TWI453509B

TWI453509B - 雙光軸相位差膜及其製造方法

Info

Publication number: TWI453509B
Application number: TW100146118A
Authority: TW
Inventors: Ching Mao Wu; Szu Yin Lin
Original assignee: Ind Tech Res Inst
Priority date: 2011-12-14
Filing date: 2011-12-14
Publication date: 2014-09-21
Also published as: CN103163686A; US8736797B2; CN103163686B; TW201323996A; US20130155359A1

Description

雙光軸相位差膜及其製造方法

本發明係有關於一種光學元件及其製作方法，特別是有關於一種雙光軸相位差膜及其製作方法。

液晶顯示器因具有體積小、重量輕、低電力消耗等優點，已被廣泛地應用於生活中的電子產品，如：監視器、筆記型電腦、數位相機、投影機、行動電話等。液晶顯示器(LCD)在大視角所產生的問題，例如對比下降(contrast ratio reduction)、灰階安定性(gray scale stability)、灰階反轉(gray scale inversion)以及色偏(color shift)等問題，可採用光學相位差膜或光學補償膜改善之。

膽固醇型或負C型光學異向塗層可以改進垂直配向液晶顯示器(VA-LCD)的視角性能，理由是在垂直配向液晶顯示器(VA-LCD)液晶盒內，棒形液晶分子在不驅動的狀態下為垂直排列，類似於正C型光學異向塗層(本身即有正相位差值而有補償效果)。不過對於典型4μm厚的垂直配向液晶顯示器(VA-LCD)之液晶盒而言，過多的正相位差值會導致過度補償，所以往往需要膽固醇型或負C型光學異向塗層提供負相位差值才能抵消正相位差值，從而得到最適狀況之暗態。美國專利U.S. Pat. No. 6,141,075、世界專利WO 01/20393及WO 01/20394已揭露垂直配向液晶顯示器(VA-LCD)及扭轉向列型液晶顯示器(TN-LCD)的視角補償應該需要正型及負型光學異向塗層混合搭配使用，同時建議負型光學異向塗層應為負C型光學相位差膜。美國專利U.S. Pat. No. 6,141,075及6,281,956也建議除了採用一正型及一負型光學異向塗層各一片來對VA-LCD做視角補償，亦可以改用一或兩片雙軸延伸的塑膠板如三醋酸纖維素(triacetate cellulose，簡稱TAC)來補償VA-LCD做視角。不過一般而言，拉伸後的TAC薄膜的光學雙折射十分低，往往需要數十或數百微米的薄膜厚度才能產生足夠的相位差值。另一方面，TAC之側部方向拉伸(side-stretching)的壓出(extruded)及鑄造(cast)成膜技術十分困難，因此大量製造不易而且良率也低。世界專利WO 01/20393也公開揭露，負型光學異向塗層應選擇膽固醇型，這種型態的光學異向塗層係由光可聚合型之膽固醇型液晶分子(UV-photo-polymerizable cholesteric liquid crystal，簡稱為UV-CLC)來製成，並具有短螺距(<200nm，小於可見光波長)的螺旋排列。此專利也指出相較於雙軸延伸的塑膠板，由光可聚合型之膽固醇型液晶分子(UV-CLC)所製程的負C型光學異向塗層不僅具有較高的光學雙折射，也有比較薄的薄膜厚度，而且能以工業慣用的捲對捲(roll-to-roll)式塗佈製程大量生產。

