TWI303885B - Thin film transistor array substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
1303885 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種液晶顯示器元件,特別是有關於 一種薄膜電晶體陣列基板及其製造方法。 【先前技術】 一般液晶顯示器之製造可大致區分為薄膜電晶體陣列 基板製程、彩色濾光片基板製程、液晶注入及液晶顯示器 模組組裝。為了避免液晶顯示器背光源發出之光線從液晶 顯示面板之非顯示區散射至顯示區,因此常於非顯示區形 成一遮光結構,此遮光結構環繞顯示區之周邊設置,用以 防止因背光源之漏光造成顯示區之顯示畫質降低。 遮光結構可以設置於薄膜電晶體陣列基板,亦可以設 置於彩色濾光片基板,於一習知技藝,此遮光結構係與黑 色矩陣(Black Matrix)同時形成於彩色濾光片基板,此黑色 矩陣之材料通常使用鉻金屬,然而鉻金屬容易造成環境污 染。因此,於另一習知技藝,是以黑色樹脂取代鉻金屬, 此方法雖然可以改善環境污染的問題,但是黑色樹脂的遮 光性卻不如鉻金屬,因此可能產生顯示品質降低的問題。 於另一習知技藝,係於薄膜電晶體陣列基板之非顯示 區形成一遮光結構。參照第1圖,第1圖繪示一習知薄膜 電晶體陣列基板之上視示意圖,遮光結構114是一片狀的 金屬層,位於薄膜電晶體陣列基板11 〇之非顯示區i i 2,雖 然此遮光結構114具有良好的遮光效果,但是卻容易造成 片狀剝落的缺陷。另一習知薄膜電晶體陣列基板之遮光詰 1303885 構是形成複數個孔洞於一片狀金屬層上,此些孔洞是用以 避免遮光結構產生片狀剝落的情形,然而此些孔洞卻容易 造成漏光的現象。 如何改善遮光結構的設計,以兼顧環境保護、結構附 著性及遮光效果,是目前急需克服的問題。 【發明内容】
本發明之目的就是在提供一種薄膜電晶體陣列基板, 此薄膜電晶體陣列基板在非顯示區具有一遮光結構,此遮 光結構可以改善習知技藝產生環境污染的問題。 本發明之另一目的就是在提供一種薄膜電晶體陣列基 板,此薄膜電晶體陣列基板在非顯示區具有一遮光結構, 此遮光結構具有較佳之遮光效果及結構附著性。 本發明之又一目的就是在提供一種薄膜電晶體陣列基 板,此薄膜電晶體陣列基板在非顯示區具有一遮光結構, 此遮光結構可以提高共通電壓的穩定性。 很像以上所述之目的,提出_種薄膜電晶體陣列基 板’具有-顯示區及一非顯示區並且包括有一透明基板、 複數:畫素單元及-具有複數個遮光層之遮光結構。該些 畫素單元設置於該顯示區,每一該晝素單元包括有一薄膜 =晶體及-畫素電極。該遮光結構設置於該非顯示區/,其 該些遮光層具有複數個孔洞,且二相鄰之該些遮的 孔洞交錯設置。 曰 很據本發明一較佳實施例所述 /寻膜電晶體陣列基 板,其中該遮光結構包括有-第一遮光層與_第二遮光 1303885 層且該第一遮光層與该第一遮光層之孔洞交錯設置。 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基 板’其中該薄膜電晶體具有一閘極層,該閘極層與該第一 遮光層位於同一膜層。 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基 板,其中該薄膜電晶體具有一源極與汲極層,該源極與二 極層與該第二遮光層位於同一膜層。
