TWI444675B - 改善白色色偏之顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

Description

改善白色色偏之顯示裝置及其製造方法

本發明係關於一種顯示裝置及其製造方法；具體而言，本發明係關於一種液晶顯示裝置及其製造方法。

一般而言，液晶顯示器使用之彩色濾光片包含基板、分隔物、紅色彩色濾光膜、綠色彩色濾光膜以及藍色彩色濾光膜。為了提高色彩亮度飽和度以獲得較佳視覺效果，多元色的彩色濾光片的開發已成為趨勢之一。其中，又以可增加亮度並節省能源之RGBW多元色技術最受注目。

RGBW多元色技術開發的重點之一在於提高光線穿過顯示器面板的穿透率，藉以達到節省能源的目的。然而，白色光阻在經過高溫製程後會有偏黃的現象發生，導致W白點位置與RGB混色的白點位置相差過大而影響訊號之轉換。具體而言，在RGB轉換成RGBW的演算法中，W訊號係萃取自RGB訊號。若W白點位置與RGB混色的白點位置相差過大，便會造成運算上的誤差，進而影響到訊號的輸入而產生色偏問題。為了解決此問題，習知技術的作法多為增加藍色光阻的開口率及減少白色光阻的開口率，但是此作法會使整體穿透率下降。

本發明之主要目的在於提供一種顯示裝置，可減少色偏之現象。

本發明之另一目的在於提供一種顯示裝置製造方法，可減少色偏之現象。

本發明之顯示裝置包含背光模組以及色阻。背光模組產生輸出光線，輸出光線相對於波長λ具有發射頻譜函數BL(λ)。色阻具有藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元，分別形成於背光模組上並過濾背光模組產生之輸出光線。相對於波長λ，藍光色阻單元具有藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光色阻單元具有綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光色阻單元具有紅光穿透頻譜函數R(λ)、白光色阻單元具有白光穿透頻譜函數W(λ)。其中，色阻定義有指標函數S(λ)：

380nm<λ<780nm。指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間時具有區間峰值，且區間峰值介於1.1至1.2之間。

在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率。在波長λ介於580nm至780nm間時，紅光穿透頻譜函數R(λ)具有紅光局部峰值穿透率。紅光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。在波長λ介於480nm至680nm間時，綠光穿透頻譜函數G(λ)具有綠光局部峰值穿透率。綠光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光穿透頻譜函數R(λ)及白光穿透頻譜函數W(λ)之函數值分別以穿透率表示。

本發明之顯示裝置製造方法包含下列步驟：提供背光模組以產生輸出光線，其中輸出光線相對於波長λ具有發射頻譜函數BL(λ)；根據指標函數S(λ)選擇藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元，其中，相對於波長λ，藍光色阻單元具有藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光色阻單元具有綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光色阻單元具有紅光穿透頻譜函數R(λ)、白光色阻單元具有白光穿透頻譜函數W(λ)；

380nm<λ<780nm；以及組合藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元以形成色阻形成於背光模組上，以過濾背光模組產生之輸出光線。

色阻單元選擇步驟包含：使該指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間所具有之區間峰值落入1.1至1.2間之範圍。其中在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於580nm至780nm間時，紅光穿透頻譜函數R(λ)具有紅光局部峰值穿透率；色阻單元選擇步驟包含：設定紅光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。其中在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於480nm至680nm間時，綠光穿透頻譜函數G(λ)具有綠光局部峰值穿透率；其中色阻單元選擇步驟包含：設定綠光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。

色阻單元選擇步驟包含：確定紅光色阻單元及綠光色阻單元；以及改變藍光色阻單元之材質、厚度或當中複數材質之配比以調整指標函數S(λ)。

本發明之顯示裝置包含背光模組以及色阻。背光模組產生輸出光線，輸出光線相對於波長λ具有發射頻譜函數BL(λ)。色阻具有藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元，分別形成於背光模組上並過濾背光模組產生之輸出光線。相對於波長λ，藍光色阻單元具有藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光色阻單元具有綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光色阻單元具有紅光穿透頻譜函數R(λ)、白光色阻單元具有白光穿透頻譜函數W(λ)。

