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TWI450003B - An optical compensation film, an optical compensation film, and a method for manufacturing the same - Google Patents

An optical compensation film, an optical compensation film, and a method for manufacturing the same Download PDF

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TWI450003B
TWI450003B TW097114201A TW97114201A TWI450003B TW I450003 B TWI450003 B TW I450003B TW 097114201 A TW097114201 A TW 097114201A TW 97114201 A TW97114201 A TW 97114201A TW I450003 B TWI450003 B TW I450003B
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Description

光學補償膜、光學補償薄膜以及該等膜之製造方法
本發明係關於光學補償膜、光學補償薄膜、特別是塗工後未延伸或單軸延伸之狀態亦具有光學補償機能之液晶顯示元件用光學補償膜、光學補償薄膜及該等之製造方法。
液晶顯示裝置，在於多媒體社會作為最重要的顯示裝置，廣泛地使用在行動電話到電腦用監視器、筆記型電腦、電視。在為提升液晶顯示器的顯示特性，使用多數光學薄膜。
特別是光學補償薄膜，在由正面或斜面觀看時的對比提升、色調補償等發揮很大的作用。先前的光學補償膜，使用聚碳酸酯或環狀聚烯烴、纖維素系樹脂之延伸膜。但是該等膜有需要雙軸延伸步驟，且難以求得在雙軸延伸步驟之位相差的均勻性等的課題。又，特別是在於大面積的薄膜，更加難以進行藉由雙軸延伸所顯現的位相差之控制。
作為解決該雙軸延伸之課題，有藉由塗工(塗敷)以未延伸顯現光學補償機能之光學補償膜之研究。
Akron大學的Harris與Chen，提案包含剛直棒狀的聚亞醯胺、聚酯、聚醯胺、聚(醯胺-亞醯胺)、聚(酯-亞醯胺)之光學補償膜(參照例如專利文獻1、2。)，該等材 料，由於具有自發性的分子配向性，可藉由塗工不經延伸步驟而顯現位相差之特徵。
再者，提案有提升聚亞醯胺的塗工性(對溶劑之溶解性)之包含聚亞醯胺所之光學補償膜(參照例如專利文獻3。)，將盤狀液晶化合物塗工於偏光板的保護膜之偏光板(參照例如專利文獻4)等。
此外，提案有包含苯基馬來醯亞胺-異丁烯共聚物之延伸薄膜(參照例如專利文獻5。)。
專利文獻1：美國專利第5344916號公報
專利文獻2：日本特表平10-508048號公報
專利文獻3：日本特開2005-070745號公報
專利文獻4：日本專利第2565644號公報
專利文獻5：日本特開2004-269842號公報
但是，以專利文獻1~3所提案之方法所得高分子，由於是芳香族高分子，位相差的波長依存性大，使用作為液晶顯示裝置的光學補償膜時，會有色偏等降低畫質之課題。
又，使用專利文獻4所提案之盤狀液晶化合物之方法，需要使液晶化合物均勻地配向而使塗工步驟繁雜化，不僅有配向不均大等的課題，由於該液晶化合物亦係以芳香族化合物為主體，故亦有位相差的波長依存性大的品質 上的課題。
專利文獻5所得延伸膜，僅以塗工並不會顯現位相差(nx=ny=nz)。又，延伸後的3維折射率以nz4最大。
因此，本發明之目的係在於提供，光學特性優良的光學補償膜、光學補償薄膜者，詳言之，係以提供可於塗工或塗工後單軸延伸時顯現光學補償機能，並且其位相差的波長依存性小之光學補償膜、光學補償薄膜為目的。
本發明者們，銳意研究關於上述課題的結果，發現包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜或將塗工膜單軸延伸之塗工膜，可使光學補償薄膜成為具有光學補償機能之膜，特別是適於液晶顯示元件用的光學補償之塗工型光學補償膜、光學補償薄膜，而達至完成本發明。
即，本發明係關於：一種光學補償膜，其係包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，其特徵在於：使在於塗工膜面內正交的任意2軸作為x軸、y軸，使面外方向為z軸，使x軸方向的折射率為nx，y軸方向的折射率為ny，z軸方向的折射率為nz時，3維折射率的關係為nx≒ny>nz；一種光學補償薄膜，其特徵在於：其包含：塗工膜層(A)，其係包含馬來醯亞胺系樹脂；及延伸薄膜層(B)；一種光學補償膜，其係將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸而成者，其特徵在於：使塗工膜之延伸軸方向為x4軸、與其正交之方向為y4軸，使面外方向為z4軸，使x4軸方向的折射率為nx4，y4軸方向的折射率為ny4，z4軸方 向的折射率為nz4時，3維折射率的關係為nx4>ny4>nz4
本發明之光學補償膜、光學補償薄膜，由於其光學補償機能之控制容易，而有用於作為可有效地改良液晶顯示裝置，特別是VA模式之液晶電視之對比或視角特性之光學補償膜、光學補償薄膜者。
以下詳細說明本發明。
說明，包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，使在於塗工膜面內正交的任意2軸作為x軸、y軸，使面外方向為z軸，使x軸方向的折射率為nx，y軸方向的折射率為ny，z軸方向的折射率為nz時，3維折射率的關係以nx≒ny>nz為特徵之光學補償膜。
該馬來醯亞胺系樹脂，例如可舉，N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-取代馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等，構成該馬來醯亞胺系樹脂之N-取代馬來醯亞胺殘基單位，可舉例如，以下述通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位。
其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷 基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基。
該N-取代馬來醯亞胺殘基單位的具體例示，可舉例如，N-甲基馬來醯亞胺殘基單位、N-乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-氯乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-甲氧乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-己基馬來醯亞胺殘基單位、N-環己基馬來醯亞胺殘基單位、N-辛基馬來醯亞胺殘基單位、N-月桂基馬來醯亞胺殘基單位等之1種或2種以上，特別是可成為容易顯現位相差，對溶劑的溶解性、機械強度優良的馬來醯亞胺殘基單位，以N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-己基馬來醯亞胺殘基單位、N-辛基馬來醯亞胺殘基單位為佳。
該N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺聚合物 樹脂、N-辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-月桂基馬來醯亞胺聚合物樹脂等。
該N-取代馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-月桂基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等。
其中，特別是製膜時之成膜性優良，可成為光學補償機能、耐熱性優良的光學補償膜，以N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂為佳。
又，構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂，於不脫離本發明之目的，亦可為含有N-取代馬來醯亞胺殘基單位、馬來酐殘基單位以外的殘基單位，作為該殘基單位，可舉例如：苯乙烯殘基單位、α-甲基苯乙烯殘基單位等的苯乙烯類殘基單位；丙烯酸殘基單位；丙烯酸甲酯 殘基單位、丙烯酸乙酯殘基單位、丙烯酸丁酯殘基單位等的丙烯酸酯類殘基單位；甲基丙烯酸殘基單位；甲基丙烯酸甲酯殘基單位、甲基丙烯酸乙酯殘基單位、甲基丙烯酸丁酯殘基單位等的甲基丙烯酸酯類殘基單位；醋酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、三甲基乙酸乙烯酯殘基、月桂酸乙烯酯殘基、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類殘基；丙烯腈殘基；甲基丙烯腈殘基等的1種或2種以上。
又，該馬來醯亞胺系樹脂，由凝膠滲透層析(以下，以GPC表示)所測定之溶出曲線求得之標準聚苯乙烯換算數目平均分子量(Mn)以1×103 以上者為佳，特別是由於可成為機械特性優良、製膜時之成形加工性優良的光學補償膜，以2×104 以上2×105 以下為佳。
