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TWI445499B - 控制泡沫水性四級銨及四級鏻組成物 - Google Patents

控制泡沫水性四級銨及四級鏻組成物 Download PDF

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TWI445499B
TWI445499B TW096140004A TW96140004A TWI445499B TW I445499 B TWI445499 B TW I445499B TW 096140004 A TW096140004 A TW 096140004A TW 96140004 A TW96140004 A TW 96140004A TW I445499 B TWI445499 B TW I445499B
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Philip Gerdon Sweeny
Michael Luetzeler
Volker Ranft
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Lonza Ag
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Description

控制泡沫水性四級銨及四級鏻組成物
本發明係關於在含有殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物(“四級化合物【quats】”)的水性系統中控制泡沫形成的方法。本發明亦關於低泡沫的水性調配物，其包括四級銨及/或四級鏻化合物，以及該調配化合物在殺死或抑制微生物、藻類和真菌生長之方法中的用途。
數個四級銨和四級鏻化合物(“四級化合物”)顯現出明顯的殺生物活性，所以已經用來作為在消毒劑、防腐劑或其他用以殺死或控制微生物，如細菌或病毒，還有藻類和真菌生長之組成物中的活性成分許多年了。然而，因為這些四級化合物中許多也具有表面活性劑特性，故其在水性系統中的使用，經常在低四級化合物濃度下，在ppm範圍中，受到劇烈起泡事件的損害，在與大氣壓接觸的同時攪動該水性系統的應用上，是特別不利的，如游泳池或水療(spa)用水，或在冷卻塔中的水。
藉著本發明提供在含有至少一個殺生物之四級化合物的水性系統中，抑制起泡的方法，而解決該問題。
根據本發明，已經藉著申請專利範圍第1項之方法解決該問題。申請者已經發現在含有至少一種殺生物四級銨及/或四級鏻化合物的水性系統中，以相當於從0.001到0.2(即0.001：1到0.2：1)，較佳的是從0.001到0.09的陰離子表面活性劑對四級銨及/或四級鏻化合物之莫耳比例的量，添加至少一種陰離子表面活性劑，在使用該水性系統的期間，實質上減少了泡沫形成的體積和壽命。
因為已知陰離子表面活性劑會降低四級銨化合物的殺生物效力，藉著以比莫耳當量低很多的量添加陰離子表面活性劑，達成所觀察的泡沫減少，對四級化合物之性能展望是很重要的。因為只需要少量的，例如0.1或0.02莫耳當量的陰離子表面活性劑，故該組成物仍分別保留其大約90或98%的活性四級化合物濃度。
在更佳的具體態樣中，陰離子表面活性劑對四級銨及/或四級鏻化合物的莫耳比例是從0.001到0.05。
較佳的是，至少一個四級銨及/或四級鏻化合物係選自(i)具有式[QR1 R2 R3 R4 ]＋ X－ (I)之化合物，其中Q是氮或磷，R1 和R2 分別為未經取代或經羥基取代之直線或分支的C1－4 烷基；－(CH2 CH2 O)m CH2 CH2 OH或－(CH2 CH(CH3 )O)m CH2 CH(CH3 )OH，其中m在每個分子中分別為從1到10之整數；R3 為可視需要經取代的苄基、乙苄基、萘甲基或直線或分支的C6－22 烷基基團；R4 為可視需要經取代的苄基、乙苄基、甲萘基或直線或分支的C1－22 烷基基團，或－R5 (O)n (C6 H4 )R6 ，其中n為0或1；R5 為經取代或未經取代的C1－8 亞烷基(alkanediyl)或－(CH2 )p －O－(CH2 )q －，其中p和q分別為從1到8之整數；R6 為氫或經取代或未經取代之直線或分支的C1－12 烷基基團；且X－ 為單價或一當量的多價陰離子；(ii)具有式R19 R20 R21 R22 Q＋ X－ (Ⅱ)之化合物，其中Q為氮或磷，R19 、R20 、R21 和R22 分別為直線、分支、環狀或其任何組合的飽和或不飽和烴基基團，X－ 為單價或一當量的多價陰離子，且R19 、R20 、R21 和R22 之碳原子數的總和範圍是從10至50；(iii)聚合的四級銨或四級鏻殺生物藥劑；以及(iv)任何(i)至(iii)之二或多個四級化合物的混合物。
