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TWI453749B - 次臨界多埠暫存器 - Google Patents

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TWI453749B
TWI453749B TW099103450A TW99103450A TWI453749B TW I453749 B TWI453749 B TW I453749B TW 099103450 A TW099103450 A TW 099103450A TW 99103450 A TW99103450 A TW 99103450A TW I453749 B TWI453749 B TW I453749B
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Taiwan
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threshold voltage
read
voltage
bit line
transistor
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TW099103450A
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Shyh Chyi Yang
Hao I Yang
Wei Hwang
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Univ Nat Chiao Tung
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次臨界多埠暫存器
本發明係關於一種暫存器(register file)架構,尤指一種可以操作在極低電壓下,進而降低功率消耗的次臨界多埠暫存器。
暫存器(register file)在許多系統單晶片(SOC)或是在微處理器中係為不可或缺的元件之一,在傳統的暫存器設計中,為了達到要求的資料存取頻寬,往往於暫存器之儲存單元(cell)中加入更多的埠(讀取埠、寫入埠),但這樣的設計卻會衍生出更多的問題,例如製作元件所需面積變大、抗雜訊能力減弱、需要更長的存取時間、需要一較高的供應電壓而導致更多的功率消耗。
另外,暫存器中之儲存單元即為位元胞(cell),在位元交錯(bit-interleaving)的架構下,傳統的位元胞僅具有單一個高臨界電壓旁通閘,在執行寫入作業時,其抗雜訊能力並不理想。
再者,針對位元胞的寫入機制部分,雖然已經有人提出負電壓寫入的機制,但皆是以另額外的控制或是閘延遲(gate delay)的方式來控制時序,此種作法在次臨界電壓操作下的失敗率會大為提高,無法順利完成寫入動作。
而在位元胞的讀取機制部分,雖然亦是有人提出利用一讀取緩衝器(read buffer footer)來消除漏電路徑,令位元胞能正常讀取操作,然而,該作法在高電壓操作時將會限制其效能。
本發明之主要目的係提供一種次臨界多埠暫存器,在次臨界電壓操作下,提高儲存單元(位元胞)的抗雜訊能加,並加強讀取及寫入儲存單元的能力。
為達成前述目的,本發明係包含:呈陣列排列之複數個雙臨界電壓位元胞,各雙臨界電壓位元胞包含有兩個PMOS電晶體、兩個NMOS電晶體及兩個具有高臨界電壓之NMOS電晶體所構成之高臨界電壓旁通閘,兩高臨界電壓旁通閘各別連接一位元線及一反相位元線;一負電壓產生電路,係依據一寫入機制將資料寫入至前述雙臨界電壓位元胞,該負電壓產生電路包含有一位元線邏輯變化偵測單元,其中,該寫入機制為:當一寫入信號啟始時,該負電壓產生電路係先拉低該位元線上的壓降,令該位元線邏輯變化偵測單元偵測到位元線上的壓降成為零電位時,才輸出一負電壓至位元線,使位元線上具有一負電壓而施加在該對應之雙臨界電壓位元胞;一讀取電路,係用以讀出該些雙臨界電壓位元胞所儲存之資料,包含有一讀取緩衝器、一可控制預充電路及一讀取電流追蹤電路,其中:該讀取緩衝器係以複數個NMOS電晶體組成,各NMOS電晶體對應連接一呈列排列的雙臨界電壓位元胞;該可控制預充電路係連接各成欄排列的雙臨界電壓位元胞,以控制各欄之雙臨界電壓位元胞是否需執行讀取作業;該讀取電流追蹤電路係追蹤所選定列之一讀取電流IREAD 與一漏電流,以據此產生一具有適當寬度的讀取字組線(RWL)脈衝信號。
在本發明中作為儲存單元的各位元胞(cell)係包含兩個高臨界電壓的電晶體,使其在次臨界電壓仍可操作並增加抗雜訊能力。
該負電壓寫入機制及位元線(BL)電壓偵測機制,使位元胞在次臨界電壓操作下其寫入成功機率大為提高。
讀取機制方面,係使用一皆以NMOS電晶體構成的讀取緩衝器以及一可控制的預充電路,消除不必要的漏電並提升成功讀取機率。
請參考第一圖所示,為本發明次臨界多埠暫存器(1)(register file)之架構方塊圖,該臨界多埠暫存器(1)係配合一指令輸出單元(100)及數個執行單元(200a)~(200d),其中,該臨界多埠暫存器(1)具有四個寫入埠(write port)、四個讀出埠(read port)、四個暫存器庫(bank)(10a)~(10d)及四組切換電路(20)。