構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂之製造方法，只要可得該馬來醯亞胺系樹脂可以任何方法製造，例如將N-取代馬來醯亞胺類、馬來酐、根據情形併用可與N-取代馬來醯亞胺類共聚合之單體進行自由基聚合或自由基共聚合而製造。此時之N-取代馬來醯亞胺類，可舉例如，N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-氯乙基馬來醯亞胺、N-甲氧乙基馬來醯亞胺、N-正丙基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-正丁基馬來醯亞胺、N-異丁基馬來醯亞胺、N-第二丁基馬來醯亞胺、N-第三丁基馬來醯亞胺、N-己基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-辛基馬來醯亞胺等之1種或2種以上，可共聚合之單體，可舉例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的苯乙烯類；丙烯酸； 丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等的丙烯酸酯類；甲基丙烯酸；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等的甲基丙烯酸酯類；醋酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、三甲基乙酸乙烯酯殘基、月桂酸乙烯酯殘基、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類殘基；丙烯腈殘基；甲基丙烯腈殘基等的1種或2種以上。
又，自由基聚合法，可以習知之聚合法進行，例如塊狀聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法等均可採用。
進行自由基聚合法時之聚合起始劑，可舉例如過氧化苯甲醯、過氧化月桂基、過氧化辛醯、過氧化乙醯、過氧化二第三丁基、過氧化第三丁基異丙苯基、過氧化二異丙苯基、過氧化乙酸第三丁酯、過氧化苯甲酸第三丁酯等的有機過氧化物；2, 2'-偶氮二(2, 4-二甲基庚腈)、2, 2'-偶氮二(2-丁腈)、2, 2'-偶氮二異丁腈、2, 2'-偶氮二異丁酸二甲酯、1, 1'-偶氮二(環己烷-1-甲腈)等的偶氮系起始劑。
然後，可使用於溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法之溶劑並無特別限制，可舉例如，苯、甲苯、二甲苯等的芳香族系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；環己烷；二噁烷；四氫呋喃(THF)；丙酮；甲乙酮；二甲基甲醯胺；醋酸異丙酯；水；N-甲基吡咯烷酮等，亦可舉該等之混合溶液。
又，進行自由基聚合時之聚合溫度，可按照聚合起始 劑的分解溫度適宜設定，一般而言以40~150℃的範圍進行為佳。
本發明之光學補償膜，係包含該馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，特別是使用作為光學補償膜時之光學補償機能優良者。然後，使用包含高分子之薄膜作為光學補償薄膜時，一般以薄膜的雙軸延伸等進行薄膜3維折射率的控制，但該雙軸延伸步驟有使製造步驟或品質的管理變複雜等的課題。相反地，本發明的光學補償膜，係包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，使在於塗工膜面內正交的任意2軸作為x軸、y軸，使面外方向為z軸，使x軸方向的折射率為nx，y軸方向的折射率為ny(nx、ny相異時，使最小的折射率為nx)，z軸方向的折射率為nz時，3維折射率的關係以nx≒ny>nz為特徵之光學補償膜，而發現會顯示以未延伸，膜厚方向的折射率會變小的特異行為。
又，本發明之光學補償膜之膜厚方向的位相差量(Rth)，可容易地藉由該包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜之厚度控制，由於可期待可成為適於作為位相差膜之光學補償膜，以測定波長589nm之光測定時，以下式(2)所示面外位相差量(Rth)以30~2000nm之範圍為佳，特別是可成為液晶顯示元件之視野角改善效果優良者，以50~1000nm，進一步以80~500nm之範圍為佳。
Rth=((nx+ny)/2-nz)×d　　　(2)
其中，d係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
本發明之光學補償膜，由於使用於液晶顯示元件時可 成為色偏小的液晶顯示元件，以位相差量的波長異存性小者為佳，特別是將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)，以1.1以下，以1.08以下特別佳。
本發明之光學補償膜，由於使用於液晶顯示元件時可成為畫質特性良好者，遵照JIS K 7361-1(1997年版)測定之光學補償膜之光學穿透率以85%以上為佳，以90%以上特別佳。又，遵照JIS K 7136(2006年版)所測定之光學補償膜之霧度(haze)以2%以下為佳，以1%以下特別佳。
本發明之光學補償膜，由使用於液晶顯示元件時之品質安定性，以耐熱性高者為佳，以玻璃轉移溫度為100℃以上者為佳，以120℃以上者特別佳，以135℃以上者更佳。
本發明之光學補償膜，其特徵在於：包含塗工膜，該塗工膜包含馬來醯亞胺系樹脂，其較佳的製造方法，可舉將馬來醯亞胺樹脂以溶液狀塗佈於玻璃基板或三醋酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等薄膜基材之製造方法。塗方法，係將馬來醯亞胺系樹脂溶解於溶劑之溶液，塗工於玻璃基板，或薄膜上後，藉由加熱等去除溶劑之方法。此時之塗工方法，可使用例如，刮刀塗佈法、棒塗佈法、凹版塗佈法、狹縫模具塗佈法、模唇塗佈法、切角塗佈法等。一般而言在工業上，薄膜塗佈以凹版塗佈法，厚膜塗工以切角塗佈法。使用之溶劑並無特別限制，可舉例 如甲苯、二甲苯、氯化苯、硝基苯等的芳香族系溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、環己酮等的酮系溶劑；二甲醚、二乙醚、甲基第三丁基醚、四氫呋喃、二噁烷等的醚系溶劑；醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸丁酯等的醋酸酯系溶劑；己烷、環己烷、辛烷、癸烷等的烴系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；四氯化碳、氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷等的氯系溶劑；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；N-甲基吡咯烷酮等，該等可組合2種以上使用。於溶液塗佈，由更容易地具有高透明性，且可得厚度精度、表面平滑性優良的光學補償膜，溶液黏度以10~10000cps為佳，以10~5000cps特別佳。
此時，馬來醯亞胺系樹脂之塗佈厚度，以塗工膜的厚度方向之位相差量決定，其中由可得優良的表面平滑性、視野角改良效果，以乾燥後1~100μm為佳，進一步以3~50μm為佳，以5~30μm之範圍特別佳。
本發明之光學補償膜，可由基材之玻璃或其他光學薄膜剝離使用，亦可以與基材之玻璃基板或其他的光學薄膜之層積體使用。特別是與其他光學薄膜層積使用作為光學補償膜薄膜時其他的光學薄膜，由透明性、強度、接著性優良，以纖維素系樹脂製薄膜為佳，以三醋酸纖維素製之薄膜特別佳。
本發明之光學補償膜，亦可與偏光板層積使用。又，本發明之光補償膜，為提高熱安定性亦可調合氧化防止 劑。該氧化防止劑，可舉例如受阻酚系氧化防止劑、磷系氧化防止劑、其他的氧化防止劑，該等氧化防止劑可分別單獨或亦可併用。然後，由於可相乘地提升氧化防止效果，併用受阻酚系氧化防止劑及磷系氧化防止劑為佳，此時例如對受阻酚系氧化防止劑100重量部將磷系氧化防止劑以100~500重量部混合使用特別佳。又，氧化防止劑之添加量，對構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂100重量部，以0.01~10重量部為佳，以0.5~1重量部的範圍特別佳。
再者，亦可按照需要，作為紫外線吸收劑，調合例如苯併三唑、二苯甲酮、三嗪、苯甲酸酯等紫外線吸收劑。
本發明之光學補償膜，在不超越本發明之主旨之範圍，亦可為調合其他的高分子、界面活性劑、高分子電解質、導電性錯合物、無機充填劑、顏料、染料、帶電防止劑、防粘連劑、滑劑等。
說明，包含塗工膜層(A)，其係包含馬來醯亞胺系樹脂；及延伸薄膜層(B)為特徵之光學補償膜。
構成光學補償膜之塗工膜層(A)，係包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，該馬來醯亞胺系樹脂，可舉例如N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-取代馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等，構成該馬來醯亞胺系樹脂之N-取代馬來醯亞胺殘基單位，可舉例如，以上述通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位。
該N-取代馬來醯亞胺殘基單位的具體例示，可舉例 如，N-甲基馬來醯亞胺殘基單位、N-乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-氯乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-甲氧乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-己基馬來醯亞胺殘基單位、N-環己基馬來醯亞胺殘基單位、N-辛基馬來醯亞胺殘基單位、N-月桂基馬來醯亞胺殘基單位等之1種或2種以上，特別是可成為容易顯現位相差，對溶劑的溶解性、機械強度優良的馬來醯亞胺殘基單位，以N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-己基馬來醯亞胺殘基單位、N-辛基馬來醯亞胺殘基單位為佳。
