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TWI324955B - - Google Patents

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TWI324955B
TWI324955B TW96125371A TW96125371A TWI324955B TW I324955 B TWI324955 B TW I324955B TW 96125371 A TW96125371 A TW 96125371A TW 96125371 A TW96125371 A TW 96125371A TW I324955 B TWI324955 B TW I324955B
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Description

1324955 t I · 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於切割墊板以及使用該切割墊板從圓柱形工件,尤 其是半導體材料構成的工件上,同時切割多個切片之方法。該工 件和線鋸的線框借助輸送裝置進行垂直於工件縱軸方向的相對運 動,由此引導工件通過線框。 【先前技術】 通常,藉由使用線据(wire saws )於一次操作中將圓柱形單晶 或多晶半導體材料工件同時切割成多個半導體晶圓的方法_製備半 導體晶圓。 這些線蘇的主要元件包括機架(machine frame )、輸送裝置 (feeding device )和切割工具(sawing tool),而切割工具包括由 鑛線(wire)的平行部分所形成的線框(frame)。工件一般藉由 膠接或枯合固定在稱作切割塾板(sawing strip )的物件上。而切 割塾板則又固定在固定板(mounting plate)上,以便於線鑛中夾 持工件。US 6035845公開了各種切割墊板。習知技術之切割墊板, 其特色在於其截面實質上為矩形,該切割墊板的一側藉由於切割 塾板一側之凹曲形(concave ly curved)來配合工件之圓柱形狀。 線鋸的線框一般由多個鋸線的平行部分所形成,這些鋸線夾在 至少兩個鑛線導輥(wire guiding rollers)之間,鑛線導輥被可轉 動地裝配,且其中至少一個導輥係經驅動。鋸線的部分一般屬於 一不間斷之鑛線,鑛線係螺旋狀環繞導輥系統,從輸送輥(supply 6 1324955 roller)延展到接收親(take-up roller)上。 於切割操作期間,輸送裝置將使鋸線部分和工件進行反向相對 運動。該輸送運動的結果是,鋸線切割穿過工件而形成平行的鋸 縫,其中於鋸線上使用切割懸浮體。切割懸浮體也稱作漿液,其 含有懸浮在液體中的硬質材料顆粒,如碳化矽。亦可使用具有固 ' 定結合有硬質材料顆粒的鋸線。於此情況下,不必採用切割懸浮 … 體。僅需加入液體冷卻潤滑劑,以保護鋸線和工件避免過熱,同 ^ 時將工件碎片從鋸縫中排出及排掉。 由圓柱形半導體材料(例如單晶錠件(single crystal ingots)) 生產半導體晶圓,其對切割方法具有很高的要求。切割方法一般 要達到的目的,是每個切出的半導體晶圓具有兩個儘量平整且相 互平行的面。 除了厚度有所不同,半導體晶圓兩個面的平面度十分重要。利 用線鋸切割半導體單晶(例如矽單晶)後,其結果所產生的晶圓 具有波紋形的表面。於後續之步驟(例如磨光或研磨)中,根據 ® 波紋的長度和振幅以及所排出材料的深度,可以部分或完全除去 該波紋。在最壞的情況下,即便拋光後,成品半導體晶圓上還會 測得殘留的波紋,此將對局部的幾何結構產生負面影響。該些波 紋以不同的程度存在於切割所獲得之晶圓的不同位置上。其中尤 其關鍵在於切割的末端區域,其可能會產生特別突出的波紋,並 且依後續處理步驟類型,可能還會在成品中檢測到所述波紋。 由DE 102005007312 A1可知,習知技術之切割方法所產生的切 割末端區域中,從圓柱形工件末端切下切片的情況下,波紋尤為 1324955 框,其中使用了根據本發明的切割墊板。 【實施方式】 切割墊板係使用合適材料所生產之長形墊板,於線鋸製程中用 以固定工件,其中合適的材料如石墨、玻璃或塑膠等。習知技術 - 切割墊板之特色在於實質上矩形的截面,但是用於固定圓柱形工 -. 件的面則具有對應於工件的凹曲度,此一切割墊板的形狀可配合 工件的形狀。根據本發明,與習知技術的方法類似,較佳者係利 ® 用膠接或粘合方法將工件固定於切割墊板上。藉由符合工件的形 狀,可以達到盡可能大的粘合面積,如此工件與切割墊板間的結 合力也會盡可能的大。