根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基 板,其中該非顯示區具有一連接層,該連接層與該畫素電 極位於同一膜層。 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基 板,其中該連接層電性連接該第—遮光層及該第二遮光層。 根據以上所述之目的,更提出一種薄膜電晶體陣列基 板之製造方法,其步驟包括有:首先,形成_閘極層於一 透明基板之-顯㈣上,且同_成具有複數個孔洞之一 第一遮光層於透明基板之—非顯示區。接著,形成一絕緣 層覆蓋該閘極層與該第—遮光層。接著,形成―通道層於 “ Ά極層及該絕緣層上。接著,形成_源極與没極層於該 層^且同時形成具有複數個孔洞之—第二遮光層於 該非,不區,其中該第—遮光層之孔洞與該第二遮光層之 孔=乂錯认置°接著’形成-介電層於該顯示區及該非顯 不區。接著’形成複數個顯示區開口於該介電層,以暴露 §n、及極層。接著,形成—晝素電極於該介 之上。 晶體陣列基板 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電 1303885 之製造方法,其中該絕緣層與該介電層之材料相同。 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基板 之製造方法,其中形成顯示區開口之步驟更包括形成複數 個非顯示區開口,該些非顯示區開口暴露出該第一遮光層 及該第二遮光層。 根據本發明一較佳實施例所述之薄膜電晶體陣列基板 之製造方法,其中形成晝素電極層之步驟更包括形成一連 接層,該連接層透過非顯示區開口電性連接該第一遮光層 及該第二遮光層。 根據以上所述之目的,更提出一種液晶顯示面板,具 有一顯示區及一非顯示區,該非顯示區包括一遮光區,該 液晶顯示面板包括有一彩色濾光片基板、一薄膜電晶體陣 列基板及一液晶層。其中該薄膜電晶體陣列基板具有複數 個晝素單元,該晝素單元位於該顯示區,每一該些畫素單 7G包含一薄膜電晶體及一晝素電極,該薄膜電晶體陣列基 板於該遮光區具有一第一遮光層及一第二遮光層,其中該 第遮光層及該第二遮光層分別具有複數個孔洞,並且該 第遮光層之孔洞與該第二遮光層之孔洞交錯設置。該液 日日層a又置於該彩色濾光片基板與該薄膜電晶體陣列基板之 間。 根據本發明一較佳實施例所述之液晶顯示面板,其中 該薄膜電晶體陣列基板包括有一透明基板、_第—圖案化 t電層、一絕緣層、一通道層、一第二圖案化導電層、一 介電層及一晝素電極層。該第一圖案化導電層形成於該顯 不區及該非顯不區,該第一圖案化導電層包括有該薄膜電 1303885 :ι:層及該第一遮光層。該絕緣層覆蓋該 ^第第^光層。該通道層形成於該閉極及該絕緣層上。 圖案化導電層形成於該顯示區及該非顯示區,該第 ^ I導電層包括有該薄膜電晶體之—源極與沒極層及 光層。該介電層形成於該顯示區及該非顯示區, k 電層具有複數個顯示區開口,該些 露出該源極與汲極層。該畫素電極層設置於:介電二暴 根據本發明-較佳實_所述之液晶顯示面板,其中 :二::具有複數個非顯示區開口’該些非顯示區開口暴 路出該苐一遮光層及該第二遮光層。 根據本發明-較佳實施例所述之液晶顯示面板,更包 括有-連接層,形成於該非顯示區,該連接層透過該非顯 不區開D電性連接該第—遮光層及該第二遮光層。 /艮據本發明—較佳實施例所述之液晶顯示面板,其中 該第一圖案化導電層及該第二圖案化導電層之材料是金 =一根據本發明一較佳實施例所述之液晶顯示面板,其中 該彩色濾、光片基板於該遮光區具有—第三遮光層。 根據本發明一較佳實施例所述之液晶顯示面板,其中 其中該第三遮光層之材料是黑色樹脂。 本發明之薄膜電晶體陣列基板之非顯示區具有一第一 遮光層及一第二遮光層,該第一遮光層及該第二遮光層分 別具有複數個孔洞,因此可以避免遮光層產生片狀剝落的 情形。 本發明之薄膜電晶體陣列基板,由於該第二遮光層之 1303885 孔洞與該第一遮光層之孔洞交錯設置,因此不易產生漏光 現象。 本發明之薄膜電晶體陣列基板,由於該連接層電性連 接該第一遮光層及該第二遮光層,使該第一遮光層及該第 二遮光層之電位皆為共通電壓,因此可以增加共通電壓的 穩定性,進而增進液晶顯示面板之品質。 本發明之液晶顯示面板,該第三遮光層之材料例如採 用黑色樹脂,因此可以改善環境污染的問題。 【實施方式】 第2圖繪示根據本發明一較佳實施例之薄膜電晶體陣 列基板之上視示意圖。