該N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-月桂基馬來醯亞胺聚合物樹脂等。
該N-取代馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-月桂基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等。
其中，特別是製膜時之成膜性優良，可成為光學補償機能、耐熱性優良的光學補償薄膜，以N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂為佳。
又，構成該塗工膜層(A)之馬來醯亞胺系樹脂，於不脫離本發明之目的，亦可為含有N-取代馬來醯亞胺殘基單位、馬來酐殘基單位以外的殘基單位，作為該殘基單位，可舉例如：苯乙烯殘基單位、α-甲基苯乙烯殘基單位等的苯乙烯類殘基單位；丙烯酸殘基單位；丙烯酸甲酯殘基單位、丙烯酸乙酯殘基單位、丙烯酸丁酯殘基單位等的丙烯酸酯類殘基單位；甲基丙烯酸殘基單位；甲基丙烯酸甲 酯殘基單位、甲基丙烯酸乙酯殘基單位、甲基丙烯酸丁酯殘基單位等的甲基丙烯酸酯類殘基單位；醋酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、三甲基乙酸乙烯酯殘基、月桂酸乙烯酯殘基、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類殘基；丙烯腈殘基；甲基丙烯腈殘基等的1種或2種以上。
又，該馬來醯亞胺系樹脂，由凝膠滲透層析(以下，以GPC表示)所測定之溶出曲線求得之標準聚苯乙烯換算數目平均分子量(Mn)以1×103 以上者為佳，特別是由於可成為機械特性優良、製膜時之成形加工性優良的塗工膜層(A)，以2×104 以上2×105 以下為佳。
構成該塗工膜層(A)之馬來醯亞胺系樹脂之製造方法，只要可得該馬來醯亞胺系樹脂可以任何方法製造，例如將N-取代馬來醯亞胺類、馬來酐、根據情形併用可與N-取代馬來醯亞胺類共聚合之單體進行自由基聚合或自由基共聚合而製造。此時之N-取代馬來醯亞胺類，可舉例如，N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-氯乙基馬來醯亞胺、N-甲氧乙基馬來醯亞胺、N-正丙基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-正丁基馬來醯亞胺、N-異丁基馬來醯亞胺、N-第二丁基馬來醯亞胺、N-第三丁基馬來醯亞胺、N-己基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-辛基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺等之1種或2種以上，可共聚合之單體，可舉例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的苯乙烯類；丙烯酸；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等的丙烯酸酯類；甲基丙烯酸；甲基丙烯酸甲酯、 甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等的甲基丙烯酸酯類；醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類；丙烯腈；甲基丙烯腈等的1種或2種以上。
又，自由基聚合法，可以習知之聚合法進行，例如塊狀聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法等均可採用。
進行自由基聚合法時之聚合起始劑，可舉例如過氧化苯甲醯、過氧化月桂基、過氧化辛醯、過氧化乙醯、過氧化二第三丁基、過氧化第三丁基異丙苯基、過氧化二異丙苯基、過氧化乙酸第三丁酯、過氧化苯甲酸第三丁酯等的有機過氧化物；2, 2'-偶氮二(2, 4-二甲基庚腈)、2, 2'-偶氮二(2-丁腈)、2, 2'-偶氮二異丁腈、2, 2'-偶氮二異丁酸二甲酯、1, 1'-偶氮二(環己烷-1-甲腈)等的偶氮系起始劑。
然後，可使用於溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法之溶劑並無特別限制，可舉例如，苯、甲苯、二甲苯等的芳香族系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；環己烷；二噁烷；四氫呋喃(THF)；丙酮；甲乙酮；二甲基甲醯胺；醋酸異丙酯；水；N-甲基吡咯烷酮等，亦可舉該等之混合溶液。
又，進行自由基聚合時之聚合溫度，可按照聚合起始劑的分解溫度適宜設定，一般而言以40~150℃的範圍進行為佳。
構成本發明之光學補償膜之構成膜(A)，係包含該馬來醯亞胺系樹脂所之塗工膜，特別是使用作為光學補償膜時之光學補償機能優良者。然後，使用包含高分子之薄膜作為光學補償薄膜時，一般以薄膜的雙軸延伸等進行薄膜3維折射率的控制，但該雙軸延伸步驟有使製造步驟或品質的管理變複雜等的課題。相反地，本發明者發現包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜會以未延伸的狀態，在膜厚方向的折射率會變小的特異行為。
然後，由於本發明的光學補償薄膜，特別是可成為光學補償機能優良者，使該塗工膜層(A)在面內正交的任意2軸作為x1軸、y1軸，使面外方向(厚度方向)為z1軸，使x1軸方向的折射率為nx1，y1軸方向的折射率為ny1(nx1、ny1相異時，使最小的折射率為nx1)，z1軸方向的折射率為nz1時之塗工膜之3維折射率的關係以nx1≒ny1>nz1之塗工膜層為佳。
又，該塗工膜層(A)之膜厚方向的位相差量(Rth1)，可容易地藉由包含該馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜之厚度控制，由於可期待可成為適於作為位相差膜之光學補償膜，以測定波長589nm之光測定時，以下式(3)所示面外位相差量(Rth)以30~2000nm之範圍為佳，特別是可成為液晶顯示元件之視野角改善效果優良者，以50~1000nm，進一步以80~500nm之範圍為佳。
Rth1=((nx1+ny1)/2-nz1)×d1　　　(3)
其中，d1係表示塗工膜層(A)之膜厚(nm)。
該塗工膜層(A)，由於使用於液晶顯示元件時可成為色偏小的液晶顯示元件，以位相差量的波長異存性小者為佳，特別是將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)，以1.1以下，以1.08以下特別佳。
該塗工膜層(A)，由於使用於液晶顯示元件時可成為畫質特性良好者，遵照JIS K 7361-1(1997年版)測定之光學補償膜之光學穿透率以85%以上為佳，以90%以上特別佳。又，遵照JIS K 7136(2006年版)所測定之光學補償膜之霧度(haze)以2%以下為佳，以1%以下特別佳。
又，該塗工膜層(A)，在將所得光學補償膜使用於液晶顯示元件時之品質安定性，以耐熱性高者為佳，以玻璃轉移溫度為100℃以上者為佳，以120℃以上者特別佳，以135℃以上者更佳。
本發明之光學補償薄膜之延伸薄膜層(B)，係包含延伸之透明薄膜者，可舉例如聚碳酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、其中以具有正的雙折射性之聚碳酸酯製單軸延伸薄膜、纖維素系樹脂製單軸延伸薄膜為佳，由於可成為位相差的波長依存性小的光學補償薄膜，以環狀聚烯烴構成之延伸薄膜層特別佳。在此，所謂正的雙折射性，係指使延伸薄膜的薄膜面內的延伸方向為x2軸，與延伸方向正交之薄膜面內方向為y2軸，薄膜面外(厚度)方向為z2軸，使x2軸方向的折射率 為nx2，y2軸方向的折射率為ny2，z2軸方向的折射率為nz2時，薄膜的3維折射率的關係，成nx2>ny2≧nz2之性質。
又，該延伸薄膜層(B)，由於所得光學補償膜，可期待適於作為位相差薄膜，以測定波長589nm之光測定時，以下式(4)所示面內位相差量(Re)以20~1000nm之範圍為佳，特別是可成為液晶顯示元件之視野角改善效果優良者，以50~500nm，進一步以80~300nm之範圍為佳。又，該延伸薄膜層(B)，亦可以複數延伸薄膜構成，例如於液晶胞的兩面使用兩片時，每一片的面內位相差量(Re)，以上述的一半即可。
Re=((nx2+ny2)×d2　　　(4)
其中，d2係表示延伸薄膜層(B)之膜厚(nm)。
構成該延伸薄膜層(B)之延伸薄膜，可藉由將以溶液澆鑄法或熔融押出法製造之薄膜以習知的延伸裝置延伸而製造。又，亦可以市售品取得。
本發明之光學補償薄膜，包含：該塗工膜層(A)及該延伸薄膜層(B)，適於作為液晶顯示元件用光學補償薄膜者，其中特別是使用於液晶顯示元件時可成為畫質特性良好者，遵照JIS K 7361-1(1997年版)測定之光學補償膜之光學穿透率以85%以上為佳，以90%以上特別佳。又，遵照JIS K 7136(2000年版)所測定之光學補償膜之霧度(haze)以2%以下為佳，以1%以下特別佳。
再者，本發明的光學補償薄膜，使薄膜面內的遲相軸 方向為x3軸，與該x3軸正交之薄膜面內方向為y3軸，薄膜面外(厚度)方向為z3軸，使x3軸方向的平均折射率為nx3，y3軸方向的平均折射率為ny3，z3軸方向的折射率為nz3時，以測定波長589nm之光測定時，以下式(5)所示配向參數(Nz)，以1.1以上為佳，特別是以1.3以上，進一步以2.0以上為佳。在此，所謂遲相軸係表示折射率最大的軸方向。
Nz=(nx3-nz3)/(nx3-ny3)　　　(5)
又，以下式(8)所示面內位向差(Re2)以20~1000nm為佳，以50~500nm特別佳。
Re2=((nx3-ny3)×d5　　　(8)
其中，d5係表示薄膜之膜厚(nm)。
