TWI392575B - 聚合物薄膜之製法 - Google Patents
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Description
本發明關於一種在液晶顯示裝置中適當地作為光學薄膜之聚合物薄膜之製法。
由於具有高透明性、高作業力、處理容易性、小型、縮微化可行性等優點，聚合物薄膜已廣泛地作為例如液晶顯示裝置之偏光濾色片的保護膜(以保護偏光膜)、寬視角膜等。特別地，使用醯化纖維素或環聚烯烴作為聚合物而製造之醯化纖維素薄膜的光學性質(如寬視角、高穿透率等)合理及優良且原料成本合理。因此現將注意力集中在以低成本製造高功能醯化纖維素薄膜。
為了製造聚合物薄膜，其主要使用溶液流延法。在溶液流延法中，塗布液係藉由混合作為薄膜原料之聚合物(如醯化纖維素、環聚烯烴等)、有機溶劑等，然後流延在行進撐體上以在其上形成含溶劑之流延薄膜而製備。然後將流延薄膜自撐體剝除成為濕膜。含溶劑之濕膜經乾燥成為聚合物薄膜。
近年來已需要改良藉溶液流延法以高生產力製造平面性優良之醯化纖維素薄膜的技術。因此在溶液流延法中進行數種安排而以高生產力製造薄膜。例如為了使製造速度更高，其施加乾燥空氣等而乾燥流延薄膜以具有自撐性質。如此自撐體穩定地剝除流延薄膜，因此生產力變高。此外流延薄膜之乾燥速度更高使得生產時間可縮短。如此生產力變高。然而如果改變乾燥空氣之吹送方向以增加乾燥速度，則在流延薄膜上發生不均勻，因此所製造聚合物薄膜之平面性變低。
為了製造平面性優良之聚合物薄膜，其有所謂之共流延法，其中流延至少兩種黏度不同之塗布液以在撐體上形成具有多層結構之流延薄膜。在此情形已知流延薄膜之撐體與最上層(或暴露層)間之主層係由高黏度層形成。暴露層係由低黏度塗布液形成，因此表面張力增加薄膜表面之調平效果。如此所製造聚合物薄膜之平面性優良而防止不均勻發生。
例如日本專利公開公告第2003－276037號教示一種多層結構之流延薄膜之製法，其具有由高黏度(30 Pa．s至60 Pa．s之範圍)塗布液製成之主層及由低黏度(20 Pa．s)塗布液製成之暴露層。其在共流延20秒後對流延薄膜施加10米/秒或更高之乾燥空氣。
然而在此公開公告之製法中，由低黏度塗布液形成暴露層不足以在流延層表面上減少不均勻產生。因此所製造薄膜難以具有近年來要求之平面性程度。此外在自撐體剝除流延薄膜時剝除力變低，因此部分流延薄膜殘留在撐體上。在此情形，生產力持續為低，此外殘餘部分接觸流延薄膜表面，平面性變低。
本發明之一個目的為提供一種藉由乾燥流延薄膜但不發生厚度不均勻而製造光滑性優良之聚合物薄膜之方法。
本發明之另一個目的為提供一種藉由增加剝除力，即自撐體剝除流延薄膜之容易性，而以高生產力製造聚合物薄膜之方法。
為了達成此目的及其他目的，在聚合物薄膜之製法中將添加劑加入一級塗布液(其為聚合物與有機溶劑之混合物)以製備三種塗布液，而且將塗布液在移動撐體上流延以形成三層重疊之流延薄膜。此三層為厚度t1(微米)之第一層、厚度t2(微米)之第二層、及厚度t3(微米)之第三層，該厚度t1、t2與t3至少之一不同，而且滿足t1t3t2之條件。
將流延薄膜自撐體剝除成為含有機溶劑之濕膜，將濕膜之兩個側邊部分以夾構件夾住。移動夾構件而將濕膜按寬度方向拉伸，及在拉伸期間乾燥使得可得到聚合物薄膜。
較佳為第三層厚度t3對流延薄膜總厚度之百分比為3%至40%之範圍。
較佳為用於形成第一至第三層之塗布液各為第一塗布液、第二塗布液及第三塗布液，而且如果將第一、第二及第三塗布液之黏度各稱為η 1(Pa．s)、η 2(Pa．s)及η 3(Pa．s)，則其滿足條件η 3η 1η 2。
較佳為聚合物為聚合程度在250至450之範圍的醯化纖維素。特別地，第三塗布液之黏度η 3滿足5 Pa．sη 330 Pa．s。
較佳為第三塗布液所含固態化合物之質量A(克)與有機溶劑之質量B(克)滿足公式16[(A－B)/A]×10021。
其較佳為在管線中進料一級塗布液，及將添加劑經連接此管線之管加入一級塗布液。將一級塗布液與添加劑藉提供於管線中之靜態混合器攪拌。特佳為管在其一端包括按管線直徑方向延伸之縫形出口。特佳為縫之長度為管線內徑之20%至80%的範圍。此外特佳為縫之餘隙C為至少0.1毫米且最大為管線內徑之十分之一。此外特佳為添加劑至線上混合器之距離D為1毫米至250毫米之範圍。此外在管中流動之添加劑的順流速度V1與在管線中流動之一級塗布液的順流速度V2滿足條件1V1/V25。
