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TWI448855B - 雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法 - Google Patents

雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法 Download PDF

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TWI448855B
TWI448855B TW101108967A TW101108967A TWI448855B TW I448855 B TWI448855 B TW I448855B TW 101108967 A TW101108967 A TW 101108967A TW 101108967 A TW101108967 A TW 101108967A TW I448855 B TWI448855 B TW I448855B
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Yi Yuh Hwang
Chin Der Hwang
Chih Ming Liao
Ting Wei Chiang
Ei Guo Chang
Wen Cheng Huang
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Nat Inst Chung Shan Science & Technology
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Description

雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法
本發明係有關於一種雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法，尤指涉及一種高定位精度，特別係指一種以高定位精度能力驅動一工作平台相對一底板移動之驅動裝置，驅動系統及其方法。
光學尺普遍使用在相對位置之高精度測量(相對位移)。此外，電腦數值控制之運用係在測量中產生例如滾珠螺桿與伺服馬達間之背隙，以及對壓電致動器之磁滯現象之誤差提供補償。這些誤差在測量相對位置之校正中通常被記錄在表格中作為最新參考。
然而，光學尺具有其與製作時有關之累進誤差之特性，一般市售光學尺定位精度為±(3+L/0.2)μm，其中L(m)為光學尺長度用公尺作單位。換言之，光學尺不適用於大型龍門加工機，例如，大型風力發電機之風車葉片加工機；而且，因為相對位置係以光學尺連續測量，而與此有關之誤差也將會累進。
故，一般習用者係無法符合使用者於實際使用時提供絕對定位功 能，並且適用於大型龍門加工機之一計量技術或工具之所需。
本發明之主要目的係在於，克服習知技藝所遭遇之上述問題並提供一種以高定位精度能力驅動一工作平台相對一底板移動之雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法。
為達以上之目的，本發明係一種雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法，其中：根據本發明之一方面，係提供一致動裝置，其包括一馬達驅動模組、一工作平台、一光斑取像模組及一控制模組。其中該馬達驅動模組係與一底板剛性結合，該底板具有一將光斑影像與座標系統結合之光斑影像參考底板區；該工作平台係結合該馬達驅動模組驅動並由該馬達驅動模組驅動而與該底板相對移動；該光斑取像模組係與該工作平台剛性結合以便隨著該工作平台與該底板相對移動，並且能夠擷取該光斑影像參考底板區中一光斑取像區之一光斑影像；以及該控制模組係用以操作該馬達驅動模組及該光斑取像模組，並在一定位模式下進行操作，該控制模組係控制該光斑取像模組擷取該工作平台所在位置之光斑影像參考底板區之即時光斑影像，並將該即時光斑影像與一參考座標光斑影像資料庫之參考座標光斑影像間之比較，取得該即時光斑影像之即時位置座標，再將該即時位置座標與一目標位置座標相比，取得一誤差向量，該控制模組依據該誤差向量推動該馬達驅動模組，使該工作平台到達該目標位置座標。
根據本發明之另一方面，提供一驅動系統，其包括一底板，該底 板具有一將光斑特徵與一座標系統結合之光斑影像參考底板區；以及上述提及之致動裝置。