世界專利WO 01/20393進一步揭露，垂直配向液晶顯示器(VA-LCD)及扭轉向列型液晶顯示器(TN-LCD)的視角補償通常需要正A型及負C型光學異向塗層混合搭配使用，方能得到最適的暗態狀況，但是現有的正A型及負C型光學異向塗層都是分開製備，然後各自黏貼於LCD內上、下偏光板上；或者先製備出一正A型光學異向塗層，然後在其表面上直接塗上一膽固醇型液晶分子，以形成另一負C型光學異向塗層。不過正A型與負C型光學異向塗層必需經過兩次塗佈製備，塗佈不易均勻而且中間會有一空氣間隙。此外，受制於下層正A型光學異向塗層之表面配向能力，上層的負C型光學異向塗層容易形成白霧的外觀，降低了穿透度。因此是否可以調整UV-CLC組成配方，使得UV-CLC塗料能夠經過一次塗佈後，所形成的乾膜同時具備正A型及負C型光學相位差特徵，且正A型光學補償膜直接接觸該負C型光學補償膜，亦是研究開發的重點技術。美國專利U.S. Pat. No. 20100079720也公開揭示一種具有正A型/負C型相位差膜之液晶組成與製作方式，依此發明之相位差膜其至少含有一塗層組成係至少包含(a)可聚合型膽固醇液晶組合物，其中膽固醇液晶材料具有螺距(helical pitch)一定要小於可見光波長，(b)一種相容於(a)之板狀小分子(plate-like molecule)，其中分子形狀要類似長方形、分子尺寸要相當於膽固醇液晶材料以及在可見光的範圍內不吸收。依此液晶組成，可以藉由一次塗佈即能製備出內含一正A型光學補償膜之負C型相位差膜並且具有整體上淨負C型對稱性的光學特性。因此該發明提供了一種正A型相位差膜直接接觸該負C型相位差膜之解決方式。

由於液晶分子配向與折射率關係有十分緊密之連結，一般而言，具有折射率關係為n_x >n_z >n_y 之雙光軸光學異向膜可由正A以及正C型分子位向結構組合製備完成；然而，若採用美國專利U.S. Pat. No. 20100079720所述之由液晶配方調控方式製備一種正A型相位差膜直接接觸該正C型相位差膜之組合，難以取得正C型之分子配向。因此，如何製作一種雙光軸相位差膜，其光學異向層內含正A/正C型分子位向結構組合，且兩層結構為直接接觸，以及能表現出折射率關係為n_x >n_z >n_y 的光學特性，為業界開發的重點。

根據上述，本發明提供一種雙光軸相位差膜，包括：一基板，其中基板上包括配向膜，或基板表面經配向處理；及一光學異向塗層，位於基板上方，其中光學異向塗層包括一下層和一上層，其中：下層為一水平配向液晶層；上層為垂直配向之六角圓柱堆積陣列液晶層，其中光學異向塗層三維折射率關係為n_x >n_z >n_y 。

本發明提供一種雙光軸相位差膜之製作方法，包括：提供一基板，其中基板上包括配向膜，或基板表面經配向處理；形成一光學異向塗層於基板上方；及對光學異向塗層進行一壓印步驟，使光學異向塗層形成包括一下層和一上層之結構，其中：下層為一水平配向液晶層。

上層為垂直配向之六角圓柱堆積陣列液晶層，其中光學異向塗層三維折射率關係為n_x >n_z >n_y 。

為讓本發明之特徵能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：

以下詳細討論實施本發明之實施例。可以理解的是，實施例提供許多可應用的發明概念，其可以較廣的變化實施。所討論之特定實施例僅用來揭示使用實施例的特定方法，而不用來限定揭示的範疇。

請參照第1圖，本發明一實施例提供一種雙光軸相位差膜，包括已配向之基板102；以及光學異向塗層104，位於已配向基板102上，其中光學異向塗層104包含上下兩層互為垂直分子配向之塗層結構組合形成，其中(a)下層106為一個具有平行配向膜位向之正A型光學異向塗層(三維折射率關係為n_x >n_y ~n_z )，(b)上層108為一具有六角圓柱陣列且分子位向垂直表面方向(三維折射率關係為n_x ~n_y <n_z )之正C型光學異向塗層。

第2A圖~第2C圖顯示本發明一實施例形成雙光軸相位差膜的方法之示意圖，請參照第2A圖，本實施例提供一種形成雙光軸相位差膜的方法，包括以下步驟：提供一基板202，基板上可包括配向膜(未繪示)，或基板202表面經配向處理。基板202之材料可以為玻璃或高分子塑膠基材。若採用高分子塑膠基材，其需具有負C型光學對稱性以及大於或等於80%之光學穿透度，例如二醋酸纖維與三醋酸纖維素較佳，兩者之光學穿透度均大於90%。配向膜包含聚亞醯胺(Polyimide，簡稱PI)或聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol，簡稱PVA)等，但以聚亞醯胺為較佳。配向處理可採用摩刷法(rubbing)、傾斜蒸鍍法、離子束法、電漿法、或浸漬法等。