如圖1A所示，白光穿透頻譜、藍光穿透頻譜、紅光穿透頻譜及綠光穿透頻譜分別以100、101、102及103表示。在較佳實施例中，在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率。在波長λ介於580nm至780nm間時，紅光穿透頻譜函數R(λ)具有紅光局部峰值穿透率。在波長λ介於480nm至680nm間時，綠光穿透頻譜函數G(λ)具有綠光局部峰值穿透率。其中，紅光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。綠光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。在較佳實施例中，藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光穿透頻譜函數R(λ)及白光穿透頻譜函數W(λ)之函數值分別以穿透率表示。然而在不同實施例中，藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光穿透頻譜函數R(λ)及白光穿透頻譜函數W(λ)之函數值亦可以其他光學特性量測值表示。

色阻定義有指標函數S(λ)：

380nm<λ<780nm。指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間時具有區間峰值，且區間峰值介於1.1至1.2之間。具體而言，如圖1B所示，符合上述指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間時具有區間峰值且區間峰值介於1.1至1.2之間之本發明顯示裝置，具有較佳的白點位置，亦即色偏較少。

本發明之色偏較少之效果可藉由以下四個不同實施例進一步說明。

[實施例一]

[實施例二]

[實施例三]

[實施例四]

△u’v’係為色偏指數數值，u’=4x/(-2x+12y+3)，v’=9y/(-2x+12y+3)，具體而言，係RGB-W與W的二維直線距離，此數值越小表示色偏越少。)從上述一到四實施例表格可以看出，當區間峰值大於1.2時，△u’v’>0.3，當區間峰值介於1.1至1.2之間時，△u’v’<0.3。因此可以得知，當區間峰值介於1.1至1.2之間時，本發明顯示裝置色偏較少，具有較佳的白點位置。

如圖2所示，本發明之顯示裝置製造方法包含下列步驟：

步驟1001，提供背光模組以產生輸出光線，其中輸出光線相對於波長λ具有發射頻譜函數BL(λ)。

步驟1003，根據指標函數S(λ)選擇藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元，其中，相對於波長λ，藍光色阻單元具有藍光穿透頻譜函數B(λ)、綠光色阻單元具有綠光穿透頻譜函數G(λ)、紅光色阻單元具有紅光穿透頻譜函數R(λ)、白光色阻單元具有白光穿透頻譜函數W(λ)；

380nm<λ<780nm。

步驟1005，組合藍光色阻單元、綠光色阻單元、紅光色阻單元及白光色阻單元以形成色阻形成於背光模組上，以過濾背光模組產生之輸出光線。

在較佳實施例中，步驟1003包含使指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間所具有之區間峰值落入1.1至1.2間之範圍。具體而言，可確定紅光色阻單元及綠光色阻單元，改變藍光色阻單元之材質、厚度或當中複數材質之配比以調整指標函數S(λ)。例如，在較佳實施例中，藍光色阻單元可使用包含藍色與紫色比率為15:6的色阻、紫色23號色阻或藍色與紫色比率為9:1的色阻等材質，使指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間所具有之區間峰值落入1.1至1.2間之範圍。

在不同實施例中，在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於580nm至780nm間時，紅光穿透頻譜函數R(λ)具有紅光局部峰值穿透率；步驟1003包含：設定紅光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。

在不同實施例中，在波長λ介於380nm至580nm間時，藍光穿透頻譜函數B(λ)具有藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於480nm至680nm間時，綠光穿透頻譜函數G(λ)具有綠光局部峰值穿透率；步驟1003包含：設定綠光局部峰值穿透率係大於藍光局部峰值穿透率。

雖然前述的描述及圖式已揭示本發明之較佳實施例，必須瞭解到各種增添、許多修改和取代可能使用於本發明較佳實施例，而不會脫離如所附申請專利範圍所界定的本發明原理之精神及範圍。熟悉本發明所屬技術領域之一般技藝者將可體會，本發明可使用於許多形式、結構、佈置、比例、材料、元件和組件的修改。因此，本文於此所揭示的實施例應被視為用以說明本發明，而非用以限制本發明。本發明的範圍應由後附申請專利範圍所界定，並涵蓋其合法均等物，並不限於先前的描述。

