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TWI442110B - 導光板及光源模組 - Google Patents

導光板及光源模組 Download PDF

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TWI442110B
TWI442110B TW100102932A TW100102932A TWI442110B TW I442110 B TWI442110 B TW I442110B TW 100102932 A TW100102932 A TW 100102932A TW 100102932 A TW100102932 A TW 100102932A TW I442110 B TWI442110 B TW I442110B
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curved
groove
light
guide plate
light guide
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TW100102932A
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TW201232068A (en
Inventor
Matsumoto Shingo
Han Wen Tsai
Chih Chieh Yu
hong wei Liang
Original Assignee
Coretronic Corp
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Priority to CN201110339938.2A priority patent/CN102621622B/zh
Priority to US13/338,245 priority patent/US9223077B2/en
Priority to EP20120151584 priority patent/EP2485072A1/en
Priority to JP2012008584A priority patent/JP5400183B2/ja
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Description

導光板及光源模組
本發明是有關於一種光學元件與光源，且特別是有關於一種導光板與光源模組。
習知側邊入光式光源模組是利用導光板將配置於導光板旁的發光元件所發出的光束導引至導光板的正面，以形成面光源。一般而言，當發光元件所發出的光束經由導光板的側面進入導光板後，會不斷地被導光板的上、下表面全反射，而被局限於導光板中。然而，設於導光板的表面之微結構可破壞全反射，以使光束以小於臨界角的角度入射上表面，並穿透上表面。
雖然微結構可達到破壞全反射的效果，但經過微結構的作用之大部分光束為斜向出射導光板的上表面，而不是從上表面正向出射。為了使光束正向出射，習知光源模組之導光板的上表面上通常會配置稜鏡片，以將光束的行進方向導向接近於正上方的方向。此外，稜鏡片會將部分行進角度的光束全反射回導光板且再次利用光束。然而，當光束多通過一片稜鏡片及將光束全反射回導光板時皆會造成光損耗，因此使光源模組提供的亮度降低。
中華民國專利第I282021號揭露了一種導光板微結構，此微結構重複排列於導光板之底面。中華民國專利第I296352號揭露了具有多層環形結構之導光板。此導光板具有第一環形微結構及第二環形微結構。第一與第二環形微結構具有不同的底面寬度。此微結構可位於導光板之下表面。美國專利第6454452號揭露了導光板底面具有楔形凹槽，其中凹槽之斜面與底面的夾角可為43度、45度及47度。中華民國專利第M321111號揭露了具有一定排列規律之微結構的導光板。美國專利第6612722號揭露了具有微結構之導光板。美國專利第6834973號揭露了導光板的底面具有微反射結構。中華民國專利第I222533號及美國專利第6967698號揭露了包含面光源裝置的液晶顯示裝置。中華民國專利公開第200530632號揭露了一種導光板。
本發明提供一種導光板，可降低光損失。
本發明提供一種光源模組，具有較高的光利用率。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明之一實施例提出一種導光板，包括一第一表面、一第二表面、至少一入光面及複數個凹槽組。第二表面相對於第一表面。入光面連接第一表面與第二表面。這些凹槽組分散地設於第二表面上。每一凹槽組包括複數個彎曲狀凹槽，每一彎曲狀凹槽具有相連接之一彎曲狀傾斜反射面與一彎曲狀背光側面，且彎曲狀傾斜反射面相對於第一表面傾斜。每一凹槽組中的這些彎曲狀凹槽往同一方向彎曲，且相鄰二彎曲狀凹槽之一的彎曲狀傾斜反射面藉由一連接面連接相鄰二彎曲狀凹槽之另一的彎曲狀背光側面，其中連接面上的任一點相對於第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7。
本發明之另一實施例提出一種光源模組，包括上述導光板及至少一發光元件。發光元件配置於入光面旁，且適於發出一光束，其中光束適於經由入光面進入導光板中，且適於經由第一表面傳遞至導光板外。彎曲傾斜反射面適於將來自入光面的光束反射至第一表面。
綜上所述，本發明之實施例的導光板與光源模組至少具有下列其中一個優點：在本發明之實施例的導光板與光源模組中，第二表面上設有彎曲狀傾斜反射面，彎曲狀傾斜反射面可將發光元件發出的光束反射至預期的方向。因此，可以減少導光板的第一表面上方光學膜片的使用量或不使用光學膜片，如此可降低光損失及減少成本。此外，由於連接面上的任一點相對於第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7，因此導光板在成型後較易於脫膜，進而提升凹槽組的轉寫率。再者，在本發明之實施例之導光板中，由於導光板的凹槽組是由模具所形成，且由於模具具有連接面，因此導光板在成型後較易於脫膜，進而提升凹槽組的轉寫率。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
