳奈米管、C60
等芙(fullerene)類之碳材料類(將填充材類、碳材料類總稱為無機成分);抗靜電劑、可塑劑、離型劑、消泡劑、均平劑、防沉澱劑、界面活性劑、搖變性賦予劑等之改質劑類;顏料、染料、色相調整劑等之著色劑類;單體及/或其寡聚物;上述無機成分之合成所需要的硬化劑、觸媒、硬化促進劑類等;此等輔助成分可單獨使用1種,或依任意比率及組合使用2種以上。此等輔助成分之含量係相對於放射線硬化性組成物之總量,通常為20重量%以下、較佳10重量%以下、更佳5重量%以下。
此等之中,針對作為填充材類之二氧化矽進行詳述。上述放射線硬化性組成物所使用之氧化矽,一般係指矽氧化物,不論矽與氧之比率、或者為結晶或非晶。作為上述氧化矽粒子,可舉例如:工業性生產之分散於溶媒中之狀態的氧化矽粒子,或粉體之氧化矽粒子;自烷氧基矽烷等之原料所衍生、合成的氧化矽粒子等。其中,於使用在上述放射線硬化性組成物時,由混合或分散之容易度而言,較佳係分散於溶媒中之狀態的氧化矽粒子,或自烷氧基矽烷等之原料所衍生、合成的氧化矽粒子。
上述氧化矽粒子之粒徑為任意,作為藉由使用TEM(穿透型電子顯微鏡)等之形態觀察所測定的數量平均粒徑,較佳為0.5nm以上、更佳1nm以上,又較佳為50nm以下、更佳40nm以下、再更佳30nm以下、特佳15nm以下、最佳12nm以下。作為氧化矽粒子,較佳為超微粒子,但若過小,則有超微粒子之凝集性極端地增大,硬化物之透明性或機械強度極端降低的傾向,並有量子效果所造成之特性變得不顯著的傾向。
形成保護層所使用之放射線硬化性組成物,係藉由將上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)、上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯(B)及視需要所使用之上述聚合起始劑或上述輔助成分等,於遮阻放射線之狀態下,予以攪拌均勻混合而調製。此時之各成分的混合順序並無特別限定,較佳係將高黏度之液體成分及/或固體成分加入低黏度之液體成分中進行攪拌。又,聚合起始劑較佳係於最後添加。
另外,此時之攪拌條件並無特別限定。攪拌溫度通常設為常溫,但亦可加熱至90℃以下、較佳70℃以下之溫度。攪拌速度通常設為100rpm以上、較佳300rpm以上,又通常設為1000rpm以下,攪拌時間通常為10秒以上、較佳3小時以上,又通常為24小時以下。
另外,上述保護層係將上述放射線硬化性組成物塗佈至後述之記錄再生功能層上,照射放射線(活性能量射線或電子束)使聚合反應起始,藉由所謂「放射線硬化」而獲得。上述塗佈方法並無限制,可使用例如旋塗法等一般方法,本發明中較佳為旋塗法。
另外,上述放射線硬化性組成物之聚合反應之形式並無限制,可使用例如自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合、配位聚合等公知之聚合形式。此等聚合形式之中,特佳之聚合形式為自由基聚合。其理由尚不確定,但推測是因為聚合反應之起始係於聚合系統內均質且短時間地進行,而造成生成物之均質性。
於此,上述放射線係指作用於使所需聚合反應起始之聚合起始劑,並具有使令上述聚合反應起始之化學種產生之作用的電磁波(伽瑪射線、X射線、紫外線、可見光線、紅外線、微波等)或粒子束(電子束、α射線、中性子束、各種原子射線等)。本發明中適合使用之放射線的一例,係由可使用能量與通用光線之方面而言,較佳為紫外線、可見光線、電子束,特佳為紫外線、電子束。
於使用紫外線作為放射線時,較佳係使用藉紫外線而產生自由基之光自由基產生劑作為上述聚合起始劑。此時,視需要亦可併用增感劑。上述紫外線之波長通常為200nm以上、較佳240nm以上,又通常為400nm以下、較佳350nm以下之範圍。
作為照射紫外線之裝置,可較佳地使用高壓水銀燈、金屬鹵素燈、藉微波產生紫外線之構造的紫外線燈等公知裝置。上述裝置之輸出通常為10W/cm以上、較佳30W/cm以上,又通常為200W/cm以下、較佳180W/cm以下,上述裝置若相對於被照射體設置在通常5cm以上、較佳30cm以上且通常80cm以下、較佳60cm以下之距離,則被照射體之光劣化或熱劣化、熱變形等較少,故較佳。
上述放射線硬化性組成物亦可藉電子束而較佳地進行硬化,可得到機械特性、尤其是拉伸特性優越的硬化物。於使用電子束時,雖然其光源及照射裝置價格昂貴,但具有可省略聚合起始劑的使用,不會受到氧的聚合阻礙,因為表面硬度良好的優點。作為電子束照射所使用的電子束照射裝置,其方式並無特別限制,可舉例如幕型、區域束型、寬束型、脈衝束型等。電子束照射時之加速電壓通常為10kV以上、較佳100kV以上,又通常為1000kV以下、較佳200kV以下。
此等之放射線之照射強度通常為0.1J/cm2
以上、較佳0.2J/cm2
以上,又通常為20J/cm2
以下、較佳10J/cm2
以下、更佳5J/cm2
以下、再更佳3J/cm2
以下、特佳2J/cm2
以下。若照射強度為此範圍內,則可配合放射線硬化性組成物之種類適當選擇照射強度。
放射線之照射時間通常為1秒以上、較佳10秒以上,又通常為3小時以下,由促進反應與生產性之觀點而言,較佳為1小時以下。於放射線之照射能量或照射時間為極端少時,則有由於聚合不完全而無法充分表現保護層之耐熱性、機械特性的情形。又,相反地在極端過剩時,有發生以黃變等因光所造成之色相惡化為代表之劣化的情形。
上述放射線之照射可依一階段進行照射,亦可依複數階段進行照射。作為其線源,通常使用放射線朝所有方向擴展的擴散線源。放射線之照射通常係於將塗佈了放射線硬化性組成物之光碟固定靜置的狀態下、或將其以輸送器搬送之狀態下,將放射線源固定靜置而進行。