本發明之光學補償薄膜，包含：塗工膜層(A)，其包含馬來醯亞胺系樹脂，及延伸膜層(B)，其較佳的製造方法，可舉例如1)將藉由於玻璃基版或薄膜基板上塗佈馬來醯亞胺系樹脂溶液所製造之塗工膜與延伸薄膜層積之方法，2)於液晶胞的單面配置包含馬來醯亞胺系樹脂溶液之塗工膜，於另一面配置延伸薄膜之方法，3)於延伸薄膜上塗佈馬來醯亞胺系樹脂溶液乾燥而製造塗工膜之方法等，其中，由於可較容易地製造本發明之光學補償薄膜，於延伸薄膜上塗佈馬來醯亞胺系樹脂溶液乾燥而製造塗工膜，作成光學補償薄膜之方法為佳。
然後，塗工膜層(A)之製造方法，可舉將溶解於溶劑之馬來醯亞胺系樹脂之溶液，塗工於玻璃基板、薄膜基 材、延伸薄膜上之後，藉由加熱等去除溶劑之方法。此時之塗工方法，可使用例如，刮刀塗佈法、棒塗佈法、凹版塗佈法、狹縫模具塗佈法、模唇塗佈法、切角塗佈法等。一般而言在工業上，薄膜塗佈以凹版塗佈法，厚膜塗工以切角塗佈法。使用之溶劑並無特別限制，可舉例如甲苯、二甲苯、氯化苯、硝基苯等的芳香族系溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、環己酮等的酮系溶劑；二甲醚、二乙醚、甲基第三丁基醚、四氫呋喃、二噁烷等的醚系溶劑；醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸丁酯等的醋酸酯系溶劑；己烷、環己烷、辛烷、癸烷等的烴系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；四氯化碳、氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷等的氯系溶劑；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；N-甲基吡咯烷酮等，該等可組合2種以上使用。於溶液塗佈，由更容易地具有高透明性，且可得厚度精度、表面平滑性優良的光學補償膜，溶液黏度以10~10000cps為佳，以10~5000cps特別佳。
又，馬來醯亞胺系樹脂之塗佈厚度，以塗工膜層(A)的厚度方向之位相差量決定，其中由可成具有優良的表面平滑性、視野角改良效果之光學補償薄膜，以乾燥後1~100μm為佳，進一步以3~50μm為佳，以5~30μm之範圍特別佳。
本發明之光學補償膜，亦可與偏光板層積體使用。
又，本發明之光補償薄膜，為提高熱安定性亦可調合 氧化防止劑。該氧化防止劑，可舉例如受阻酚系氧化防止劑、磷系氧化防止劑、其他的氧化防止劑，該等氧化防止劑可分別單獨或亦可併用。然後，由於可相乘地提升氧化防止效果，併用受阻酚系氧化防止劑及磷系氧化防止劑為佳，此時例如對受阻酚系氧化防止劑100重量部將磷系氧化防止劑以100~500重量部混合使用特別佳。又，氧化防止劑之添加量，對構成本發明之光學補償薄膜之馬來醯亞胺系樹脂100重量部，以0.01~10重量部為佳，以0.5~1重量部的範圍特別佳。
再者，亦可按照需要，作為紫外線吸收劑，調合例如苯併三唑、二苯甲酮、三嗪、苯甲酸酯等紫外線吸收劑。
本發明之光學補償薄膜，在不超越本發明之主旨之範圍，亦可為調合其他的高分子、界面活性劑、高分子電解質、導電性錯合物、無機充填劑、顏料、染料、帶電防止劑、防粘連劑、滑劑等。
說明將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸而成之光學補償膜，使塗工膜之延伸軸方向為x4軸、與其正交之方向為y4軸，使面外方向為z4軸，使x4軸方向的折射率為nx4，y軸方向的折射率為ny4，z4軸方向的折射率為nz4時，3維折射率的關係以nx4>ny4>nz4為特徵之光學補償膜。
本發明之光學補償膜，其特徵在於：將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸之光學補償膜，該馬來醯亞胺系樹脂，可舉N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-取代馬來 醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等。
在此，構成該馬來醯亞胺系樹脂之N-取代馬來醯亞胺殘基單位，可舉例如，以上述通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位。
在於通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位之R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；碳數1~18之直鏈狀烷基，可舉例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基、正辛基、正月桂基等；碳數1~18之分枝狀烷基，可舉例如異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基等；碳數1~18之環狀烷基，可舉例如環己基；鹵基，可舉例如氯、溴、氟、碘等。
以通式(1)所示具體的N-取代馬來醯亞胺殘基單位，可舉例如，N-甲基馬來醯亞胺殘基單位、N-乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-氯乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-甲氧乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-正己基馬來醯亞胺殘基單位、N-正辛基馬來醯亞胺殘基單位、N-正月桂基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丙基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-環己基馬來醯亞胺殘基單位等之1種或2種以上，特別是可成為容易顯現位相差，對溶劑的溶解性、機械強度優良的光學補償膜，以N-乙基馬來醯亞胺殘基單位、N-正丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-異丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-第二丁基馬來醯亞 胺殘基單位、N-第三丁基馬來醯亞胺殘基單位、N-正己基馬來醯亞胺殘基單位、N-正辛基馬來醯亞胺殘基單位為佳。
具體的N-取代馬來醯亞胺聚合物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正月桂基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺聚合物樹脂等之1種或2種以上，特別是可成為容易顯現位相差，對溶劑的溶解性、機械強度優良的光學補償膜，以N-乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂、N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂為佳。
又，N-取代馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，可舉例如N-甲基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-氯乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-甲氧乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來 醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正月桂基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第二丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-第三丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-環己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂等。
其中，特別是製膜時之成膜性優良，可成為光學補償機能、耐熱性優良的光學補償膜，以N-正乙基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正己基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂、N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂為佳
又，構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂，於不脫離本發明之目的，亦可為含有N-取代馬來醯亞胺殘基單位、馬來酐殘基單位以外的殘基單位，作為該殘基單位，可舉例如：苯乙烯殘基單位、α-甲基苯乙烯殘基單位等的苯乙烯類殘基單位；丙烯酸殘基單位；丙烯酸甲酯殘基單位、丙烯酸乙酯殘基單位、丙烯酸丁酯殘基單位等的丙烯酸酯類殘基單位；甲基丙烯酸殘基單位；甲基丙烯酸甲酯殘基單位、甲基丙烯酸乙酯殘基單位、甲基丙烯酸丁酯殘基單位等的甲基丙烯酸酯類殘基單位；醋酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、三甲基乙酸乙烯酯殘基、月桂酸乙烯酯殘基、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類殘基；丙烯腈殘基；甲基丙烯腈殘基等的1種或2種以上。
又，該馬來醯亞胺系樹脂，由凝膠滲透層析(以下，以GPC表示)所測定之溶出曲線求得之標準聚苯乙烯換算數目平均分子量(Mn)以1×103 以上者為佳，特別是由於可成為機械特性優良、製膜時之成形加工性優良的光學補償膜，以2×104 以上2×105 以下為佳。