圖1A為本發明之一實施例之光源模組的剖面示意圖，圖1B為圖1A中之導光板與發光元件的立體示意圖，而圖1C為圖1A中之第二表面的局部放大圖。請參照圖1A至圖1C，本實施例之光源模組100包括一導光板200及至少一發光元件110(在圖1B中是以複數個發光元件110為例)。導光板200包括一第一表面210、一第二表面220、至少一入光面230(在圖1A與圖1B中是以一個入光面230為例)及複數個凹槽組240。第二表面220相對於第一表面210。入光面230連接第一表面210與第二表面220。在本實施例中，第一表面210實質上平行於第二表面220，且入光面230實質上垂直於第一表面210與第二表面220，但本發明不以此為限。
這些凹槽組240分散地設於第二表面220上。每一凹槽組240包括複數個彎曲狀凹槽242(在圖1A中是以三個彎曲狀凹槽242a、242b、242c為例)，每一彎曲狀凹槽242具有相連接之一彎曲狀傾斜反射面243與一彎曲狀背光側面245，其中彎曲狀傾斜反射面243相對於第一表面210傾斜。在本實施例中，彎曲狀傾斜反射面243與彎曲狀背光側面245均為導光板200的表面。每一凹槽組240中的這些彎曲狀凹槽242往同一方向彎曲，且相鄰二彎曲狀凹槽242之一的彎曲狀傾斜反射面243藉由一連接面247連接相鄰二彎曲狀凹槽242之另一的彎曲狀背光側面245。舉例而言，彎曲狀凹槽242b的彎曲狀傾斜反射面243藉由彎曲狀凹槽242a與彎曲狀凹槽242b之間的連接面247與彎曲狀凹槽242a的彎曲狀背光側面245連接。在本實施例中，連接面247上的任一點相對於第一表面210的切線斜率之絕對值小於1.7。
發光元件110配置於入光面230旁，且適於發出一光束112。在本實施例中，每一發光元件110例如是一發光二極體(light-emitting diode,LED)。然而，在其他實施例中，亦可以用一螢光燈管(fluorescent lamp)或其他適當的發光元件來取代這些發光二極體110。光束112適於經由入光面230進入導光板200中，且適於經由第一表面210傳遞至導光板200外。此外，彎曲狀傾斜反射面243適於將來自入光面230的光束112反射至第一表面210。
在本實施例的導光板200與光源模組100中，第二表面220上所設有之彎曲狀傾斜反射面243可將光束112反射至預期的方向。因此，可以減少導光板200的第一表面210上方之光學膜片的使用量(例如使用一張透鏡陣列膜)或不使用光學膜片，如此可降低光損失及減少成本。舉例而言，當彎曲狀傾斜反射面243的傾斜程度經適當設計後，彎曲狀傾斜反射面243可使光束112往大略垂直於第一表面210的方向從導光板200射出，如此第一表面210上方就可以不用配置稜鏡片來修正光束112的傳遞方向，進而降低光損失及減少成本。此外，由於連接面247上的任一點相對於第一表面210的切線斜率之絕對值小於1.7，因此導光板200在成型後較易於脫膜，進而提升凹槽組240的轉寫率。
在本實施例中，每一彎曲狀凹槽242為一弧狀凹槽，且此弧狀凹槽的彎曲狀傾斜反射面243位於彎曲狀背光側面245與入光面230之間。在本實施例中，彎曲狀凹槽242的彎曲狀傾斜反射面243位於此彎曲狀凹槽242的彎曲狀背光側面245與此彎曲狀凹槽242的一曲率中心C之間。此外，在本實施例中，每一凹槽組240中的這些彎曲狀凹槽242a、242b、242c的曲率中心C彼此實質上重合，亦即這些彎曲狀凹槽242為同心弧狀凹槽。
在本實施例中，第一方向D1為平行於入光面230的方向，而第二方向D2為垂直於入光面230的方向。在本實施例中，第二方向D2亦平行於凹槽組240的這些彎曲狀凹槽242之通過曲率中心C的對稱平面，但本發明不以此為限。
此外，在本實施例中，彎曲狀凹槽242、彎曲狀傾斜反射面243及彎曲狀背光側面245在實質上平行於第一表面210的方向上彎曲。如此一來，彎曲狀傾斜反射面243所反射的光束112可在平行於第一表面210的方向上展開，使光束112不會局限在特定的某一方向。由於彎曲狀傾斜反射面243可使光束112展開，因此由第一表面210出射的光束112可具有較為平滑的光分布，且可符合較廣視角的需求，因而適於用來作為液晶顯示面板的背光源，或作為其他對平滑光分布或較廣視角有需求的照明。
每一凹槽組240在沿著垂直於第一表面210的方向上切開後可得到截線(如圖1A所繪示)，彎曲狀傾斜反射面243的平均傾斜角θ的定義為彎曲狀傾斜反射面243在垂直於第一表面210的方向上每一截線上的點的切線相對於第一表面210的傾斜角相加後，再除以這些截線上的點之個數；意即平均傾斜角θ為彎曲狀傾斜反射面243在垂直於第一表面210的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面210的平均傾斜角。在本實施例中，每一彎曲狀傾斜反射面243的平均傾斜角θ(例如平均傾斜角θ1、θ2與θ3)為大於等於20度至小於等於70度，如此可使光束112往接近垂直於第一表面210的方向出射。此外，在本實施例中，彎曲狀傾斜反射面243在垂直於第一表面210的方向上之截線呈直線狀，然而，在其他實施例中，亦可以是呈彎曲狀。
在本實施例中，導光板200的材質為塑膠(例如壓克力)。然而，在其他實施例中，導光板200亦可以是玻璃、其他塑膠或其他適當的透光材質。此外，彎曲狀背光側面245可實質上垂直於第一表面210、接近垂直於第一表面210或相對第一表面210傾斜。彎曲狀背光側面245的平均傾斜角的定義為彎曲狀背光側面245在垂直於第一表面210的方向上每一截線上的點的切線相對於第一表面210的傾斜角相加後，再除以這些截線上的點之個數；意即平均傾斜角為彎曲狀背光側面245在垂直於第一表面210的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面210的平均傾斜角。在本實施例中，每一彎曲狀背光側面245的平均傾斜角為大於等於60度至小於等於89度。