本發明之光記錄媒體係於保護層上形成有硬塗層。硬塗層之表面硬度若為B以上,則其種類並無特別限定,可使用一般光記錄媒體中作為硬塗層之公知者。又,本發明中,上述表面硬度為B以上、較佳HB以上、更佳F以上、最佳H以上。本發明中所謂硬塗層之表面硬度,係指針對光記錄媒體(積層了樹脂基板、記錄再生功能層、保護層及硬塗層的狀態)之硬塗層表面,藉由根據JIS K5400之鉛筆硬度試驗所測定之表面硬度。
另外,上述硬塗層較佳係波長550nm下之光線穿透率為80%以上、更佳85%以上、再更佳89%以上。光線穿透率之測定係與上述保護層之光線穿透率之測定方法相同。
另外,相對於水之接觸角較佳為90°以上、更佳100°以上。藉此,使光記錄媒體之防污性提高。相對於水之接觸角的測定,可依使用了接觸角計等公知方法實施。
上述硬塗層之膜厚通常設為0.5μm以上、較佳1μm以上、更佳1.5μm以上。又,通常設為5μm以下、較佳3μm以下、更佳2μm以下。
本發明之硬塗層較佳係具有上述相對於水之接觸角較高等的防污性。作為具有防污性之硬塗材料,適合使用含有聚矽氧化合物或氟化合物作為耐污染性賦予劑,且含有多官能(甲基)丙烯酸酯單體或環氧化合物、無機奈米粒子等之無機成分的放射線硬化性組成物。關於耐污染性賦予劑,具體可舉例如:具有有機聚矽氧烷骨架等之聚矽氧骨架的聚合物,具有聚矽氧骨架與丙烯酸基之放射線硬化性組成物,聚矽氧系界面活性劑等之聚矽氧化合物;含有氟原子之聚合物,具有氟原子與丙烯基之放射線硬化性組成物,氟系界面活性劑等之氟化合物。
然而,在使用藍色雷射之光記錄媒體等之高記錄密度媒體的情況,由於其雷射光點徑較小,故對指紋或塵埃等之污染較敏感。尤其是對於如指紋般含有有機物的污染,在污染附著於光記錄媒體之雷射光入射側表面時,有發生雷射所進行之記錄/再生錯誤等深刻性影響的情形,又,由於該污染難以去除,故最好於此等方面多加注意。
本發明中可使用之防污硬塗層形成用材料,基本上若為含有聚矽氧烷或含具氟基之耐污染性賦予劑的活性能量射線硬化性硬塗劑,則無特別限制,較佳係對耐污染性賦予劑賦予了活性能量射線硬化性。具體例可舉例如以下材料。
(1)含有於末端具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物,且不含無機成分的活性能量射線硬化性硬塗劑。
(2)含有具活性能量射線硬化性基及聚矽氧烷單元及/或有機氟基單體之聚合體的活性能量射線硬化性硬塗劑。
(3)含有於側鏈具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物的活性能量射線硬化性硬塗劑。
以下,詳細敘述上述(1)~(3)
(1)含有於末端具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物,且不含無機成分的活性能量射線硬化性硬塗劑,較佳係含有下述者作為必要成分:於末端具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物0.01重量份以上且10重量份以下;含有於1分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯30重量%以上的(甲基)丙烯酸酯組成物88重量份以上且99.5重量份以下;光聚合起始劑0.1重量份以上且10重量份以下(合計100重量份)。又,進一步視需要,為了調節黏度或塗佈性等,亦可添加能夠溶解該等必要成分之有機溶劑。
作為於末端具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物,若為於單末端或兩末端具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之聚矽氧烷,則無特別限定,可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。上述之中,較佳係分子量500以上、10000以下之、於兩末端具有(甲基)丙烯醯基的聚二甲基矽氧烷。
另外,作為於末端具有活性能量射線硬化性基之氟化合物,可例示如於單末端或兩末端具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之全氟烷基化合物、全氟伸烷基化合物、全氟伸烷基聚醚化合物等,此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。
含有於1分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯30重量%以上的(甲基)丙烯酸酯組成物,亦可含有其他之於1分子內具有1個以上、2個以下(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯。
若例示於1分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯,可舉例如季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羥甲基)丙烷四丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯類、多官能胺基甲酸乙酯丙烯酸酯類、聚環氧基丙烯酸酯類、具有三聚異氰酸酯環之三乙氧基丙烯酸酯(例如,東亞合成公司製,ARONIX M315、M313等)等,此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。當然亦不限定於此等。
作為於1分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯化合物,可舉例如:甲基丙烯酸丁酯或丙烯酸硬脂基酯等之(甲基)丙烯酸(烷基酯);丙烯酸環己酯或甲基丙烯酸異 基酯等之脂環式(甲基)丙烯酸酯;丙烯酸四氫糠基酯等之具有含雜原子環狀構造的丙烯酸酯等;但亦可較佳地使用其他具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯、具有羥基之(甲基)丙烯酸酯;具有聚烷二醇鏈之(甲基)丙烯酸酯;等。此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。當然並未排除此等以外之物。