該寫入埠及讀出埠於圖面上係整合為四個讀寫埠(30)表示,各暫存器庫(10)具備位元交錯技術(bit-interleaving)的設計。指令輸出單元(100)藉由簡單的控制指令及定址,可控制各個執行單元(200a)~(200d)對其對應的暫存器庫(10a)~(10d)進行同步存取。各切換電路(20)之主要功能係授權執行單元(200a)~(200d)存取對應的暫存器庫(10a)~(10d)。當發生位址碰撞的情況時,切換電路(20)能正確地決定具有較高存取權的存取動作,並且回報一位址碰撞信號予該指令輸出單元(10)。在本發明的架構之下,各執行單元(200a)~(200d)針對其對應的暫存器庫(10a)~(10d)具有較高的存取權,舉例而言,第一執行單元(200a)對第一暫存器庫(10a)具有較高的存取權,依此類推。因此,每一個暫存器庫(10a)~(10d)可依據同一執行單元(200a)~(200d)或不同執行單元(200a)~(200d)控制,同時進行寫入及讀出的操作。換言之,本發明之臨界多埠暫存器(1)可支援四種不同應用而進行同步操作,或是支援單一程式進行同步的多路存取(multi-access),如超長指令集架構之處理器(VLIW DSP)。
請參考第二圖所示,為本發明中所採用之雙臨界電壓位元胞(dual Vt bit-cell)(40)之電路圖,於該暫存器中係形成有呈陣列排列的多個雙臨界電壓位元胞(40),在位元交錯(bit-interleaving)的架構下,傳統的位元胞在寫入模式(half-write select mode)其抗雜訊能力(noise margin)並不理想,而本發明在位元胞中係計設有兩個高臨界電壓旁通閘(Q5)(Q6),如此一來可提高其抗雜訊能力,此特性在次臨界區域操作與寫入模式時即相當重要。
該雙臨界電壓位元胞(40)的架構包含有兩個PMOS電晶體(Q1)(Q2)、兩個NMOS電晶體(Q3)(Q4)及兩個具有高臨界電壓(Vt)的NMOS所構成之高臨界電壓旁通閘(Q5)(Q6)。兩PMOS電晶體(Q1)(Q2)的源極(source)係接收一操作電壓(VDD),而兩NMOS電晶體(Q3)(Q4)之源極係接地。第一PMOS電晶體(Q1)與第一NMOS電晶體(Q3)的閘極共同連接至第二PMOS電晶體(Q2)與第二NMOS電晶體(Q4)的汲極,其連接點為第二節點;而第二PMOS電晶體(Q2)與第二NMOS電晶體(Q4)的閘極則共同連接至第一PMOS電晶體(Q1)與第一NMOS電晶體(Q3)的汲極,其連接點為第一節點。其中,第一節點係透過該第一高臨界電壓旁通閘(Q5)而連接至一位元線(BL),第二節點係透過該第二高臨界電壓旁通閘(Q6)而連接至一反相位元線(BLB)。
前述雙臨界電壓位元胞(40)之設計雖可提高抗雜訊能力,但相對的其寫入能力(write margin)恐因此降低,為此,本發明係利用一負電壓寫入機制來克服該問題。請參考第三圖所示,係為一負電壓產生電路(50)之電路圖,該負電壓產生電路(50)具有一位元線邏輯變化偵測單元(52)。如第四圖之時序圖所示,當寫入信號(IN)啟始時,負電壓產生電路(50)會先拉低位元線(BL)上的壓降,該位元線邏輯變化偵測單元(52)在偵測到位元線(BL)上的壓降成為零電位時,才會輸出一負電壓至位元線(BL),使位元線(BL)上具有負電壓而施加在雙臨界電壓位元胞(40)。若採用傳統的負電壓產生時序,則無法適用於次臨界操作。由於製程、電壓、變動及位元線漏電的影響,位元線上所需之放電時間在次臨界區域亦會有大幅變化。藉助該位元線邏輯變化偵測單元(52)的作用,負電壓產生電路(50)所需之面積可明顯降低。偵測單元(52)為將輸入訊號IN與BL的反向訊號作聯集,例如,(如圖四中所示),若BL要輸入邏輯零,則偵測單元(52)的輸入訊號IN為邏輯一,則BL先放電至零,偵測單元(52)的輸出訊號IN2變為邏輯一,啟動負電壓幫浦,則BL便可進一步從電位零拉至負電位。
相對於超臨界區域(super-threshold region),漏電問題在次臨界區域(sub-threshold region)更應重視。Ion 與Ioff 之比值從10e+5下降至低於100。隨著半導體製程的微細化,接面漏電及大尺寸閘極等問題會使電路設計更為困難,對採用8T bit-cell的暫存器而言亦是受到衝擊,甚至在超低電壓的情況下無法正確的執行讀取操作。
本發明雖然主要是應用於低電壓操作,但實際應用時系統之操作電壓仍有可能使用較高的電壓,為了在高電壓下仍維持良好的操作效能,請參考第五圖所示,係為本發明次臨界暫存器(1)所採用之讀取電路。
該讀取電路包含一讀取緩衝器(read buffer footer)(62)、一可控制預充電路(64)及一讀取電流追蹤電路(66),其中,因堆疊效應(stack effect)幾乎已可消除漏電問題,故該讀取緩衝器(62)僅由NMOS電晶體組成即可而不須使用PMOS電晶體,各NMOS電晶體係對應控制一列(ROW)的位元胞(40)。如第五圖所示,無使用PMOS元件的讀取緩衝器(62)可提供較快速的讀取時間,而讀取時間係與漏電功率消耗成正比,因此較短的讀取時間意謂者可降低漏電功率消耗。
該讀取電流追蹤電路(66)可追蹤所選定列之讀取電流IREAD 與漏電流,由於讀取電流IREAD 可決定讀取時間,故讀取電流追蹤電路(66)能據以產生具適當寬度的讀取字組線(RWL)脈衝信號。讀取電流IREAD 及漏電流的大小係依據所對應列其儲存的資料、製程飄移及操作時間而決定。對次臨界操作而言,當讀取不同欄但同一列的資料時,由於RWL脈衝信號之波動(fluctuation)程度依據模擬可高達30%甚至更高,因此適當的RWL脈衝信號係相當重要的。
除此之外,在位元交錯的技術架構下,並非所有的欄(column)均需執行讀取作業。因此,該可控制預充電路(64)只有對必須讀取的欄才進行充電,如此一來,不僅可降低在陣列中的許多功率消耗,亦能減少讀取電流IREAD ,如此一來,特別是在高壓操作的情況下,能降低該讀取緩衝器(62)之驅動電流。