切割墊板的形狀可一般性地描述如下: 首先定義如下,切割墊板1的縱向應理解為平行於與其連接之工 件2的縱軸3的方向。如上所述,切割墊板1具有第一面4,該面係 凹曲形並與其縱軸方向垂直,且用於連接工件2。位於第一面4對 面的是第二面5,該面用於連接固定板(沒有顯示出)。面4和5藉 鲁 由兩個側面6、7相連接。側面6、7與第一面4相交的兩個邊8、9彼 此的距離為a。在第一面4的中央區域,假想線10可定義為沿縱向 穿過該面上與第二面5保持最短距離d的所有的點。換言之,該假 想線10沿著切割墊板1厚度最小處的縱向穿行(即平行於與切割墊 板相連之工件的縱軸3),該最小厚度與距離d同義。假想線10所 處的位置為切割過程結束時線框離開工件2的地方。本發明切割墊 板特徵之另一尺寸係為與假想線10相交、垂直於距離d且其終點位 於側面6和7上的線之長度b。換言之,b為在假想線10高度上進行 1324955 測量所獲得側面6和7間的距離。 本發明切割墊板1 (第2圖)的獨特之處在於距離b小於距離a。 較佳者其符合關係0.5a < b < 0.96a。尤其較佳為符合關係0.6a < b < 0.75a 〇 相對地,於習知技術之切割塾板(第1圖),距離a和b的尺寸則 • 相等。 … 令人驚訝地發現,使用根據本發明的切割墊板將導致切開區域 ^ 中波紋的明顯減少。產生這一效果的原因尚不清楚。然而,針對 本發明所進行的研究中觀察到了以下情況: _ 切割操作期間,切割懸浮體作用於線框上。鋸線部分在工件方 向上高速輸送切割懸浮體,並將其送入鋸縫中,在此其具有研磨 劑之功能。一旦線框穿入習知技術之具有實質上矩形截面的切割 塾板時,即可以觀察到由於衝擊切割塾板的平側面(straight side faces ),一些切割懸浮體立即向鑛線運動的相反方向遠遠地回甩, 而再次甩回的一些切割懸浮體則擊中沿工件方向運行的線框的鋸 ® 線部分。相反,當切割進根據本發明之切割墊板時,可觀察到一 些切割懸浮體由於衝擊切割墊板之傾斜側面而實質上垂直向上甩 回,但不是沿相反的方向。甩回到線框上的切割懸浮體可能引起 切割懸浮體不均勻地作用在鋸線部分上,或引起鋸線部分在工件 的縱向產生不受控制的橫向偏離。可以理解切開區域波紋度的降 低可歸因於廣泛地消除的此類影響。然而,其他的解釋也是可以 想像的》 本發明之切割墊板較佳對稱於通過工件2的縱軸3與假想線10的 1324955 平面。同樣地,側面6、7較佳為平面。第二面5較佳亦為平面。 與含硬質材料顆粒的切割懸浮體一起使用時,使用根據本發明 的切割墊板特別有利。從工件上切割切片時,所述切割懸浮體藉 由至少一個喷嘴單元噴灑到線框上。然而,本發明之切割墊板亦 可於使用具有固定硬質材料顆粒之鋸線時使用,藉由至少一個喷 ' 嘴單元向其施用液體冷卻潤滑劑。 —— 噴嘴單元是指能從工件一側將切割懸浮體或冷卻潤滑劑施加到 ^ 線框上的所有喷嘴。舉例來說,喷嘴單元較佳為與鋸線導輥的轴 和工件的軸平行的伸長的槽形喷嘴。如果在工件一側之線框上提 供了多個這種喷嘴,則這些喷嘴共同形成了噴嘴單元。噴嘴單元 還可以包括較佳以直線排列成一排之獨立喷嘴,該排喷嘴與鋸線 導報的轴和工件的軸平行,每個喷嘴都具有例如圓形截面,並且 將切割懸浮體或冷卻潤滑劑施用到線框的鋸線部分。 如果使用了切割懸浮體,則較佳係在切割結束時減少切割懸浮 體的流量,如在DE 102005007312 A1中所公開的。 ® 同樣,較佳係於最後10%的切割距離内增加切割懸浮體的溫度, 以便降低切割懸浮體的粘度,從而降低背壓梯度。在最後10%的切 割距離内切割懸浮體的溫度較佳係增加至多20K。 切割距離是整個切割操作期間,線框在工件中通過的全部距 離,亦即工件中的全部輸送位移。在工件為圓柱形的情況下,切 割距離對應於工件的直徑。 在切割結束時,藉由使用根據本發明的切割墊板及增加切割懸 浮體的溫度,同時與減少切割懸浮體的流量相結合,可以獲得最 1324955 t - * 佳的效果。 實施例 為了觀察使用根據本發明切割墊板的效果,使用商業上可獲得 的四輥線鑛以將相當數量之直徑為300mm、長度為80mm至355mm ' 的圓柱形單晶矽錠切割成厚度約為930微米的切片。於鋸線上使用 ~ 含有懸浮於二丙二醇中、包括碳化矽之硬質材料顆粒的切割懸浮 ^ 體。切割快結束時,減少切割懸浮體的用量,如DE 102005007312 A1中所述。半數之切割操作將使用習知技術的切割塾板(比較 例),另一半則使用根據本發明的切割墊板(實施例)。 對每個由此產生的矽切片或晶圓上切開區域中的波紋度進行測 定。波紋度是指空間波長範圍為2毫米至10毫米的尺寸偏差(峰到 谷),而不計厚度變化的部分。切開區域定義為切割距離的最後 50毫米。 