作為於1分子中具有2個(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸酯化合物,較佳為:己二醇二丙烯酸酯等之脂肪族或脂環式二醇之二(甲基)丙烯酸酯;聚乙二醇二丙烯酸酯等之聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯;聚酯二丙烯酸酯;聚胺基甲酸酯二丙烯酸酯;二官能之環氧基丙烯酸酯;等,此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。當然並未排除此等以外之物。
作為光聚合起始劑,可廣泛採用公知者,較佳為烷基苯酮型化合物(α-羥基苯乙酮系、α-胺基苯乙酮系、苄基縮酮系)、醯基氧化膦型化合物、肟酯化合物、氧基苯基醋酸酯類、苯偶姻醚類、苯基甲酸酯類、酮/胺化合物等。較佳為苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻丁基醚、二乙氧基苯乙酮、苄基二甲基縮酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、二苯基酮、2,4,6-三甲基苯偶姻二苯基氧化膦、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-啉基苯基)-丁-1-酮、甲基苯偶姻甲酸酯、米氏酮、N,N-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、2-氯9-氧硫、2,4-二乙基9-氧硫等。此等光聚合起始劑亦可適當併用2種以上。
作為上述將必要成分溶解的有機溶劑,較佳可舉例如:醇類(乙醇、異丙醇、異丁醇等)、酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等)、具有烷氧基之醇類(甲氧基乙醇、乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚等)、醚類(乙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚等)、醚酯類(丙二醇單甲基醚乙酸酯、2-乙氧基乙基乙酸酯等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、酯類(醋酸乙酯、醋酸丙酯等)等,又,此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。又,作為有機溶劑,最好適當選擇與其他成分間之相溶性及/或均勻分散性優越者。
(2)含有具活性能量射線硬化性基及聚矽氧烷單元及/或有機氟基單體之聚合體的活性能量射線硬化性硬塗劑,較佳係含有下述者作為必要成分:具活性能量射線硬化性基及聚矽氧烷單元及/或有機氟基單體之聚合體0.1重量份以上且20重量份以下;含有於1分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯30重量%以上的(甲基)丙烯酸酯組成物79.8重量份以上且99.5重量份以下;及光聚合起始劑0.1重量份以上且10重量份以下(合計100重量份)。又,在不超過(甲基)丙烯酸酯組成物整體之50重量%的範圍內,為了使其含有例如氧化矽等之無機(氧化物)微粒子,亦可添加有機無機混合型之(甲基)丙烯酸酯。又,進一步視需要,為了調節黏度或塗佈性等,亦可添加能夠溶解該等必要成分之有機溶劑。
作為具活性能量射線硬化性基及聚矽氧烷單元及/或有機氟基單體之聚合體,並無特別限定,較佳例可例示如:以二巰基矽及/或全氟烷基(甲基)丙烯酸酯與含環氧基之(甲基)丙烯酸酯作為必要成分而進行共聚合,於其共聚物之環氧基上加成具有(甲基)丙烯醯基之羧酸而獲得的聚合物等,但當然並不限定於此。
(3)含有於側鏈具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物的活性能量射線硬化性硬塗劑,較佳係含有下述者作為必要成分:於側鏈具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物0.01重量份以上且10重量份以下;含有於1分子內具有3個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯30重量%以上的(甲基)丙烯酸酯組成物88重量份以上且99.5重量份以下;及光聚合起始劑0.1重量份以上且10重量份以下(合計100重量份)。又,在不超過(甲基)丙烯酸酯組成物整體之50重量%的範圍內,為了使其含有氧化矽等之無機(氧化物)微粒子,亦可添加有機無機混合型之(甲基)丙烯酸酯。又,進一步視需要,為了調節黏度或塗佈性等,亦可添加能夠溶解該等必要成分之有機溶劑。
作為於側鏈具有活性能量射線硬化性基之聚矽氧烷化合物及/或氟化合物,並無特別限定,若例示數個其較佳例,則可舉例如:屬於在側鏈具有每1分子為2個以上之(甲基)丙烯醯基的聚矽氧烷化合物的聚(二甲基矽氧烷-甲基(甲基)丙烯醯氧基烷基矽氧烷)、聚(二甲基矽氧烷-甲基(甲基)丙烯醯基矽氧烷)、聚(二甲基矽氧烷-甲基(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基矽氧烷);或,屬於在側鏈具有每1分子為2個以上之(甲基)丙烯醯基的氟化合物的聚全氟伸烷基聚醚、全氟烷基硫醇末端封止聚環氧丙基甲基丙烯酸酯寡聚物之(甲基)丙烯酸改質物等。此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率使用2種以上。
