TWI497079B - 具有耐摔保護功能的可動裝置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 11
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000008261 resistance mechanism Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003238 somatosensory effect Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
- B81B7/0032—Packages or encapsulation
- B81B7/0058—Packages or encapsulation for protecting against damages due to external chemical or mechanical influences, e.g. shocks or vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0035—Constitution or structural means for controlling the movement of the flexible or deformable elements
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- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/02—Sensors
- B81B2201/0228—Inertial sensors
- B81B2201/0235—Accelerometers
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Description
本發明是有關於一種可動裝置,且特別是有關於一種具有耐摔保護功能的可動裝置。
近年來,受惠於智慧型手機(smart phone)、平板電腦(tablet PC)及體感遊戲機等相關電子產品的帶動,使得微機電(MEMS)慣性感測器,例如加速度計(accelerometer)與陀螺儀(gyroscope)等,大量地應用於這些電子產品中,使其市場需求呈現逐年大幅度地成長。市場多方競爭之下,微機電慣性感測器相關應用產品對其品質的要求也隨之提高。以壓阻(piezo-resistive)式加速度計而言,係藉由其內元件的電阻變化量來測得裝置的加速度。
圖1是習知一種微機電加速度計的剖視示意圖。圖2是圖1的加速度計的部分構件俯視圖。如圖1及圖2所示,習知加速度計50例如為壓阻(piezo-resistive)式加速度計,其質量塊52透過彈性部54連接於基座56的連接部56a。當具有此加速度計50的裝置承受外力時,質量塊52會產生運動而使彈性部54產生
彈性變形,而彈性部54的彈性變形所造成的電阻變化可用以計算出裝置的加速度,其中的偵測與計算原理為所屬領域的已知技術,舉例來說,美國專利編號US 4967605即揭露了微機電加速度計的相關技術。
當所述裝置落摔時,若加速度計50中的質量塊52因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移,則彈性部54很可能因此過度拉扯而損壞。據此,在一些耐摔設計中藉由縮減第一座體56b與質量塊52的間距G1及縮減第二座體56c與質量塊52的間距G2來限制質量塊52的移動範圍,以避免質量塊52因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移。然而,隨著微機電加速度計的尺寸不斷縮小,藉由膠材58a及膠材58b將第一座體56b及第二座體56c膠合至連接部56a時所產生的尺寸誤差,將使得所述間距G1及間距G2難以被準確地形成,而無法確實地達到耐摔保護功能,特別是在側向無耐摔機制,是產品主要破壞模式。
本發明提供一種可動裝置,具有良好的耐衝擊耐摔的保護功能。
本發明的可動裝置包括一基座、一質量塊、多個彈性部及至少一止擋結構。質量塊具有多個側面。這些彈性部分別連接於這些側面且連接於基座,其中質量塊適於產生運動而使這些彈性部產生彈性變形。止擋結構配置於基座且對位於至少一側面,
其中止擋結構適於止擋對應之側面以限制質量塊的移動範圍。
在本發明的一實施例中,上述的基座包括一第一座體、一第二座體及一連接部。質量塊位於第一座體與第二座體之間,止擋結構固定於第一座體或第二座體。連接部固定於第一座體與第二座體之間,其中各彈性部連接於對應之側面與連接部之間。
在本發明的一實施例中,上述的連接部與第一座體沿一第一方向相膠合,連接部與第二座體沿第一方向相膠合,各側面平行於第一方向。
在本發明的一實施例中,上述的至少一止擋結構的數量為多個,這些止擋結構分別對位於這些側面。
在本發明的一實施例中,上述的止擋結構具有兩止擋面,兩止擋面分別對位於相鄰的兩側面。
在本發明的一實施例中,上述的止擋結構沿一第一方向從基座延伸出,止擋結構沿第一方向的長度大於質量塊與基座沿第一方向的間距。