根據本發明之再一個方面，提供一雷射光斑絕對定位驅動方法，係用於驅動一工作平台與一底板相對移動，其中該工作平台連接一剛性結合該底板之馬達驅動模組並由其驅動，且該底板具有一將光斑特徵與一座標系統結合之光斑影像參考底板區，該方法至少包含下列步驟：(A)設置一光斑取像模組，其剛性結合該工作平台，用以擷取該光斑影像參考底板區中一光斑取像區之一光斑影像；(B)將該光斑影像與一參考座標光斑影像資料庫內之參考座標光斑影像比較，取得該工作平台之即時位置座標；以及(C)根據該工作平台之即時位置座標與一目標位置座標間之誤差向量，控制該馬達驅動模組驅動該工作平台到達該目標位置座標。
1‧‧‧驅動裝置
10‧‧‧致動裝置
11‧‧‧馬達驅動模組
111‧‧‧馬達
112‧‧‧引導組件
113‧‧‧壓電致動組件
114‧‧‧基底
115‧‧‧壓電元件
第1圖，係本發明驅動裝置之第一較佳實施例示意圖。
第2圖，係本發明驅動裝置之方塊示意圖。
第3圖，係本發明以第一實施例貼附在驅動系統底板上之一光斑影像參考物面之示意圖。
第4圖，係本發明建立參考座標光斑影像資料庫之參考座標建立模式流程示意圖。
第5圖，係本發明定位光斑影像之定位模式流程示意圖。
第6圖，係本發明驅動裝置之第二較佳實施例示意圖。
第7圖，係本發明以第二實施例貼附在驅動系統底板上之一條形光斑影像參考物面之示意圖。
第8圖，係本發明馬達驅動模組之一較佳實施例示意圖。
第9圖，係本發明馬達驅動模組之另一較佳實施例示意圖。
請參閱『第1圖~第9圖』所示，係分別為本發明驅動裝置之第一較佳實施例示意圖、本發明驅動裝置之方塊示意圖、本發明以第一實施例貼附在驅動系統底板上之一光斑影像參考物面之示意圖、本發明建立參考座標光斑影像資料庫之參考座標建立模式流程示意圖、本發明定位光斑影像之定位模式流程示意圖、本發明驅動裝置之第二較佳實施例示意圖、本發明以第二實施例貼附在驅動系統底板上之一條形光斑影像參考物面之示意圖、本發明馬達驅動模組之一較佳實施例示意圖、以及本發明馬達驅動模組之另一較佳實施例示意圖。如第1圖、第2圖與第3圖所示：根據本發明第一較佳實施例之雷射光斑絕對定位驅動裝置1，其包括有一致動裝置10以及一底板20，其具有一帶有光斑影像之光斑影像參考底板區21。該致動裝置10包括一與該底板20剛性結合之馬達驅動模組11、一與該馬達驅動模組11結合並由該馬達驅動模組11驅動而與該底板20相對移動之工作平台12、一與該工作平台12剛性結合以便順著該工作平台12與該底板20相對移動之光斑取像模組13、以及一與該馬達驅動模組11及該光斑取像模組13結合操作之控制模組14。本實施 例中，該光斑取像模組13及該控制模組14係經由配置有線連接或無線連接以互相溝通。
該馬達驅動模組11包含一馬達111，及一與該底板20剛性結合之引導組件112，該工作平台12可移動地置於其上，並與該馬達111結合操作以便驅動該工作平台12與該底板20相對移動。本實施例中，該馬達111係可為一步進馬達或一伺服馬達，且該引導組件112包含一連接至該工作平台12之滾珠螺桿，其經由該馬達111驅動從而帶動該工作平台12沿一方向平行之滾珠螺桿與該底板20相對移動。特別係在該工作平台12需要極端穩定之情況下，該馬達111作為一步進馬達係較為適宜，因為該步進馬達每次驅動定位後不會有激磁電流通過，以致於該工作平台12經由該步進馬達移動至一所需位置之後，該工作平台12將可以處於穩定狀態，而不會有如同其他類型之馬達有不斷供應之激磁電流通過而會細微晃動之現象。此外，在其他實施例中，該馬達驅動模組11之馬達111亦可為一線性馬達，並且相對地，該馬達驅動模組11之引導組件112係可為一線性滑軌(如第8圖所示)。
本實施例中，該馬達驅動模組11係進一步包括一設置在該引導組件112上之壓電致動組件113。該壓電致動組件113包含一設置在該引導組件112上可與該底板20相對移動之基底114，以及一設置在該基底114上且與該控制模組14結合操作之壓電元件115。該工作平台12係配置在該基底114且與該壓電元件115結合並由其驅動而與該基底114相對移動，經由該壓電致動組件113之使用，其可驅動該工作平台12在一小於幾十微米範圍內移動，具有較高之精度(即小於數十 微米內之位移)，顯示本實施例之系統係可適用於短距離應用。該致動系統1在此所示為一維系統。由於該引導組件112與該基底114間之機械磨耗，以及該引導組件112之製造公差等，該工作平台12相對該底板20可能在一第二方向產生不良位移。因此，如第9圖所示，該壓電致動組件113之基底114係可移動在該引導組件112之第一方向(X)，使該工作平台12相對該底板20能夠一維運動，並且以該壓電元件115提供微調該工作平台12相對該底板20在第一方向(X)之位置，該壓電致動組件113可以進一步包含另一設置在該基底114上且與該控制模組14結合操作之壓電元件116，並與該工作平台12結合以微調該工作平台12相對該底板20在垂直該第一方向(X)之第二方向(Y)之位置，以致於該工作平台12在第二方向(Y)之不良位移可以得到補償。