更佳的是，具有式[QR1 R2 R3 R4 ]＋ X－ (I)的四級銨及/或四級鏻化合物，其中Q如上文之定義，R1 和R2 兩者皆為C1－4 烷基，R3 為直線或分支的C6－22 烷基，R4 為苄基或直線或分支的C1－22 烷基，且X－ 為氯。
再更佳的是具有式[QR1 R2 R3 R4 ]＋ X－ (I)的四級銨及/或四級鏻化合物，其中Q如上文之定義，R1 和R2 兩者皆為甲基，R3 為直線或分支的C6－22 烷基，R4 為苄基或直線或分支的C6－22 烷基，且X－ 為氯。
最佳的是，Q為氮。
特佳的是諸如烷基二甲苄基氯化銨或三丁基－十四烷基氯化鏻之類的銨和鏻化合物。
在另一較佳的具體態樣中，在式(I)及/或(Ⅱ)中的X－ 選自由CO3 2－ 、HCO3 － 、HCO3 － 和OH－ 所組成之群組。
在另一更佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑是磺酸鹽。
在另一較佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑是二酯。
在特佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑選自由磺基琥珀酸二戊酯、磺基琥珀酸二己酯、磺基琥珀酸二辛酯、磺基琥珀酸二(十三烷基)酯、任何前述之鉀、鈉和鈣鹽，以及任何前述之磺基琥珀酸酯和鹽類的任何混合物所組成之群組。
在一最佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑選自由磺基琥珀酸二己酯及其鉀、鈉和鈣鹽所組成之群組。
在另一最佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑選自由磺基琥珀酸二辛酯及其鉀、鈉和鈣鹽所組成之群組。
在另一最佳的具體態樣中，至少一個陰離子表面活性劑選自由磺基琥珀酸二戊酯及其鉀、鈉和鈣鹽所組成之群組。
上述的磺基琥珀酸鹽中，特佳的是鈉鹽。
已經觀察上述的磺酸酯，實質上減少了起泡，同時仍維持高程度的四級化合物活性。
較佳的是，該水性系統含有從0.1到100ppm，更佳的是從0.5到50ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
本發明的另一目標是低泡沫調配物，包括至少一個殺生物的四級銨及/或四級鏻化合物，以及至少一個陰離子表面活性劑，其中陰離子表面活性劑(們)對四級銨及/或四級鏻化合物(們)的莫耳比例是從0.001到0.2，較佳的是從0.001到0.09，而更佳的是從0.001到0.05。
較佳的是，低泡沫調配物包括以100重量%總調配物為基礎，佔5到80重量%，更佳的是10到50重量%的至少一個殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
本發明之低泡沫調配物是穩定的單相澄清溶液。
較佳的是，該低泡沫調配物含有至少一個效能添加物，如染料或香料。
本發明的另一目標是殺死或抑制微生物、浮游生物、藻類及/或真菌生長的方法，包括將上述調配物施加在水性系統或多孔或硬質表面。
在較佳的具體態樣中，該多孔或硬質表面是木材、金屬或塑膠。
在另一較佳的具體態樣中，使用該調配物作為木材防腐劑。
在另一較佳的具體態樣中，使用該調配物作為硬質表面的消毒劑或消毒洗滌劑。
在另一較佳的具體態樣中，該水性系統選自由冷卻水、廢水、在油田為了注入、測試或回收用的水、娛樂用水池或水療用水、壓艙水和紙漿或造紙紙漿所組成之群組。
最佳的是，該水性系統是冷卻水、壓艙水或娛樂用水池或水療用水。
特佳的是在水池或水療用水中作為殺藻劑的應用。
較佳的是，該水性系統含有從0.1到100ppm，較佳的是從0.5到50ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
藉著下列非－限制性的實施例，進一步解釋本發明。
實施例
方法：在20℃的自來水(pH＝7－8，總硬度＝160－300ppm，因為CaCO3 ，且總鹼度＝150－250ppm，因為CaCO3 )中，從選出的四級銨化合物和選出的陰離子表面活性劑，製備受試溶液。將每種受試溶液各150毫升，加至250毫升以塞子塞住的有刻度混合量筒中，藉著倒轉量筒十次攪動該溶液，並在攪動之後立刻測量泡沫的體積，並在30秒的沉降時間之後再度測量。亦測量泡沫的總扁塌時間(“到沒有泡沫的時間”)。除非另行陳述，所有按ppm或百分比計的四級化合物，均以重量為基礎，並意指活性成分的實際內含量。
實施例1(參考實施例)