在本發明的一實施例中,上述的可動裝置更包括至少一止擋部,其中質量塊具有至少一端面,止擋部配置於基座且往端面延伸而對位於端面,質量塊適於沿一第一方向產生移動而使這些彈性部產生彈性變形,基座與端面沿第一方向的間距大於止擋部與端面沿第一方向的間距,止擋部適於止擋端面以限制質量塊的移動範圍。
在本發明的一實施例中,上述的止擋結構從止擋部延伸
出。
在本發明的一實施例中,上述的止擋結構沿第一方向的長度大於止擋部與端面沿第一方向的間距。
在本發明的一實施例中,上述的至少一止擋部的數量為多個,至少一端面包括質量塊的一頂面及質量塊的一底面,部分這些止擋部對位於頂面,另一部分這些止擋部對位於底面。
在本發明的一實施例中,上述的質量塊具有至少一端面,端面垂直於各側面,止擋結構適於止擋對應之側面以限制質量塊沿一第二方向的移動範圍,第二方向傾斜於各側面及端面。
在本發明的一實施例中,上述的各彈性部沿一軸線延伸,軸線不通過質量塊的質心。
在本發明的一實施例中,上述的止擋結構藉由曝光製程及蝕刻製程而形成。
基於上述,本發明的可動裝置在其基座上設有止擋結構,且止擋結構能夠止擋質量塊的側面以限制質量塊的移動範圍,使質量塊不致因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移,進而避免彈性部因質量塊過度位移而拉扯損壞。所述止擋結構可藉由曝光製程及蝕刻製程被形成而具有較佳的尺寸精度,使止擋結構與質量塊的側面具有適當的間距,而可達到準確限制質量塊之移動範圍的效果,以進一步提升可動裝置的耐摔保護功能。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
50‧‧‧加速度計
52、120、220‧‧‧質量塊
54、130、230‧‧‧彈性部
56、110、210‧‧‧基座
56a、116、216‧‧‧連接部
56b、112、212‧‧‧第一座體
56c、114、214‧‧‧第二座體
58a、58b、150a、150b、250a、250b‧‧‧膠材
100、200‧‧‧可動裝置
120a、220a‧‧‧側面
120b、220b‧‧‧頂面
120c、220c‧‧‧底面
140、240‧‧‧止擋結構
140a‧‧‧止擋面
260‧‧‧止擋部
A1、A2‧‧‧軸線
D1、D1’‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
G1~G8‧‧‧間距
M‧‧‧質心
圖1是習知一種微機電加速度計的剖視示意圖。
圖2是圖1的加速度計的部分構件俯視圖。
圖3是本發明一實施例的可動裝置的剖視示意圖。
圖4是圖3的可動裝置的部分構件俯視圖。
圖5是本發明另一實施例的可動裝置的剖視示意圖。
圖3是本發明一實施例的可動裝置的剖視示意圖。圖4是圖3的可動裝置的部分構件俯視圖。請參考圖3及圖4,本實施例的可動裝置100例如為微機電加速度計且包括一基座110、一質量塊120及多個彈性部130。基座110包括一第一座體112、一第二座體114及一連接部116,連接部116固定於第一座體112與第二座體114之間。質量塊120位於第一座體112與第二座體114之間且具有多個側面120a及相對的兩端面,所述兩端面為質量塊120的頂面120b及底面120c且垂直於各側面120a。
這些彈性部130分別連接於這些側面120a且連接於基座110的連接部116。當具有此加速度計100的裝置承受外力時,質量塊120會產生運動而使彈性部130產生彈性變形,而彈性部130的彈性變形所造成的電阻變化可用以計算出裝置的加速度,其中的偵測與計算原理為所屬領域的已知技術,於此不加以贅述。
本實施例的可動裝置100更包括多個止擋結構140。部分止擋結構140固定於第一座體112,且另一部分止擋結構140固定於第二座體114。如圖3所示,這些止擋結構140沿第一方向D1從基座110延伸出,各止擋結構140沿第一方向D1的長度大於質量塊120與基座110沿第一方向D1的間距G3及間距G4,以使這些止擋結構140能夠分別對位於質量塊120的這些側面120a,其中各止擋結構140例如具有兩止擋面140a,兩止擋面140a分別對位於相鄰的兩側面120a。
在此配置方式之下,止擋結構140能夠止擋質量塊120的側面120a以限制質量塊120的移動範圍,使質量塊120不致因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移,進而避免彈性部130因質量塊120過度位移而拉扯損壞。所述止擋結構140可藉由曝光製程及蝕刻製程被形成而具有較佳的尺寸精度,使止擋結構140與質量塊120的側面120a具有適當的間距,而可達到準確限制質量塊120之移動範圍的效果,以提升可動裝置100的耐摔保護功能。
進一步而言,連接部116與第一座體112藉由膠材150a沿圖3所示的第一方向D1相膠合,連接部116與第二座體112藉由膠材150b沿第一方向D1相膠合,且質量塊120的各側面120a平行於第一方向D1。據此,第一座體112及第二座體114膠合至連接部116時沿第一方向D1產生的尺寸誤差較不會對各側面120a與止擋結構140的間距的準確性造成影響。