較佳流延為共流延或循序流延。
依照本發明，流延薄膜經乾燥而不發生厚度不均勻。此外剝除力(即自撐體剝除流延薄膜之容易性)變高，因此所製造聚合物薄膜之平面性優良，同時防止品質降低且增加生產力。
以下解釋本發明之塗布液及塗布液製備。塗布液為一種藉由攪拌聚合物、有機溶劑與添加劑而得之混合物。
用於塗布液製備之聚合物並未特別地限制，而且可為用於藉溶液流延法製造聚合物薄膜之已知聚合物。此聚合物特佳為廣泛地用於製造光學用途聚合物薄膜(例如偏光濾色片保護膜、光學補償膜等)之醯化纖維素。醯化纖維素係藉由將纖維素，而且特別是三乙醯纖維素(TAC)，乙醯化而得。如此所製造聚合物薄膜之透明性優良。此外環聚烯烴亦較佳地作為此聚合物。由環聚烯烴製造之聚合物的透明性、水分吸收力、及光學性質之熱安定性優良。
在本發明中，醯化纖維素中醯基之數量及種類可僅為一種或至少兩種。如果有至少兩種醯基，其一較佳為乙醯基。如果在第二、第三及第六羥基上之氫原子經乙醯基取代，則將總取代程度稱為DSA，而且如果在第二、第三及第六羥基上之氫原子經乙醯基以外之醯基取代，則將總取代程度稱為DSB。在此情形，DSA＋DSB之值較佳為2.20至2.90，特別是2.40至2.88。
此外DSB較佳為至少0.30，而且特別是至少0.7。依照DSB，第六位置上取代對第二、第三與第六位置之百分比為至少20%。然而此百分比較佳為至少25%，特佳為至少30%，而且特別是至少33%。此外醯化纖維素之第六位置的DSA＋DSB較佳為至少0.75，特別是至少0.80，而且特別是至少0.85。在使用此類醯化纖維素時可製造溶解度較佳之溶液(或塗布液)。特別是如果使用非氯型有機溶劑，溶解度變成極高，所製備塗布液之黏度低，而且使用過濾裝置之過濾效率變優良。
作為醯化纖維素原料之纖維素可由棉毛或棉漿之一得到。如果纖維素得自棉毛，則在薄膜製造中易控制光學性質，而且塗布液含極少之雜質。如此所製造薄膜具有高透明性。因此將所製造薄膜適當地用於光學薄膜。
醯化纖維素中具有至少2個碳原子之醯基可為脂族基或芳基。此醯化纖維素為例如纖維素之烷基羰基酯與烯基羰基酯。此外其為芳族羰基酯、芳族烷基羰基酯等，而且這些化合物可具有取代基。化合物之較佳實例為丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、辛醯基、癸醯基、十二碳醯基、十三碳醯基、十四碳醯基、十六碳醯基、十八碳醯基、異丁醯基、第三丁醯基、環己羰基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等。其中特佳為丙醯基、丁醯基、十二碳醯基、十八碳醯基、第三丁醯基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等，而且特佳為丙醯基與丁醯基。
在此具體實施例中，具有多層結構之流延薄膜係將用於形成撐體接觸層之第一塗布液、用於形成主層之第二塗布液、及用於形成暴露於大氣之暴露層的第三塗布液流延至撐體上而形成。各第一至第三塗布液之黏度係控制在預定範圍。控制黏度之方法並未特別地限制。然而在控制黏度之較佳方法中使用聚合程度不同之聚合物。聚合程度差對塗布液之黏度有影響。高黏度塗布液係由聚合程度高之聚合物得到，及低黏度塗布液係由聚合程度低之聚合物得到。因此乾燥時間可較使用多種溶劑縮短而增加生產力。具體而言，用於各塗布液之聚合物為聚合程度在250至450之範圍的醯化纖維素。特佳為用於第一及第二塗布液之聚合物為聚合程度在300至450之範圍的醯化纖維素，而且用於第三塗布液之聚合物為聚合程度在250至350之範圍的醯化纖維素。
在此情形，其選擇聚合物使得暴露層用第三塗布液之聚合程度低於接觸層用第一塗布液及主層用第二塗布液。如此第三塗布液之黏度低於第一及第二塗布液，因此調平效果變高，使得薄膜之平坦性可較高。至於調整塗布液之黏度的方法，例如有調整混合聚合物之有機溶劑量，使得可調整塗布液中溶劑含量之方法。應注意，塗布液為一種其中將聚合物溶於或分散於有機溶劑中之混合物。