選擇烷基(67%C12 ，25%C14 ，7%C16 ，1%C8,10,18 )二甲基苄基氯化銨(ADBAC；巴奎特(Barquat)50－65B,Lonza Inc.,Allendalem NJ)，作為泡沫評估的代表性四級銨化合物。如同在表1中所示，ADBAC產生大量的泡沫，產生25毫升的最初泡沫體積，並在30秒之後維持10毫升的泡沫。作為比較，亦測試聚合的四級化合物聚[氧亞乙基(二甲基亞胺基)亞乙基(二甲基亞胺基)亞乙基二氯化物](WSCP；Buckman Laboratories International,Inc.,Memphis,TN)的泡沫表現。
實施例2
按照上述判定陰離子表面活性劑磺基琥珀酸二辛酯鈉(NaDOSS)對ADBAC起泡的影響。在下文表1中出示結果。相對於活性四級化合物，僅添加0.1莫耳當量的NaDOSS便使最初泡沫體積減少了85%，從25毫升降至4毫升。甚至僅施加0.02莫耳當量的NaDOSS，結果只有6毫升的最初泡沫體積，且泡沫在10秒內完全消失。
實施例3
使用實施例2的方法，以2ppm的四級化合物濃度，測試NaDOSS對控制低濃度四級銨化合物起泡的能力，因為低濃度四級銨化合物經常被用在水處理應用上，如游泳池殺藻劑。為了比較，不加NaDOSS進行一項測試。在下文表1中出示結果，已經發現像0.05ppm那樣低的NaDOSS濃度，便可在2ppm之四級化合物濃度下控制起泡。
實施例4
亦使用實施例2的方法，測試作為泡沫減少劑的另類陰離子表面活性劑磺基琥珀酸二己酯鈉(NaDHSS)和磺基琥珀酸二(十三烷基)酯鈉(NaDTSS)。在下文表1中出示結果。已經發現像1.1ppm那樣低的NaDHSS濃度，控制10ppm四級化合物(相當於0.10的陰離子表面活性劑對四級化合物之莫耳比例)的起泡，而像0.2ppm那樣低的濃度，仍顯示少許影響。已經分別利用濃度1.7ppm(相當於0.10的陰離子表面活性劑對四級化合物之莫耳比例)和0.4ppm的NaDTSS，獲得類似的結果。較佳的是NaDHSS，因為它在所有的受試濃度下產生澄清的溶液。
實施例5
如同在先前實施例中所示，NaDOSS可分別施加在含有四級化合物的溶液中，達到想要的泡沫減少。然而，為了實行上的理由，特別是容易施用，想要提供含有最佳莫耳比例之四級化合物和陰離子表面活性劑的單一調配物(濃縮物)。因此，測試含有巴奎特50－65B和NaDOSS之兩種調配物的相穩定性。在下文表2中出示結果。
已經發現可製備含有按0.02和0.10之莫耳比例的NaDOSS和ADBAC的澄清相－穩定調配物。從這些調配物中製備帶有10ppm四級化合物的受試溶液，且基本上顯示與實施例2的那些相同的起泡表現。
實施例6
在設計成模仿冷卻應用的動態再循環泡沫測試中，測試磺基琥珀酸二辛酯鈉(NaDOSS)和磺基琥珀酸二己酯鈉(NaDHSS)。動態泡沫測試包括使1.5公升水試樣，以5.7公升/分鐘(1.5GPM)之流速通過大型有刻度量筒。水的條件為：總硬度(因為CaCO3 )280ppm，總鹼度(因為CaCO3 )164ppm，溫度22℃，且pH＝7.3。將受試調配物的主溶液按需要加入，達到報告的濃度。將結果編輯在下文表3中。
兩種受試化合物均明顯減少了90ppm有活性之二辛基二甲基氯化銨(巴戴克(Bardac)LF 18,Lonxa Inc.)的起泡特性。如同在表3中所示，以0.02之莫耳比例(磺基琥珀酸酯/巴戴克LF18)加入NaDOSS，提供了50%的泡沫減少，從8公分到4公分，而以相同莫耳比例添加NaDHSS，提供了25%的泡沫減少。
實施例7
測試兩種含有巴戴克LF18和NaDOSS之調配物的相穩定性。如同在下文表4中所示，以0.02和0.05之莫耳比例含有NaDOSS的調配物是可相容的，提供澄清、單相的溶液。

Claims (21)

  1. 一種在包括至少一種殺生物的四級銨及/或四級鏻化合物之水性系統中控制泡沫形成的方法，該方法包括以從0.001到0.05之陰離子表面活性劑對四級銨及/或四級鏻化合物的莫耳比例，將至少一種陰離子表面活性劑加至該水性系統中，其中該陰離子表面活性劑為磺酸二酯。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該至少一種四級銨及/或四級鏻化合物係選自(i)具有式[QR1 R2 R3 R4 ]+ X- (I)之化合物，其中Q是氮或磷；R1 和R2 獨立地為未經取代或經羥基取代之直線或分支的C1-4 烷基；-(CH2 CH2 O)m CH2 CH2 OH或-(CH2 CH(CH3 )O)m CH2 CH(CH3 )OH，其中m在每個分子中獨立地為從1到10之整數；R3 為經取代或未經取代的苄基、乙苄基、萘甲基或直線或分支的C6-22 烷基；R4 為經取代或未經取代的苄基、乙苄基、甲萘基或直線或分支的C1-22 