如下測定於切開區域中的波紋度: ® 沿著穿過晶圓中央之切割方向的線,將配有一對電容距離測量 感測器(一個測量石夕晶圓的前側,一個測量後側)的測量裝置之 測量頭引導到矽晶圓前側和後側之上。切割方向是指線鋸作業期 間工件和線框之間相對運動的方向。在此過程中,每隔0.2毫米測 量和記錄感測器與石夕晶圓前側或後側之間的距離。用低通濾、波器 (高斯遽波器)除去空間波長範圍(spatial wavelength range )大 於2毫米的表面粗糙度。經過這些步驟後,就得到了矽晶圓前側和 後側的評估曲線(evaluation, curves )。 12 ·..,了測定切開區域中的波紋度,用長度為戰米的視窗對前側 &後側兩條評估曲線每—條從切割方向看的最後观米(滚動方 相過濾(r〇inngboxcarfiUering))進行測定。視窗内的最大偏差 (蜂到合)稱為視窗中央位置的波紋度^評估曲線最㈣毫米内 測得的前側和後側之上所有波紋度中的最大值在以下比較例和實 施例中稱為切開區域的波紋度。 比較例 使用根據習知技術的對稱切割墊板,距離a*b (見第⑷均為 毫米’厚度4 14.5毫米。以這樣的方法總共生產了大約觸 個夕aa圓,用上述方法對切開區域的波紋度進行測量。 實施例 使用根據本發明的對稱切割墊板,a=17〇毫米、b=u4毫米,且 d=14.5毫米。以這樣的方法類似地總共生產了大約1〇〇〇個矽晶圓, 用上述方法對切開區域的波紋度進行測量。 對這些測量結果進行統計評估。在第3圖中顯示該統計評估。切 開區域的波紋度”八在\軸上以微米為單位繪出。出現在〇至丨間的 值之累計頻率p在y軸上繪出。曲線u所示為比較例的結果,曲線 12所示為實施例的結果。前述曲線相應地表示具有χ軸上所指明的 切開區域波紋度\¥八的矽晶圓的最大比例。因此,舉例來說,第3 圖顯示根據比較例生產的石夕晶圓(曲線1 i )只有約35%具有最高為 10微米的切開區域波紋度。然而’另一方面’根據實施例生產的 13 1324955 v ., 約80%的矽晶圓(曲線12)具有最高為1〇微米的切開區域波紋度。 綜合起來,從曲線12與曲線π相比明顯向左漂移這一事實來看, 很顯然根據本發明生產的矽晶圓的波紋度明顯小於根據習知技術 生產的矽晶圓的波紋度。此外,曲線12令更陡的斜率顯示,與習 知技術相比可以減少切開區域波紋度的擴展。 • 本發明的應用範圍可以擴展到使用線鋸方法並加入切割懸浮體 將圓柱形工件分割成多個切片,而且高平面度、低波紋度對產品 φ 十分重要之所有切割方法。本發明較佳係用於半導體晶圓的生 產,尤其是矽晶圓的生產。術語“圓柱形的”應理解為工件具有實 質上為圓形的截面,某些偏差如施用在側面上的定向槽或平面應 當為非實質性的。 【圖式簡單說明】 以下根據附圖對本發明進行更詳細的描述: 第1圖所示為根據習知技術,具有實質上圓柱形之工件固定於其 # 上之切割墊板的截面。 第2圖所示為根據本發明技術,具有圓柱形之工件固定於其上之 切割墊板的截面。 第3圖所示為使用習知技術之切割墊板時與使用根據本發明之 切割塾板時’切開區域中之波紋度的統計比較結果。 【主要元件符號說明】 1 切割墊板 14 1324955 2 工件 3 縱軸 4 第一面 5 第二面 6 > 7 側面 8、9 邊 10 假想線 a、d ' b 距離 11、12 曲線

Claims (1)

1324955 第096丨25371號專4申諳案 中文申請專利範圍替換本(98年11月) 十、申請專利範圍: 1. 一種在用線鋸從實質上圓柱形的工件(2)切割切片時用於固 定此工件(2)之切割墊板(1),其包含: 一第一面(4) ’其係呈凹曲形(concavely curved)並垂直於 其縱軸方向,且係用於連接該工件(2); 一第二面(5),其係位於該第一面(4)之對面,用於連接 一固定板;以及
兩個側面(6、7),其係連接該第一面(4)和該第二面(5); 其中,該等側面(6、7)與該第一面(4)相交之該切割墊板(1) 之兩個邊(8、9),其彼此距離為a,而該第一面(4)上之一假想 線(10)與該第二面(5)之最小距離為d,於該假想線(10)之;度 處並垂直該距離d測量該等側面(6、7)間之距離為b,其中該 距離b小於該距離a。 2. 如請求項1之切割墊板,其符合如下關係:0.5a<b<0.96a。 3. 如請求項1之切割墊板,其符合如下關係:0.6a < b < 0.75a。 4. 一種從實質上圓柱形的工件同時切割多個切片之方法,該工 件和一切割墊板連接,而一線鋸之一線框藉由一輸送裝置進 行垂直於該工件之縱軸方向的相對運動,由此以引導該工件 通過該線框,其中係使用請求項1至3中任一項之切割墊板。 5. 如請求項4之方法,其中於開始分割該工件前係使用膠接或 粘合而將該工件結合在該切割墊板上。 6. 如請求項4或5之方法,其中於該切割操作期間係使用至少 一個喷嘴單元將包含懸浮於液體中之硬質材料顆粒的切割懸 浮體喷灑於該線框。 16 1324955 ϊ I jp没年/丨月V日修(¾正替換貝 I —Ι··| Γ·_·—圓 η ^ 7·如請求項4或5之方法’其中在最後1〇%之切割距離内升高 該切割懸浮體的溫度。