另外,於形成上述硬塗層時之硬塗層形成用放射線硬化性組成物的塗佈方法並無特別限定,可設為例如旋塗法等之一般塗佈方法等,較佳為旋塗法。又,關於上述硬塗層形成用放射線硬化性組成物之硬化所使用的放射線,並無特別限定,例如可為與形成上述保護層時所使用之放射線相同。
關於本發明所使用之樹脂基板並無限制,可任意使用公知者作為光記錄媒體之樹脂基板。光記錄媒體之樹脂基板的形狀為任意,但通常形成為圓板形狀。
另外,若樹脂基板之材料為光穿透性材料則無其他限制。亦即,可藉由能夠使光資訊之記錄或再生所使用之波長光穿透的任意素材所形成。作為其具體例,可使用聚碳酸酯樹脂、聚甲基丙烯酸酯樹脂、聚烯烴樹脂等之熱可塑性樹脂等。其中,聚碳酸酯樹脂係特別廣泛使用於CD-ROM等,且廉價,故特佳。又,樹脂基板之材料可單獨使用1種,或依任意組合及比率併用2種以上。
再者,樹脂基板之尺寸並無限制而為任意。但是,樹脂基板之厚度通常為0.1mm以上、較佳0.3mm以上、更佳0.5mm以上,又通常為20mm以下、較佳15mm以下、更佳3mm以下。其中,常使用1.2±0.2mm左右之厚度的樹脂基板。又,樹脂基板之外徑一般為120mm左右。
另外,樹脂基板之製造方法並無限制而為任意,例如可藉由光穿透性樹脂之射出成形進行製造。
本發明所使用之記錄再生功能層,係視在本發明之光記錄媒體為再生專用之媒體(ROM媒體)的情況、僅可進行一次記錄之單寫型之媒體(Write Once媒體)的情況、可重複進行記錄消除之可重寫型之媒體(Rewritable媒體)的情況,而採用配合各目的之層構成。例如,於再生專用之媒體中,記錄再生功能層通常由含有Al、Ag、Au等金屬之單層所構成。又,於單寫型之媒體或可重寫型之媒體中,記錄再生功能層通常由反射層、介電質層及記錄層等所構成。例如,可重寫型之光記錄媒體中之記錄再生功能層,可為由下述者所構成者:直接設於樹脂基板上之由金屬材料所形成的反射層;由相變化型材料所形成的記錄層;與設置為上下挾持著記錄層之2個介電質層。
作為上述反射層,可使用例如Ag、Ag合金、Al、Al合金、Au、Au合金等各種材料,此等可單獨使用1種,或依任意組合及比率併用2種以上。更佳係使用純Ag,於Ag中含有Ti、Mg、Au、Cu、Nd或Pd等元素的合金,於Al中含有Ta、Ti、Cr、Mo等元素的合金等。
另外,作為介電質層,可較佳使用:SiO2
、ZnO、Al2
O3
、Ta2
O5
、Nb2
O5
等之氧化物;GeN、SiN、GeN、TaN等之氮化物;SiC等之碳化物;MgF2
、CaF2
等之氟化物;ZnS、Y2
O2
S等之硫化物;等。其中,ZnS-SiO2
、SiN、Ta2
O5
、Y2
O2
S由成膜速度大且膜應力較小的觀點而言,為特佳。
另外,作為記錄層,可使用以無機元素所構成之材料、以有機色素等之有機化合物所構成的材料等。作為以無機元素所構成之材料,可舉例如含有進行加熱而分解之物質與對熱呈穩定的物質之兩者之材料。作為進行加熱而分解之物質,可舉例如:從由Cr、Mo、W、Fe、Ge、Sn及Sb所組成群選出之至少1種元素之氮化物;從由Ir、Au、Ag及Pt所組成群選出之至少1種元素之氧化物等。作為對熱呈穩定的物質,可舉例如:從由Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Al及Si所組成群選出之至少1種元素的氮化物;從由Zn、Al、Y、Zr、Ti、Nb、Ni、Mg及Si所組成群選出之至少1種元素之氧化物等。於記錄層中,可單獨使用此等之1種,或依任意組合及比率併用2種以上。
本發明之光記錄媒體若為於上述樹脂基板上具有記錄再生功能層、保護層及硬塗層者,則其構成或用途等並無特別限定,除了上述各層以外,亦可具有適當必要之層。
本發明中,上述光記錄媒體特佳為膜面入射型,或使用藍光雷射之次世代高密度光記錄媒體。
所謂次世代高密度光記錄媒體,係指使用波長380~800nm之雷射光、較佳波長380~450nm之雷射光的光記錄媒體。
尚且,本發明之光記錄媒體可依單板使用,亦可將2片以上貼合使用。又,視需要亦可安裝外殼,組裝至卡匣而使用。
本發明之光記錄媒體較佳係針對於25℃環境下靜置一定時間後再於5℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,以及於25℃環境下靜置一定時間後再於55℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,測定垂直方向上的變位量時,上述變位量均在既定範圍內。藉由使上述變位量成為既定範圍內,則即使在環境溫度發生變化時,亦可穩定使用光記錄媒體。
以下,針對垂直方向上之變位量的測定進行說明。將用於測定垂直方向上之變位量的相對於溫度之光碟變形測定系統的概略示於圖1。又,圖1中,係於恆溫槽內設置檢測光記錄媒體之變形的裝置(以下有時適當稱為「光記錄媒體變形檢測裝置」),但並不限定於上述,亦可於恆溫槽外形成光記錄媒體變形檢測裝置。又,圖1係用於方便說明光記錄媒體變形檢測裝置之系統概要,在不脫離本發明要旨之下,亦可加入任意變更。
光記錄媒體變形檢測裝置之測定,係將光記錄媒體之中心部以固定錘固定而進行。光記錄媒體之固定方法並無特別限定,根據光記錄媒體之形狀而適當選擇。通常,由於光記錄媒體形成為平面圓環形狀,故例如可為使光記錄媒體變形檢測裝置內所設置之軸通過光記錄媒體中央的孔,以固定錘予以固定之方法等。
其次,對於以固定錘所固定之光記錄媒體,使用變位感測器,於光記錄媒體之可記錄再生區域中,測定距離光記錄媒體中心最遠之位置(以下有時適當稱為「測定點」)的硬塗層表面之空間性位置。又,本發明中所謂光記錄媒體之可記錄再生區域,係指在將光記錄媒體使用於各種記錄再生裝置時,用於記錄再生的區域。