每一凹槽組240的這些彎曲狀凹槽242a、242b、242c在從曲率中心C所輻射出之徑向上的寬度P(例如寬度P1、P2與P3)可以實質上相等、部分相等或全不相等。此外，每一凹槽組240的這些彎曲狀凹槽242a、242b、242c的深度H1、H2、H3亦可以實質上相等，部分相等或全不相等。為了達到較易脫膜的效果，在本實施例中，可使連接面247在從曲率中心C所輻射出的徑向上的寬度Q(例如寬度Q1與Q2)相對於相鄰兩彎曲狀凹槽242的寬度P的平均值的比值為大於等於0.1至小於等於0.5。舉例而言，寬度Q1相對於寬度P1與寬度P2相加後除以2的比值為大於等於0.1至小於等於0.5。
在本實施例中，為了使脫膜更加的容易，且為了進一步增進凹槽組240的轉寫率，可使每一彎曲狀凹槽242具有一底表面249，底表面249連接彎曲狀傾斜反射面243與彎曲狀背光側面245，且底表面249上的任一點相對於第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7。在本實施例中，每一彎曲狀凹槽242的底表面249在從曲率中心C所輻射出的徑向上的寬度S相對於同一彎曲狀凹槽242的寬度P的比值為大於等於0.1至小於等於0.8。
值得注意的是，本發明不限定每一凹槽組240包含3個彎曲狀凹槽242，在其他實施例中，每一凹槽組240亦可以包含2個彎曲狀凹槽242或包含4個以上的彎曲狀凹槽242。
此外，在本實施例中，每一凹槽組240在第二表面220上的外接矩形T的對角線長例如為大於等於10微米至小於等於10000微米，其中，當光源模組100應用至顯示器時，凹槽組240在第二表面220上的外接矩形T的對角線長例如為大於等於10微米至小於等於1000微米；當光源模組100應用至照明裝置時，凹槽組240在第二表面220上的外接矩形T的對角線長例如為大於等於50微米至小於等於10000微米。再者，這些凹槽組240在第二表面220上的分布密度可以經過設計，以使從第一表面210出射的光束112均勻地分布。舉例而言，這些凹槽組240的數量密度可從靠近入光面230處往遠離入光面230處遞增。
在本實施例中，光源模組100更包括一反射單元120，配置於第二表面220上。反射單元120例如為一適於反射光束112之反射片。然而，在其他實施例中，光源模組100亦可以不包括反射單元120。
圖2A為圖1A中的導光板於製作過程中與模具結合時的剖面示意圖，圖2B為圖2A中之導光板與模具分離時的剖面示意圖，圖3為模具的立體示意圖。請參照圖1A、圖2A、圖2B與圖3，本實施例之導光板200的這些凹槽組240可利用一模具300來形成。模具300包括一接觸面310與配置於接觸面310上的至少一凸起組320。當導光板200的凹槽組240成型時，第二表面220承靠於接觸面310上。當導光板200從膜具300脫離時，凸起組320從導光板200脫離之處形成導光板200的凹槽組240。換言之，凸起組320與凹槽組240的形狀是互補的，當導光板200成型時，凸起組320與凹槽組240互相嵌合，而當導光板200脫膜時(即從膜具300脫離時)，在導光板200上凸起組320脫離之處即形成凹槽組240。
凸起組320包括複數個彎曲狀凸起322，每一彎曲狀凸起322具有相連接之一第一彎曲狀表面323與一第二彎曲狀表面325，且第一彎曲狀表面323相對於接觸面310傾斜。凸起組320中的這些彎曲狀凸起322往同一方向彎曲，相鄰二彎曲狀凸起322之一的第一彎曲狀表面323藉由一連接面327連接相鄰二彎曲狀凸起322之另一的第二彎曲狀表面325，其中連接面327上的任一點相對於接觸面310的斜率之絕對值小於1.7。在本實施例中，連接面327為一平面，且連接面327實質上平行於接觸面310，本發明並不以此為限。
此外，在本實施例中，每一彎曲狀凸起322具有一頂表面329，連接第一彎曲狀表面323與第二彎曲狀表面325，其中頂表面329上的任一點相對於接觸面310的斜率之絕對值小於1.7。在本實施例中，頂表面329例如為一平面，且頂表面329實質上平行於接觸面310，本發 明並不以此為限。
在本實施例中，以模具300形成凹槽組320的方式可以是利用模具300將導光板200射出成型、利用膜具300將凹槽組320壓印成型、利用膜具300將凹槽組320押出(extrusion)成型或利用膜具300以量產方式使凹槽組320成型，其中壓印成型包括紫外光壓印(UV imprinting)成型或熱壓(hot embossing)成型，這些成型方式皆可產生與凸起組320之形狀互補的凹槽組240。圖2B所繪示的凹槽組240是以轉寫率為100%作為示意。然而，隨著製程或製程參數的不同，凹槽組240的轉寫率在大多數的情況下可能不會達到100%。
圖4繪示圖2B之凹槽組於轉寫率約為0.8時的剖面示意圖，其中x方向為彎曲狀凹槽242之平行於第二表面220的方向，y方向為垂直於第二表面220的方向。y等於0處為第二表面220的高度，y的負值之絕對值越大代表從第二表面220的高度往內凹陷的深度越深。由於本實施例之凹槽組240是利用模具300的凸起組320所形成，且由於模具300具有連接面327與頂表面329，因此凹槽組240的轉寫率可大於等於0.8，進而可提升凹槽組240的光學品質。
圖5A為本發明之另一實施例的模具之剖面示意圖，圖5B為由圖5A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。請參照圖5A與圖5B，本實施例之模具3001與導光板2001與圖2B之模具300與導光板200類似，兩者的差異如下所述。
在本實施例之導光板200l中，每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的這些彎曲狀傾斜反射面243l相對於第一表面210的平均傾斜角θl實質上不相同，舉例而言，彎曲狀凹槽242al、242bl、242cl的彎曲狀傾斜反射面243l的平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l彼此互不相等。然而，於其他實施例中，每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的這些彎曲狀傾斜反射面243l相對於第一表面210的平均傾斜角θl亦可實質上相同，本發明並不以此為限。