TW96125371A 2006-07-13 2007-07-12 A sawing strip and method for simultaneously cutting off a multiplicity of slices from a cylindrical workpiece using the sawing strip TW200804016A (en)

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009200374A (ja) * 2008-02-25 2009-09-03 Tkx:Kk 半導体ウェハーの製造方法及び半導体ウェハー
ATE500940T1 (de) * 2008-04-23 2011-03-15 Applied Materials Switzerland Sa Montierscheibe für eine drahtsägevorrichtung, drahtsägevorrichtung damit, und drahtsägeverfahren, das mit der vorrichtung durchgeführt wird
JP5056645B2 (ja) * 2008-07-23 2012-10-24 信越半導体株式会社 ワークの切断方法及びワイヤソー
DE102008037653B4 (de) * 2008-08-14 2013-10-31 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung von Wafern und Blockhalter
DE102011005949B4 (de) * 2011-03-23 2012-10-31 Siltronic Ag Verfahren zum Abtrennen von Scheiben von einem Werkstück
CN102514109A (zh) * 2011-12-30 2012-06-27 上海硅酸盐研究所中试基地 碳化硅晶体的定型定向的切割方法
DE102012209974B4 (de) 2012-06-14 2018-02-15 Siltronic Ag Verfahren zum gleichzeitigen Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben von einem zylindrischen Werkstück
DE102013200467A1 (de) 2013-01-15 2014-07-17 Siltronic Ag Klemmbare Aufkittleiste für einen Drahtsägeprozess
CN104015268A (zh) * 2013-09-24 2014-09-03 中磁科技股份有限公司 钕铁硼永磁材料加工方法及其设备
JP6420199B2 (ja) * 2015-04-28 2018-11-07 株式会社シマノ 自転車用装置
JP2017024093A (ja) * 2015-07-17 2017-02-02 Towa株式会社 切断装置及び切断方法
JP6699196B2 (ja) * 2016-01-22 2020-05-27 三星ダイヤモンド工業株式会社 ブレイク装置
JP6668776B2 (ja) * 2016-01-22 2020-03-18 三星ダイヤモンド工業株式会社 ブレイク装置
JP6222393B1 (ja) * 2017-03-21 2017-11-01 信越半導体株式会社 インゴットの切断方法
DE102019207719A1 (de) * 2019-05-27 2020-12-03 Siltronic Ag Verfahren zum Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben von Werkstücken während einer Anzahl von Abtrennvorgängen mittels einer Drahtsäge und Halbleiterscheibe aus einkristallinem Silizium

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1438100A (en) * 1920-03-08 1922-12-05 American Optical Corp Lens grinding