構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂之製造方法，只要可得該馬來醯亞胺系樹脂可以任何方法製造，例如將N-取代馬來醯亞胺類、馬來酐、根據情形併用可與N-取代馬來醯亞胺類共聚合之單體進行自由基聚合或自由基共聚合而製造。此時之N-取代馬來醯亞胺類，可舉例如，N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-氯乙基馬來醯亞胺、N-甲氧乙基馬來醯亞胺、N-正丙基馬來醯亞胺、N-正丁基馬來醯亞胺、N-正己基馬來醯亞胺、N-正辛基馬來醯亞胺、N-正月桂基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-異丁基馬來醯亞胺、N-第二丁基馬來醯亞胺、N-第三丁基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等之1種或2種以上，可共聚合之單體，可舉例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的苯乙烯類；丙烯酸；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等的丙烯酸酯類；甲基丙烯酸；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等的甲基丙烯酸酯類；醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬酯酸乙烯酯殘機等的乙烯酯類；丙烯腈；甲基丙烯腈等的1種或2種以上。
又，自由基聚合法，可以習知之聚合法進行，例如塊 狀聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法等均可採用。
進行自由基聚合法時之聚合起始劑，可舉例如過氧化苯甲醯、過氧化月桂基、過氧化辛醯、過氧化乙醯、過氧化二第三丁基、過氧化第三丁基異丙苯基、過氧化二異丙苯基、過氧化乙酸第三丁酯、過氧化苯甲酸第三丁酯等的有機過氧化物；2, 2'-偶氮二(2, 4-二甲基庚腈)、2, 2'-偶氮二(2-丁腈)、2, 2'-偶氮二異丁腈、2, 2'-偶氮二異丁酸二甲酯、1, 1'-偶氮二(環己烷-1-甲腈)等的偶氮系起始劑。
然後，可使用於溶液聚合法、懸浮聚合法、沉澱聚合法、乳化聚合法之溶劑並無特別限制，可舉例如，苯、甲苯、二甲苯等的芳香族系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；環己烷；二噁烷；四氫呋喃(THF)；丙酮；甲乙酮；二甲基甲醯胺；醋酸異丙酯；水；N-甲基吡咯烷酮；二甲基甲醯胺等，亦可舉該等之混合溶液。
又，進行自由基聚合時之聚合溫度，可按照聚合起始劑的分解溫度適宜設定，一般而言以40~150℃的範圍進行為佳。
本發明之光學補償膜，係將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸為特徵之膜，特別是使用作為光學補償膜時之光學補償機能優良者。一般而言以雙軸延伸，控制3維折射率將會非常的困難。顯示器的面積變大，而隨此光學補償膜的面積變大，則難以將全面積均勻地控制而將招 致良率等的惡化。於本發明，可藉由將特定的塗工膜單軸延伸而作成光學補償機能優良的光學補償膜。本發明之光學補償膜，其特徵在於：將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸而成之光學補償膜，使塗工膜之延伸軸方向為x4軸、與其正交之方向為y4軸，使面外方向為z4軸，使x4軸方向的折射率為nx4，y4軸方向的折射率為ny4，z4軸方向的折射率為nz4時，3維折射率的關係為nx4>ny4>nz4。
又，本發明之光學補償膜之面內方向之位相差量(Re1)，可容易地以該包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜之厚度及單軸延伸條件控制，由於可期待可成為適於作為位相差薄膜之光學補償膜，以下式(6)所示以測定波長589nm之光測定之面內位相差量(Re1)以20nm以上為佳，以30nm以上200nm以下特別佳，進一步以40nm以上150nm以下為佳。
Re1=(nx4-ny4)×d3　　　(6)
其中，d3係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
又，本發明之光學補償膜之面外位相差量(Rth2)，可容易地以該包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜之厚度及單軸延伸條件控制，由於可期待可成為適於作為位相差薄膜之光學補償膜，以下式(7)所示以測定波長589nm之光測定之面外位相差量(Rth2)以30~2000nm之範圍為佳，特別是由於可成為液晶顯示元件之視野角改善效果優良者，以50~1000nm，進一步以80~400nm之範圍為佳。
Rth2=((nx4+ny4)/2-nz4)×d4　　　(7)
其中，d4係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
本發明之光學補償膜，由於使用於液晶顯示元件時可成為色偏小的液晶顯示元件，以位相差量的波長異存性小者為佳，以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)，以1.1以下，以1.08以下特別佳。
本發明之光學補償膜之厚度，由可得優良的表面平滑性、視野角改良效果，以1~100μm為佳，進一步以3~50μm為佳，以5~30μm之範圍特別佳
本發明之光學補償膜，由於使用於液晶顯示元件時可成為畫質特性良好者，光學補償膜之光學穿透率以85%以上為佳，以90%以上特別佳。又，光學補償膜之霧度(haze)以2%以下為佳，以1%以下特別佳。
本發明之光學補償膜，在將所得光學補償膜使用於液晶顯示元件時之品質安定性，以耐熱性高者為佳，以玻璃轉移溫度為100℃以上者為佳，以120℃以上者特別佳，以135℃以上者更佳。
本發明之光學補償膜，係將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸為特徵，較佳的製造方法，可舉將馬來醯亞胺樹脂以溶液狀塗佈於纖維素樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂(PET)等薄膜基材，乾燥後單軸延伸之方法。塗工方法，係將馬來醯亞胺系樹脂溶解於溶劑之溶液，塗工 於薄膜上後，藉由加熱等去除溶劑後，單軸延伸之方法。此時之塗工方法，可使用例如，刮刀塗佈法、棒塗佈法、凹版塗佈法、狹縫模具塗佈法、模唇塗佈法、切角塗佈法等。一般而言在工業上，薄膜塗佈以凹版塗佈法，厚膜塗工以切角塗佈法。
關於使用之溶劑並無特別限制，可舉例如甲苯、二甲苯、氯化苯、硝基苯等的芳香族系溶劑；丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮、環己酮等的酮系溶劑；二甲醚、二乙醚、甲基第三丁基醚、四氫呋喃、二噁烷等的醚系溶劑；醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸丁酯等的醋酸酯系溶劑；己烷、環己烷、辛烷、癸烷等的烴系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇系溶劑；四氯化碳、氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烷等的氯系溶劑；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺系溶劑；N-甲基吡咯烷酮等，該等可組合2種以上使用。於溶液塗工，由更容易地具有高透明性，且可得厚度精度、表面平滑性優良的光學補償膜，塗工溶液黏度是極為重樣的因子，該溶液黏度以10~10000cps為佳，以10~5000cps特別佳。
此時，馬來醯亞胺系樹脂之塗佈厚度，以塗工膜的厚度方向之位相差量決定，其中由可得優良的表面平滑性、視野角改良效果，以乾燥後1~100μm為佳，進一步以3~50μm為佳，以5~30μm之範圍特別佳。
本發明之光學補償膜之單軸延伸，並無特別限制，一般而言對使用示差掃描熱量計測定之塗工膜之玻離轉移 溫度，-30～高50℃的溫度條件之下，可以1.1~5倍的延伸倍率延伸。特別是由於位相差、光線穿透率、及霧度等光學特性會受厚度很大的影響，故厚度不均極小較佳。於本發明之塗工膜之延伸，亦可藉由控制製造塗工膜時的乾燥條件使溶劑殘留而降低延伸溫度。又，可由基材薄膜玻璃延伸，亦可與基材膜一起延伸。
可於本發明採用的單軸延伸方法，可舉例如以張布機延伸之方法，以輪壓機壓延之方法，於輥輪間延伸之方法等方法。
本發明之光學補償膜，可由基材薄膜剝離使用，亦可與基材薄膜或其他的光學薄膜以層積體使用。特別是與其他的光學薄膜作成層積體使用時的其他的光學薄膜，由透明性、強度之點，以纖維素系薄膜、環狀聚烯烴薄膜為佳。
本發明之光學補償膜，亦可與偏光板層積使用。
又，本發明之光補償膜，為提高熱安定性亦可調合氧化防止劑。該氧化防止劑，可舉例如受阻酚系氧化防止劑、磷系氧化防止劑、其他的氧化防止劑，該等氧化防止劑可分別單獨或亦可併用。然後，由於可相乘地提升氧化防止效果，併用受阻酚系氧化防止劑及磷系氧化防止劑為佳，此時例如對受阻酚系氧化防止劑100重量部將磷系氧化防止劑以100~500重量部混合使用特別佳。又，氧化防止劑之添加量，對構成本發明之光學補償膜之馬來醯亞胺系樹脂100重量部，以0.01~10重量部為佳，以0.5~1重量部的範圍特別佳。
再者，亦可按照需要，作為紫外線吸收劑，調合例如苯併三唑、二苯甲酮、三嗪、苯甲酸酯等紫外線吸收劑。
本發明之光學補償膜，在不超越本發明之主旨之範圍，亦可為調合其他的高分子、界面活性劑、高分子電解質、導電性錯合物、無機充填劑、顏料、染料、帶電防止劑、防粘連劑、滑劑等。
實施例
以下藉由實施例更詳細地說明本發明，惟本發明並非任何受限於該等實施例者。
～數目平均分子量的測定～