綜上所述,本發明係提供一種低功率多重暫存器庫(Multi-bank)的架構以達到多重埠(Multi-port)的效果,並且支援數個同時存取及撞處理,其中,作為儲存單元的位元胞(cell)係包含兩個高臨界電壓的電晶體,使其在次臨界電壓仍可操作並增加抗雜訊能力;該位元胞係搭配一負電壓寫入機制及位元線(BL)電壓偵測機制,使在次臨界電壓操作下之寫入成功機率大為提高;在位元胞的讀取機制方面,係使用一皆以NMOS電晶體構成的讀取緩衝器以及一可控制的預充電路,藉此消除不必要的漏電,提高讀取成功的機率。在應用方面,本發明係可適用於靜態隨機存取記憶體及三態內容可定址記憶體(TCAM,-Ternary content-addressable-memory)。
(1)...臨界多埠暫存器
(100)...指令輸出單元
(200a)~(200d)...執行單元
(10a)~(10d)...暫存器庫
(20)...切換電路
(30)...讀寫埠
(40)...雙臨界電壓位元胞
(50)...負電壓產生電路
(52)...位元線邏輯變化偵測單元
(62)...讀取緩衝器
(64)...可控制預充電路
(66)...讀取電流追蹤電路
(Q1)(Q2)...PMOS電晶體
(Q3)(Q4)...NMOS電晶體
(Q5)(Q6)...高臨界電壓旁通閘
(BL)...位元線
(BLB)...反相位元線
第一圖:係本發明次臨界多埠暫存器之電路方塊圖。
第二圖:係本發明中雙臨界電壓位元胞之電路圖。
第三圖:係本發明中負電壓產生電路之電路圖。
第四圖:係本發明執行寫入動作的時序信號圖。
第五圖:係本發明搭配雙臨界電壓位元胞之讀取機制的電路方塊圖。
第六圖:係習用讀取機制之電路方塊圖。
(1)...臨界多埠暫存器
(100)...指令輸出單元
(200a)~(200d)...執行單元
(10a)~(10d)...暫存器庫
(20)...切換電路
(30)...讀寫埠

Claims (4)

  1. 一種次臨界多埠暫存器,包含有:呈陣列排列之複數個雙臨界電壓位元胞,各雙臨界電壓位元胞包含有兩個PMOS電晶體、兩個NMOS電晶體及兩個具有高臨界電壓之NMOS電晶體所構成之高臨界電壓旁通閘,兩高臨界電壓旁通閘各別連接一位元線及一反相位元線;一負電壓產生電路,係依據一寫入機制將資料寫入至前述雙臨界電壓位元胞,該負電壓產生電路包含有一位元線邏輯變化偵測單元,其中,該寫入機制為:當一寫入信號啟始時,該負電壓產生電路係先拉低該位元線上的壓降,令該位元線邏輯變化偵測單元偵測到位元線上的壓降成為零電位時,才輸出一負電壓至位元線,使位元線上具有該負電壓而施加在該對應之雙臨界電壓位元胞;一讀取電路,係用以讀出該些雙臨界電壓位元胞所儲存之資料,包含有一讀取緩衝器、一可控制預充電路及一讀取電流追蹤電路,其中:該讀取緩衝器係以複數個NMOS電晶體組成,各NMOS電晶體對應連接一呈列排列的雙臨界電壓位元胞;該可控制預充電路係連接各成欄排列的雙臨界電壓位元胞,以控制各欄之雙臨界電壓位元胞是否需執行讀取作業;該讀取電流追蹤電路係追蹤所選定列之一讀取電流IREAD 與一漏電流,以據此產生一具有適當寬度的讀取字組線(RWL)脈衝信號。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之次臨界多埠暂存器,其中:兩PMOS電晶體的源極係接收一操作電壓(VDD),兩NMIOS電晶體之源極係接地,其中該兩PMOS電晶體包含第一與第二PMOS電晶體,該兩NMOS電晶體包含第一與第二NMOS電晶體,該兩高臨界電壓旁通閘包含第一與第二高臨界電壓旁通閘;該第一PMOS電晶體與第一NMOS電晶體的閘極共同連接至第二PMOS電晶體與第二NMOS電晶體的汲極,其連接點為第二節點;第二PMOS電晶體與第二NMOS電晶體的閘極則共同連接至第一PMOS電晶體與第一NMOS電晶體的汲極,其連接點為第一節點;其中,第一節點係透過該第一高臨界電壓旁通閘而連接至位元線,第二節點係透過該第二高臨界電壓旁通閘而連接至反相位元線。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之次臨界多埠暂存器,該次臨界多埠暫存器係應用於靜態隨機存取記憶體。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之次臨界多埠暂存器,該次臨界多埠暫存器係應用於三態內容可定址記憶體。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI763370B (zh) * 2020-06-30 2022-05-01 台灣積體電路製造股份有限公司 記憶電路及其操作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5813037A (en) * 1995-03-30 1998-09-22 Intel Corporation Multi-port register file for a reservation station including a pair of interleaved storage cells with shared write data lines and a capacitance isolation mechanism
US6173379B1 (en) * 1996-05-14 2001-01-09 Intel Corporation Memory device for a microprocessor register file having a power management scheme and method for copying information between memory sub-cells in a single clock cycle
US7251175B2 (en) * 2000-11-03 2007-07-31 Broadcom Corporation Very small swing high performance asynchronous CMOS static memory (multi-port register file) with power reducing column multiplexing scheme