在本實施例中,部分彈性部130沿軸線A1(標示於圖3及圖4)延伸,另一部分彈性部130沿軸線A2(僅標示於圖4)延伸,且軸線A1及軸線A2不通過質量塊120的質心M。據此,當質量塊120承受落摔之衝擊力時,質量塊120容易沿傾斜方向產生位移,所述傾斜方向例如為圖3所示的第二方向D2或其它傾斜方向且傾斜於質量塊120的各側面120a、頂面120b及底面120c。當質量塊120沿所述傾斜方向產生位移時,止擋結構140適於止擋質量塊120的側面120a以限制質量塊120沿所述傾斜方向的移動範圍,如此可避免質量塊120沿第一方向D1具有過大的位移而造成彈性部130拉扯損壞。
圖5是本發明另一實施例的可動裝置的剖視示意圖。在圖5所示的可動裝置200中,基座210、第一座體212、第二座體214、連接部216、質量塊220、彈性部230、止擋結構240、膠材250a及膠材250b的配置與作用方式類似於圖3所示的基座110、第一座體112、第二座體114、連接部116、質量塊120、彈性部130、止擋結構140、膠材150a及膠材150b的配置與作用方式,於此不再贅述。可動裝置200與可動裝置100的不同處在於,可動裝置200整合了陀螺儀的功能,質量塊220更用以被驅動沿第一方向D1’產生共振而使彈性部230產生彈性變形,且經由此共振操作方式可測量可動裝置200旋轉時的科氏力,進而計算出具有此可動裝置200之裝置的角速度,其中的偵測與計算原理為所屬領域的已知技術,於此不再贅述。
可動裝置200更包括多個止擋部260,部分止擋部260固定於第一座體212且往質量塊220的頂面220b延伸而對位於頂面220b,另一部分止擋部260固定於第二座體214且往質量塊220的底面220c延伸而對位於底面220c。基座210與質量塊220之頂面220b沿第一方向D1’的間距G5大於止擋部260與質量塊220之頂面220b沿第一方向D1’的間距G7,且基座210與質量塊220之底面220c沿第一方向D1’的間距G6大於止擋部260與質量塊220之底面220c沿第一方向D1’的間距G8。
在此配置方式之下,止擋部260能夠止擋質量塊220的頂面220b及底面220c以限制質量塊220的移動範圍,使質量塊220不致因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移,進而避免彈性部230因質量塊220過度位移而拉扯損壞,以達到耐摔保護功能。由於本實施例的可動裝置200如上述般藉由基座210上的止擋部260來止擋質量塊220以限制質量塊220的移動範圍,因此不需為了止擋質量塊220而縮減整個基座210與質量塊220之頂面220b及底面220c的間距,而使基座210與質量塊220可具有較大的間距G5及間距G6。如此一來,基座210與質量塊220之間的空氣所造成的阻尼效果不致過大,藉以確保質量塊220能夠順利地進行共振。在其它實施例中,可動裝置200亦可為石英振盪器(quartz crystal oscillator)或其它共振裝置,本發明不對此加以限制。
在本實施例中,這些止擋結構240例如是分別從這些止擋部260延伸出,且止擋結構240沿第一方向D1’的長度大於止
擋部260與質量塊220之頂面220b沿第一方向D1’的間距G7並大於止擋部260與質量塊220之底面220c沿第一方向D1’的間距G8,使這些止擋結構240能夠分別對位於質量塊220的這些側面220a以限制質量塊220的移動範圍。
綜上所述,本發明的可動裝置在其基座上設有止擋結構,且止擋結構能夠止擋質量塊的側面以限制質量塊的移動範圍,使質量塊不致因落摔之衝擊力而瞬間產生大幅度的位移,進而避免彈性部因質量塊過度位移而拉扯損壞。所述止擋結構可藉由曝光製程及蝕刻製程被形成而具有較佳的尺寸精度,使止擋結構與質量塊的側面具有適當的間距,而可達到準確限制質量塊之移動範圍的效果,以進一步提升可動裝置的耐摔保護功能。此外,更可在可動裝置的基座上設置止擋部,用以止擋質量塊的端面以限制質量塊的移動範圍,以進一步增進耐摔保護功能。藉由止擋部的設置,不需為了止擋質量塊而縮減整個基座與質量塊之端面的間距。如此一來,基座與質量塊之端面之間的空氣所造成的阻尼效果不致過大,藉以確保質量塊能夠順利地進行共振。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧可動裝置
110‧‧‧基座
112‧‧‧第一座體
114‧‧‧第二座體
116‧‧‧連接部
120‧‧‧質量塊
120a‧‧‧側面
120b‧‧‧頂面
120c‧‧‧底面
130‧‧‧彈性部
140‧‧‧止擋結構
150a、150b‧‧‧膠材
A1‧‧‧軸線
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
G3、G4‧‧‧間距
M‧‧‧質心
Claims (13)
- 一種可動裝置,包括:一基座;一質量塊,具有多個側面;多個彈性部,分別連接於該些側面且連接於該基座,其中該質量塊適於產生運動而使該些彈性部產生彈性變形;以及至少一止擋結構,配置於該基座且對位於至少一該側面,其中該止擋結構適於止擋該對應之側面以限制該質量塊的移動範圍。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該基座包括:一第一座體;一第二座體,該質量塊位於該第一座體與該第二座體之間,該止擋結構固定於該第一座體或該第二座體;以及一連接部,固定於該第一座體與該第二座體之間,其中各該彈性部連接於該對應之側面與該連接部之間。
