TWI328471B - Method of manufacturing thin film pattern layer - Google Patents

Description

1328471 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種薄膜圖案層之製造方法。 【先前技術】 目m，噴墨法在製造薄膜圖案層中越來越廣泛。在喷 墨法中，使用喷墨裝置在已形成擋牆的玻璃基板上喷墨， 乾燥墨水形成薄膜圖案層。 請參閱圖Μ及圖15，為—個基板12〇的示意圖。基板 120上具有複數擋牆122,所述複數擋牆122與所述基板12〇 限定複數收容” m。每-行收容空間124沿著乂轴排 佈’每-列收容空間m沿著γ轴排佈，每相鄰兩行收容 空間124之間的間隔為d。 請參閱圖！6,喷墨頭900中相鄰噴嘴9〇2與9〇4的間 距為d。在先前技術中，在噴嘴9 〇 2沿著第一路線3 ^ 2喷墨 後’喷墨頭9〇〇沿著γ軸負方，蒋叙 、土 ^ 、乃问移勤距離d，從而噴嘴9〇4 鲁石著第一路線312的反方向嘴墨。 一惟m〇2及904對同一個收容空間124喷黑時， 前後兩次噴墨路線基本上重疊。故墨水在收容空間Γ24内 =均勻擴散，墨水乾燥後形成的薄膜圖㈣往往厚度不 【發明内容】 有鑒於此，有必要提供-種能提高均勻度的 層之製造方法。 以下步 薄膜圖案 驟··提供 種薄膜圖案層之製造方法，其包括 7 丄J厶0^/1 =基板’所述基板具有複數擔牆 基板限定複數收容空間，每— =:與所述 第一側邊及第二側邊，第直π 有相互平行的 供第一噴嘴 笔+貝11與第二側邊的距離為b;提 位於-個待處理的收容S — ···移動，該第-路線 盘咳第—二 弟—側邊與第二側邊之間， 嗔入雰水·二:丁，且距離為a;該第一喷嘴對該收容空間 1第\ 一賀嘴’該第二噴嘴沿著第二路線移動， 路線與該第—路辭行，該第二料與 ，第符合以下兩個關係式之—：-<“，及0<c<a ; ^弟^嘴對該收容空間嘴入墨水；乾燥固化收容空間的 墨水而形成薄膜圖案層。 …相較於先前技術’上述薄膜圖案層之製造方法中不同 ^嘴將墨水喷到同一個收容空間的不同位置，從而促使巽、 水在同-個收容空間中更加均勻地分佈，進而提高薄膜2 案層的均勻度。 【實施方式】 下面將結合附圖對本發明實施例作進一步之詳細說 明。 > ° «月起芩閱圖1到圖ίο，係本發明第一實施例提供之 一種薄膜圖案層之製造方法示意圖，該方法之步驟如下： 步驟一：提供一基板100,如圖i及圖2所示。基板 100上具有複數擋牆1〇2,所述複數擋牆1〇2與所述基板1〇〇 限定複數收容空間1〇4。每一行收容空間104沿著χ軸排 佈’母列收各空間104沿著γ軸排佈’每相鄰兩行收容 1328471 工間104之間的間隔為d，每一個收容空間具 、 側邊110及第二側㈣’兩側邊之間V為互二 P收合卫間104在γ軸上的寬度為b。本實施例中， 100之材料選用玻璃。當^，基板材料也可選用石ς反 矽晶圓、金屬或塑膠等。 、 、 步騄—.如圖3所示，提供一個噴墨頭3⑽， 300至少包含有第一喷嘴302及第二噴嘴3〇4，噴、 /04沿著Υ軸排列，喷嘴3〇2及3〇4在丫轴（即與^卩= 垂直的方向)的投影間隔亦為d。下面以收容空間 ° 對喷墨頭⑽對收容空間1G4噴墨過程進行描述。喷為^ 300沿者第一路線306移動，第一路線3〇6是沿著 、 =向，第-路線裏與第-側邊110的距離為a。