由於平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l互不相等，因此被彎曲狀凹槽242al、242bl、242cl的彎曲狀傾斜反射面243l所反射的光束112(請參照圖1A)的行進方向亦會在垂直於第一表面210的平面上展開，如此可使出射光束112具有較為平滑的光分布，且符合較廣視角的需求。
在本實施例中，每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的這些彎曲狀傾斜反射面243l相對於第一表面210的平均傾斜角θl的最大值與最小值的差值小於等於25度。舉例而言，平均傾斜角θ1l、平均傾斜角θ2l與平均傾斜角θ3l的大小例如約為59.62度、49.57度及40.23度，而平均傾斜角θ1l、平均傾斜角θ2l與平均傾斜角θ3l中的最大值約為59.62度，且最小值約為40.23度，兩者的差值為19.39度，而19.39度小於25度。
在本實施例中，每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的這些彎曲狀背光側面245l相對於第一表面210的平均傾斜角φl亦可以實質上不相同(圖1A是以實質上相同為例)。每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的這些彎曲狀背光側面245l相對於第一表面210的平均傾斜角φl的最大值與最小值的差值小於等於25度。舉例而言，平均傾斜角φ1l例如約為86.93度(最大值)，平均傾斜角φ2l例如約為77.01度，平均傾斜角φ3l例如約為74.97度(最小值)，平均傾斜角φ1l與平均傾斜角φ3l的差值為11.96度，其小於25度。此外，在本實施例中，每一凹槽組240l的這些彎曲狀凹槽242l的深度H1l、H2l、H3l亦可以不同。
用以形成凹槽組240l的模具300l之凸起組320l的形狀與凹槽組240l互補，因此凸起組320l的各彎曲狀凸起322l的第一彎曲狀表面323l、第二彎曲狀表面325l、連接面327l與頂表面329l的各項參數請參照彎曲狀凹槽242l的彎曲狀傾斜反射面243l、彎曲狀背光側面245l、連接面247與底表面249的各項參數，在此不再重述。
圖5B的凹槽組240l是以轉寫率為100%為例，當轉寫率小於100%且大於等於80%時，凹槽組240l的形狀會略不同於圖5B的形狀。
圖6A為本發明之另一實施例的模具之剖面示意圖，圖6B為由圖6A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。請參照圖6A與圖6B，本實施例之模具300m與導光板200m分別與圖5A及圖5B的模具300l與導光板200l類似，而兩者的差異如下所述。在本實施例之導光板200m中，凹槽組240m的每一彎曲狀凹槽242m的彎曲狀傾斜反射面243m包括複數段斜率不連續之子彎曲狀傾斜反射面(圖6B是以二段子彎曲狀傾斜反射面243m1、243m2為例)，每一彎曲狀凹槽242m的彎曲狀傾斜反射面243m具有一參考角度值δ，每一彎曲狀傾斜反射面243m的每一子彎曲狀傾斜反射面243m1、243m2相對於第一表面210的傾斜角α1、α2與對應的參考角度值δ(即同一個彎曲狀凹槽242m的參考角度值)的差值小於等於10度，且每一彎曲狀傾斜反射面243m的參考角度值δ為大於等於20度至小於等於70度。在本實施例中，彎曲狀凹槽242am、242bm、242cm的參考角度值δ的最大值與最小值的差值小於等於25度，彎曲狀凹槽242am、242bm、242cm的傾斜角α1的最大值與最小值的差值小於等於25度，且彎曲狀凹槽242am、242bm、242cm的傾斜角α2的最大值與最小值的差值小於等於25度。此外，在本實施例中，形成參考角度值δ的參考線M、最靠近彎曲狀凹槽242m的底部的子彎曲狀傾斜反射面243m2的延伸線N及彎曲狀背光側面245的延伸線O會交會於同一點上。在另一實施例中，彎曲狀凹槽242m亦可以不具有底表面249，且彎曲狀傾斜反射面243m直接連接彎曲狀背光側面245。
模具300m的凸起組320m的形狀與凹槽組240m互補，凸起組320m的各項參數請參照凹槽組240m的各項參數，在此不再重述。此外，當凹槽組240m的轉寫率小於100%且大於等於80%時，凹槽組240m的實際形狀與圖6B所繪示者略有不同。
圖7A為本發明之又一實施例的模具之剖面示意圖，圖7B為由圖7A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。請參照圖7A與圖7B，本實施例之模具300n與導光板200n分別與圖2B的模具300與導光板200類似，而兩者的差異如下所述。在本實施例中，凹槽組240n的每一彎曲狀凹槽242n的彎曲狀傾斜反射面243n在沿著垂直於第一表面210的方向上切開後所得之截線亦呈彎曲狀(如圖7B所繪示)，如此可使光束112在垂直於第一表面210的平面上展開，使光束112不會局限在特定的某一方向。在本實施例中，每一彎曲狀傾斜反射面243n相對於第一表面210的切線斜率是由靠近第一表面210的一端往靠近第二表面220的一端遞增。換言之，彎曲狀傾斜反射面243n在垂直於第一表面210的方向上為凸面。
模具300n的凸起組320n的形狀與凹槽組240n的形狀互補。當凹槽組240n的轉寫率小於100%且大於等於80%時，凹槽組240n的形狀與圖7B所繪示者略有不同。
圖8A為本發明之再一實施例的模具之剖面示意圖，圖8B為由圖8A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖，圖8C為採用圖8B之導光板的光源模組之亮度相對於視角的分布圖。請參照圖8A與圖8B，本實施例之模具300p與導光板200p分別與圖7A及圖7B的模具300n與導光板200n類似，兩者的差異如下所述。在本實施例之導光板200p中，凹槽組240p的每一彎曲狀傾斜反射面243p相對於第一表面210的切線斜率是由靠近第一表面210的一端往靠近第二表面220的一端遞減。換言之，彎曲狀傾斜反射面243p在垂直於第一表面210的方向上為凹面。圖7B與圖8B的截線呈彎曲狀的彎曲狀傾斜反射面243n、243p亦可以用來取代圖6B的截線呈直線狀的子彎曲狀傾斜反射面243m1、243m2，亦即把子彎曲狀傾斜反射面243m1、243m2的截線改成彎曲狀。