在本發明中，環聚烯烴表示具有環聚烯烴結構之聚合物。此聚合物有(1)降莰烯型聚合物，(2)單環環烯烴之聚合物，(3)環形共軛二烯之聚合物，(4)乙烯基脂環烴，及化合物(1)至(4)之氫化物。較佳地用於本發明之聚合物為具有至少一種由化學式F1表示之重複單元的加成(共)聚合物聚烯烴、或具有至少一種由化學式F2表示之重複單元的加成(共)聚合物環聚烯烴。此外亦較佳為使用具有至少一種由化學式F3表示之重複單元的開環(共)聚合物。
在化學式F1至F3中，m為0至4之整數。R1
至R6
為氫或碳數1至10之烴基，X1
至X3
及Y1
至Y3
為氫原子、碳數1至10之烴基、鹵素原子、其中以鹵素取代氫之烴基、－(CH2
)n
COOR11
、－(CH2
)n
OCOR12
、－(CH2
)n
NCO、－(CH2
)n
NO2
、－(CH2
)n
CN、－(CH2
)n
CONR13
R14
、－(CH2
)n
NR13
R14
、－(CH2
)n
OZ、－(CH2
)n
W、及由X1
與Y1
或X2
與Y2
或X3
與Y3
組合組成之－(CO)2
O或－(CO)2
NR15
。應注意，R11
至R15
為氫原子或碳數1至20之烴基。Z為烴基、其中以鹵素取代氫之烴基。W為SiR16 p
D3－P
(R16
為碳數1至10之烴基；D為鹵素原子、－OCOR16
或－OR16
；P為0至3之整數)，及n為0至10之整數。
降莰烯型加成(共)聚合物係揭示於日本專利公開公告第10－007732與2002－504184號、美國專利公開公告US2004229157A1號、國際公告WO2004/070463A1號等。降莰烯型加成聚合物亦藉由將降莰烯型多環不飽和化合物加成聚合而製造。如果必要，則可進行降莰烯型多環不飽和化合物與二烯化合物之加成聚合以製造降莰烯型加成聚合物。二烯化合物為共軛二烯、非共軛二烯、線形二烯等。共軛二烯為例如乙烯、丙烯、丁烯、丁二烯、異戊二烯等。非共軛二烯為例如亞乙烯降莰烯等。線形二烯為例如丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸酐、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、順丁烯二醯亞胺、乙酸乙烯酯、氯乙烯等。用於本發明之降莰烯型加成(共)聚合物為市售。具體而言，其為Mitsui Chemical Inc.之APEL(商標名)，而且APEL依玻璃轉移溫度(Tg)之差異有多種等級。具體而言有例如APL8008T(Tg70℃)、APL6013T(Tg125℃)、APL6015T(Tg145℃)等。此外降莰烯加成(共)聚合物粒為Polyplastics Co.,Ltd.銷售之TOPAS8007、TOPAS6013、TOPAS6015等。此外有Ferrania S.p.A.製造之Appear 3000。
所使用降莰烯型聚合物氫化物可藉由在將多環不飽和化合物加成聚合或開環移位聚合後氫化而製造，如日本公開專利公開公告第1－240517、7－196736、60－26024、62－19801、2003－1159767、2004－309979號等所述。依照用於本發明之降莰烯型聚合物中，R5
至R6
較佳為氫原子或－CH3
，此外X3
與Y3
較佳為氫原子、Cl、－COOCH3
。其可適當地選擇其他基。至於降莰烯聚合物，市場上銷售之化合物可用於本發明。具體而言，其產品名稱為ARTON G與ARTON F(JSR Corporation)、ZEONOR ZF14、ZEONOR ZF16、ZEONEX 250、ZEONEX 280(Zeon Corporation)，而且這些產品均可用於本發明。
依照適合本發明之環聚烯烴聚合物，藉凝膠穿透層析術(GPC)測量按聚苯乙烯分子量換算之質量平均分子量(Mw)較佳為5,000至1,000,000，特別是10,000至500,000，而且特別是50,000至300,000之範圍。此外分子量分布(Mw/Mn：Mn為藉GPC測量之數量平均分子量)較佳為最大10，特別是最大5.0，而且特別是最大3.0。玻璃轉移溫度(Tg：藉DSC測量)較佳為50℃至400℃，特別是80℃至350℃，及100℃至330℃。
此外用於製備塗布液之有機溶劑較佳為可溶解醯化纖維素或環聚烯烴之化合物。例如其為芳族烴(例如苯、甲苯等)、鹵化烴(例如二氯甲烷、氯仿、氯苯等)、醇(例如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、二乙二醇等)、酮(例如丙酮、甲乙酮等)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯等)、醚(例如四氫呋喃、甲基賽珞蘇等)等。