接著，形成光學異向塗層204於已配向之基板202或基板202之配向膜(未繪示)上，其中光學異向塗層204包括正A型液晶組成物，其製備方法可用於製備正A型相位差膜之紫外光可聚合型棒形液晶組成系統(以下簡稱為UV-LC溶液系統)。當UV-LC溶液系統在有配向能力的基材上被塗成乾硬膜後，其中薄膜內部光可聚合型棒形液晶分子會沿著配向基材之配向方向做定向延伸排列，亦即與薄膜表面平行方向排列，並且具有正A型相位差膜之三軸方向折射率關係n_x >n_y ~n_z 。本發明一實施例光學異向塗層204可採用Merck開發的RM(Reactive Mesogens)系列，雖然本實施例選用RM系列中的RMS03-013C型作為實施例範例，但本技藝人士可選用其他市售或自行調配的UV-LC溶液系統，並不限於上述之RMS03-013C。

靜置並乾燥光學異向塗層204，其後加熱光學異向塗層使光學異向塗層依配向層之方向排列。請參照第2B圖，提供一奈米壓印之母模206，對基板202上之光學異向塗層204進行一奈米壓印步驟，使光學異向塗層形成上層210和下層208之結構，有壓印到的部份是上層結構，而下層結構是原先的塗層，如第2C圖所示，移除母模，其中如第2C圖和第3圖所示(第3圖為第2C圖之立體圖)，且一經壓印之後上下層的結構不同，例如(a)下層208為一個具有平行配向膜位向之正A型光學異向塗層，(b)上層210包括一奈米壓印圖案，奈米壓印圖案較佳為一具有六角圓柱陣列且分子位向垂直表面方向之正C型光學異向塗層(第4圖顯示柱體402六角圓柱陣列之平面圖)。奈米壓印圖案係為壓印後能使液晶分子配向轉成垂直於表面方向，以及使2維折射率接近(n_x ~n_y )之圖案。考量到可見光波長範圍(400nm~700nm)、圖案繞射點對稱性以及光學異向塗層膜厚(通常<3 μm)，奈米壓印圖案以具有六角圓柱陣列排列為較佳，理由是六角陣列於鄰近繞射點間可形成等距與等角度之散射向量，而方形陣列無有此可導致xy平面雙折射之特徵。六角圓柱陣列之圓柱間距(pillar pitch)較佳為200~600 nm；圓柱直徑(pillar diameter)較佳為100~300 nm；深寬比值(aspect ratio)較佳為1/2~2。圓柱間距最佳為350 nm~450 nm；圓柱直徑最佳為150 nm~250 nm；深寬比最佳為0.8~1.5。在本發明中，六角圓柱堆積陣列層厚度與光學異向塗層厚度比值最佳為8%~60%，六角圓柱堆積陣列層厚度最佳為50~600 nm。在本發明一實施例中，壓印製程可以為批次式(batch)、半批次式(semi-batch)以及連續式之捲對捲(roll-to-roll)。在本發明一實施例中，奈米壓印之母模206為矽模、金屬模(如Ni模等)、高分子軟模(如聚氨基甲酸酯PU或聚二甲基矽氧烷PDMS模等)。後續，以紫外光硬化光學異向塗層204。

在本發明一實施例中，用於本發明之紫外光硬化成形之奈米轉印法，其步驟可分為：(1)阻劑塗佈與部份乾燥；(2)升溫壓印；(3)紫外光硬化；以及(4)降溫脫膜。用於本發明之紫外光硬化成形之奈米轉印法之阻劑即為正A型液晶組成物系統。壓印溫度最好至少需要在液晶單體之向列相(nematic phase)形成溫度之上以及在澄清點溫度(clear point temperature)以下溫度範圍內。壓印壓力可以為1~5 bar，以1~2 bar較佳。紫外光強度較佳能在固化時間小於1分鐘。形成之雙光軸相位差膜表面相位差值R₀ 介於10 nm至400nm，雙光軸相位差膜膜厚方向相位差值R_th 為10 nm~200 nm。

根據上述，本發明可藉由一次塗佈與一次壓印即能製備出內含一正A型折射率關係與一正C型折射率關係並且具有整體上折射率關係為n_x >n_z >n_y 的光學特性及製成簡單的優點。