當第—^ 移動到收容空㈤104的位置時’第-噴嘴302對： 谷工間1(M噴墨。噴墨頭3〇〇可選用熱泡式或壓電式。 —步驟三：如圖4及圖5所示，喷墨頭3〇〇繼續 ^弟一路線鳩移動，當噴墨頭移動到收容空間1〇4^ -側後，喷墨頭300沿著第二路線3〇8移動距二： 線沿著Y轴的反方向，距離c符合以下關係式之:路 d<c<d+b-a 及 d-a<c<d 〇 M，若噴嘴3〇2*3〇4在¥轴上的間隔為卜 為任f自然數），相應地，噴墨頭3〇〇應該沿著第二路線| 動距離c，該距離c應符合以下關係式之一 ：+ 及kd-a<c<kd (k為任意自然數）。 + ~a 步驟四.如圖5及圖6所示’噴墨頭3〇〇沿著第三路 9 1328471 線3 i〇移動’該第三路線310沿著X軸的反方向，當第二 二 移動到收谷空間104的位置時，第二喷嘴3〇4對 4欠谷空間1 〇 °»* / 貝墨。貰墨後’噴墨頭300繼續沿著第三跋 線310移動。 —& 一备賀墨頭300移動距離c為d<c<d + b a時第一路線 及第三路線的距離c為〇<c<b-a ;當喷墨頭300移動距離c 為d a<c<d日寸，第一路線及第三路線的距離c為〇<c<a。 ▲墨水之中至少包含一溶劑。優選地，該溶劑為有 Μ，且忒浴劑應該有較高的沸點，比如說沸點應該高於I% 攝氏度（c)’彿點高於185t更佳。不同的有機溶劑有不同 弗例如，對於沸點400〇C的溶劑也可以用於本發明， 絲得預期的效果。這樣，在第二噴嘴304將墨水噴入X固 收容空間104之前，第—噴嘴逝噴入同一個收容空間1〇4 的墨水不會固化。嘴嘴3〇2及3〇4先後嘴入同一個收容介 間104的墨水可以互相混合，而且可以同時被固化。二 作為噴墨步驟可替代的實施例，在對收容空間1〇4二 =1墨：以採用同一個喷墨頭。也就是說，請再次： 關心^墨頭細沿著第二路線咖移動到圖7的 日wp當第一噴嘴302的t心位於第三路線31〇上時，a 墨頭3 0 0沿著第二改綠7 ^ η立交& 卜卜 , 貝 有罘—路線310移動。弟一噴嘴3〇2再 容空間104噴墨。喷墨後，喷墨頭3〇〇繼續沿著第三路 310移動，如圖§所示。 '· 步驟五：乾燥固化複數收容空間1〇4中墨水而形 色層106’如圖9所示。此步驟主要藉由一柚真空裝置、二 10 1328471 加熱裝置或一曝光裝置，將複數收容空間 錢固化’或者採用上述三者方式之任兩種或^進= 秌固化，而曝光裝置包括紫外光曝光照射裝置。 步驟六：於該基板100上形成覆蓋擒牆1〇2及韻色層 106的透明導電層⑽’如圖1〇所示。此步驟為可選狀 步驟。例如，使用真空魏裝置，形成—層氧化銦錫薄膜 (Indium Tin Oxide Film，ITO Film)。

應當指出的是，在上述實施例喷嘴3〇2及在Y軸 上的間隔為kd (k為任意自然數）。當然，間隔可以任責， 只要使得第-路線及第三路線的距離c符合以下關係=之 一即可：0<c<b-a，及0<c<a，從而不同噴嘴將墨水噴到同 一個收容空間的不同位置。 、 在上述實施例中，同一個收容空間採用兩個噴嘴進行 噴墨。可以理解’同-個收容空間也可以採用三個或三^ 以上的喷嘴進行噴墨，每個喷嘴移動的路線不同，從而將 墨水噴到同一個收容空間的不同位置。 上述薄膜圖案層之製造方法中不同噴嘴將墨水噴到同 一個收容空間的不同位置，從而促使墨水在同一個收容空 間中更加均勻地分佈，進而提高薄膜圖案層的均勻度。 