TWI328111B - Test system and test method using virtual review - Google Patents

Description

1328111 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種使用實質檢查之測試系統及測试 方法，更係關於一種能測試液晶顯示器之薄膜電晶體美板 或濾光基板上是否存有瑕疵之利用實質檢查的測試^統 及測試方法。 ’' ' 【先前技術】 近年來資訊顯示裝置已逐日受到重視，平面顯示器（f PDs)已被研究及商品化以取代現有陰極射線管等顯示裝 置。在該等平面顯示裝f中，湘液晶之光非等向性顯^ 影像之液晶顯示裝置（LCD)已特別廣用為膝上型電腦及桌 上型電腦等之監視器，因其具有良好解析度、顯示影像之 月t*及影像品質之故。 液晶顯示裝置-般包含-陣列基板、一滤光基板及一 在該陣列基板及該濾光基板之間的液晶層。 陣列基板包含閘極線及資料線、開關元件及像素電 極，其中料閘極線與資㈣皆位於陣職板的水平與垂 ^方向上，以界定像素區之所在，該等開關元件排列於該 等閘極線與資料線之相交區域上，並可為薄膜電晶體等， 该等像素電極則形成於該等像素區域上。 另-方面，濾、光基板包含一渡光片及一黑色矩陣；該 f光片包含R、GAB子濾光片，用以形成色彩；該黑色矩 則用以刀開邊等子光片，藉以^義像素區域，並阻隔 7 1328111 在液晶層中傳輸的光。此處，濾光基板可更包含透明共用 電極，用以加上電壓至該液晶層，並可被設於陣列基板上。 如上述之建構的陣列基板及濾光基板彼此間藉由一 密封劑貼附在一塊，藉以形成一液晶顯示面板。 液晶顯示器之一般製造可透過一陣列製程、一濾光製 程、一胞製程及一模組製程為之。 該陣列製程是一種在一第一基板上形成薄膜電晶體 陣列的製程，藉由重覆沉積、微影及蝕刻的步驟達成，且 該第一基板為一透明絕緣基板。該濾光製程是一種形成一 黑色矩陣以阻隔光而使光不通過像素區域以外之區域、並 利用染料或染劑製造R、G及B濾光片的製程。 另一方面，在後續之胞製程之前有一外加程序是不可 避免的，即利用測試陣列基板及濾光基板上是否有瑕疵存 在估計經製造之陣列基板及濾光基板之狀態的程序，用以 使存在瑕疵的基板可不導入至胞製程中。 該胞製程是一種藉貼附透過薄膜電晶體製程完成之 第一基板及透過濾光基板完成之第二基板而形成液晶面 板胞、以在該二基板之間存在一固定間隙、並在該間隙内 注入或滴入液晶的製程。該模組製程是一種藉提供一信號 處理用電路單元、透過一習用設置方式連接該液晶面板及 電路單元、並接著透過一衆所周知裝配程式接附該液晶面 板及電路單元至一治具以形成模組的製程。 上述胞製程將更詳細說明於後文中。 首先，配向膜被設於透過陣列製程形成之陣列基板及 8 1328111 透過濾光製程形成之濾光基板的每一者上，且一研磨製程 被進行以提供一固著力或表面黏著力至陣列基板與濾光 基板之間之液晶層的液晶分子上。此時，配向膜在被加 上、印刷、測試及研磨的製程順序之前可被加以清洗。 接著，陣列基本與濾光基板皆被洗淨，一襯墊被提供 以保持陣列基板上之各胞間的間隙為相同，一密封材料被 加至濾光片的周緣處，接著陣列基板與濾光基板被加壓以 互相連接在一塊。 表後’液晶被透過液晶入口注入每 液晶面板中’且 該等入口接著被密封以形成一液晶層。 同時，胞製程前之製程係用以測試陣列基板與濾光基 板上是否有瑕疵存在，並更係用以檢查該二基板之外觀與 電連接線上是否有缺陷存在。舉例而言，該製程被用以估 計閘極線與資料線等中是否有濾光片突出部份、斜線沾 污、磨擦帶、小孔、短路或斷線等缺陷的存在。 一用以執行測試程序的測試系統包含一組測試裝置 及一修復系統，其中該組測試裝置用以測試陣列基板及濾 光基板上是否有缺陷的存在，該修復系統則用以在基板上 有缺陷存在時對其加以修復。 該組測試裝置包含一測試裝置、一系統電腦及一監視 器，其中該測試裝置係用以測試陣列基板與濾光基板上是 否有任何的瑕疵出現，該系統電腦係用以驅動該測試裝 置，該監視器則連接至該系統電腦。此處，一鍵盤與一滑 鼠被提供以操作該系統電腦。此外，一檢查監視器更被提 9