由上述測定所得之數據,係傳送至與變位感測器連接之計算機,上述垂直方向上之變位量為藉基準時數據與測定數據的比較所算出。上述基準時數據係指針對25℃之光記錄媒體,測定上述測定點之空間性位置的數據。又,本發明中所謂垂直方向,係指相對於25℃環境下之光記錄媒體之硬塗層表面呈垂直的方向。測定通常實施複數次,採用其最大值。
本發明中,以下說明使用上述光記錄媒體變形檢測裝置測定垂直方向上之變位量的具體方法。
首先,將光記錄媒體於設定為25℃之恆溫槽中靜置通常1小時左右。此時,恆溫槽內之濕度通常設為45%RH。又,作為靜置方法,若為不對光記錄媒體施加負重之方法則無特別限定。
其後,以設置在恆溫槽內或恆溫槽外之光記錄媒體變形檢測裝置,測定上述測定點之空間性位置。此時,將所測定之數據作為基準值。
接著,將上述恆溫槽之溫度變更為55℃或5℃,將上述光記錄媒體靜置於恆溫槽中保存1小時。此時之恆溫槽之濕度等條件,係與25℃設定時相同。又,25℃設定之恆溫槽及55℃或5℃設定之恆溫槽可為相同,亦可為不同。
以上述溫度保存1小時後,通常於5分鐘內,以上述光記錄媒體變形檢測裝置測定上述測定點之空間性位置,將所得之數據與基準數據進行比較,算出上述測定點之垂直方向上之變位量(絕對值)。
另外,如圖1所示,亦可在光記錄媒體於保護層及硬塗層側發生凹變形的情況,將變形值設為負值,在光記錄媒體於保護層及硬塗層側發生凸變形的情況,將變形值設為正值,而予以區分。上述正.負亦可相反地設定。
本發明中,由上述測定所得之於55℃靜置1小時後之上述垂直方向上之變位量(絕對值)、及於5℃靜置1小時後之上述垂直方向上之變位量(絕對值),均通常為150μm以下、較佳130μm以下、更佳120μm以下。藉此,即使光記錄媒體之環境溫度發生變化,追跡(tracking)的偏離較小,可穩定使用。
以下,使用實施例更詳細說明本發明,但在不脫離本發明要旨之下,並不限定於以下實施例。
於安裝有攪拌器、回流冷卻器、滴下漏斗、溫度計之四口燒瓶中,置入異佛酮二異氰酸酯(a1)147g與月桂酸二丁基錫0.1g,以油浴加熱至70~80℃,輕微地攪拌直到溫度呈一定為止。溫度呈一定後,以滴下漏斗滴下1,4-丁二醇(a2)25.5g與聚四亞甲基二醇(a3-1)(分子量約650)22.5g與聚四亞甲基二醇(a3-2)(分子量約2000)24.7g的混合物,將溫度保持於80℃之下攪拌2小時。使溫度下降至70℃後,以滴下漏斗滴下丙烯酸羥基乙酯(a4)76.7g與METHOQUINONE 0.1g之混合物,於滴下結束後將溫度保持在80℃,攪拌10小時,而合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)174.5g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)29g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物I。又,(a3-1)及(a3-2)之量係如下述。
{(a3-2)之重量}/{(a3-1)之重量}=1.10
{(a3-2)之莫耳數}/{(a3-1)之莫耳數}=0.36
{(a3-1)之重量+(a3-2)之重量}/{(A)之重量+(B)之重量}=0.094
與保護層用放射線硬化性組成物I之調製同樣地合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)116.9g、二環戊二烯基丙烯酸酯(b2)(日立化成公司製)57.6g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)29g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物II。(a3-1)及(a3-2)之量與保護層用放射線硬化性組成物I相同。
與保護層用放射線硬化性組成物I之調製同樣地合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)174.5g、雙(羥基甲基)三環[5.2.1.02,6
]癸烷=二丙烯酸酯(b2)(新中村化學公司製)9.6g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)19.4g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物III。(a3-1)及(a3-2)之量與保護層用放射線硬化性組成物I相同。
與保護層用放射線硬化性組成物I之調製同樣地合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)122.2g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)29g、異 基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)52.4g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物IV。(a3-1)及(a3-2)之量與保護層用放射線硬化性組成物I相同。
於安裝有攪拌器、回流冷卻器、滴下漏斗、溫度計之四口燒瓶中,置入異佛酮二異氰酸酯(a1)146.7g與月桂酸二丁基錫0.1g,以油浴加熱至70~80℃,輕微地攪拌直到溫度呈一定為止。溫度呈一定後,以滴下漏斗滴下1,4-丁二醇(a2)23.8g與聚四亞甲基二醇(a3-1)(分子量約650)42.9g的混合物,將溫度保持於80℃之下攪拌2小時。使溫度下降至70℃後,以滴下漏斗滴下丙烯酸羥基乙酯(a4)76.6g與METHOQUINONE 0.1g之混合物,於滴下結束後將溫度保持在80℃,攪拌10小時,而合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)195g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)15g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物V。又,(a3-1)及(a3-2)之量係如下述。