使用凝膠滲透層析儀(GPC)(TOSO株式會社製，商品名HLC-802A)，以二甲基甲醯胺作為溶劑以標準聚苯乙烯換算值求得。
～玻璃轉移溫度的測定～
使用示差掃描熱量計(精工電子工業(股)製，商品名DSC2000)，以10℃/min的升溫速度測定。
～光線穿透率的測定～
作為透明性的一評估，遵照JIS K 7361-1(1997年版)進行光線穿透率的測定。
～霧度的測定～
作為透明性的一評估，遵照JIS K 7136(2000年版)進行霧度的測定。
～3維折射率的計算～
使用試料傾斜型自動雙折射計(王子計測機器(股) 製，商品名KOBRA-WR)改變仰角以測定波長589nm的光測定3維折射率。再者，由3維折射率算出面外位相差(Rth、Rth1、Rth2)。
位相差量的波長依存性(R450/R589)，係以測定波長450nm測定之位相差量(R450)與測定波長589nm測定之位相差量(R589)之比表示。
合成例1(N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂之製造例)
於玻璃封管中，放入N-正丁基馬來醯亞胺32.4g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.054g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到20g的N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂。所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂之數目平均分子量為120000。
合成例2(N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂之製造例)
於玻璃封管中，放入N-正己基馬來醯亞胺40g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.05g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到32g的N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂。所得N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂之數目平均分子量為160000。
合成例3(N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂之製造例)
於玻璃封管中，放入N-正己基馬來醯亞胺28g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.032g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到15g的N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂。所得N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂之數目平均分子量為270000。
合成例4(N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂之製造例1)
於玻璃封管中，放入N-正辛基馬來醯亞胺26g，馬來酐2.4g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.036g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到19g的N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂。所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，含有馬來酐殘基20重量%，數目平均分子量為120000。
合成例5(N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂之製造例2)
於玻璃封管中，放入N-正辛基馬來醯亞胺26g，馬來酐4.8g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯 0.04g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到18g的N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂。所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，含有馬來酐殘基40重量%，數目平均分子量為140000。
合成例6(N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂之製造例3)
於玻璃封管中，放入N-正辛基馬來醯亞胺26g，馬來酐4.8g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.04g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到18g的N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂。所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，含有馬來酐殘基20重量%，數目平均分子量為140000。
合成例7(N-正乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂之製造例)
於玻璃封管中，放入N-正乙基馬來醯亞胺45g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.05g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲 醇充分清洗以80℃乾燥得到20g的N-正乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂。所得N-正乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂之數目平均分子量為80000。
合成例8(N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂之製造例4)
於玻璃封管中，放入N-正辛基馬來醯亞胺26g，馬來酐2.4g，作為聚合起始劑之二甲基-2, 2'-偶氮二異丁酯0.036g，氮置換後，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時的條件進行自由基聚合反應。反應後，加入氯仿作成高分子溶液後，藉由混合過量的甲醇使聚合物析出。將所得聚合物過濾後，以甲醇充分清洗以80℃乾燥得到19g的N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂。所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂，含有馬來酐殘基20重量%，數目平均分子量為140000。
製造例1(環狀聚烯烴樹脂單軸延伸膜之製造例)
將環狀聚烯烴樹脂(具有酯基之聚原冰片烯的加氫物，Aldrich製)溶解於二氯甲烷溶液作成25%溶液，並且對環狀聚烯烴樹脂100重量部，添加作為氧化防止劑之三(2, 4-二第三丁基苯基)亞磷酸酯0.35重量部及異戊四醇基-四(3-(3, 5-二第三丁基-4-羥苯基)丙酸酯)0.15重量部，作為紫外線吸收劑之2-(2H-苯併三唑-2-基)-對甲酚1重量部後，以T模具法流延於溶液流延裝置之支持體，以40℃、80℃及120℃乾燥後，得到寬250mm、厚度100μm之薄膜。將所得薄膜裁切成一邊50mm的正方形，使用雙 軸延伸裝置(井元製作所製)，以溫度180℃、延伸速度15mm/min的條件，施以自由寬單軸延伸，延伸＋100%。
所得延伸薄膜，顯示正的雙折射性，3維折射率為nx2=1.5124、ny2=1.5090、nz2=1.5090而nx2>ny2=nz2。該延伸膜的面內位相差量(Re)為121nm。又，膜面內的位相差量的波長依存性(R450/R550)為1.01。
實施例1
將合成例1所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度20μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)為179℃。
所得塗工膜，光線穿透率91.6%，霧度0.6%，3維折射率為nx=1.51607、ny=1.51607、nz=1.50954。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=130.6nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.06，係具有光學補償膜之機能者。
實施例2
將合成例2所得N-正己基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成15%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度30μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為149℃。
所得塗工膜，光線穿透率91.8%，霧度0.7%，3維折 射率為nx=1.52000、ny=1.52002、nz=1.51638。又，薄膜面內位相差量為0.6nm，Rth=108.9nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