溶劑較佳為具有1至7個碳原子之鹵化烴，而且特佳為二氯甲烷。就醯化纖維素之溶解力、流延薄膜脫離撐體之剝除力、薄膜之機械強度、薄膜之光學性質等而言，其較佳為將一或多種具有1至5個碳原子之醇混合二氯甲烷。醇含量對全部溶劑較佳為2重量%至25重量%之範圍，而且特別是5重量%至20重量%之範圍。具體而言其為甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等。醇之較佳實例為甲醇、乙醇、正丁醇、或其混合物。
順便一提，近來為了將對環境之影響降至最小，現已逐漸考量不使用二氯甲烷之溶劑組成物。為了達成此目的，其較佳為具有4至12個碳原子之醚、具有3至12個碳原子之酮、具有3至12個碳原子之酯，而且可使用其混合物。這些醚、酮及酯可具有環結構。此外具有醚、酮及酯中至少二種官能基(即－O－、－CO－及－COO－)之化合物可用於溶劑。此外溶劑之化學結構可具有其他官能基，如醇系羥基。
在以上方法中，所製造塗布液具有較佳為5重量%至40重量%，特佳為15重量%至30重量%，而且特別是17重量%至25重量%之範圍的TAC濃度。應注意，用於形成TAC薄膜之溶液流延法中的材料、原料、添加劑之溶解方法詳述於日本專利公開公告第2005－104148號之[0517]至[0616]，而且此公告之說明可應用於本發明。
應注意，醯化纖維素之詳細解釋為日本專利公開公告第2005－104148號之[0140]至[0195]，而且此公告之說明可應用於本發明。
以下參考第1圖解釋用於製備流延塗布液之方法。在製備塗布液之以下解釋中，其使用醯化纖維素作為聚合物。亦應注意，此圖僅描述本發明之一個實例，因此本發明不限於第1圖。
如第1圖所示，塗布液生產線10包括用於儲存溶劑之溶劑槽11、用於供應TAC之加料漏斗13、及用於得到混合物17(其係藉由混合溶劑與醯化纖維素而得)之溶解槽15。此外塗布液生產線10具有加熱裝置22、溫度控制裝置23、第一與第二過濾裝置25,26、原料槽28、及沖洗裝置31。加熱裝置22將混合物17加熱以溶解更多之固態材料，如此由混合物17得到一級塗布液20。然後溫度控制裝置23控制一級塗布液20之溫度，而且將一級塗布液20儲存在原料槽28。此外在沖洗裝置31中濃縮一級塗布液20。此外塗布液生產線10包括用於回收溶劑蒸氣之回收裝置32、及用於再循環所回收溶劑之精製裝置33。
應注意，溶解槽15具有覆蓋外表面之外套35、由馬達37驅動而轉動之第一攪拌器38、及由馬達39驅動而轉動之第二攪拌器40。第一攪拌器38較佳為具有固定輪葉，而且第二攪拌器40較佳為溶解器型同心攪拌器。外套35在溶解槽15之外表面上形成空間，而且將熱轉移介質轉移至此空間中。溶解槽15之內溫係使用在外套35內流動之熱轉移介質控制。
使用泵P1將混合物17進料至加熱裝置22。加熱裝置22較佳為具用於控制溫度之外套的管線。在將混合物17加熱時，膨脹之固態材料在混合物17中溶解。在加熱裝置22中溶解之溫度較佳為0℃至97℃之範圍。此外加熱裝置22較佳為具有用於將混合物17加壓之加壓器，以使溶解度更高。如此熱能量不損壞混合物17而有效地增加溶解度。在本發明中，加熱不表示加熱超過室溫，而是增加來自溶解槽15之混合物17的溫度。例如在所進料混合物17之溫度為－7℃時，加熱亦表示將溫度增至0℃等。
除了使用加熱裝置22熱溶解，其可將成為膨脹溶液之混合物17冷卻至－100℃至－10℃以進一步實行溶解，已知為冷卻溶解法。在此具體實施例中可依照材料之性質選擇加熱溶解與冷卻溶解之一，以控制在混合物17中溶解度。
將經加熱混合物17進料至溫度控制裝置23以將溫度控制在幾乎室溫。如此可得其中聚合物溶於溶劑中之一級塗布液20。在此具體實施例中，將成為一級塗布液20之混合物17自溫度控制裝置23饋出。一級塗布液20為一種含醯化纖維素聚合物之溶液或分散液。然而聚合物之溶解較佳為經加熱裝置22完成。