{(a3-2)之重量}/{(a3-1)之重量}=0
{(a3-2)之莫耳數}/{(a3-1)之莫耳數}=0
{(a3-1)之重量+(a3-2)之重量}/{(A)之重量+(B)之重量}=0.086
於安裝有攪拌器、回流冷卻器、滴下漏斗、溫度計之四口燒瓶中,置入異佛酮二異氰酸酯(a1)158g與月桂酸二丁基錫0.1g,以油浴加熱至70~80℃,輕微地攪拌直到溫度呈一定為止。溫度呈一定後,以滴下漏斗滴下1,4-丁二醇(a2)28.8g與聚四亞甲基二醇(a3-1)(分子量約650)23.1g的混合物,將溫度保持於80℃之下攪拌2小時。使溫度下降至70℃後,以滴下漏斗滴下丙烯酸羥基乙酯(a4)82.6g與METHOQUINONE 0.1g之混合物,於滴下結束後將溫度保持在80℃,攪拌10小時,而合成胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡酸物(A)。於所合成之胺基甲酸乙酯丙烯酸酯寡聚物(A)中加入四氫糠基丙烯酸酯(b1)(大阪有機公司製)172.5g、1,6-己二醇二丙烯酸酯(b2)(共榮社化學公司製)35g及1-羥基環己基苯基酮(日本SiberHegner公司製)20g混合5小時予以稀釋,調製成均一液狀之保護層用放射線硬化性組成物VI。又,(a3-1)及(a3-2)之量係如下述。
{(a3-2)之重量}/{(a3-1)之重量}=0
{(a3-2)之莫耳數}/{(a3-1)之莫耳數}=0
{(a3-1)之重量+(a3-2)之重量}/{(A)之重量+(B)之重量}=0.046
將作為硬塗層用硬化性組成物之二季戊四醇(六/五)丙烯酸酯(商品名:KAYARAD DPHA(日本化藥公司製))99.5g、作為撥水.撥油.低摩擦化劑之TEGO(註冊商標)Rad2200N(Degussa公司製,於側鏈含有丙烯酸基之聚二甲基矽氧烷)0.5g、作為光聚合起始劑之羥基環己基苯基酮2g、丙二醇單甲基醚(PGM)50g及1-乙醯氧基-2-甲氧基丙烷(PGMA)103g,於暗處/室溫下攪拌2小時,調製成硬塗層用組成物I(固形分40重量%)。
將作為硬塗層用硬化性組成物之二季戊四醇(六/五)丙烯酸酯(商品名:KAYARAD DPHA(日本化藥公司製)90g、作為撥水.撥油.低摩擦化劑之甲基丙烯酸甲酯(MMA)與全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯與X-22-167B(兩末端巰基之聚二甲基矽氧烷,信越化學公司製)與甲基丙烯酸環氧丙基酯(GMA)之25/40/5/30(重量比)共聚物的丙烯酸加成物(35%PGM溶液)28.57g、作為光聚合起始劑之羥基環己基苯基酮2g及固形分形成為40重量%之量的PGMA,於暗處/室溫下攪拌2小時,調製成硬塗層用組成物II。
將作為硬塗層用硬化性組成物之二季戊四醇(六/五)丙烯酸酯(商品名:KAYARAD DPHA(日本化藥公司製)75g、作為無機成分之PMA-ST(日產化學公司製,平均粒徑12nm之膠體二氧化矽之30%濃度1-乙醯氧基-2-甲氧基丙烷分散液)與KBE9007(信越化學公司製,3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷)的20/1(重量比)之反應物的二季戊四醇五丙烯酸酯加成物20g、作為撥水.撥油、低摩擦化劑之LMA(甲基丙烯酸月桂基酯)與全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯與X-22-167B(兩末端巰基之聚二甲基矽氧烷,信越化學公司製)與甲基丙烯酸環氧丙基酯(GMA)之20/40/3/37(重量比)共聚物的丙烯酸加成物(35%PGM溶液)28.57g、作為光聚合起始劑之羥基環己基苯基酮1g、及固形分成為35重量%之量的PGM與PGMA之1/1(重量比)混合溶媒,於暗處/室溫下攪拌2小時,調製成硬塗層用組成物III(固形分35重量%)。
將上述所調製之保護層用放射線硬化性組成物I,於100mm方形、厚3mm之氟塗佈玻璃板上藉旋塗器進行塗佈,以高壓水銀燈依照射強度1J/cm2
照射紫外線,藉此使其硬化,作成膜厚100μm之硬化塗膜,將該塗膜小心地剝離。進行同樣的操作,得到3片剝離塗膜。於其中,自2片塗膜切出10mm×80mm之短片狀樣本10片作為拉伸彈性模數測定用樣本,再自剩餘的1片塗膜切出80mm正方之四角形薄膜作為吸水率測定用樣本,進行以下所示之評價。將結果示於表2。
使用TENSILON拉伸試驗器,於室溫25℃下根據JIS K7127之方法測定彈性模數Eb。
將樣本於25℃浸漬於裝入了1L純水之容器中3小時,取出並輕輕拭除水滴,立即使用TENSILON拉伸試驗器,於室溫25℃下根據JIS K7127之方法測定彈性模數Ea。
根據以下定義,求得拉伸彈性模數之比e。
拉伸彈性模數之比e=Ea/Eb
於直徑120mm、厚1.1mm之聚碳酸酯製光記錄媒體基板表面上,依序以濺鍍形成100nm厚之Ag-Cu-Nd反射層、25nm厚之ZnS-SiO2
介電質層、15nm厚之Sn-Nb-N記錄層、30nm厚之Zn-SiO2
介電質層,得到記錄再生功能層。於記錄再生功能層之最表層之介電質層表面,將作為保護層用材料之保護層用放射線硬化性組成物I以旋塗器塗佈成厚100μm,使用高壓水銀燈(東芝HARISON公司製;TOSCURE752),照射波長365nm之照射量100mJ/cm2