Claims (1)

1328111 十、申請專利範圍： —一 ‘…^ 1. 一種使用實質檢查之測試系統，包含： 一測試裝置，拍攝一陣列基板或濾光基板上之一瑕疵 的影像，以取得一經拍攝得之影像，並提供關於該瑕疵的 檢查資訊； 一主伺服器，用以建構該測試裝置之檢查資訊為一資 料庫，並接著傳送該等檢查資訊至一檢查主機；以及 _ 該檢查主機，用以根據該主伺服器中的檢查資訊檢查 "亥陣列基板或遽光基板上是否有瑕疵的存在，以形成一判 定結果，並傳送該判定結果至該主伺服器。 2. 如申请專利範圍第丨項之使用實質檢查之測試系統，其 該關於瑕疵之檢查資訊包含一該陣列或濾光基板的身 ，貧訊、複數個在該陣列基板或濾光基板上之面板的身份 1 Λ、所檢測得之瑕疵的編號、一拍攝該瑕疵形成的影像 檔案、以及已檢測瑕疵之測試裝置的編號。 • 3·如申請專利範圍第1項之使用實質檢查之測試系統，其 中該判定結果包含： 一瑕疵待被修復之狀況、一瑕疵狀態良好的狀況、 瑕疵狀態不佳的狀況、及一瑕疵狀態不易檢查的狀況。 4. 如申請專利範圍第3項之使用實質檢查之測試系統，其 中若忒判定結果為該瑕疵待被修復之狀況，則一修復請求 ^自該主飼服器發送至該測試裝置，且該瑕疵因此被該測 試裝置修復。 5. 如申請專利範圍第4項之使用實質檢查之測試系統，其 28 1328111 中若該瑕疵被該測試裝置修復，則該經修復區域之一經拍 攝得之影像被建立，且該經拍攝得之影像被自該測試裝置 傳送至該主伺服器。 6. 如申請專利範圍第1項之使用實質檢查之測試系統，更 包含一品質管理主機，用以自該主伺服器接收該經拍攝得 之影像，並用以根據該瑕疵的狀態檢查該陣列基板或濾光 基板上是否有一瑕疵的存在。 7. 如申請專利範圍第1項之使用實質檢查之測試系統，更 包含一再檢查主機，用以在該判定結果為該瑕疵的狀態難 以被檢查的狀況時根據該瑕疵被即時拍攝得之一即時影 像再檢查該瑕疵的狀態。 8. —種使用實質檢查之測試系統，包含： 一測試裝置，拍攝一陣列基板或濾光基板上之瑕疵 的影像，以取得一經拍攝得之影像，並提供關於該瑕疵的 檢查資訊； 一主伺服器，用以建構該測試裝置之該檢查資訊為 一資料庫，並接著傳送該等檢查資訊至該第一檢查主機； 該第一檢查主機，用以根據該主伺服器中的檢查資訊 檢查該陣列基板或濾光基板上是否有瑕疵的存在，以形成 一判定結果，並傳送該判定結果至該主伺服器；以及 一第二檢查主機，用以根據一拍攝經修復區域所得之 影像，檢查該瑕疵是否已成功修復。 9. 如申請專利範圍第8項之使用實質檢查之測試系統，其 中該關於瑕疫之檢查資訊包含一該陣列或濾光基板的身 29 1328111 份資訊、複數個在該陣列基板或濾光基板上之面板的身份 資訊、所檢測得之瑕疵的編號、一拍攝該瑕疵形成的影像 檔案、以及已檢測瑕疵之測試裝置的編號。 10.如申請專利範圍第8項之使用實質檢查之測試系統，其 中該判定結果包含一瑕疵需被修復之狀況、一瑕疵狀態良 好的狀況、一瑕疵狀態不佳的狀況、以及一瑕疵狀態不易 檢查的狀況。 