請參照第2圖,此薄膜電晶體陣列 基板200具有一顯示區230及一非顯示區232,並且包括有 一透明基板210、複數個晝素單元236及一遮光結構234, 其中畫素單元236設置於顯示區230,並且包括有一薄膜電 晶體238及一畫素電極224。遮光結構234位於薄膜電晶體 陣列基板200之非顯示區232。 更詳細而言,透明基板210例如是一玻璃基板,顯示 區230例如是位於玻璃基板中央之一矩形區域,非顯示區 232例如是一環繞顯示區230之一框形區域。顯示區230 内設置有複數條相互平行之資料線244及掃描線242,資料 線244與掃描線242垂直,並且此些資料線與掃描線定義 出複數個畫素單元236。在每個畫素單元236中,可藉由控 制薄膜電晶體238,使資料線244傳輸一信號電壓至晝素電 極 224 〇 1303885 第2A圖繪示第2圖之局部區域201放大圖。請同時參 照第2圖及第2A圖,遮光結構234具有複數個孔洞,例如 局部區域201包括複數個孔洞203,此些孔洞203是用以避 免遮光結構產生片狀剝落的情形。 第2B圖繪不第2圖之A_A’剖面圖。請同時參照第2 圖及第2B圖,遮光結構234具有一第一遮光層212a及第 二遮光層220a’第一遮光層212a及第二遮光層220a分別
具有複數個孔洞213、221,此些孔洞213、221是用以避免 遮光層212a、220a產生片狀剝落的情形。值得注意的是, 位於第一遮光層212a與第二遮光層220a之孔洞交錯設 置,如此,可避免背光源所發出之光線215通過第一遮光 層212a及第一遮光層220a,進而改善遮光結構234之遮光 性能。 遮光結構234之製作可以與畫素單元236整合於同一 製程,以下將配合圖示進行說明。第2〇圖繪示第2圖之 B-B’剖面圖。同時參照第2圖、第2B圖及第2c圖,薄 膜電晶體陣列基板200之製造方法例如是;首先,形成一 閘極層212b於透明基板21〇之顯示區23〇上,且同時形成 具有複數個孔洞213之一第一遮光層212a於透明基板21〇 之非顯示區232 〇例如可採用沈積、微影、蝕刻等製程形成 -圖案化導電層於透明基板210之上,此圖案化導電層於 顯示區23〇包含閘極層212b,並且於非顯示區232包含第 -遮光層212a’並且,此圖案化導電層之材料例如是鋁鈥 :金(AlNd)°接著’形成一絕緣層214覆蓋閘極層"η與 第-遮光層212a’此絕緣層214之材料例如是氮化: 1303885 . (SiNx)。接著,形成一通道層216於閘極層212b及絕緣層 214上,此通道層216之材料例如是非晶石夕。 形成通道層216之後,接著形成一源極與汲極層220b 於通道層216上,且同時形成具有複數個孔洞221之一第 二遮光層220a於非顯示區232。例如可採用沈積、微影、 蝕刻等製程形成另一圖案化導電層,此圖案化導電層於顯 示區230與非顯示區232分別包含源極與汲極層220b與第 二遮光層220a,並且,此圖案化導電層之材料例如是鋁、 _ 鈦、鶴、錮。此外,源極與汲極層220b與通道層216之間 例如更包含一歐姆接觸層218。值得注意的是,第二遮光層 220a之孔洞221與第一遮光層212a之孔洞213交錯設置, 因此通過孔洞213的光線215,將被第二遮光層220a所遮 檔。於本較佳實施例,第一遮光層212a與第二遮光層220a 之材料例如皆為具有高反射率之金屬,因此具有較佳之遮 光性能。 繼續參照第2B圖,接著,形成一介電層222覆蓋絕緣 • 層214、源極與汲極層220b及第二遮光層220a,介電層222 之材料例如與絕緣層214相同,為氮化矽(SiNx)。接著,形 成複數個顯示區開口 226b及複數個非顯示區開口 226a於 介電層222,其中顯示區開口 226b暴露出源極與汲極層 220b,非顯示區開口 226a暴露出第一遮光層212a及第二 遮光層220a。 接著,形成一晝素電極層224b於介電層222之上,且 同時形成一連接層224a於非顯示區232。