TWI467241B - 用於三維顯示裝置之顯示總成 - Google Patents
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Description
本發明係關於一種用於三維顯示裝置之顯示總成;更具體而言,本發明用於三維顯示裝置之顯示總成係完成比例最佳化。
於習知之顯示裝置中,若欲呈現三維視覺較果,常見技術之一為視差屏障式(Parallax Barriers),其主要係於螢幕上設置細小直條柵欄以阻擋螢幕光線,則使用者之雙眼便可因光線遮蔽效果及視差之關係觀視到不同之畫面以產生三維視覺效果。然而,由於此種方式將使得左右眼可視光線分別減半,因此,使用者所感覺之畫面亮度將大幅降低。
據此,柱狀式透鏡(Lenticular Lens)因此發展,其主要係於畫素前設置凸透鏡,並利用凸透鏡折射光線之效果產生視差,則使用者之雙眼便可據以觀視到不同畫面以產生三維視覺效果。而由於透過凸透鏡之方式並未遮蔽光線,因此,使用者所感覺之畫面亮度不受到影響。
然而,由於目前柱狀式透鏡之尺寸品質參差不一,且其與所欲涵蓋之畫素間之位置關係亦無相應調整,因此,即便柱狀式透鏡之使用可讓使用者觀視之畫面亮度不受影響,然使用者觀視之舒適度仍有相當程度之改善空間。
綜上所述,如何改善習知柱狀式透鏡之缺點,使得使用者可更舒適地觀看三維視覺效果之畫面,乃業界乃亟需努力之目標。
本發明之主要目的係提供一種用於一三維顯示裝置之顯示總成,包含一透鏡層以及一畫素層。透鏡層包含複數柱狀凸透鏡單元以及透鏡基板。各柱狀凸透鏡單元之最厚部位係8微米、曲率半徑係0.841毫米。透鏡基板厚度係128微米。畫素層包含複數次畫素,此些次畫素形成次畫素矩陣。透鏡層相應於畫素層設置,透鏡基板介於複數柱狀凸透鏡單元與畫素層間並與畫素層間隔40微米。各柱狀凸透鏡單元分別對應於次畫素矩陣之二行/四行次畫素,並用以將次畫素矩陣之二行/四行次畫素之光源分別折射至二/四方向。
在參閱圖式及隨後描述的實施方式後,所屬技術領域具有通常知識者可更瞭解本發明的技術手段及具體實施態樣。
1、2‧‧‧顯示總成
11、21‧‧‧透鏡層
111、211‧‧‧柱狀凸透鏡單元
113、213‧‧‧透鏡基板
13、23‧‧‧畫素層
131、231‧‧‧次畫素
M1、M2‧‧‧次畫素矩陣
11、21‧‧‧透鏡層
111、211‧‧‧柱狀凸透鏡單元
113、213‧‧‧透鏡基板
13、23‧‧‧畫素層
131、231‧‧‧次畫素
M1、M2‧‧‧次畫素矩陣
第1A圖係為本發明第一實施例之顯示總成之示意圖;
第1B係為本發明第一實施例之顯示總成之側視圖;
第2A圖係為本發明第二實施例之顯示總成之示意圖;以及
第2B係為本發明第二實施例之顯示總成之側視圖。
第1B係為本發明第一實施例之顯示總成之側視圖;
第2A圖係為本發明第二實施例之顯示總成之示意圖;以及
第2B係為本發明第二實施例之顯示總成之側視圖。
以下將透過本發明之實施例來闡釋本發明。然而,該等實施例並非用以限制本發明需在如實施例所述之任何環境、應用程式或方式方能實施。因此,以下實施例的說明僅在於闡釋本發明,而非用以限制本發明。在以下實施例及圖式中,與本發明非直接相關的元件已省略而未繪示,且繪示於圖式中的各元件之間的尺寸關係僅為便於理解,而非用以限制為實際的實施比例。
請同時參閱第1A圖及第1B圖。其中,第1A圖係為本發明第一實施例之一顯示總成1之示意圖;第1B係為本發明第一實施例之顯示總成1沿A-A’線之側視圖。顯示總成1包含一透鏡層11以及一畫素層13。透鏡層11包含複數柱狀凸透鏡單元111以及一透鏡基板113。畫素層13包含複數次畫素131,而複數次畫素131形成一次畫素矩陣M1。須特別說明,第一實施例之顯示總成1可用於規格相符之任三維顯示裝置。
詳細來說,如圖所示,透鏡層11相應於畫素層13設置,透鏡基板113介於柱狀凸透鏡單元111與畫素層13間,各柱狀凸透鏡單元111分別對應於次畫素矩陣M1之四行次畫素,並用以將次畫素矩陣M1之四行次畫素之光源分別折射至四方向。
而就調整後之結構最佳化而言,各柱狀凸透鏡單元111之最厚部位係8微米,而曲率半徑係0.841毫米。透鏡基板113厚度係128微米,透鏡基板113與畫素層13間隔40微米。其中,於第一實施例中,各柱狀凸透鏡單元111之寬度係等於次畫素矩陣M1之四行次畫素之寬度總和,以完整且精確地覆蓋並折射其光源。
請同時參閱第2A圖及第2B圖。其中,第2A圖係為本發明第二實施例之一顯示總成2之示意圖;第2B係為本發明第二實施例之顯示總成2沿B-B’線之側視圖。顯示總成2包含一透鏡層21以及一畫素層23。透鏡層21包含複數柱狀凸透鏡單元211以及一透鏡基板213。畫素層23包含複數次畫素231,而複數次畫素231形成一次畫素矩陣M2。須特別說明,第二實施例之顯示總成2可用於規格相符之任三維顯示裝置。
詳細來說,如圖所示,透鏡層21相應於畫素層23設置,透鏡基板213介於柱狀凸透鏡單元211與畫素層23間,各柱狀凸透鏡單元211分別對應於次畫素矩陣M2之二行次畫素,並用以將次畫素矩陣M2之二行次畫素之光源分別折射至二方向。
而就調整後之結構最佳化而言,各柱狀凸透鏡單元211之最厚部位係8微米,而曲率半徑係0.841毫米。透鏡基板213厚度係128微米,透鏡基板213與畫素層23間隔40微米。其中,於第二實施例中,各柱狀凸透鏡單元211之寬度係等於次畫素矩陣M2之二行次畫素之寬度總和,以完整且精確地覆蓋並折射其光源。
綜上所述,由於柱狀式透鏡相應於次畫素之結構已被調整至最佳化,如此一來,使用者便可更舒適地觀看三維視覺效果之畫面。
惟上述實施例僅為例示性說明本發明之實施態樣,以及闡釋本發明之技術特徵,並非用來限制本發明之保護範疇。任何熟悉此技藝之人士可輕易完成之改變或均等性之安排均屬於本發明所主張之範圍,本發明之權利保護範圍應以申請專利範圍為準。