在本實施例中，模具300p的凸起組320p的形狀與凹槽組240p的形狀互補。當凹槽組240p的轉寫率小於100%且大於等於80%時，凹槽組240p的實際形狀會與圖8B所繪示者略有不同。
圖8C中不同虛線旁的數值代表所採用的彎曲狀傾斜反射面243p的上述截線(即圖8B中點S2至點S3之間的弧)相對於此截線的曲率中心S1所展開的角度λ，對應之單位為度，實線旁的無彎曲是代表截線呈直線狀。由圖8C可知，當截線所展開的角度λ越大，亮度分布範圍越廣。此外，在本實施例中，當角度λ越大，峰值越低時，峰頂的位置亦會平移。以下表一舉出角度λ與曲率中心S1至截線(即點S2至點S3之間的弧)的弦J(即連接點S2與點S3的直線段)的距離d的關係之一實施例，但本發明不以此為限。
在表一中，當距離d=50微米時，角度λ=18.06度，其餘的參數的對應關係則可以此類推，在此不再重述。
圖9為採用圖5B之導光板於不同的平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l下所產生的亮度相對於視角的分布圖。圖10繪示採用圖5B之導光板於不同的最佳化之平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l、φ1l、φ2l、φ3l下，亮度相對於視角的分布與目標亮度分布的比較。圖11繪示採用圖5B或圖6B之導光板於最佳化的參數設計下，亮度相對於視角的分布與目標亮度分布及傳統採用兩正交配置之增亮膜的光源模組之亮度分布的比較。圖9中虛線或實線旁的三個數值分別代表θ1l、θ2l及θ3l的數值，其單位為度。圖10繪示三種最佳化(最佳化1、最佳化2及最佳化3)的參數設計，由圖10可知，此三種最佳化設計接近於目標亮度分布。由圖11可發現，圖5B或圖6B之導光板於最佳化設計下達到的亮度分布比傳統採用兩正交配置之增亮膜達到的亮度分布更接近於目標亮度分布，且圖5B或圖6B之導光板於最佳化設計可有效減少大角度的雜散光。
圖12為本發明之另一實施例之光源模組之第二表面的局部放大圖。請參照圖1A、圖1C與圖12，本實施例之光源模組與圖1A之光源模組類似，兩者的差異如下所述。在本實施例之光源模組中，凹槽組240’之每一彎曲狀凹槽242’(例如彎曲狀凹槽242a’、242b’、242c’)的彎曲狀背光側面245’位於此彎曲狀凹槽242’的彎曲狀傾斜反射面243’與此彎曲狀凹槽的一曲率中心C’之間。如此之彎曲狀傾斜反射面243’的彎曲方向亦可達到使光束112展開的效果。
圖13A、圖13B、圖13C為本發明之又一實施例之光源模組之三種不同曲率半徑的凹槽組的主要分布範圍的示意圖。請參照圖13A、圖13B與圖13C，本實施例之光源模組100q與圖1A之光源模組100類似，而兩者的差異如下所述。在本實施例之光源模組100q的導光板200q中，這些凹槽組240q1、240q2、240q3的這些彎曲狀凹槽242q1、242q2、242q3具有複數種不同的曲率半徑(圖13A至圖13C是以三種不同的曲率半徑為例)。具有最大的曲率半徑的這些凹槽組240q3在導光板200q之遠離發光元件110的一端之數量密度大於靠近發光元件110的一端之數量密度，且具有最小的曲率半徑的這些凹槽組240q1在導光板200q之遠離發光元件110的一端之數量密度小於靠近發光元件110的一端之數量密度。舉例而言，具有最小曲率半徑的這些凹槽組240q1主要是分布在導光板200q之靠近發光元件110的區域U1中(斜線繪示主要分布區域)。曲率半徑居中的這些凹槽組240q2主要是分布在整面導光板200q上，包含區域U1與區域U2。具有最大曲率半徑的這些凹槽組240q3主要分布在導光板200q之遠離發光元件110的區域U2中。然而，本發明不以上述分布方式為限。在其他實施例中，曲率半徑不同的凹槽組亦可作各種不同的分布設計，端看使用者的需求。
圖14為本發明之再一實施例之光源模組的立體示意圖。本實施例之光源模組100r與圖12之實施例的光源模組類似，其中導光板200r與圖12之實施例的導光板相同，而兩者的差異如下所述。本實施例之光源模組100r更包括一柱狀透鏡膜140，配置於導光板200r的第一表面210上。在本實施例中，柱狀透鏡膜140包括複數個柱狀透鏡142，每一柱狀透鏡142由靠近發光元件110的一端往遠離發光元件110的一端延伸，且這些柱狀透鏡142的排列方向實質上平行於發光元件110的排列方向，其中每一柱狀透鏡142的延伸方向實質上垂直於這些柱狀透鏡142的排列方向。柱狀透鏡膜140可進一步增進光源模組100r的亮度均勻性。在另一實施例中，亦可採用透鏡陣列(例如二維陣列)膜來取代柱狀透鏡膜140。
圖15A為本發明之另一實施例之光源模組的上視示意圖，圖15B為圖15A之光源模組沿著I-I線的剖面及配置於光源模組上的液晶顯示面板的剖面之示意圖。請參照圖15A與圖15B，本實施例之光源模組100i與圖1A之光源模組100類似，兩者的差異如下所述。在本實施例之光源模組100i中，每一凹槽組240i的每一彎曲狀凹槽242i(例如彎曲狀凹槽242ai、242bi、242ci)為一環狀凹槽。呈環狀的彎曲狀槽242i可視為是圖12之呈弧狀的彎曲狀凹槽242’之延伸而繞成一圈所形成。在本實施例中，導光板200i具有二個相對之入光面230(例如入光面230a與230b)，且發光元件110可分為發光元件110a與110b，發光元件110a與發光元件110b分別配置於此二入光面230a與230b旁。在本實施例中，光源模組100i更包括一控制單元130，電性連接至發光元件110a與110b，以驅使發光元件110a與110b交替閃爍。換言之，當發光元件110a發出光束112a時，發光元件110b不發出光束112b，且當發光元件110b發出光束112b時，發光元件110a不發出光束112a。