過濾裝置25,26係用於自一級塗布液20捕捉未溶或不溶材料。用於各第一過濾裝置25,26之過濾器較佳為具有最大100微米之平均孔徑。然而如果過濾器之孔徑太小，則過濾花費太長的時間，因此作業力變低。如果過濾器之孔徑太大，則其難以自一級塗布液20捕捉外來顆粒。因此較佳為考量製備時間適當地選擇過濾器之孔徑。各第一過濾裝置25,26中之過濾流速較佳為至少50公升/小時。如此可不使製備時間長而製備塗布液。
原料槽28具有用於覆蓋其外面之外套43及以馬達45轉動之攪拌器46。類似溶解槽15，將溫度經控制於預定值之熱轉移介質進料至外套43與原料槽28外面間之空間中。此外在將一級塗布液20儲存於原料槽28時，攪拌器46以馬達45連續地轉動，而且在一級塗布液20中發生外來顆粒凝集。如此將塗布液之濃度保持均勻。
將原料槽28連接第二進料線L2以製備形成主層之第二塗布液、第一進料線L1以製備形成接觸層之第一塗布液、及第三進料線L3以製備形成暴露層之第三塗布液。應注意，各第一至第三進料線L1至L3之另一端連接提供於薄膜生產線50之流延模89(參見第5圖)。如此塗布液生產線10經第一至第三進料線L1至L3連接薄膜生產線50。
在此具體實施例中，第一至第三槽52,55,58各含獨立地製備之第一、第二、第三液體52a,55a,58a。此外第一至第三槽52,55,58各連接第一至第三線L1至L3。此外各第一至第三液體52a,55a,58a為其中將預定添加劑加入溶劑之溶液或分散液。添加劑並未特別地限制，而且依照欲形成層之特性而選擇。較佳添加劑為UV吸收劑、塑性劑、遲滯控制劑、退化抑制劑、用於易於自作為撐體之流延帶剝除之剝除改良劑(例如檸檬酸酯等)、消光劑(例如二氧化矽等)等。此外用於製備添加劑液體52a,55a,58a之溶劑並未特別地限制。然而其較佳為與用於製備塗布液者相同，使得對一級塗布液20之相容性更高。
第一至第三液體52a,55a,58a可不相同，而且依照用於形成暴露層、主層或接觸層之塗布液獨立地製備。例如如果各用於形成暴露層及接觸層之第一及第三塗布液含消光劑，則剝除力增加。此外在此情形，在將產物聚合物薄膜捲繞成膜捆時，其防止彼此接觸之薄膜表面黏附。此外在此情形，消光劑不沉澱於主層，因此透明性變高。
顆粒較佳為二氧化矽之衍生物，其含二氧化矽與具有三維網結構之聚矽氧樹脂。此外如果對二氧化矽衍生物之顆粒表面進行烷化處理作為疏水性處理，則溶劑分散力高。因此在薄膜製造中減少顆粒凝集。如此依所製造薄膜減少表面缺陷且透明性優良。
應注意，在烷化中顆粒表面上提供之各烷基中碳原子之數量為1至20個，較佳為1至12個，而且特別是1至8個之範圍。如果使用滿足此條件之顆粒，則減少顆粒凝集且分散力變高。如果各烷基中碳原子之數量為1至20個之範圍，則可使用辛基矽烷處理而得到顆粒。此外二氧化矽衍生物之實例為市場上銷售之Aerosol R805(商標名，Nippon Aerosil Co.Ltd.)，其較佳地用於此具體實施例。
顆粒之含量對一級塗布液中固體含量較佳為最大0.2%。顆粒之含量可藉由測定顆粒對一級塗布液用溶劑之加入量而調整。如此如果將顆粒控制含量而加入一級塗布液，則減少顆粒凝集造成之外來材料產生，因此薄膜之透明性優良。應注意，顆粒之平均直徑較佳為最大1.0微米，特別是0.3微米至1.0微米，而且特別是0.4微米至0.8微米之範圍。
應注意，溶劑與添加劑(如塑性劑、退化抑制劑、UV吸收劑、光學各向異性控制劑、染料、消光劑、釋放劑、遲滯控制劑等)之詳細解釋為日本專利公開公告第2005－104148號之[0196]至[0516]。
在此具體實施例中對第一進料線L1提供第一靜態混合器53，對第二進料線L2提供第二靜態混合器56，及對第三進料線L3提供第三靜態混合器59。第一至第三靜態混合器53,56,59係配置於各加入第一至第三液體53a,56a,59a處下游。因此攪拌加入各第一至第三液體53a,56a,59a後之一級塗布液20。如此製備各形成暴露層、主層及街觸層之第一至第三塗布液。
由於其抗腐蝕性及耐熱性優良，各裝置及構件係藉不銹鋼製管線連接。此外將泵P1－P8及閥V1,V2配置於適當位置處。然而泵及閥之位置及數量可適當地改變，而且不限於此具體實施例。
以下解釋在塗布液生產線10中流延塗布液之製法。
打開第一閥V1以將溶劑自溶劑槽11進料至溶解槽15。將供應至加料漏斗13之醯化纖維素測量其量而送至溶解槽15。然後在溶解槽15中適當地轉動第一攪拌器38與第二攪拌器40以混合數種原料，如此得到混合物17。溶解槽15中之內溫係使用在外套15a內流動之熱轉移介質控制。較佳內溫為－10℃至55℃之範圍。將原料供應至溶解槽15中係循序依溶劑及醯化纖維素之次序實行。然而次序不限於此具體實施例。例如可循序供應醯化纖維素及溶劑。