雖然該致動系統1在此所示為一維系統，惟本發明亦包括二維之致動系統，其中該壓電致動組件113亦可包含二個排列在該基底114之壓電元件115之方式藉以驅動該工作平台12相對該基底114作二維運動。由於實現二維之致動系統所需之變化對所屬技藝領域中具有通常知識者而言係容易地，故進一步之細節在此省略。
該光斑取像模組13於一實施例中包括一二維陣列像素感測器(例如：Sony XCL 5005 CCD)，並且能夠擷取一在該底板20上光斑影像參考底板區21中光斑取像區22之不變形光斑影像，其與該工作平台12在座標系統與該光斑影像參考底板區21結合之一即時位置具有一對應關係，可利用該光斑取像模組13擷取不變形光斑影像，且該光斑取像模組13可以根據下列公式配 置以達該工作平台12高定位精度之目的。
2 δ=2.44×λ×L÷D
在上述公式中，2 δ為光斑平均直徑，λ為雷射波長、L為該光斑取像模組13之光圈到二維感測器之距離，D為該光斑取像模組13之光圈直徑。尤其該光斑取像模組13係用以擷取光斑亮點，其直徑(2 δ)係略大於二維感測器之像素直徑。因此，一光斑亮點在光斑影像之移位根據在該光斑影像參考底板區21有微小之相對移動仍可辨識出，以致於該工作平台12相對該底板20之位置係可精確地取得。結果，經由該光斑取像模組13配置之功效，該致動系統1能夠定位該工作平台12高達1%二維感測器之像素大小之定位精度，已知目前市售高解像度二維感測器之像素大小一般範圍從1μm到2μm，因此，該工作平台12定位精度為10nm到20nm。
該底板20係由一種抗磨耗及抗變形材料製成，具有較高之剛性，在經過車床或銑床加工之過程以後可在該光斑影像參考底板區21具有足夠之光斑特徵，並可選自零膨脹玻璃、大理石、金屬(例如不鏽鋼)及其組合組成之群組製成。通常，該底板20係由金屬製成，且該光斑影像參考底板區21係該底板20頂面一具有三維物面紋理可提供該特徵光斑之區域。由於金屬會有較大之熱膨脹係數，該致動系統1最好操作在一恆溫控制環境以防止該底板20熱變形，並維持在該底板20頂面相同光斑取像區22之不變形光斑影像與取得使用該光斑取像模組13相同，亦即，使該光斑取像模組13能夠擷取在不同時間相同光斑取像區22之不變形光斑影像。此外，由於該底板20頂面區域之三維物面紋理可用於提供該光斑影像參考底板區21之光斑特徵，經由 該光斑取像模組13取得該光斑取像區22之二維光斑影像將具有相對較高之解析度。藉由本發明結合光斑取像之不變形與高解析度特性以促進該工作平台12相對該底板20之高定位精度。然而，當操作在一恆溫控制環境之外時，該底板20常為金屬板材，會有較大之熱膨脹係數(例如鋼鐵)，因環境溫度之變化而可能有熱變形。因此，一光斑尺21’，係使用熱膨脹係數較低之板材，並具有豐富光斑特徵，可連接至該底板20頂面作為該光斑影像參考底板區21，如第3圖所示。該光斑尺21’係由一種帶有相對較低熱膨脹係數之抗磨耗及抗變形材料製成，例如零膨脹玻璃、大理石基材或、不變鋼。
該控制模組14係與該馬達驅動模組11及該光斑取像模組13結合操作用以執行推動該工作平台12與該底板20相對移動。在上述用以推動該工作平台12與該底板20相對移動之方法中，該控制模組14係先操作在一參考座標建立模式下，用以建立一參考座標光斑影像資料庫，將其與該底板20獨特之光斑影像參考底板區21結合，並於完成該參考座標建立模式後，在一定位模式下，用以定位該工作平台12之位置座標。
參考第1、2及4圖，在該參考座標建立模式中，該控制模組14在步驟S11實施中，可控制該馬達驅動模組11移動該工作平台12之方式，該光斑取像模組13能夠連續地擷取該底板20之光斑影像參考底板區21在座標系統中不同位置座標之光斑影像，同時，在步驟S12實施中，可與一高精度定位裝置(例如在該工作平台上架設一雷射干涉儀，像安捷倫5530動態校正量測儀)配合以定義該工作平台12所在位置之光斑影像參考底板區21之光斑影像在座標系統中之絕對定位座標。