在本實施例中，每一彎曲狀傾斜反射面243i的平均傾斜角為大於等於40度至小於等於60度。舉例而言，彎曲狀凹槽242ai、242bi、242ci的傾斜反射面243i的平均傾斜角θ1’、θ2’、θ3’可以互不相等、部分相等或完全相等。本實施例之光源模組100i上方可配置一液晶面板50以形成一立體顯示器。在本實施例中，液晶面板50包括由下而上依序排列之主動元件陣列基板52、液晶層54及對向基板56，其中主動元件陣列基板52例如為薄膜電晶體陣列基板，且對向基板56例如為彩色濾光陣列基板。上述之平均傾斜角θ1’、θ2’、θ3’的設計可使發光元件110b所發出的光束112b被彎曲狀傾斜反射面243i往圖15B之左上方反射，且在搭載液晶面板50之影像後傳遞至使用者的左眼L，且使發光元件110a所發出的光束112a被彎曲狀傾斜反射面243i往圖15B之右上方反射，且在搭載液晶面板50之影像後傳遞至使用者的右眼R。藉由光束112a與112b交替搭載左眼影像與右眼影像，使用者的大腦中便可形成立體影像。
圖16為本發明之又一實施例之光源模組100j的剖面及配置於光源模組100j上的液晶顯示面板50的剖面之示意圖。請參照圖16，本實施例之光源模組100j與圖15B之光源模組100i類似，兩者的主要差異在於彎曲狀傾斜反射面的平均傾斜角的設定不同。在本實施例之光源模組100j中，每一凹槽組240j之每一彎曲狀凹槽242j(例如彎曲狀凹槽242aj、242bj、242cj)的彎曲狀傾斜反射面243j的平均傾斜角θ”的範圍為大於等於30度至小於等於50度。如此之平均傾斜角θ”的設定可使發光元件110b所發出的光束112b被彎曲狀傾斜反射面243j往圖16之右上方反射，且在搭載液晶面板50之影像後傳遞至使用者的右眼R，且使發光元件110a所發出的光束112a被彎曲狀傾斜反射面243j往圖16之左上方反射，且在搭載液晶面板50之影像後傳遞至使用者的左眼L。藉由光束112a與112b交替搭載左眼影像與右眼影像，使用者的大腦中便可形成立體影像。在本實施例中，彎曲狀傾斜反射面243j在垂直於第一表面210的方向上之截線為直線，然而在其他實施例中亦可以是曲線。
圖17為本發明之再一實施例之光源模組100k的剖面示意圖。請參照圖17，本實施例之光源模組100k類似於圖1A之光源模組100，兩者的差異如下所述。本實施例之光源模組100k的導光板200k類似於圖1A之導光板200，兩者的差異在於圖1A之導光板200的第二表面220之這些凹槽組240以外的部分與第一表面210皆為平面，然而本實施例之導光板200k的第二表面220k之這些凹槽組240以外的部分與第一表面210k之至少其一為粗糙面，例如為噴砂面(sandblasted surface)。粗糙面可使凹槽組240或導光板200k的缺陷所產生的獨立亮點模糊化，因此使用者較難或無法以肉眼看到這些獨立亮點。如此一來，光源模組100k的亮度便可以更均勻。在其他實施例中，亦可以是第一表面210k為粗糙面，而第二表面220k之這些凹槽組240以外的部分為平面。或者，亦可以是第一表面210k為平面，而第二表面220k之這些凹槽組240以外的部分為粗糙面。
綜上所述，本發明之實施例可具有下列優點或功效之至少其一。在本發明之實施例的導光板與光源模組中，第二表面上設有彎曲狀傾斜反射面，彎曲狀傾斜反射面可將光反射至預期的方向。因此，導光板的第一表面上方之光學膜片的使用量可以減少或不使用光學膜片，如此可降低光損失及減少成本。此外，由於連接面上的任一點相對於第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7，因此導光板在成型後較易於脫膜，進而提升凹槽組的轉寫率。再者，在本發明之實施例之導光板中，由於導光板的凹槽組是由模具所形成，且由於模具具有連接面，因此導光板在成型後較易於脫膜，進而提升凹槽組的轉寫率。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。
50．．．液晶面板
52．．．主動元件陣列基板
54．．．液晶層
56．．．對向基板
100、100i、100j、100k、100q、100r．．．光源模組
110、110a、110b．．．發光元件
112．．．光束
120．．．反射單元
130．．．控制單元
140．．．柱狀透鏡膜
142．．．柱狀透鏡
200、200i、200k、200l、200m、200n、200p、200q、200r．．．導光板
210、210k．．．第一表面
220、220k．．．第二表面
230、230a、230b．．．入光面
240、240’、240i、240j、240l、240m、240n、240p、240q1、240q2、240q3．．．凹槽組
242、242’、242a、242a’、242ai、242aj、242al、242am、242b、242b’、242bi、242bj、242bl、242bm、242c、242c’、242ci、242cj、242cl、242cm、242i、242j、242l、242m、242n、242q1、242q2、242q3．．．彎曲狀凹槽
243、243’、243i、243j、243l、243m、243n、243p．．．彎曲狀傾斜反射面
243m1、243m2．．．子彎曲狀傾斜反射面
245、245’、245l．．．彎曲狀背光側面
247、327、327l．．．連接面
249．．．底表面
300、300l、300m、300n、300p．．．模具
310．．．接觸面
320、320l、320m、320n、320p．．．凸起組
322、322l．．．彎曲狀凸起
323、323l．．．第一彎曲狀表面
325、325l．．．第二彎曲狀表面
327、327l．．．連接面
329、329l．．．頂表面
C、C’、S1．．．曲率中心
D1．．．第一方向
D2．．．第二方向
d．．．距離
H1、H1l、H2、H2l、H3、H3l．．．深度
J．．．弦
L．．．左眼
M．．．參考線
N、O．．．延伸線
P、P1、P2、P3、Q、Q1、Q2、S．．．寬度
R．．．右眼
S2、S3．．．點
T．．．外接矩形
U1、U2．．．區域
α1、α2．．．傾斜角
δ．．．參考角度值
λ．．．角度
θ、θ”、θ1、θ1’、θ1l、θ2、θ2’、θ2l、θ3、θ3’、θ3l、φ1l、φ2l、φ3l、φl．．．平均傾斜角
圖1A為本發明之一實施例之光源模組的剖面示意圖。
