TWI456013B - 研磨液組成物 - Google Patents

Claims (28)

1. 一種研磨液組成物，包括一非離子型界面活性劑，該非離子型界面活性劑為二級醇乙氧基化物，且該非離子型界面活性劑由式(1)表示， 其中x為1至50的整數。
2. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，其中x為7至40的整數。
3. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，其中R是由具有3至50個碳原子的烷基、具有3至50個碳原子的羥基烷基、具有6至55個碳原子的苯甲基烷基及具有6至55個碳原子的苯基烷基所組成族群中所選出的一者。
4. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，其中該非離子型界面活性劑由式(2)表示， 其中m+n為2至15的整數。
5. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該非離子型界面活性劑的含量介於5ppm至5000ppm之間。
6. 如申請專利範圍第5項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該非離子型界面活性劑的含量介於10ppm至1000ppm之間。
7. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包 括一氧化劑。
8. 如申請專利範圍第7項所述之研磨液組成物，其中該氧化劑為由過錳酸鹽、過氧酸、碘酸鹽、氧溴化物鹽、高鈰鹽、溴酸鹽、過氧化氫、亞氯酸鹽、次氯酸鹽所組成的族群中所選出的至少一者。
9. 如申請專利範圍第7項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該氧化劑的含量介於0.5%至10%之間。
10. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包括研磨顆粒。
11. 如申請專利範圍第10項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該些研磨顆粒的含量介於100ppm至5000ppm之間。
12. 如申請專利範圍第10項所述之研磨液組成物，其中該研磨顆粒的平均粒徑介於5nm至300nm。
13. 如申請專利範圍第10項所述之研磨液組成物，其中該研磨顆粒的平均粒徑介於5nm至100nm。
14. 如申請專利範圍第10項所述之研磨液組成物，其中該研磨顆粒選自於由二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈰、二氧化鋯及二氧化鈦所組成之族群中的至少一者。
15. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，其中該研磨液組成物的pH值介於5至11之間。
16. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包括一pH值調節劑。
17. 如申請專利範圍第16項所述之研磨液組成物，其中該pH值調節劑是由氫氧化鉀、三乙醇胺、2,2,2-氮基三乙醇、硝酸、亞硫酸、草酸、檸檬酸所組成的族群中選出的至少一者。
18. 如申請專利範圍第16項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該pH值調節劑的含量介於5ppm至10000ppm。
19. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包括一螯合劑。
20. 如申請專利範圍第19項所述之研磨液組成物，其中該螯合劑包括無機酸、有機酸或胺基酸。
21. 如申請專利範圍第20項所述之研磨液組成物，其中該螯合劑是由檸檬酸、二乙烯三胺五乙酸鹽、銨草酸鹽、酒石酸、草酸、馬來酸、乳酸、琥珀酸、組胺酸、丙胺酸、甘胺酸、天冬胺酸鹽、麩胺酸、絲胺酸與精胺酸所組成的族群中選出的至少一者。
22. 如申請專利範圍第19項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該螯合劑的含量介於0.1%至10%之間。
23. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包括一防蝕劑。
24. 如申請專利範圍第23項所述之研磨液組成物，其中該防蝕劑是由1-H-苯並三唑、N-醯基肌胺酸鹽、十二烷基硫酸銨、甲苯基三唑、5-胺基四唑、3-胺基-1,2,4-三唑、 4-胺基-4H-1,2,4-三唑、3-硝基-1,2,4-三唑、3-巰基-1,2,4-三唑、1H-1,2,3三唑-1-乙醇、苯並咪唑、咪唑、吡咯、二氫吡咯、噁唑、異噁唑、吲唑、吲嗪、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、甲基苯並三唑、2-巰基苯並噻唑、苯亞甲基二氧基四氫噻唑、噻吩亞甲基二氧基四氫噻唑與十二烷基苯磺酸所組成的族群中選出的至少一者。
25. 如申請專利範圍第23項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該防蝕劑的含量介於1ppm至1000ppm之間。
26. 如申請專利範圍第1項所述之研磨液組成物，更包括一水性載體。
27. 如申請專利範圍第26項所述之研磨液組成物，其中以該研磨液組成物的總重量計，該水性載體的含量介於50%至99%之間。
28. 如申請專利範圍第26項所述之研磨液組成物，其中該水性載體包括去離子水。