紫外射使其硬化,形成保護層。紫外線照射量係以UV計(USHIO電機公司製,UIT-250)進行測定。
其次,於保護層表面上以旋塗器塗佈作為硬塗層材料之硬塗層用組成物A,使用高壓水銀燈(JATEK公司製;J-cure100),照射波長365nm之照射量400mJ/cm2
紫外射使其硬化,形成2μm之硬塗層。進行同樣操作,得到3片光記錄媒體。
針對上述製成的光記錄媒體中之1片,藉下述方法進行硬塗表面之表面硬度評價。將結果示於表2。
進行根據JIS K5400之方法。具體操作如以下所示。
準備硬度4B、3B、2B、B、HB、F、H之鉛筆(三菱鉛筆公司製,型號UNI,經日塗檢查,鉛筆刮畫值試驗用)。
使用鉛筆硬度測定裝置(新東科學公司製,TRIBOGEAR Type18),安裝硬度4B,以負重750gf、刮畫速度30mm/min拉畫1cm,以目視確認有無拉畫痕。在未觀測到拉畫痕時交換成更硬1階段的鉛筆,重複進行同樣操作。
結果整理如下。表1表示本發明中表面硬度之定義。
針對上述所製作之光記錄媒體第2片,藉下述方法進行耐濕度光碟變形評價試驗。結果示於表2。
將光記錄媒體樣本靜置於恆溫恆濕槽內,將恆溫恆濕槽內之溫度設定為25℃、濕度95%RH並保持100小時。其後,取出光碟,於氣溫25℃、45%RH之環境下使用變位感測器(KEYENCE公司製,LT-9010),測定光碟之垂直方向上之變位量作為光碟變形值。於0小時後、1小時後、3小時後、5小時後、6小時後、8小時後、10小時後、24小時後進行測定,記錄其經時性變化。將光碟變形值之圖示於圖2。其中,於硬塗層側變形為凹狀時之光碟變形值設為負值,於硬塗層側變形為凸狀時之光碟變形值設為正值。
如圖2所示,6~8小時後見到光碟變形值之極大值,其變形值為131μm。將此值作為相對於濕度之變形最大絕對值並示於表2。在變形值之絕對值大於150μm時,由於無法確保使用代表性透鏡之NA=0.85、口徑3mm之透鏡時的適當移行距離,故判定為「×」,將其以外之情況判定為「○」。
針對上述所製作之光記錄媒體之第3片,藉下述方法進行耐濕度光碟變形評價試驗。將結果示於表2。
如下述般製作光碟變形檢測單元:於光碟驅動器(NEC公司製CD-ROM驅動器,型號PCCD60D)框體頂面,打開40mm正方之開口,於該開口上方固定變位感測器(KEYENCE公司製,LT-9010),在將光碟插入至光碟驅動器時可即時檢測距光碟中心58mm位置之垂直方向的變位,並將數據輸出至計算機。將該單元設置於恆溫槽(日立公司製恆溫器CosmoPier;型號EC-10HHP)之槽室內。該系統之概略係如圖1所示。如圖所示,於保護層.硬塗層側為凹變形時之變形值設為負值,於保護層.硬塗層側為凸變形時之變形值設為正值。
將上述製作之光記錄媒體1片插入至光碟驅動器,將恆溫槽密閉後,將恆溫槽內之溫度設定為溫度25℃、濕度45%RH,保持20分鐘,測定光碟變形。將該變形之值作為變形基準值。
其次,將恆溫槽內之溫度變更設定為55℃,保持1小時,測定光碟變形。將該變形值與基準值之差記錄為高溫時變形值。
接著,變更設定至25℃,保持3小時後,將恆溫槽內之溫度變更設定在5℃,保持1小時,測定光碟變形值。將該變形值與基準值之差記錄為低溫時變形值。
將變形基準值設為變形值0,於圖3展繪(plot)高溫時變形值及低溫時變形值。如圖3所示,高溫時變形值為正,低溫時變形值為負。將高溫變形值與低溫變形值中絕對值較大者作為相對於溫度之變形最大絕對值,並示於表2。
在變形值之絕對值大於150μm時,由於無法確保使用代表性透鏡之NA=0.85、口徑3mm之透鏡時的適當移行距離,故判定為「×」,將其以外之情況判定為「○」。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物I作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物II作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物I作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物III作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物II作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物I作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物III作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物I作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物IV作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物I作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。於相對於濕度之光碟變形評價試驗中,如圖2所示般,於3小時後見到變形之極小值,其變形值為-98μm。又,表2表示其絕對值98μm。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物V作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物I作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。於相對於濕度之光碟變形評價試驗中,如圖2所示般,於8小時後見到變形之極大值,其變形值為194μm。