實施例3
將合成例3所得N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成16%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度50μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為145℃。
所得塗工膜，光線穿透率92.78%，霧度0.9%，3維折射率為nx=1.51049、ny=1.51049、nz=1.50833。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=108nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
實施例4
將合成例4所得N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成16%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度50μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為150℃。
所得塗工膜，光線穿透率92.2%，霧度0.8%，3維折射率為nx=1.50680、ny=1.50680、nz=1.50422。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=129nm。再者表示位相差量的波 長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
實施例5
將合成例5所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂以氯仿溶解成16%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度50μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為156℃。
所得塗工膜，光線穿透率92.0%，霧度0.9%，3維折射率為nx=1.51593、ny=1.51594、nz=1.51193。又，薄膜面內位相差量為0.3nm，Rth=200nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
實施例6
將合成例1所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由塗佈機流延於三醋酸纖維素製薄膜(以下，以TAC薄膜表示)’上，以室溫乾燥24小時於TAC薄膜上得到塗工膜。然後，將塗工膜由TAC薄膜剝離，作成寬50mm、厚度20μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜之玻璃轉移溫度(Tg)為179℃。
所得塗工膜，光線穿透率91.5%，霧度0.6%，3維折射率為nx=1.51606、ny=1.51606、nz=1.50954。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=130.4nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.06，係具有光學補償膜之機 能者。該等特性，與實施例1大致同等的特性。不將塗工膜由TAC薄膜剝離以層積體評估光學特性，光線穿透率90.2%，霧度0.8%，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=156.8nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
實施例7
將合成例1所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度20μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之玻璃轉移溫度(Tg)為179℃。
所得塗工膜，光線穿透率91.6%，霧度0.6%，3維折射率為nx=1.51607、ny=1.51607、nz=1.50954。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=130.6nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.06，係具有光學補償膜之機能者。
將所得塗工膜與製造例1所得延伸薄膜層積製造層積薄膜。
所得層積薄膜，光線穿透率90.2%，霧度0.8%，薄膜面內位相差量(Re2)為121nm，配向參數(Nz)為2.14，係具有光學補償薄膜之機能者。
實施例8
將合成例3所得N-正辛基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成16%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室 溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度50μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為145℃。
所得塗工膜，光線穿透率92.78%，霧度0.9%，3維折射率為nx1=1.51049、ny1=1.51049、nz1=1.50833。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth=108nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
將所得塗工膜與製造例1所得延伸薄膜層積製造層積薄膜。
所得層積薄膜，光線穿透率90.2%，霧度0.8%，薄膜面內位相差量(Re2)為121nm，配向參數(Nz)為1.36，係具有光學補償薄膜之機能者。
實施例9
將合成例6所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂以氯仿溶解成16%溶液，藉由塗佈機流延於玻璃基板，以室溫乾燥24小時於玻璃基板上得到塗工膜。然後，作成寬50mm、厚度50μm的塗工膜薄膜，測定塗工膜薄膜之Tg為156℃。
所得塗工膜，光線穿透率92.0%，霧度0.7%，3維折射率為nx1=1.51593、ny1=1.51593、nz1=1.51193。又，薄膜面內位相差量為0.3nm，Rth1=200nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.05，係具有光學補償膜之機能者。
將所得塗工膜與製造例1所得延伸薄膜層積製造層積薄膜。
所得層積薄膜，光線穿透率90.4%，霧度0.9%，薄膜面內位相差量(Re2)為121nm，配向參數(Nz)為2.53，係具有光學補償薄膜之機能者。
實施例10
將合成例1所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由流延於製造例1所得之延伸薄膜上，以室溫乾燥24小時得到於環狀聚烯烴系樹脂延伸膜上具有塗工膜之層積薄膜。然後，由該層積薄膜之一部分剝離塗工膜，作成寬50mm、厚度20μm的塗工膜，測定塗工膜之玻璃轉移溫度(Tg)為179℃。
所得塗工膜，光線穿透率91.5%，霧度0.6%，3維折射率為nx1=1.51606、ny1=1.51606、nz1=1.50954。又，薄膜面內位相差量為0nm，Rth1=130.4nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.06，係具有光學補償膜之機能者。該等特性，與實施例1大致同等特性。再者，直接以所得層積薄膜評估光學特性，則光線穿透率91.5%，霧度0.6%，薄膜面內位相差量(Re2)為121nm，配向參數(Nz)為2.14，係具有光學補償薄膜之機能者。
實施例11
將合成例7所得N-正乙基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由塗佈機流延於矽膠處理之PET薄膜上，以90℃乾燥15分鐘得到塗工膜。然後，作成寬 100mm、厚度30μm的塗工膜，測定塗工膜之玻璃轉移溫度(Tg)為255℃。
將所得塗工膜剝離，以270℃單軸延伸1.5倍。所得膜之膜厚為30μm，光線穿透率92%，霧度0.6%，3維折射率為nx4=1.5252、ny4=1.5232、nz4=1.5168。又，膜面內位相差量(Re1)為60nm，面外位相差量(Rth2)=222nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.07，係具有光學補償膜之機能者。
實施例12
將合成例1所得N-正丁基馬來醯亞胺聚合物樹脂以氯仿溶解成12%溶液，藉由塗佈機流延於矽膠處理之PET薄膜上，以90℃乾燥15分鐘得到塗工膜。然後，作成寬50mrn、厚度25μm的塗工膜，測定塗工膜之玻璃轉移溫度(Tg)為179℃。
將所得塗工膜剝離，以190℃單軸延伸1.5倍。所得膜之膜厚為20μm，光線穿透率91.6%，霧度0.5%，3維折射率為nx4=1.5182、ny4=1.5145、nz4=1.5078。又，薄膜面內位相差量(Re1)為74nm，面外位相差量(Rth2)=171nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為1.06，係具有光學補償膜之機能者。
實施例13
將合成例8所得N-正辛基馬來醯亞胺-馬來酐共聚物樹脂以四氫呋喃溶解成15%溶液，藉由塗佈機流延於環狀聚烯烴薄膜基材上，以90℃乾燥10分鐘得到厚度75μm 塗工膜。塗工膜之Tg為150℃。將所得塗工膜與環狀聚烯烴薄膜基材一起以160℃單軸延伸1.5倍。延伸後由基材膜薄膜剝離評估光學特性。
