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TWI455755B - 用於PFCs廢氣處理之渦流電漿反應器 - Google Patents

用於PFCs廢氣處理之渦流電漿反應器 Download PDF

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TWI455755B
TWI455755B TW101114354A TW101114354A TWI455755B TW I455755 B TWI455755 B TW I455755B TW 101114354 A TW101114354 A TW 101114354A TW 101114354 A TW101114354 A TW 101114354A TW I455755 B TWI455755 B TW I455755B
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plasma
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Ron Hsin Chang
Original Assignee
Resi Corp
Ron Hsin Chang
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Claims (10)

  1. 一種用於廢氣處理的渦流電漿反應器,包含有:一廢氣收集管其具有多數個廢氣入口、一火焰防阻器其具有火焰防阻元件,該火焰防阻元件之多孔層孔徑小於氣體的最大實驗安全間隙、一渦流電漿反應器本體、一第一氣體注入裝置其安裝於渦流電漿反應器頂部、一第二氣體注入裝置其安裝於渦流電漿反應器末端、一反應器導流管、一電漿火炬、及一高週波感應線圈,其特徵是第一股氣體以廢氣收集管收集後,經火焰防阻器,再以切線方式由第一氣體注入裝置注入渦流電漿反應器本體內,注入渦流電漿反應器本體內的氣體利用位於渦流電漿反應器頂部中央的電漿火炬將該氣體等離子化,第二股氣體以切線方式由第二氣體注入裝置注入渦流電漿反應器本體內,並與高溫的反應器導流管接觸預熱後,匯入被等離子化的高溫氣體中形成渦流進行反應,使等離子化的氣體與第二股氣體產生激烈的混合,再經高週波感應線圈加熱形成一感應電漿區維持等離子化,使氣體在渦流電漿反應器內與具有高能量密度的電漿充分混合,維持一定反應時間進行反應而被徹底破壞。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中廢氣收集管的多數個廢氣入口為四個以上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中之電漿火炬係以直流電力供應產生高溫電漿之非傳輸型直流電漿火炬,且該電漿火炬可以在操作中由渦流電漿反應器中抽出。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中渦流電漿反應器本體包含有:一反應器外管其係使用可導電的非磁性金屬材料製作、一反應器內管其係使用可導電的非磁性金屬材料、陶瓷材料或石英管製作,在反應器內管及反應器外管間裝有高週波感應線圈及隔熱材。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中反應器導流管係使用可導電的非磁性金屬材料、陶瓷材料或石英管製作,除作為渦流導流作用外,同時提供第二股氣體預熱之用。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中反應器導流管係利用高週波感應線圈加熱,以提供氣體加熱之用。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中 第一氣體注入裝置利用氣體導流環以切線方向將氣體注入渦流電漿反應器本體,產生由渦流電漿反應器頂部往渦流電漿反應器末端方向的旋轉渦流,第二氣體注入裝置利用氣體導流環將氣體以相反的切線方向注入渦流電漿反應器本體,產生由渦流電漿反應器末端往渦流電漿反應器頂部的逆向旋轉渦流。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中第一氣體注入裝置的氣體導流環具有多數個氣體切線注入口。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中第二氣體注入裝置的氣體導流環具有多數個氣體切線注入口。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之用於廢氣處理的渦流電漿反應器,其中第一股氣體所產生的渦流係位於渦流電漿反應器本體內部中央的圓柱狀空間,第二股氣體所產生的渦流係位於接近反應器內管的內壁且在第一股氣體所產生的渦流外側,第二股氣體於感應電漿區匯入第一股氣體的渦流中,進行化學反應。
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