【實施範例1】

配向層的製備

本實施範例選用Poly(amic acid)(簡稱PAA)型聚亞醯胺(簡稱PI)作為配向層材料。PI前驅物PAA溶液為台灣大立高分子(Daily Polymer，AL-12G型)，固含量為7 wt%，經過濾後直接使用。PI配向層製備的方法為將PAA溶液直接以兩階段旋轉塗佈的方式(第一階段為500 rpm(10 sec.)；第二階段為1000 rpm(30 sec.)塗在已清洗和乾燥後無鹼素玻璃基板上，在110℃下預烘烤(pre-baking)10分鐘而後隨即在230℃下烘烤1小時後，可以在視覺上觀察到一個乾淨透明且略顯淡黃的薄膜在玻璃基板上形成，復經過在PI薄膜的表面上經過多次摩刷後，則能得到具有表面液晶分子配向能力的配向膜。最後經過膜厚儀量測後，PI薄膜的厚度約為0.5μm。此外，PI的相位差值，經過視角0⁰ 量測後的R₀ =0.15 nm及R_th =1.1 nm，而且幾乎不隨視角改變。

光學異向膜與表面圖案之製備

本實施範例使用棒形光可聚合型液晶單體溶液(Merck,RMS03-013C)製備光學異向膜材料之液晶塗料，液晶塗料經過濾後使用。光學異向膜的製備方法為直接將所配好的液晶溶液塗料以一階段旋轉塗佈的方式(500 rpm(30 sec.))塗佈在摩刷PI薄膜上，接著在室溫下乾燥約1~3分鐘後，隨即立即升溫到棒形光可聚合型液晶單體之液晶向列相(nematic phase)形成溫度之上及澄清點溫度以下(本實施範例選定55℃)，製程時間為1分鐘，使其能進一步順著配向膜的摩刷方向排列，而後在此溫度下進行真空壓印(壓印模具為一Ni金屬模，凹柱洞距(pitch)為400nm，凹柱洞直徑為200nm，凹柱洞高度為200nm)，壓印溫度為55℃，壓印壓力為1~2 bar，待回到室溫。接著，在室溫下照射紫外光(波長為365±10nm，照射強度為18mW/cm² )，照射紫外光約3分鐘進行光聚合反應後，以得到具有視覺上清楚可辨之彩紋且高識字透光度之光學異向膜。

經量測後，壓印後之表面奈米圖案，圓柱間距約為400nm，圓柱直徑約為200nm，圓柱高度約為200nm；總薄膜的厚度約為2.84μm，且壓印後之光學異向膜之其中該六角圓柱堆積陣列液晶層厚度(上層厚度)與該光學異向塗層厚度比值為8%~10%。

【實施範例2】

配向層的製備

採用與實施範例1相同之方法製備配向層。

光學異向膜與表面圖案之製備

採用與實施範例2類似之方法製備光學異向膜，只改變旋轉塗佈轉速為2000 rpm。經量測後，壓印後之表面奈米圖案之圓柱間距約為400nm，圓柱直徑約為200nm，圓柱高度約為200nm，總薄膜的厚度約為1.19μm，且壓印後之光學異向膜之其中該六角圓柱堆積陣列液晶層厚度(上層厚度)與該光學異向塗層厚度比值為28%~35%。

【比較範例1】

配向層的製備

採用與實施範例1相同之方法製備配向層。

光學異向膜之製備

本比較例係棒形光可聚合型液晶單體溶液(Merck,RMS03-013C)經過濾後使用。光學異向膜的製備方法為直接將所配好的液晶溶液塗料以一階段旋轉塗佈的方式(500 rpm，時間30 sec.)塗佈在摩刷PI薄膜上。接著在室溫下乾燥約1分鐘後，隨即立即升溫到棒形光可聚合型液晶單體之液晶向列相(nematic phase)形成溫度之上及澄清點溫度以下(本實施範例選定55℃)，製程時間為1分鐘，使其能進一步順著配向膜的摩刷方向排列。然後在室溫下，照射紫外光(波長為365±10nm，照射強度為18mW/cm² )約1~3分鐘，進行光聚合反應後，以得到高硬度且高透光的光學異向膜在配向膜上形成。經量測後，總薄膜的厚度約為2.86μm。