在步驟S13實施中，該控制模組14可操作取得該光斑影像參考底板區21之全部光斑影像，並分段紀錄該光斑影像參考底板區21之全部光斑影像。該控制模組14配合該高精度定位裝置，可標定每段光斑影像之位置參考座標，並由該控制模組14記錄該光斑影像參考底板區21之每段光斑影像及其位置參考座標，完成該參考座標光斑影像資料庫之建立。
並進一步參考第5圖，在該定位模式下，該控制模組14在步驟S21實施中，可控制該光斑取像模組13擷取該光斑影像參考底板區21中光斑取像區22之一光斑影像。
在步驟S22實施中，該控制模組14可比較在步驟S21中於參考座標建立模式中所建立之參考座標光斑影像資料庫中之每一參考座標光斑影像。然後，在步驟S23實施中，該控制模組14可根據對照步驟S22之結果取得該工作平台12在座標系統之一即時位置座標。
在步驟S24實施中，該控制模組14可控制該馬達驅動模組11驅動該工作平台12接近一目標位置，其係一在座標系統中之絕對位置座標，根據該即時位置座標與該目標位置座標間之誤差向量。特別係該致動系統1可執行子步驟S241至S244精確地在座標系統中移動該工作平台12接近該目標位置座標。
在子步驟S241中，該控制模組14可操作計算在步驟S23中被判斷之工作平台12之目標位置座標與即時位置座標間之誤差向量。在子步驟S242中，該控制模組14可根據在子步驟S241取得之誤差向量，操作控制該馬達驅動模組11之馬達111驅動該工作平台12沿著該引導組件112接近該目標位置座標。然後，在子步驟S243中，該控制模組14可操作控制該光斑取像模組1 3擷取對應該即時位置之光斑影像參考底板區21之另一光斑取像區22之一光斑影像。在子步驟S244中，該控制模組14可操作比較擷取在子步驟S243中之光斑影像與目標位置座標之光斑影像，並計算其間之誤差向量。在子步驟S245中，該控制模組14可操作判斷在該子步驟S244計算之誤差向量是否小於一預定誤差範圍，即該馬達驅動模組11驅動該工作平台12移動之精度。接著，當在子步驟S245判斷在該子步驟S244計算之誤差向量不小於該預定誤差範圍時，該控制模組14可操作在步驟S246控制該馬達驅動模組11之壓電致動組件113根據在該子步驟S244計算之誤差向量微調該工作平台12之位置，並重複子步驟S243。 當在子步驟S245作出之判斷為肯定時，定位模式即完成，亦即，該工作平台12這時精確地置放在座標系統之目標位置。
第6圖顯示根據本發明第二較佳實施例之致動系統1。本實施例之致動系統1係類似於第一較佳實施例。在本實施例中，該馬達驅動模組11之壓電致動組件113(請見第1圖)被省略，並且該工作平台12直接可移動地設置於該馬達驅動模組11之引導組件112上。本實施例之致動系統1能夠以0.1μm左右之精度定位該工作平台12，並適用於大範圍應用。同樣地，以金屬製成之底板操作在一恆溫控制環境之外情況下，一光斑尺21’，係使用熱膨脹係數較低之板材，並具有豐富光斑訊號，可連接至該底板20頂面作為該光斑影像參考底板區21，如第7圖所示。
藉此，由於該底板20之光斑影像參考底板區21具有抗磨耗及抗變形特性以及一相對較低熱膨脹係數，並且因為該馬達驅動模組11及該光斑取像模組13分別與該底板20及該工作平台1 2剛性結合，經由該光斑取像模組13可擷取該光斑影像參考底板區21中光斑取像區22之不變形光斑影像，又該光斑取像區22與該工作平台12之位置之間一對應關係相對該底板20係為不變，以致於該光斑影像能用於經由與該預建立參考座標光斑影像比較取得如座標系統所定義之工作平台12之絕對位置座標。進言之，由於本發明提供一致動系統1以自己之座標系統中定義絕對位置，可將傳統技術在該工作平台12之移動期間有累進誤差之缺點有效去除。
綜上所述，本發明係一種雷射光斑絕對定位驅動裝置、驅動系統及其方法，可有效改善習用之種種缺點，係以高定位精度能力驅動一工作平台與一底板相對移動，可提供絕對定位功能，並且適用於大型龍門加工機之一計量技術或工具，進而使本發明之產生能更進步、更實用、更符合使用者之所須，確已符合發明專利申請之要件，爰依法提出專利申請。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍；故，凡依本發明申請專利範圍及發明說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
1‧‧‧驅動裝置
10‧‧‧致動裝置
11‧‧‧馬達驅動模組
111‧‧‧馬達