所得膜之膜厚為20μm，光線穿透率92.2%，霧度0.5%，3維折射率為nx4=1.5079、ny4=1.5056、nz4=1.5033。又，薄膜面內位相差量(Re1)為115nm，Rth2=172.5nm。再者表示位相差量的波長依存性的R450/R589為+1.04，係具有光學補償膜之機能者。
比較例1
於1公升的高壓反應器中放入甲苯400ml作為聚合溶劑，過氧化新癸酸第三丁酯0.001莫耳作為聚合起始劑，N-(2, 6-二乙基苯基)馬來醯亞胺0.42莫耳，異丁烯4.05莫耳，以聚合溫度60℃，聚合時間5小時進行聚合反應，得到N-(2, 6-二乙基苯基)馬來醯亞胺-異丁烯交互共聚合物。所得N-(2, 6-二乙基苯基)馬來醯亞胺-異丁烯交互共聚合物之數目平均分子量為65000。
調製由所得N-(2, 6-二乙基苯基)馬來醯亞胺-異丁烯交互共聚合物20重量%與二氯甲烷80重量%的溶液，將該溶液流延於PET薄膜上，將由溶液揮發二氯甲烷而固化後所形成之N-(2, 6-二乙基苯基)馬來醯亞胺-異丁烯交互共聚合物薄膜剝離。將剝離後的薄膜進一步以100℃乾燥4小時，由120℃至160℃以每10℃間隔乾燥1小時，之後，以真空乾燥機以180℃乾燥4小時得到具有約100μm厚度之薄膜。(所得薄膜之3維折射率為nx=1.5400、 ny=1.5400、nz=1.5400)。
由該薄膜切出5cm×5cm的小片，使用雙軸延伸裝置(柴山科學機械製)，以溫度200℃，延伸速度15mm/min的條件施以自由寬單軸延伸藉由延伸＋50%，得到延伸薄膜。所得延伸薄膜的3維折射率為nx4=1.53913、ny4=1.54042、nz4=1.54045。
將本發明詳細地參照特定的實施態樣說明，惟對該當業者而言應可明瞭在不脫離本發明之精神範圍可有各式各樣的變更或加以修正。
本發明係主張以西元2007年4月18日申請之日本專利申請(特願2007-109052)，西元2007年4月18日申請之日本專利申請(特願2007-109053)，西元2007年12月25日申請之日本專利申請(特願2007-331825)為優先權且其全部內容以參考資料包含於此。
 產業上的可利性
根據本發明，可提供光學特性優良的光學補償膜、光學補償薄膜，詳言之，可提供以塗工或於塗工後單軸延伸時可顯現光學補償機能，並且其位相差的波長依存性小的光學補償膜、光學補償薄膜。

Claims (19)

  1. 一種光學補償膜，係包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜，其特徵在於：使在於塗工膜面內正交的任意2軸作為x軸、y軸，面外方向為z軸，使x軸方向的折射率為nx，y軸方向的折射率為ny，z軸方向的折射率為nz時，3維折射率的關係為nx≒ny>nz；該馬來醯亞胺系樹脂包含下述通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位： 其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；以及將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)為1.1以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償膜，其中以測定波長589nm之光測定時，以下式(2)所示面外位相差量(Rth)在30~2000nm之範圍：Rth=((nx+ny)/2-nz)×d (2)其中，d係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償膜，其中塗工膜係未延伸膜。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的光學補償膜，其係液晶顯示元件用光學補償膜。
  5. 一種光學補償薄膜，其特徵在於：如申請專利範圍第1項所述的光學補償膜與三醋酸纖維素薄膜之層積體。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的光學補償薄膜，其係液晶顯示元件用光學補償薄膜。
  7. 一種光學補償膜之製造方法，其特徵在於：將馬來醯亞胺系樹脂溶液塗工於基板上，且乾燥之而成為塗工膜；馬來醯亞胺樹脂溶液，係包含下述通式(1)所示馬來醯亞胺殘基單位之馬來醯亞胺樹脂之溶液： 其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；以及將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)為1.1以下。
  8. 一種光學補償薄膜，其特徵在於包含：塗工膜層(A)，其係包含馬來醯亞胺系樹脂；及塗工膜層(A)上的延伸薄膜層(B)；其中塗工膜層(A)包含馬來醯亞胺樹脂，該馬來醯亞胺樹脂包含下述通式(1)所示馬來醯亞胺殘基單位： 其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；該塗工膜層(A)係將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)為1.1以下。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償薄膜，其中包含塗工膜層(A)，該塗工膜層(A)係在使塗工膜層面內正交的任意2軸作為x1軸、y1軸，面外方向為z1軸，使x1軸方向的折射率為nx1，y1軸方向的折射率為ny1(nx1、ny1相異時，使最小的折射率為nx1)，z1軸方向的折射率為nz1時之塗工膜之3維折射率的關係以nx1≒ny1>nz1。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償薄膜，其中包含塗工膜層(A)，該塗工膜層(A)以測定波長589nm之 光測定時，以下式(3)所示面外位相差量(Rth1)在30~2000nm之範圍：Rth1=((nx1+ny1)/2-nz1)×d1 (3)其中，d1係表示塗工膜層(A)之膜厚(nm)。
  11. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償薄膜，其中包含延伸薄膜層(B)，該延伸薄膜層(B)在使延伸薄膜的薄膜面內的延伸方向為x2軸，與延伸方向正交之薄膜面內方向為y2軸，薄膜面外(厚度)方向為z2軸，使x2軸方向的折射率為nx2，y2軸方向的折射率為ny2，z2軸方向的折射率為nz2時之薄膜的3維折射率的關係為nx2>ny2≧nz2，以測定波長589nm之光測定時，以下式(4)所示面內位相差量(Re)為20nm以上：Re=((nx2+ny2)×d2 (4)其中，d2係表示延伸薄膜層(B)之膜厚(nm)。
  12. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償薄膜，其中包含延伸膜層(B)，該延伸膜層(B)包含：選自由聚碳酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂所組成之群之至少一種以上之樹脂。
  13. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償薄膜，其中使光學補償薄膜之薄膜面內的遲相軸方向為x3軸，與該x3軸正交之薄膜面內方向為y3軸，薄膜面外(厚度)方向為z3軸，使x3軸方向的平均折射率為nx3，y3軸方向的平均折射率為ny3，z3軸方向的折射率為nz3時，以測定波長589nm之光測定時，以下式(5)所示配向參數(Nz) 為1.1以上：Nz=(nx3-nz3)/(nx3-ny3) (5)。
  14. 如申請專利範圍第8項所述的光學補償膜，其係液晶顯示元件用光學補償薄膜。
  15. 一種光學補償薄膜之製造方法，其特徵在於：藉由於延伸薄膜層(B)上塗工馬來醯亞胺系樹脂溶液乾燥作成塗工層(A)；其中馬來醯亞胺系樹脂溶液，係包含以下述通式(1)所示馬來醯亞胺殘基單位之馬來醯亞胺系樹脂之溶液： 其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；以及該塗工膜層(A)係將塗工膜傾斜40度以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)為1.1以下。
  16. 一種光學補償膜，將包含馬來醯亞胺系樹脂之塗工膜單軸延伸而成者，其特徵在於：使塗工膜之延伸軸方向為x4軸、與其正交之方向為y4軸，使面外方向為z4軸，使x4軸方向的折射率為nx4，y4軸方向的折射率為ny4，z4軸方向的折射率為nz4時， 3維折射率的關係為nx4>ny4>nz4；該馬來醯亞胺系樹脂包含下述通式(1)所示N-取代馬來醯亞胺殘基單位： 其中，R1 係表示碳數1~18之直鏈狀烷基、分枝狀烷基、環狀烷基、鹵基、醚基、酯基、醯胺基；以及以測定波長450nm的光測定之位相差量(R450)與測定波長589nm的光測定之位相差量(R589)之比表示之位相差量之波長依存性(R450/R589)為1.1以下。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的光學補償膜，其中下式(6)所示以測定波長589nm之光測定之面內位相差量(Re1)為20nm以上：Re1=(nx4-ny4)×d3 (6)其中，d3係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
  18. 如申請專利範圍第16項所述的光學補償膜，其中下式(7)所示以測定波長589nm之光測定之面外位相差量(Rth2)在30~2000nm之範圍內：Rth2=((nx4+ny4)/2-nz4)×d4 (7)其中，d4係表示光學補償膜之膜厚(nm)。
  19. 一種液晶顯示元件用光學補償膜，其特徵在於包含：如申請專利範圍第16項所述的光學補償膜。
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