請參閱圖11，為本發明第二實施例之喷墨步驟示奇 圖。該噴墨步驟與前述第一實施例之喷墨步驟類似，區別 在於：第一噴嘴402及第二噴嘴502分別位於第一嗔墨頭 400及第二喷墨頭500。第一噴墨頭4〇〇及第二噴墨頭5〇〇 可以是同一型號的喷墨頭，也可以是不同型號的喷墨頭。 11 赁墨碩400及第二噴墨頭5〇〇彳以是設置在同 。，也可以是設置在不同的機台。在噴墨過程中，喷墨頭 400、500作為一個整體簌紅 + 、 ' f夕動。贺墨頭400、500的運動軌跡 與噴墨頭300的運動轨跡相似，在此不再—資述。 請蒼閱圖12’為本發日以三實施例之噴墨步驟示音 =。該喷墨步驟與前述第—實施例之噴墨步驟類似，㈣ 盘Hr 600相對於第—路線306傾斜設置，噴嘴6〇2 丨π。 連、、泉與弟—路線306互成角度θ(其中， 9〇°，或者9〇〇<θ<180。）。在本實施例中，θ=45。。喷 嘴602與604在γ軸上的投㈣距為d。 、 請參閱ffl 13,為本發明第 圖。該喷墨步驟與前述第一容㈣夕^之貝墨步^思 + _ 、弟—貝鈀例之噴墨步驟類似，區別 峻1墨頭7 0 〇及_均相對於第一路線遍 與δ04的中心連線與 置 或者 9。一^^ 而要私出的疋，本發明之薄膜圖案 =適用於彩色遽先片及有機發光裝置之製造等 之製程中’可用此製程完成紅綠藍三色顏色層之製 #)，也可C ^ 牆(僅使用黑矩陣作為 也了以疋多層擔牆(包括黑矩陣及黑矩陣之上的一岸 或夕B材科）。而於有機發光裝置之製造中，可用此 成有機發光裝置之導線層，發光層及電子電 ^ : 製造。惟，所形成之薄膜圖案及所需之墨水會有所不曰同寺。之 12 1328471 綜上所述，本發明確已符合發明專利要件，爰依法提 出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例， 舉凡熟悉本案技藝之人士，於援依本案發明精神所作之等 效修飾或變化，皆應包含於以下之申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1至圖10為本發明第一實施例之薄膜圖案層製造方 法示意圖，其中： 圖1為基板俯視圖； 圖2為圖1所示基板沿著直線II-II的剖視圖； 圖3至圖6為喷墨步驟之示意圖； 圖7至圖8為另一喷墨步驟之示意圖； 圖9為形成顏色層之基板剖視圖； 圖10為形成有導電層之基板剖視圖； 圖Π為本發明第二實施例之喷墨步驟示意圖； 圖12為本發明第三實施例之喷墨步驟示意圖； 圖13為本發明第四實施例之噴墨步驟示意圖； 圖14為先前技術中一個基板的俯視圖； 圖15為圖14所示基板沿著直線XV-XV的剖視圖； 圖16先前技術中喷墨步驟之示意圖。 【主要元件符號說明】 基板 100,120 擋牆 102,122 收容空間 104,124 顏色層 106 導電層 108 第一路線 306 第二路線 308 第三路線 310 噴墨頭 300,400,500, 600,700,800 喷嘴 302,304,402,502,602,604,702,802,804 13

Claims (1)