112‧‧‧引導組件
113‧‧‧壓電致動組件
114‧‧‧基底
115‧‧‧壓電元件
12‧‧‧工作平台
13‧‧‧光斑取像模組
20‧‧‧底板
21‧‧‧光斑影像參考底板區
22‧‧‧光斑取像區

Claims (20)

  1. 一種雷射光斑絕對定位驅動裝置，係包括：一馬達驅動模組，其與一底板剛性結合，該底板具有一將光斑影像與座標系統結合之光斑影像參考底板區；一工作平台，其與該馬達驅動模組結合並由該馬達驅動模組驅動而與該底板相對移動；一光斑取像模組，其與該工作平台剛性結合以便隨著該工作平台而與該底板相對移動，用以擷取該光斑影像參考底板區中一光斑取像區之一光斑影像；以及一控制模組，其與該馬達驅動模組及該光斑取像模組操作結合，並在一定位模式下進行操作，該控制模組係控制該光斑取像模組擷取該工作平台所在位置之光斑影像參考底板區之即時光斑影像，並將該即時光斑影像與一參考座標光斑影像資料庫之參考座標光斑影像間之比較，取得該即時光斑影像之即時位置座標，再將該即時位置座標與一目標位置座標相比，取得一誤差向量，該控制模組依據該誤差向量推動該馬達驅動模組，使該工作平台到達該目標位置座標。
  2. 依申請專利範圍第1項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該控制模組係進一步包括在一參考座標建立模式下進行操作，於該參考座標建立模式中，該控制模組經由該光斑取像模組以連續光斑取像方式擷取該光斑影像參考底板區之所有光斑影像，並配合一架設在該工作平台上之高精度定位裝置，將所有擷取之光 斑影像分段標定參考座標，由該控制模組記錄各段光斑影像及其位置參考座標，完成該參考座標光斑影像資料庫之建立，於其中，該高精度定位裝置係可為雷射干涉儀。
  3. 依申請專利範圍第1項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該馬達驅動模組係包含一馬達及一與該底板剛性結合之引導組件，該工作平台可移動地置放於其上，並與該馬達結合操作以便驅動該工作平台與該底板相對移動。
  4. 依申請專利範圍第3項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該馬達係為一線性馬達，且該引導組件係為一線性滑軌。
  5. 依申請專利範圍第3項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該馬達係可為一伺服馬達或一步進馬達中擇其一，且該引導組件包含一與該工作平台結合之滾珠螺桿，其經由該伺服馬達或該步進馬達驅動以便驅使該工作平台與該底板相對移動。
  6. 依申請專利範圍第3項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該馬達驅動模組係進一步包括一壓電致動組件，其包含一設置在該引導組件上可移動之基底，以及一設置在該基底上且與該控制模組結合操作之壓電元件，該工作平台係配置在該基底並連接至該壓電元件且由該壓電元件驅動而與該基底相對移動。
  7. 依申請專利範圍第3項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該馬達驅動模組係進一步包括一壓電致動組件，其包含一設置在該引導組件第一方向上可移動之基底，以及一對設置在該基底上且與該控制模組結合操作之壓電元件，該工作平台係配置在該基底並連接至該壓電元件且由該壓電元件驅動而與該基底相對移動，於其中所配置之一壓電元件係驅動該工作平台在第一方向移動，而配置之另一壓電元件係驅動該工作平台在垂直第一方向之 第二方向移動。
  8. 依申請專利範圍第1項所述之雷射光斑絕對定位驅動裝置，其中，該光斑取像模組及該控制模組係經由配置有線連接或無線連接以互相溝通。
  9. 一種雷射光斑絕對定位驅動系統，係包括：一底板，其含有一將光斑影像與座標系統結合之光斑影像參考底板區；以及一驅動裝置，其包括：一馬達驅動模組，其剛性結合至該底板；一工作平台，其結合至該馬達驅動模組並由該馬達驅動模組驅動而與該底板相對移動；一光斑取像模組，其剛性結合至該工作平台以便隨著該工作平台而與該底板相對移動，用以擷取該光斑影像參考底板區中一光斑取像區之一光斑影像；以及一控制模組，其與該馬達驅動模組及該光斑取像模組操作結合，並在一定位模式下進行操作，該控制模組係控制該光斑取像模組擷取該工作平台所在位置之光斑影像參考底板區之即時光斑影像，並將該即時光斑影像與一參考座標光斑影像資料庫之參考座標光斑影像間之比較，取得該即時光斑影像之即時位置座標，再將該即時位置座標與一目標位置座標相比，取得一誤差向量，該控制模組依據該誤差向量推動該馬達驅動模組，使該工作平台到達該目標位置座標。