晝素電極層224b 透過顯示區開口 226b與源極與汲極層220b電性連接,連 12 1303885 接層224a透過非顯示區開口 226a電性連接第一遮光層 212a及第二遮光層22〇a。換言之,畫素電極層224b與連 接層224a位於同一膜層,此膜層是一透明導電層,其材料 例如是銦錫氧化物(ITO)或銦鋅氧化物(IZ〇)。值得注意的 疋’由於連接層224a電性連接第一遮光層212a及第二遮 光層220a,使得第一遮光層212a及第二遮光層22〇a之電 位皆為共通電壓(VC0m),如此,可以降低共通電壓之訊號 阻值,進而增加共通電壓的穩定性。 第3圖繪示根據本發明一較佳實施例之液晶顯示面板 之上視示意圖,第3A圖繪示第3圖之C-C,剖面圖。請同 時參照第3圖及第3A圖,液晶顯示面板300具有一顯示區 330及一非顯示區332。此液晶顯示面板3〇〇包括有一彩色 渡光片基板310、一薄膜電晶體陣列基板2〇〇及一液晶層 320,其中液晶層320設置於彩色濾光片基板31〇與薄膜電 晶體陣列基板200之間。一遮光區334設置於非顯示區332 内’薄膜電晶體陣列基板200於遮光區334具有一第一遮 光層212a及一第二遮光層220a,第一遮光層212a及第二 遮光層220a分別具有複數個孔洞213、221,並且第二遮光 層220a之孔洞與第一遮光層212a之孔洞交錯設置。彩色 濾光片基板於遮光區334具有一第三遮光層312,此第三遮 光層312之材料可以避免採用含鉻材料,例如採用黑色樹 脂,因此可以改善環境污染的問題。由於具有第一遮光層 212a、第二遮光層220a及第三遮光層312,相較於習知技 藝’本發明之液晶顯示面板具有較佳之遮光效果。 雖然本創作已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以
13 1303885 限定本創作,任何熟習此技藝者,在不脫離本創作之精神 和範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因此本創作之保護 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 能更明顯易懂,所附圖式之詳細說明如下··
第1圖繪示一習知薄膜電晶體陣列基板之上視示意圖。 弟2圖繪示根據本發明一較佳實施例之薄膜電晶體陣 列基板之上視示意圖。 第2A圖繪示第2圖之局部區域放大圖。 第2B圖纟會不第2圖之A-A’剖面圖。 弟2C圖繪不弟2圖之剖面圖。 第3圖繪示根據本發明一較佳實施例之液晶顯示面板 之上視示意圖。 弟3A圖繪不第3圖之C-C 剖面圖。
【主要元件符號說明】 224a :連接層 224b :晝素電極層 226a :非顯示區開口 226b :顯示區開口 230 :顯示區 232 :非顯示區 234 :遮光結構 11〇 :薄膜電晶體陣列基板 112 :非顯示區 114 :遮光結構 201 :局部區域 203 :孔洞 210 :透明基板 212a·第一遮光層 14 1303885 212b :閘極層 236 : 畫素單元 213 :孔洞 238 : 薄膜電晶體 214 :絕緣層 242 : 掃描線 215 :光線 244 : 資料線 216 :通道層 300 : 液晶顯不面板 218 :歐姆接觸層 310 : 彩色濾光片基板 220a :第二遮光層 320 : 液晶層 220b :源極與汲極層 330 : 顯不區 221 :孔洞 332 : 非顯示區 222 :介電層 334 : 遮光區 224 :畫素電極 15
Claims (1)