1328471 十、申請專利範圍： 丄.一種薄膜圖案層之製造方法，其包括以下步驟· 提供一基板，所述基板具有複數擋牆，所述複數擋牆與 所述基板限定有複數收容空間，每一收窆处 :口 ^ 二間具有相互 平行的第一側邊及第二側邊’第一側邊鱼 離為b; …側邊的距 提供第-噴嘴，該第-噴嘴沿著第—路線移動，該第一 路線位於一個待處理的收容空間的第—側邊與第二側邊 之間’與該第一側邊平行，且距離為a; 該第一噴嘴對該收容空間噴入墨水； 提供第二喷嘴，該第二噴嘴沿㈣二路線移動，該 :線與路線平行，該第二路線與該第—路線“ 付合以下兩關係式之一 ：0<c<“，及〇<_; 5亥弟二噴嘴對該收容空間噴入墨水； 乾燥固化收容空間的墨水而形成薄瞑圖案層。 .如申凊專利範圍第1項所述之薄 甘士 丨从·导腰圖案層之製造方法， ，、中’該墨水至少包括—溶判，士丄 。 ^ 1亥洛劑的沸點高於170 3.如申請專利範圍第2項所述之 导娱圖案層之製造方法， “中，该溶劑的沸點高於185<ΐ：。 4·如申請專利範圍第i項所述之 1中，胼、十.里kXJ· 騰圖案層之製造方法， 八中所述基板材料選自玻璃、石贫+尤 屬或塑膠。 、玻璃、石夕晶圓、金 14 1 .如申請專利範圍第i項所述 守腰圖案層之製造方法， 其中，該乾燥固化步驟户 妯言允壯® ，铋用以下裝置中的至少〆種：一 ，、工裝置、一加熱裝置及一曝光艺置。 6.如申請專利範圍第5項 其中，該曝光裝置包=::膜圖案層之製造方法’ 7 ^ , 括*τ、外先曝光照射裝置。 。月專乾圍第i項所述之薄膜圖案層之製造方法， 8 1!社所述ί一噴嘴及第二噴嘴均位於同-噴'多頭。 #專心圍第7項所述之薄膜圖案層之製造方法， 中，該噴墨頭係熱泡式或壓電式。 9. 2請專利Ϊ圍第1項所述之薄膜圖案層之製造方法， _ +所述第纟嘴及第二噴嘴分別位於第一噴墨頭及 弟—墨頭〇 明專利乾圍第9項所述之薄膜圖案層之製造方法， '、▲所逑第―、第二嘴墨頭為同-型號之噴墨頭。 月專利：圍第9項所述之薄膜圖案層之製造方法， ” 1所述第—、第二噴墨頭為不同型號之噴墨頭。 •如申α月專利乾圍第9項所述之薄膜圖案層之製造方法， 其中，所述第―、第二喷墨頭均設置於同-機台上。 13旦如Φ申請專利範圍第9項所述之薄膜圖案層之製°造方法， 14:所述弟一、第二噴墨頭分別設置於不同之機台上。 、種潯犋圖案層之製造方法，其包括以下步驟： ，所述基板具有複數擋牆’所述複數擋牆與 m有複數收容空間，每一收容空間具有相互 離為bj邊及第二側邊，第一側邊與第二側邊的距 15 1328471 提供—噴嘴，該喷嘴沿著第—路線移動，㈣ 於一個待處理的收容空間的筮 路、泉位 叙^ ㈣合工間的弟—側邊與第二側邊之間， 與忒弟一側邊平行，且距離為a; 該噴嘴對該收容空間喷入墨水； 該噴嘴沿著第二路線移動，該第 行，該第二路線與該第一路線的距離：符= 式之-：G<e<b-a，及G<e<a; 乂下兩關係 該噴嘴對該收容空間噴入墨水； 丨乾燥固化收容空間的墨水而形成薄膜圖宰芦。 如申請專利範圍第14項所述之薄膜圖案層:製造 令，該墨水至少包括-溶劑，該溶劑的沸點高於口价 其 16. 如申請專利範㈣15項所述之薄_案層之製造方法 中’該溶劑的沸點高於185〇C。 ' 17. 如中料職㈣14摘述之薄膜騎層之製造方法，里 :。’所述基㈣料選自玻璃、石英玻、金屬或塑 讥如申請專利範圍第14項所述之薄膜圖案層之製送方去其 I，該乾燥固化步驟制以下裝置中的至少—種—抽直^ 裝置、一加熱裝置及一曝光裝置。 /、 19. 如申請專利範圍第18項所述之薄膜圖案層之製造方法，苴 中，該曝光裝置包括紫外光曝光照射裝置。 /、 20. 如申請專利範圍第15項所述之薄膜圖案層之製造方、豆 中，該溶劑為有機溶劑。 D去其 16