國內寄存資訊【請依寄存機構、日期、號碼順序註記】
國外寄存資訊【請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記】
111‧‧‧柱狀凸透鏡單元
113‧‧‧透鏡基板
13‧‧‧畫素層
Claims (4)
- 【第1項】一種用於一三維顯示裝置之顯示總成,包含:
一透鏡層,包含:
複數柱狀凸透鏡單元,各該柱狀凸透鏡單元之最厚部位係8微米、曲率半徑係0.841毫米;以及
一透鏡基板,厚度係128微米;
一畫素層,包含複數次畫素,該等次畫素形成一次畫素矩陣;
其中,該透鏡層相應於該畫素層設置,該透鏡基板介於該等柱狀凸透鏡單元與該畫素層間並與該畫素層間隔40微米,各該柱狀凸透鏡單元分別對應於該次畫素矩陣之四行次畫素,並用以將該次畫素矩陣之四行次畫素之光源分別折射至四方向。 - 【第2項】如請求項1所述之顯示總成,其中,各該柱狀凸透鏡單元之寬度係等於該次畫素矩陣之四行次畫素之寬度總和。
- 【第3項】一種用於一三維顯示裝置之顯示總成,包含:
一透鏡層,包含:
複數柱狀凸透鏡單元,各該柱狀凸透鏡單元之最厚部位係8微米、曲率半徑係0.841毫米;以及
一透鏡基板,厚度係128微米;
一畫素層,包含複數次畫素,該等次畫素形成一次畫素矩陣;
其中,該透鏡層相應於該畫素層設置,該透鏡基板介於該等柱狀凸透鏡單元與該畫素層間並與該畫素層間隔40微米,各該柱狀凸透鏡單元分別對應於該次畫素矩陣之二行次畫素,並用以將該次畫素矩陣之二行次畫素之光源分別折射至二方向。 - 【第4項】如請求項3所述之顯示總成,其中,各該柱狀凸透鏡單元之寬度係等於該次畫素矩陣之二行次畫素之寬度總和。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW103103453A TWI467241B (zh) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 用於三維顯示裝置之顯示總成 |
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| TW103103453A TWI467241B (zh) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 用於三維顯示裝置之顯示總成 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| TWI467241B true TWI467241B (zh) | 2015-01-01 |
| TW201530191A TW201530191A (zh) | 2015-08-01 |
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ID=52784733
Family Applications (1)
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| TW103103453A TWI467241B (zh) | 2014-01-29 | 2014-01-29 | 用於三維顯示裝置之顯示總成 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWI467241B (zh) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008086923A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Pentax Corp | 光学膜の形成方法及び形成装置並びにその光学膜を有する光学物品 |
| TW201326904A (zh) * | 2011-12-21 | 2013-07-01 | Ind Tech Res Inst | 混合多工式立體顯示器及混合多工式立體影像之顯示方法 |
| US20130217161A1 (en) * | 2012-02-21 | 2013-08-22 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Method for manufacturing integral imaging device |
-
2014
- 2014-01-29 TW TW103103453A patent/TWI467241B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008086923A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Pentax Corp | 光学膜の形成方法及び形成装置並びにその光学膜を有する光学物品 |
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| US20130217161A1 (en) * | 2012-02-21 | 2013-08-22 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Method for manufacturing integral imaging device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| TW201530191A (zh) | 2015-08-01 |
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