  10. 依申請專利範圍第9項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該控制模組係進一步包括在一參考座標建立模式下進行操作，於該參考座標建立模式中，該控制模組經由該光斑取像模組以連 續光斑取像方式擷取該光斑影像參考底板區之所有光斑影像，並配合一架設在該工作平台上之高精度定位裝置，將所有擷取之光斑影像分段標定參考座標，由該控制模組記錄各段光斑影像及其位置參考座標，完成該參考座標光斑影像資料庫之建立，於其中，該高精度定位裝置係可為雷射干涉儀。
  11. 依申請專利範圍第9項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該驅動裝置之馬達驅動模組係包含一馬達及一與該底板剛性結合之引導組件，該工作平台可移動地置放於其上，並與該馬達結合操作以便驅動該工作平台與該底板相對移動。
  12. 依申請專利範圍第11項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該馬達係為一線性馬達，且該引導組件係為一線性滑軌。
  13. 依申請專利範圍第11項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該馬達係可為一伺服馬達或一步進馬達中擇其一，且該引導組件包含一與該工作平台結合之滾珠螺桿，其經由該伺服馬達或該步進馬達驅動以便驅使該工作平台與該底板相對移動。
  14. 依申請專利範圍第11項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該馬達驅動模組係進一步包括一壓電致動組件，其包含一設置在該引導組件上可移動之基底，以及一設置在該基底上且與該控制模組結合操作之壓電元件，該工作平台係配置在該基底並連接至該壓電元件且由該壓電元件驅動而與該基底相對移動。
  15. 依申請專利範圍第14項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該馬達驅動模組之壓電致動組件係包含一設置在該引導組件第一方向上可移動之基底，以及一對設置在該基底上且與該控制模組結合操作之壓電元件，該工作平台係配置在該基底並連接至該壓電元件且由該壓電元件驅動而與該基底相對移動，於其中所 配置之一壓電元件係驅動該工作平台在第一方向移動，而配置之另一壓電元件係驅動該工作平台在垂直第一方向之第二方向移動。
  16. 依申請專利範圍第9項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該底板係由一種抗磨耗及抗變形材料製成。
  17. 依申請專利範圍第16項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該底板之材料係由一種選自零膨脹玻璃、大理石、金屬及其組合組成之群組製成。
  18. 依申請專利範圍第9項所述之雷射光斑絕對定位驅動系統，其中，該光斑取像模組及該控制模組係經由配置有線連接或無線連接以互相溝通。
  19. 一種雷射光斑絕對定位驅動方法，係用於驅動一工作平台與一底板相對移動，其中該工作平台連接一剛性結合該底板之馬達驅動模組並由其驅動，且該底板具有一將光斑影像與座標系統結合之光斑影像參考底板區，該方法至少包含下列步驟：(A)設置一光斑取像模組，其剛性結合該工作平台，用以擷取該光斑影像參考底板區中一光斑取像區之一光斑影像；(B)將該光斑影像與一參考座標光斑影像資料庫內之參考座標光斑影像比較，取得該工作平台之即時位置座標；以及(C)根據該工作平台之即時位置座標與一目標位置座標間之誤差向量，控制該馬達驅動模組驅動該工作平台到達該目標位置座標。
  20. 依申請專利範圍第19項所述之雷射光斑絕對定位驅動方法，係進一步包含下列步驟：建立該參考座標光斑影像資料庫並且將該參考座標光斑影像資料 庫與該座標系統結合，藉由控制該馬達驅動模組移動該工作平台之方式，使該光斑取像模組能夠擷取在座標系統中不同位置座標之光斑影像參考底板區之光斑影像。
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