100．．．白光穿透頻譜

101．．．藍光穿透頻譜

102．．．紅光穿透頻譜

103．．．綠光穿透頻譜

圖1A為本發明較佳實施例穿透頻譜示意圖；

圖1B為指標函數S(λ)示意圖；以及

圖2為本發明顯示裝置製造方法較佳實施例示意圖。

Claims (10)

1. 一種顯示裝置，包含：一背光模組，產生一輸出光線，該輸出光線相對於波長λ具有一發射頻譜函數BL(λ)；以及一色阻，具有一藍光色阻單元、一綠光色阻單元、一紅光色阻單元及一白光色阻單元，分別形成於該背光模組上並過濾該背光模組產生之該輸出光線；其中，相對於波長λ，該藍光色阻單元具有一藍光穿透頻譜函數B(λ)、該綠光色阻單元具有一綠光穿透頻譜函數G(λ)、該紅光色阻單元具有一紅光穿透頻譜函數R(λ)、該白光色阻單元具有一白光穿透頻譜函數W(λ)；其中，該色阻定義有一指標函數S(λ)： 380nm<λ<780nm；指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間時具有一區間峰值，且該區間峰值介於1.1至1.2之間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中在波長λ介於380nm至580nm間時，該藍光穿透頻譜函數B(λ)具有一藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於580nm至780nm間時，該紅光穿透頻譜函數R(λ)具有一紅光局部峰值穿透率；該紅光局部峰值穿透率係大於該藍光局部峰值穿透率。
3. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中在波長λ介於380nm至580nm間時，該藍光穿透頻譜函數B(λ)具有一藍 光局部峰值穿透率；在波長λ介於480nm至680nm間時，該綠光穿透頻譜函數G(λ)具有一綠光局部峰值穿透率；該綠光局部峰值穿透率係大於該藍光局部峰值穿透率。
4. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該藍光穿透頻譜函數B(λ)、該綠光穿透頻譜函數G(λ)、該紅光穿透頻譜函數R(λ)及該白光穿透頻譜函數W(λ)之函數值分別以穿透率表示。
5. 一種顯示裝置製造方法，包含下列步驟：提供一背光模組以產生一輸出光線，其中該輸出光線相對於波長λ具有一發射頻譜函數BL(λ)；根據一指標函數S(λ)選擇一藍光色阻單元、一綠光色阻單元、一紅光色阻單元及一白光色阻單元；其中，相對於波長λ，該藍光色阻單元具有一藍光穿透頻譜函數B(λ)、該綠光色阻單元具有一綠光穿透頻譜函數G(λ)、該紅光色阻單元具有一紅光穿透頻譜函數R(λ)、該白光色阻單元具有一白光穿透頻譜函數W(λ)； 380nm<λ<780nm，使該指標函數S(λ)在波長λ介於480nm至580nm間所具有之一區間峰值落入1.1至1.2間之範圍；組合該藍光色阻單元、該綠光色阻單元、該紅光色阻單元及該白光色阻單元以形成一色阻形成於該背光模組上，以過濾該背光模組產生之輸出光線。
6. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中在波長λ介於380nm至580nm間時，該藍光穿透頻譜函數B(λ)具有一藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於580nm至780nm間時，該紅光穿透頻譜函數R(λ)具有一紅光局部峰值穿透率；該色阻單元選擇步驟包含：設定該紅光局部峰值穿透率係大於該藍光局部峰值穿透率。
7. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中在波長λ介於380nm至580nm間時，該藍光穿透頻譜函數B(λ)具有一藍光局部峰值穿透率；在波長λ介於480nm至680nm間時，該綠光穿透頻譜函數G(λ)具有一綠光局部峰值穿透率；其中該色阻單元選擇步驟包含：設定該綠光局部峰值穿透率係大於該藍光局部峰值穿透率。
8. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中該色阻單元選擇步驟包含：確定該紅光色阻單元及該綠光色阻單元；以及改變該藍光色阻單元之材質以調整該指標函數S(λ)。
9. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中該色阻單元選擇步驟包含：確定該紅光色阻單元及該綠光色阻單元；以及改變該藍光色阻單元之厚度以調整該指標函數S(λ)。
10. 如申請專利範圍第5項所述之製造方法，其中該色阻單元選擇步驟包含：確定該紅光色阻單元及該綠光色阻單元；以及改變該藍光色阻單元中複數材質之配比以調整該指標函數 S(λ)。