然後使用泵P1將混合物17進料至加熱裝置22，及在其中加熱至預定溫度。如此藉加熱裝置22在預定溫度加熱而將膨脹之固態材料溶於溶劑。然後將混合物17進料至溫度控制裝置23以將溫度控制成幾乎室溫。如此得到一級塗布液20。將一級塗布液20以第一過濾裝置25過濾以去除未溶或不溶材料。用於第一過濾裝置25之過濾器較佳為具有最大100微米之平均孔徑。在過濾後，如果一級塗布液20具有預定濃度，則將一級塗布液進料至原料槽28且儲存直到實行流延。
順便一提，在其中製備混合物17然後由混合物17得到一級塗布液20之以上方法中，如果其係設計成製造濃度較高之一級塗布液，則製造時間變長。結果製造成本變高。因此較佳為製備濃度低於預定值之一級塗布液，然後將一級塗布液濃縮。
至於此方法，如第1圖所示，一級塗布液20具有低於預定值之濃度，而且在經第一過濾裝置25過濾後，將一級塗布液20經閥V2送至沖洗裝置31。在沖洗裝置31中將一級塗布液之溶劑部分地蒸發。將蒸發中產生之溶劑蒸氣藉冷凝器(未示)冷凝成液態，及藉回收裝置31回收。將所回收溶劑藉精製裝置32精製及再循環且再使用。由於製造效率變高及再使用溶劑，依照此方法可設計成本降低。
自沖洗裝置31經泵P2抽取如以上說明濃縮後之一級塗布液20。然後將一級塗布液20進料至第二過濾裝置25，在此去除未溶及不溶材料。應注意，一級塗布液20在第二過濾裝置25中之溫度較佳為0℃至200℃之範圍。此外將一級塗布液20進料至原料槽28且儲存。此外為了去除一級塗布液20中產生之氣泡，其較佳為實行氣泡去除處理。至於用於去除氣泡之方法，其有許多種已知方法，例如超音波照射法等。
在原料槽28中，攪拌器46連續地轉動以攪拌一級塗布液20。此外將其溫度經控制之熱轉移介質進料至外套43與原料槽28間之空間中，使得可控制原料槽28之內溫。因此亦將儲存在原料槽28中之一級塗布液20的溫度控制於預定值附近。
將藉以上方法製備之一級塗布液用於製備流延塗布液。在用於製備流延塗布液之各第一至第三進料線L1至L3中，加入預定液體之次序及方法係與製備一級塗布液20者相同。因此在以下解釋中解釋在第二進料線L2中製備用於形成主層之第二塗布液的方法，而且省略製備第一及第三塗布液之方法。
首先自原料槽28藉泵P5進料一級塗布液20。然後將第二液體55a藉泵P6自第二槽55饋出且加入進料至第二進料線L2中之一級塗布液20。
第二液體55a為溶劑與預定添加劑之混合物。溶劑種類並未特別地限制。然而由於與一級塗布液20之相容性優良，其與塗布液製備用相同。此外如果添加劑在室溫為液態，則可加入添加劑作為第二液體55a而不混合溶劑。應注意，添加劑在以下詳細製造。
如第2圖所示，靜態混合器56係配置於一級塗布液20經其流動之管線60，而且具有按一級塗布液20之流動方向交錯地排列之元件62,63。元件62,63係藉由將方形板扭轉180°而形成，而且元件62之扭轉方向與元件63相反。此外依照相鄰元件62,63，元件63之上游端與元件62之下游端形成直角。
在靜態混合器之上游側有用於加入第二液體55a之管65。管65包括穿透管線60之壁的圓柱形主體66，及附於管65之下游端的噴嘴。此外噴嘴具有縫形出口69。
如第3圖所示，出口69按其中一級塗布液20流動之管60的直徑方向延伸。此外噴嘴68之長度方向與出口69垂直最接近噴嘴68之元件62的上游端62a。在將含揮發性化合物之第二液體55a經管65進料且經管65之噴嘴68的出口69加入在管線60中流動之一級塗布液20時，其穩定地將揮發性化合物自靜態混合器之上游端分離，而且將揮發性化合物安定地及有效地送入管線60中而不轉動。因此藉元件62之轉動有效地完成混合及攪拌一級塗布液20與揮發性化合物。結果靜態混合器之元件數量可較少，如此可完成方法之縮微化及降低成本。
為了將第二液體55a加入一級塗布液20中，出口69與元件62之上游端62a間的距離D較佳為1毫米至250毫米之範圍，而且特別是2毫米至250毫米之範圍。如果距離D太小，則一級塗布液20之抗性造成噴嘴68中止，及如果D太大，則其有時難以將揮發性化合物灌注至靜態混合器56中央。