於實施例1,除了使用保護層用放射線硬化性組成物VI作為保護層用材料,使用硬塗層用組成物I作為硬塗用材料以外,其餘與實施例1同樣地進行。將硬塗之表面硬度、保護層之Eb、Ea、e、吸水率、光記錄媒體之相對於濕度之變形最大絕對值、相對於溫度之變形最大絕對值示於表2。於相對於濕度之光碟變形評價試驗中,於8小時後見到變形之極小值,其變形值為177μm。於相對於溫度之光碟變形評價試驗中,如圖3所示般,低溫時變形值大至-200μm。
由表2可明白,使用了本發明之實施例1至實施例6的光記錄媒體,相對於濕度之變形最大絕對值及相對於溫度之變形最大絕對值顯示了較佳值,可謂耐濕度性及耐溫度性優越。又,關於表面硬度亦充分。
另一方面,於比較例1之光記錄媒體中,相對於濕度之變形最大絕對值較大,耐濕度性不足。又,比較例2係相對於濕度之變形最大絕對值及相對於溫度之變形最大絕對值較大,耐濕度及耐溫度性不足。
本發明之光記錄媒體可對應至環境之溫度及濕度變化,且耐磨損性或記錄保護層之保護性亦優越。因此,可適合利用在亦包括藍光光碟等之次世代高密度光記錄媒體等的光記錄媒體。
尚且,將2007年8月22日申請之日本專利申請案2007-215933號、2007年8月22日申請之日本專利申請案2007-215934號及2007年8月22日申請之日本專利申請案2007-216256號的說明書、申請專利範圍、圖式及摘要的所有內容引用於此,寫入作為本發明說明書之揭示。
圖1為表示相對於溫度之光碟變形評價試驗之系統概要的圖。
圖2為表示實施例1、6及比較例1之相對於濕度之光碟變形評價試驗之結果的圖。
圖3為表示實施例1及比較例2之相對於溫度之光碟變形評價試驗之結果的圖。
Claims (10)
- 一種光記錄媒體,係依序具有:樹脂基板;記錄再生功能層;保護層,其為含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)及上述胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)以外之(甲基)丙烯酸酯化合物(B)的放射線硬化性組成物的硬化物;以及硬塗層,其表面硬度為B以上;其特徵為,上述保護層為含有下述物質之放射線硬化性組成物之硬化物:胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A),係使含有聚異氰酸酯(a1)、分子量未滿400之二元醇(a2)、分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)、分子量1500以上之多元醇(a3-2)及含有羥基之(甲基)丙烯酸酯(a4)的組成物進行反應之反應生成物;單官能(甲基)丙烯酸酯(b1);以及多官能(甲基)丙烯酸酯(b2);上述保護層飽和吸水時之拉伸彈性模數(modulus of elasticity)相對於25℃、濕度45%之拉伸彈性模數的比為0.20以上。
- 如申請專利範圍第1項之光記錄媒體,其中,上述保護層25℃下之吸水率為2(wt/wt)%以下。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,針對於25℃環境下靜置一定時間後再於5℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,以及於25℃環境下靜置一定時間後再於55℃環境下靜置1小時後之上述光記錄媒體,測定上述光記錄媒體 之可記錄再生區域中距中心最遠之位置的上述樹脂基板表面於垂直方向的變位量時,上述變位量均為150μm以下。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述硬塗層之表面硬度為HB以上,上述保護層飽和吸水時之彈性模數為200MPa~1100MPa之範圍內,上述保護層之膜厚為70μm~105μm之範圍內。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述保護層為含有胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(A)、單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)與多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)之放射線硬化性組成物的硬化物,各成分之含量為(A)10~85重量%、(b1)10~80重量%及(b2)3~30重量%。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述分子量400以上且未滿1500之多元醇(a3-1)及分子量1500以上之多元醇(a3-2)為聚醚多元醇。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述分子量未滿400之二元醇(a2)為使2個羥基以碳連接之二元醇。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述單官能(甲基)丙烯酸酯(b1)及/或多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)為脂環式(甲基)丙烯酸酯。
- 如申請專利範圍第1或2項之光記錄媒體,其中,上述多官能(甲基)丙烯酸酯(b2)為脂肪族多官能(甲基)丙烯酸酯。
- 一種藍光光碟,其特徵為使用申請專利範圍第1至9項 中任一項之光記錄媒體。
Applications Claiming Priority (3)
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