- 如申請專利範圍第2項所述的可動裝置,其中該連接部與該第一座體沿一第一方向相膠合,該連接部與該第二座體沿該第一方向相膠合,各該側面平行於該第一方向。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該至少一止擋結構的數量為多個,該些止擋結構分別對位於該些側面。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該止擋結構具有兩止擋面,該兩止擋面分別對位於相鄰的兩該側面。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該止擋結構沿一第一方向從該基座延伸出,該止擋結構沿該第一方向的長度大於該質量塊與該基座沿該第一方向的間距。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,更包括至少一止擋部,其中該質量塊具有至少一端面,該止擋部配置於該基座且往該端面延伸而對位於該端面,該質量塊適於沿一第一方向產生移動而使該些彈性部產生彈性變形,該基座與該端面沿該第一方向的間距大於該止擋部與該端面沿該第一方向的間距,該止擋部適於止擋該端面以限制該質量塊的移動範圍。
- 如申請專利範圍第7項所述的可動裝置,其中該止擋結構從該止擋部延伸出。
- 如申請專利範圍第8項所述的可動裝置,其中該止擋結構沿該第一方向的長度大於該止擋部與該端面沿該第一方向的間距。
- 如申請專利範圍第7項所述的可動裝置,其中該至少一止擋部的數量為多個,該至少一端面包括該質量塊的一頂面及該質量塊的一底面,部分該些止擋部對位於該頂面,另一部分該些止擋部對位於該底面。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該質量塊具有至少一端面,該端面垂直於各該側面,該止擋結構適於止擋該對應之側面以限制該質量塊沿一第二方向的移動範圍,該第二方向傾斜於各該側面及該端面。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中各該彈性部沿一軸線延伸,該軸線不通過該質量塊的質心。
- 如申請專利範圍第1項所述的可動裝置,其中該止擋結構藉由曝光製程及蝕刻製程而形成。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW102132602A TWI497079B (zh) | 2013-09-10 | 2013-09-10 | 具有耐摔保護功能的可動裝置 |
| US14/065,429 US20150068306A1 (en) | 2013-09-10 | 2013-10-29 | Movable device having drop resistive protection |
| CN201310573572.4A CN104422784A (zh) | 2013-09-10 | 2013-11-14 | 具有耐摔保护功能的可动装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW102132602A TWI497079B (zh) | 2013-09-10 | 2013-09-10 | 具有耐摔保護功能的可動裝置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201510532A TW201510532A (zh) | 2015-03-16 |
| TWI497079B true TWI497079B (zh) | 2015-08-21 |
Family
ID=52624212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW102132602A TWI497079B (zh) | 2013-09-10 | 2013-09-10 | 具有耐摔保護功能的可動裝置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150068306A1 (zh) |
| CN (1) | CN104422784A (zh) |
| TW (1) | TWI497079B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150054425A (ko) * | 2013-11-12 | 2015-05-20 | 삼성전기주식회사 | Mems 소자 패키지 |
| KR20160091143A (ko) * | 2015-01-23 | 2016-08-02 | 삼성전기주식회사 | Mems 센서 |
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| TW201510532A (zh) | 2015-03-16 |
| US20150068306A1 (en) | 2015-03-12 |
| CN104422784A (zh) | 2015-03-18 |
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