為了按管線60之寬度方向均勻地加入第二液體55a，如第4圖所示，縫形出口69之長度L(毫米)較佳為管線60之內徑W的20%至80%之範圍，此百分比係由公式(L/W)×100計算。如果此百分比小於20%，則長度L太短。如果此百分比大於80%，則長度L太大，因此部分第二液體55a進入管線60與元件62間之空間中。此外為了將第二液體55a更確定地及有效地加入一級塗布液，縫形出口69之餘隙C較佳為0.1毫米至管線60之內徑W(毫米)的十分之一之範圍。
為了將第二液體55a分散於一級塗布液20，其滿足條件1V1/V25，其中V1為在管65中流動之第二液體55a的順流速度，及V2為在管線60中流動之一級塗布液20的順流速度。順流速度V1,V2係藉配置於管線60及管65之流動計測量。如果V1/V2值太小，則其無法將第二液體連續地送入管線60中。如果V1/V2值太大，則第二液體55a有時非常快地流經第二靜態混合器53。應注意，通過泵P3,P4之流速係藉流動計測量，而且依照測量值調整。
此外如果第二液體55a之黏度為N1且一級塗布液20為N2，則其較佳為黏度N1在1×10－4
Pa．s至1×10－1
Pa．s之範圍，黏度N2在5 Pa．s至5×102
Pa．s之範圍，及比例N2/N1滿足公式1000N2/N11,000,000。黏度可藉已知之黏度計測量。以上第二液體55a之黏度N1及N2的條件並未限制，而且適用於第一及第三液體52a及58a。製備黏度可滿足以上條件之添加劑，然後加入一級塗布液20。如此可在加入添加劑後調整一級塗布液之黏度。
此外在管線60中流動之一級塗布液20的剪切速率V3較佳為0.1(秒－1
)至30(秒－1
)之範圍。如果剪切速率V3太小，則混合有時不足。如果剪切速率V3太大，則管線60中之壓力損失太大。在此情形，如果管線20之承受壓力為20×9.8牛頓之力，則管線20有時破裂。基於相同之原因，顯示通量流(即此具體實例中之一級塗布液20)狀態之Reynolds數較佳為滿足公式Re200。
結果藉第二靜態混合器56將加入第二液體55a後之一級塗布液20攪拌及混合均勻，因此用於形成主層之第二塗布液變均勻。此外驅動泵P3,P4將第一液體52a加入一級塗布液20，而在第一進料線L1中類似地得到用於形成接觸層之第一塗布液，及驅動泵P7,P8將第三液體58a加入一級塗布液20，而在第三進料線L3中類似地得到用於形成暴露層之第三塗布液。
在以上具體實施例中使用包括藉由扭轉長形板而形成之元件的靜態混合器作為線上混合器。然而本發明之線上混合器不限於此具體實施例。例如可使用包括藉由以網狀圖案組合多個條狀板而形成之元件的蘇爾士混台器作為線上混合器。
此外環聚烯烴可用於塗布液製備。在此情形，如果適當地選擇所使用溶劑則可得到高濃度塗布液。因此即使未濃縮，所製備環聚烯烴塗布液具有較高之濃度且安定性優良。應注意，由溶解度之觀點，首先可如上所述製備低濃度塗布液，使得可完全地溶解固態化合物。在此情形，在製備後濃縮低濃度塗布液使得可得到高濃度塗布液。環聚烯烴塗布液在流延前之黏度並未特別地限制，只要塗布液可用於流延。然而黏度通常較佳為3 Pa．s至1000 Pa．s，特別是5 Pa．s至500 Pa．s，及10 Pa．s至200 Pa．s之範圍。
如果某些添加劑材料為固態，則可使用進料漏斗將固態材料進料至各進料線。此外如果其係設計成加入數種上述材料，則將所加入材料事先溶於溶劑，而且可將所得液體加入各進料線。此外如果某些添加劑在室溫為液態，則液態材料可不使用溶劑而進料至進料線中。
以下參考第5圖解釋一種使用流延塗布液製造薄膜之方法。
如第5圖所示，薄膜生產線50包括流延室72、轉移區域77、拉幅機裝置78、乾燥室80、冷卻室81、及捲繞室82。在流延室72中將流延塗布液流延至撐體上形成流延薄膜70。此外剝除流延薄膜70成為含溶劑之濕膜75。然後在轉移區域77中轉移濕膜75。然後在拉幅機裝置78中夾住其兩個側邊部分而輸送濕膜75時將濕膜75乾燥。將濕膜75自拉幅機裝置78饋出成為薄膜76。在乾燥室80中乾燥薄膜76，及在冷卻室81中冷卻薄膜76。然後在捲繞室82中捲繞薄膜76。
在流延室72中有支持輥86a,86b及以支持輥86a,86b支撐之流延帶85。恰在支持輥86a上方有自塗布液生產線10對其供應流延塗布液之進料區88、及具有用於排放流延塗布液之縫形模唇的流延模89。此外有用於進料乾燥空氣以乾燥形成於流延帶85上之流延薄膜70的吹風機90、及用於將熱轉移介質進料至支持輥86a,86b中之循環裝置91、冷凝器92、回收裝置93、及輥95。流延室72外有用於控制流延室72內溫之溫度控制器。