1303885 十、申請專利範圍: 1· 一種薄膜電晶體陣列基板,具有一顯示區及一非顯 示區’該薄膜電晶體陣列基板包含: 一透明基板; 複數個畫素單元,設置於該顯示區,每一該晝素單元 包含一薄膜電晶體及一晝素電極;以及 一遮光結構,具有複數個遮光層,設置於該非顯示區, 該些遮光層具有複數個孔洞,且二相鄰之該些遮光層的孔 洞交錯設置。 2.如申請專利範圍第1項所述之薄膜電晶體陣列基 板’其中該遮光結構包含一第一遮光層與一第二遮光層, 該第一遮光層與該第二遮光層之孔洞交錯設置。 3 _如申請專利範圍第2項所述之薄膜電晶體陣列基 板’其中該薄膜電晶體具有一閘極層,該閘極層與該第一 遮光層位於同一膜層。 4. 如申請專利範圍第2項所述之薄膜電晶體陣列基 板,其中該薄膜電晶體具有一源極與汲極層,該源極與汲 極層與該第二遮光層位於同一膜層。 5. 如申請專利範圍帛2項所述之薄膜電晶體陣列基 板’其中該非顯示區具有-連接層,該連接層與該畫素電 1303885 極位於同一膜層。
如中請專利範圍第5項所述之薄膜電晶體陣列基 八中該連接層電性連接該第-遮光層及該第二遮光層。 一種薄膜電晶體陣列基板的製造方法,包含: 形成-閘極層於一透明基板之一顯示區,且同時形成 具有複數個孔洞之-第—遮光層於該透明基板之—非顯示 區; I成絕緣層覆蓋該閘極層與該第一遮光層; 形成一通道層於該閘極層及該絕緣層上; 形成一源極與汲極層於該通道層上,且同時形成具有 複數個孔洞之-第二遮光層於該非顯示區,其中該第二遮 光層之孔洞與該第一遮光層之孔洞交錯設置; 形成一介電層於該顯示區及該非顯示區; 形成複數個顯示區開口於該介電層,該些顯示區開口 暴露出該源極與汲極層;以及 形成一晝素電極層於該介電層之上。 8·如申請專利範圍第7項所述之薄膜電晶體陣列基板 的製造方法’其中該絕緣層與該介電層之材料相同。 9·如申請專利範圍第7項所述之薄膜電晶體陣列基板 的製造方法,其中形成該些顯示區開口之步驟更包含形成 複數個非顯示區開口,該些非顯示區開口暴露出該第一遮 17 1303885 光層及該第二遮光層。 10·如申請專利範圍第9項所述之薄膜電晶體陣列基 板的製造方法,其中形成該畫素電極層之步驟更包含形成 一連接層,該連接層透過該些非顯示區開口電性連接該第 一遮光層及該第二遮光層。 11. 一種液晶顯示面板,具有一顯示區及一非顯示 區,該非顯示區包括一遮光區,該液晶顯示面板包含: 一彩色濾光片基板; 一薄膜電晶體陣列基板,具有複數個晝素單元,該些 畫素單元位於該顯示區,每一該畫素單元包含一薄膜電晶 體及一畫素電極,該薄膜電晶體陣列基板於該遮光區具有 一第一遮光層及一第二遮光層,其中該第一遮光層及該第 二遮光層分別具有複數個孔洞,並且該第一遮光層之孔洞 與該第二遮光層之孔洞交錯設置;以及 一液晶層,設置於該彩色濾光片基板與該薄膜電晶體 陣列基板之間。 12·如申請專利範圍第n項所述之液晶顯示面板,其 中該薄膜電晶體陣列基板包含: 一透明基板; 一第一圖案化導電層,形成於該顯示區及該非顯 示區’該第一圖案化導電層包含該薄膜電晶體之一閘極層 及該第一遮光層; 一絕緣層,覆蓋該閘極層與該第一遮光層; 18 1303885 一通道層,形成於該閘極及該絕緣層上; 一第二圖案化導電層,形成於該顯示區及該非顯 示區’該第二圖案化導電層包含該薄膜電晶體之一源極與 汲極層及該第二遮光層; 電層’形成於該顯不區及該非顯示區,其中 該”電層具有複數個顯不區開口’該些顯示區開口暴露出 該源極與沒極層;以及 一晝素電極層,設置於該介電層之上。 13 ·如申請專利範圍第12項所述之液晶顯示面板,其 中该介電層具有複數個非顯示區開口,該些非顯示區開口 暴露出該第一遮光層及該第二遮光層。 14.如申請專利範圍第13項所述之液晶顯示面板,更 連接層’形成於該非顯示區,該連接層透過該些非 ’、、、員示區開口電性連接該第一遮光層及該第二遮光層。
15·如申請專利範圍第u項所述之液晶顯示 面板,其 中該第_ _ μ —圖案化導電層及該第二圖案化導電層之材料是金 屬。 16.如申請專利範圍第11項所述之液晶顯示面板,其 ~先色據光片基板於該遮光區具有一第三遮光層。 17·如申請專利範圍第16項所述之液晶顯示面板,其 該第三遮光層之材料是黑色樹脂。
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