JPS5257592A (en) * 1975-11-06 1977-05-12 Seiko Epson Corp Sheet for processing lenses
CA1121695A (en) * 1980-03-10 1982-04-13 Michele Diplacido Masonary saw jig
CH661471A5 (en) * 1985-03-14 1987-07-31 Gbm Mecanic S A Guided manual stone-holder device
JPH0919921A (ja) * 1995-07-07 1997-01-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd ワイヤソー
TW330884B (en) 1996-03-26 1998-05-01 Shinetsu Handotai Co Ltd Wire saw and method of slicing a cylindrical workpiece
JP3202591B2 (ja) 1996-03-26 2001-08-27 信越半導体株式会社 ワイヤーソー及び円柱形ワークを切断する方法
CH691045A5 (fr) * 1996-04-16 2001-04-12 Hct Shaping Systems Sa Procédé pour l'orientation de plusieurs pièces cristallines posées côte à côte sur un support de découpage en vue d'une découpe simultanée dans une machine de découpage et dispositif pour la
JPH10249700A (ja) * 1997-03-17 1998-09-22 Super Silicon Kenkyusho:Kk ワイヤソーによるインゴットの切断方法及び装置
JP3442260B2 (ja) 1997-06-06 2003-09-02 株式会社日平トヤマ ワイヤソー及びワークの切削方法
DE19739965A1 (de) * 1997-09-11 1999-03-18 Wacker Siltronic Halbleitermat Sägeleiste zum Fixieren eines Kristalls und Verfahren zum Abtrennen von Scheiben
US6367467B1 (en) * 1999-06-18 2002-04-09 Virginia Semiconductor Holding unit for semiconductor wafer sawing
US6390889B1 (en) * 1999-09-29 2002-05-21 Virginia Semiconductor Holding strip for a semiconductor ingot
DE102005007312B4 (de) * 2004-04-29 2006-07-27 Siltronic Ag Verfahren zum gleichzeitigen Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben mit verringerter Welligkeit von einem zylindrischen Werkstück
DE102004058194A1 (de) 2004-12-02 2005-08-11 Siltronic Ag Sägeleiste und Verfahren zum Abtrennen von Halbleiterscheiben von einem Kristallstück
EP1819473A1 (de) * 2004-12-10 2007-08-22 Freiberger Compound Materials GmbH Werkst]ckhalterung und verfahren zum drahts[gen
DE102006060358A1 (de) * 2006-12-20 2008-06-26 Siltronic Ag Vorrichtung und Verfahren zum Zersägen eines Werkstücks

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