圖1B為圖1A中之導光板與發光元件的立體示意圖。
圖1C為圖1A中之第二表面的局部放大圖。
圖2A為圖1A中的導光板於製作過程中與模具結合時的剖面示意圖。
圖2B為圖2A中之導光板與模具分離時的剖面示意圖。
圖3為模具的立體示意圖。
圖4繪示圖2B之凹槽組於轉寫率約為0.8時的剖面示意圖。
圖5A為本發明之另一實施例的模具之剖面示意圖。
圖5B為由圖5A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。
圖6A為本發明之另一實施例的模具之剖面示意圖。
圖6B為由圖6A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。
圖7A為本發明之又一實施例的模具之剖面示意圖。
圖7B為由圖7A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。
圖8A為本發明之再一實施例的模具之剖面示意圖。
圖8B為由圖8A的模具於轉寫率為100%時所形成的導光板之局部剖面圖。
圖8C為採用圖8B之導光板的光源模組之亮度相對於視角的分布圖。
圖9為採用圖5B之導光板於不同的平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l下所產生的亮度相對於視角的分布圖。
圖10繪示採用圖5B之導光板於不同的最佳化之平均傾斜角θ1l、θ2l、θ3l、φ1l、φ2l、φ3l下所述生的亮度相對於視角的分布與目標亮度分布的比較。
圖11繪示採用圖5B或圖6B之導光板於最佳化的參數設計下所述生的亮度相對於視角的分布與目標亮度分布及傳統採用兩正交配置之增亮膜的光源模組之亮度分布的比較。
圖12為本發明之另一實施例之光源模組之第二表面的局部放大圖。
圖13A、圖13B、圖13C為本發明之又一實施例之光源模組之三種不同曲率半徑的凹槽組的主要分布範圍的示意圖。
圖14為本發明之再一實施例之光源模組的立體示意圖。
圖15A為本發明之另一實施例之光源模組的上視示意圖。
圖15B為圖4A之光源模組沿著I-I線的剖面及配置於光源模組上的液晶顯示面板的剖面之示意圖。
圖16為本發明之又一實施例之光源模組的剖面及配置於光源模組上的液晶顯示面板的剖面之示意圖。
圖17為本發明之再一實施例之光源模組的剖面示意圖。
110．．．發光元件
200．．．導光板
210．．．第一表面
220．．．第二表面
230．．．入光面
240．．．凹槽組
242、242a、242b、242c．．．彎曲狀凹槽
243．．．彎曲狀傾斜反射面
245．．．彎曲狀背光側面
247．．．連接面
249．．．底表面
D1．．．第一方向
D2．．．第二方向

Claims (29)

  1. 一種導光板，包括：一第一表面；一第二表面，相對於該第一表面；至少一入光面，連接該第一表面與該第二表面；以及複數個凹槽組，分散地設於該第二表面上，其中每一該凹槽組包括複數個彎曲狀凹槽，每一該彎曲狀凹槽為一環狀凹槽，每一該彎曲狀凹槽具有相連接之一彎曲狀傾斜反射面與一彎曲狀背光側面，該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面傾斜，每一該凹槽組中的該些彎曲狀凹槽往同一方向彎曲，相鄰二該彎曲狀凹槽之一的該彎曲狀傾斜反射面藉由一連接面連接該相鄰二彎曲狀凹槽之另一的該彎曲狀背光側面，其中該連接面上的任一點相對於該第一表面的切線斜率的絕對值小於1.7。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的平均傾斜角實質上不相同，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之導光板，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的平均傾斜角的最大值與最小值的差值小於等於25度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀傾斜反射面的平均傾斜角為大於等於20度至小於等於70度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀背光側面相對於該第一表面的平均傾斜角的最大值與最小值的差值小於等於25度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀背光側面的平均傾斜角為大於等於60度至小於等於89度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面包括複數段斜率不連續之子彎曲狀傾斜反射面，每一該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面具有一參考角度值，每一該彎曲狀傾斜反射面的每一該子彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的傾斜角與對應的該參考角度值的差值小於等於10度，且每一該彎曲狀傾斜反射面的該參考角度值為大於等於20度至小於等於70度。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的切線斜率是由靠近該第一表面的一端往該靠近該第二表面的一端遞減。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的切線斜率是由靠近該第一表面的一端往該靠近該第二表面的一端遞增。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中每一該彎曲狀凹槽具有一底表面，連接該彎曲狀傾斜反射面與該彎曲狀背光側面，且該底表面上的任一點相對於該第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面位於該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面與該彎曲狀凹槽的一曲率中心之間。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面位於該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面與該彎曲狀凹槽的一曲率中心之間。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之導光板，其中該第二表面之該些凹槽組以外的部分與該第一表面之至少其一為粗糙面。