US20080155362A1 (en) * 2006-10-24 2008-06-26 Leland Chang Test Structure for Characterizing Multi-Port Static Random Access Memory and Register File Arrays
US7400548B2 (en) * 2005-02-09 2008-07-15 International Business Machines Corporation Method for providing multiple reads/writes using a 2read/2write register file array
US7577013B2 (en) * 2005-06-27 2009-08-18 Industrial Technology Research Institute Storage units and register file using the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5813037A (en) * 1995-03-30 1998-09-22 Intel Corporation Multi-port register file for a reservation station including a pair of interleaved storage cells with shared write data lines and a capacitance isolation mechanism
US6173379B1 (en) * 1996-05-14 2001-01-09 Intel Corporation Memory device for a microprocessor register file having a power management scheme and method for copying information between memory sub-cells in a single clock cycle
US7251175B2 (en) * 2000-11-03 2007-07-31 Broadcom Corporation Very small swing high performance asynchronous CMOS static memory (multi-port register file) with power reducing column multiplexing scheme
US7400548B2 (en) * 2005-02-09 2008-07-15 International Business Machines Corporation Method for providing multiple reads/writes using a 2read/2write register file array
US20080239860A1 (en) * 2005-02-09 2008-10-02 International Business Machines Corporation Apparatus and Method for Providing Multiple Reads/Writes Using a 2Read/2Write Register File Array
US7577013B2 (en) * 2005-06-27 2009-08-18 Industrial Technology Research Institute Storage units and register file using the same
US20080155362A1 (en) * 2006-10-24 2008-06-26 Leland Chang Test Structure for Characterizing Multi-Port Static Random Access Memory and Register File Arrays

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI763370B (zh) * 2020-06-30 2022-05-01 台灣積體電路製造股份有限公司 記憶電路及其操作方法
US11636896B2 (en) 2020-06-30 2023-04-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Memory cell array circuit and method of forming the same
US11735263B2 (en) 2020-06-30 2023-08-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Memory cell array circuit and method of forming the same
US12165705B2 (en) 2020-06-30 2024-12-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Memory cell array circuit and method of forming the same

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