【比較範例2】

配向層的製備

採用與實施範例1相同之方法製備配向層。

光學異向膜之製備

採用與比較範例1類似之方法製備光學異向膜，只改變旋轉塗佈轉速為3000 rpm，經量測後，總薄膜的厚度約為1.19μm。

第1表列舉以上實施範例1、實施範例2及比較範例1和比較範例2的樣品所量測的在視角0°所量測到的相位差值相關參數。從第1表中可以看出，如比較範例1和比較範例2所示，當液晶純粹塗佈在配向層上形成光學異向膜時，其三維折射率(n_x ,n_y ,n_z )關係為n_x >n_y ~n_z ，且如第5圖所示，其在速軸上表現出反U型對稱之表面方向相位差隨視角變化圖，此為正A型相位差膜之光學特性。當有奈米圖案被轉印在光學異向層後，其三維折射率(n_x ,n_y ,n_z )關係則變為雙光軸n_x >n_z >n_y 之特性，且如第6圖所示，其表面相位差隨視角變化圖為在速軸上呈現出非對稱之曲線。所以利用奈米壓印法可成功製備出具有n_x >n_z >n_y 特性之雙光軸相位差膜。

雖然本發明已以較佳實施例發明如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

102．．．基板

104．．．光學異向塗層

106．．．下層

108．．．上層

202．．．基板

204．．．光學異向塗層

206．．．母模

208．．．下層

210．．．上層

402．．．柱體

第1圖顯示本發明一實施例一種雙光軸相位差膜之3維示意圖。

第2A圖~第3圖顯示本發明一實施例形成雙光軸相位差膜的方法之示意圖。

第4圖顯示六角圓柱陣列之平面圖。

第5圖顯示本發明比較例光學異向膜表面相位差與視角之關係圖。

第6圖顯示本發明實施例光學異向膜表面相位差與視角之關係圖。

202．．．基板

204．．．光學異向塗層

208．．．下層

210．．．上層

Claims

一種雙光軸相位差膜，包括：一基板，其中該基板上包括配向膜，或基板表面經配向處理；及一光學異向塗層，塗佈於該基板上方，其中該光學異向塗層包括一下層和一上層，其中：該上層為局部壓印一水平配向液晶層而形成垂直配向之六角圓柱堆積陣列液晶層；該下層為未受壓印之該水平配向液晶層；其中該光學異向塗層三維折射率關係為n_x >n_z >n_y 。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之圓柱間距(P)為200~600nm。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之圓柱直徑(D)為100~300nm。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之深寬比(H/D)為1/2~2。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層厚度與該光學異向塗層厚度比值為8%~60%。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層厚度為50~600nm。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該雙光軸相位差膜表面相位差值R₀ 為10nm~400nm。
如申請專利範圍第1項所述之雙光軸相位差膜，其中該雙光軸相位差膜膜厚方向相位差值R_th 為10nm~200nm。
一種雙光軸相位差膜，包括：一基板，其中該基板上包括配向膜，或基板表面經配向處理；及一光學異向塗層，塗佈於該基板上方，其中該光學異向塗層包括一未受壓印的下層和一受到壓印的上層，其中上層和該下層為彼此互相垂直之分子配向結構，其中該光學異向塗層三維折射率關係為n_x >n_z >n_y 。
一種雙光軸相位差膜之製作方法，包括：提供一基板，其中該基板上包括配向膜，或基板表面經配向處理；形成一光學異向塗層於該基板上方；及對該光學異向塗層進行一壓印步驟，使該光學異向塗層形成包括一下層和一上層之結構，其中：該下層為一水平配向液晶層；該上層為垂直配向之六角圓柱堆積陣列液晶層，其中該光學異向塗層三維折射率關係為n_x >n_z >n_y 。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該壓印步驟係為一奈米壓印步驟。
如申請專利範圍第11項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該奈米壓印係使用一母模進行壓印，且該母模包括矽模、金屬模或高分子軟模。
如申請專利範圍第11項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該奈米壓印包括批次式(batch)、半批次式(semi-batch)或連續式之捲對捲(roll-to-roll)。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，尚包括一對該光學異向塗層照射紫外光之步驟。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之圓柱間距(P)為200~600nm。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之圓柱直徑(D)為100~300nm。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層之深寬比值(H/D)為1/2~2。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該六角圓柱堆積陣列液晶層厚度與光學異向塗層厚度比值為8%~60%。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該雙光軸相位差膜表面相位差值R₀ 為10nm~400nm。
如申請專利範圍第10項所述之雙光軸相位差膜之製作方法，其中該雙光軸相位差膜膜厚方向相位差值R_th 為10nm~200nm。