11 ·如申請專利範圍第10項之使用實質檢查之測試系統， 其中若該判定結果為該瑕疵需被修復之狀況，則一修復請 求被自該主伺服器發送至該測試裝置，且該瑕疵因此被該 測試裝置修復。 12. 如申請專利範圍第11項之使用實質檢查之測試系統， 其中若該瑕疵被該測試裝置修復，則該經修復區域之一經 取得之影像被建立，且該經取得之影像被自該測試裝置傳 送至該主伺服器。 13. 如申請專利範圍第8項之使用實質檢查之測試系統，更 包含一再檢查主機，用以在該判定結果為該瑕疵的狀態難 以被檢查的狀況時即時根據該瑕疵被即時拍攝得之一影 像再檢查該瑕疵的狀態。 14. 如申請專利範圍第8項之使用實質檢查之測試系統，更 包含一警示主機，用以監視該測視裝置的狀態，藉以呼叫 一操作員。 15. 如申請專利範圍第8項之使用實質檢查之測試系統，更 包含一子伺服器，用以在該主伺服器未被操作時執行與該 30 1328111 主伺服器相同的功能。 16. 種使用貫質檢查之測試方法，包含下列步驟. 拍攝一陣列基板或濾光基板上之一瑕疵的影像，以取 得一經拍攝得之影像，並自一測試裝置提供關於該瑕疵的 檢查資訊； 透過主飼服益建構該測試襄置之檢查資訊為一資料 庫’並接著傳送該等檢查資訊;以及 ' φ 根據該主伺服.器中的檢查資訊檢查該陣列基板或濾 光基板上是否有瑕疵的存在，以形成一判定結果，並傳送 該判定結果至該主伺服器。 17. 如申請專利範圍第16項之使用實質檢查之測試方法， 其中該關於瑕疵之檢查資訊包含一該陣列或濾光基板的 •身份資訊、複數個在該陣列基板或濾光基板上之面板的身 份資訊、所檢測得之瑕疵的編號、一拍攝該瑕疵形成的影 像稽案、以及已檢測瑕疵之測試裝置的編號。 # 18.如申請專利範圍第16項之使用實質檢查之測試方法， 其中該判定結果包含一瑕疵待被修復之狀況、一瑕疵狀態 良好的狀況、一瑕疵狀態不佳的狀況、及一瑕疵狀態不易 檢查的狀況。 19. 如申請專利範圍第18項之使用實質檢查之測試方法， 其中若該判定結果為該瑕疵待被修復之狀況，則一修復請 求被自該主伺服器發送至該測試裝置，且該瑕疵因此被該 測試裴置修復。 20. 如申請專利範圍第19項之使用實質檢查之測試方法， 31 其中若該瑕疵被該測試裝置修復，則該經修復區域之一經 拍攝得之影像被建立，且該:經拍攝得之影像被自該測試^ 置傳送至該主伺服器。 21.如申請專利第16項之使用實f檢查之測試方法， 更包含下列步驟： r==:::=::= 彳範㈣16狀使用實質檢查之賴方法， 更包含下列步驟： 在，判定結果為該瑕疲的狀態難以被檢查的狀況 時’即時根據該瑕疵被 的狀態。 稷卩時拍攝付之—影像再檢查該瑕疮

32 1328111 第二圖 開始 stsitsisii" S2ai 傳送檢査資訊至主伺服器 mummr 5202 5203 檢査經拍攝得之彩像並透過該 經拍攝得之影像檢疵碼

對被檢查岛待修復之瑕疵執行自 .動瑕疵修也，並取得經拍豳痴也

S212 檢查基板& 好，並繼硪 r 狀嗥為1 後《程序 Ψ f 檢查基板之狀態為不佳， 並繼讀執行後讀程序 1328111 （月》节修正替换頁

第四圖