  14. 一種光源模組，包括：一導光板，包括：一第一表面；一第二表面，相對於該第一表面；至少一入光面，連接該第一表面與該第二表面； 以及複數個凹槽組，分散地設於該第二表面上，其中每一該凹槽組包括複數個彎曲狀凹槽，每一該彎曲狀凹槽為一環狀凹槽，每一該彎曲狀凹槽具有相連接之一彎曲狀傾斜反射面與一彎曲狀背光側面，該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面傾斜，每一該凹槽組中的該些彎曲狀凹槽往同一方向彎曲，相鄰二該彎曲狀凹槽之一的該彎曲狀傾斜反射面藉由一連接面連接該相鄰二彎曲狀凹槽之另一的該彎曲狀背光側面，其中該連接面上的任一點相對於該第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7；以及至少一發光元件，配置於該入光面旁，且適於發出一光束，其中該光束適於經由該入光面進入該導光板中，且適於經由該第一表面傳遞至該導光板外，該彎曲狀傾斜反射面適於將來自該入光面的該光束反射至該第一表面。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的平均傾斜角實質上不相同，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之光源模組，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的平均傾斜角的最大值與最小值的差值小 於等於25度。
  17. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀傾斜反射面的平均傾斜角為大於等於20度至小於等於70度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  18. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該凹槽組的該些彎曲狀凹槽的該些彎曲狀背光側面相對於該第一表面的平均傾斜角的最大值與最小值的差值小於等於25度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  19. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀背光側面的平均傾斜角為大於等於60度至小於等於89度，該平均傾斜角的定義為該凹槽組的該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面在垂直於該第一表面的方向上每一截線上的點的切線相對於該第一表面的平均傾斜角。
  20. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面包括複數段斜率不連續之子彎曲狀傾斜反射面，每一該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面具有一參考角度值，每一該彎曲狀傾斜反射面的每一該子彎曲狀傾斜反射面的傾斜角與對應的該參考角度值的差值小於等於10度，且每一該彎曲狀傾斜反射面 的該參考角度值為大於等於20度至小於等於70度。
  21. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的切線斜率是由靠近該第一表面的一端往該靠近該第二表面的一端遞減。
  22. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀傾斜反射面相對於該第一表面的切線斜率是由靠近該第一表面的一端往該靠近該第二表面的一端遞增。
  23. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中每一該彎曲狀凹槽具有一底表面，連接該彎曲狀傾斜反射面與該彎曲狀背光側面，且該底表面上的任一點相對於該第一表面的切線斜率之絕對值小於1.7。
  24. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中該至少一入光面為二相對之入光面，該至少一發光元件為分別配置於該二入光面旁的二發光元件，該光源模組更包括一控制單元，電性連接至該二發光元件，以驅使該二發光元件交替閃爍。
  25. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面位於該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面與該彎曲狀凹槽的一曲率中心之間。
  26. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中該彎曲狀凹槽的該彎曲狀背光側面位於該彎曲狀凹槽的該彎曲狀傾斜反射面與該彎曲狀凹槽的一曲率中心之間。
  27. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，更包括一反射單元，配置於該第二表面上。
  28. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中該些凹槽組的該些彎曲狀凹槽具有複數種不同的曲率半徑，具有最大的該曲率半徑的該些凹槽組在導光板之遠離該發光元件的一端之數量密度大於靠近該發光元件的一端之數量密度，且具有最小的該曲率半徑的該些凹槽組在導光板之遠離該發光元件的一端之數量密度小於靠近該發光元件的一端之數量密度。
  29. 如申請專利範圍第14項所述之光源模組，其中該第二表面之該些凹槽組以外的部分與該第一表面之至少其一為粗糙面。
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