烷基，或-R5 (O)n (C6 H4 )R6 ，其中n為0或1；R5 為經取代或未經取代的C1-8 亞烷基(alkanediyl)或-(CH2 )p -O-(CH2 )q -，其中p和q獨立地為從1到8之整數；R6 為氫或經取代或未經取代之直線或分支的C1-12 烷基；且X- 為單價或一當量的多價陰離子；(ii)具有式R19 R20 R21 R22 Q+ X- (Ⅱ)之化合物，其中Q如上 文之定義，R19 、R20 、R21 和R22 獨立地為直線、分支、環狀或其任何組合的飽和或不飽和烴基基團，X- 為單價或一當量的多價陰離子，且R19 、R20 、R21 和R22 之碳原子數的總和範圍是從10至50；(iii)聚合的四級銨或四級鏻殺生物藥劑；以及(iv)任何(i)至(iii)之二或多種四級化合物的混合物。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法，其中該四級化合物具有式[QR1 R2 R3 R4 ]+ X- ，Q如在申請專利範圍第2項中之定義，R1 和R2 兩者皆為C1-4 烷基，R3 為直線或分支的C6-22 烷基，R4 為苄基或直線或分支的C1-22 烷基，且X- 為氯。
  4. 如申請專利範圍第2項之方法，其中X- 係選自由½ CO3 2- 、HCO3 - 和OH- 所組成之群組。
  5. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該至少一種陰離子表面活性劑係選自由磺基琥珀酸二戊酯、磺基琥珀酸二己酯、磺基琥珀酸二辛酯、磺基琥珀酸二(十三烷基)酯、任何前述之鉀、鈉和鈣鹽，以及任何前述之磺基琥珀酸酯和鹽類的任何混合物所組成之群組。
  6. 如申請專利範圍第5項之方法，其中該至少一種陰離子表面活性劑係選自由磺基琥珀酸二己酯及其鉀、鈉和鈣鹽所組成之群組。
  7. 如申請專利範圍第5項之方法，其中該至少一種陰離子表面活性劑係選自由磺基琥珀酸二辛酯及其鉀、鈉和鈣 鹽所組成之群組。
  8. 如申請專利範圍第1-3及5-7項中任一項之方法，其中該水性系統含有從0.1到100ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
  9. 如申請專利範圍第1-3及5-7項中任一項之方法，其中該水性系統含有從0.5到50ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
  10. 一種單相液體低泡沫調配物，其包括至少一種殺生物的四級銨化合物，以及至少一種陰離子表面活性劑，其中該陰離子表面活性劑(們)對四級銨化合物(們)的莫耳比例是從0.001到0.05，其中該陰離子表面活性劑為磺酸二酯。
  11. 如申請專利範圍第10項之調配物，其包括以100重量%總調配物為基礎，佔5到80重量%的至少一種殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
  12. 如申請專利範圍第10項之調配物，其包括以100重量%總調配物為基礎，佔10到50重量%的至少一種殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
  13. 如申請專利範圍第10-12項中任一項之調配物，其含有染料或香料或其他的效能添加物。
  14. 一種殺死或抑制微生物、藻類及/或真菌生長的方法，該方法包括將如申請專利範圍第10至13項中任一項之調配物施用在水性系統或多孔或硬質表面上。
  15. 如申請專利範圍第14項之方法，其中該多孔或硬質表面為木材、金屬或塑膠。
  16. 如申請專利範圍第15項之方法，其中使用該調配物作為木材防腐劑。
  17. 如申請專利範圍第14項之方法，其中使用該調配物作為硬質表面的消毒劑或消毒洗滌劑。
  18. 如申請專利範圍第14項之方法，其中該水性系統係選自由冷卻水、廢水、在油田為了注入、測試或回收用的水、娛樂用水池或水療(spa)用水、壓艙水和造紙紙漿所組成之群組。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法，其中該水性系統為冷卻水、壓艙水或娛樂用水池或水療用水。
  20. 如申請專利範圍第18或19項之方法，其中該水性系統含有從0.1到100ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
  21. 如申請專利範圍第18或19項之方法，其中該水性系統含有從0.5到50ppm的殺生物之四級銨及/或四級鏻化合物。
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