流延模89附有減壓室98以安定地將流延塗布液流延。此外在吹風機90依照流延帶85之行進方向的上游側提供擋風板99，以防止自吹風機饋出之乾燥空氣造成流延薄膜70之表面不均勻。
流延模89下方之支持輥86a,86b係以驅動裝置(未示)轉動，如此流延帶85隨支持輥86a,86b之轉動循環地行進。然後流延體積較佳為10米/分鐘至200米/分鐘之範圍。在此具體實施例中，在支持輥86a,86b中形成熱轉移介質之通道(未示)，而且藉介質循環裝置91使控制溫度之熱轉移介質循環地通過通道。如此將支持輥86a,86b之表面溫度保持在預定值。較佳為藉支持輥86a,86b之傳熱將流延帶85之表面溫度調整成－20℃至40℃之範圍。
流延帶85之寬度並未特別地限制。然而其較佳為較所排放流延塗布液之流延寬度大1.1至2.0倍之範圍。此外流延帶85為長20米至200米及厚0.5毫米至2.5毫米，而且厚度不均勻為最大0.5%。表面較佳為經拋光以具有最大0.05微米之表面粗度。如此可形成流延薄膜70而在薄膜表面上不形成刮痕，因此流延薄膜70及所製造薄膜76之平面性優良。考量薄膜70之剝除力、耐久性及耐熱性，流延帶85較佳為不銹鋼製，而且特別是SUS 316以具有足夠之腐蝕抗性及強度。
將流延室72之內溫藉溫度控制器97調整成用於乾燥流延薄膜70之適當溫度。在進行流延薄膜70之乾燥時，自流延薄膜70蒸發之溶劑蒸氣存在於流延薄膜70內部。然而溶劑蒸氣被冷凝器液化然後藉回收裝置93回收。將所回收溶劑藉再循環裝置(未示)精製及再循環，使得可去除雜質。如此將溶劑再循環以用於塗布液製備，其降低材料成本及製造成本。
流延模89較佳為塗架型模。流延模89之寬度並未特別地限制。然而寬度較佳為流延塗布液之流延寬度的1.05至1.5倍之範圍，及所製造薄膜76之1.01至1.3倍的範圍。此外為了順利地將流延塗布液流延，流延模89之表面較佳為經拋光以具有最大0.05微米之表面粗度。此外用於流延模89之材料具有足夠之耐久性及腐蝕抗性，使得在氣液界面上不發生坑洞(或坑洞腐蝕)，即使將此材料浸於二氯甲烷、甲醇與水之混合液體中經3個月。流延模89較佳為不銹鋼製，而且特別是SUS 316以提供足夠之腐蝕抗性。然而流延模89用材料並未特別地限制，只要在電解質溶液之強制腐蝕實驗中腐蝕抗性與SUS316幾乎相同。此外如果流延模89係由熱膨脹係數為最大2×10－5
(℃－1
)之材料製成，則較不必考量熱損壞。
流延模89較佳為藉由將材料在模製後研磨至少一個月而製造。如此流延塗布液在流延模89中順利地流動，因此所形成流延薄膜70之光滑性優良而不發生條紋。然而為了以上效果，其較佳為各流延模對流延塗布液之接觸表面的最終精確度為最大1微米之表面粗度，在任何方向之直線性為最大1微米/米，及縫餘隙可調整成0.5毫米至3.5毫米之範圍。依照流延模89之唇端接觸邊緣，R在所有寬度為最大50微米。此外將流延模89中之剪切速率控制成每秒1至5000之範圍。
較佳為流延模90附有溫度控制器(未示)使得在薄膜製造期間可將溫度保持預定。此外流延模90較佳為塗架模。流延薄膜之厚度經常藉由調整進料泵自流延模90之進料速度而控制。此外為了調整在流延薄膜之厚度方向的厚度外形，流延模90較佳為具有自動厚度調整裝置。例如其較佳為在流延模90之厚度方向的預定間隔處配置用於控制唇餘隙之厚度調整螺栓(熱螺栓)，作為自動厚度調整儀器。應注意，薄膜厚度係考量寬度方向之厚度及光滑性的變化而界定。此外依照熱螺栓，其較佳為基於預定程式視泵(未示)之進料速度設定外形。此外熱螺栓調整值之反饋控制可基於厚度計(未示)(如紅外線厚度計等)之外形藉調整程式進行。較佳為在流延薄膜之寬度方向任何兩點間(除了側邊部分)之厚度差為最大1微米，及寬度方向之厚度差為為最大3微米。此外厚度指定目標值之準確度較佳為±1.5微米。
其較佳為在唇端上方形成硬化層。形成硬化層之方法並未限制。但是其為例如陶瓷硬塗覆、硬鍍鉻、中和處理等。如果使用陶瓷作為硬化層，則所使用陶瓷較佳為可研磨但不易碎，具較低多孔性。此外較佳為陶瓷具有低濕潤性質。具體而言，其為碳化鎢(WC)、Al2
O3
、TiN、Cr2
O3
等。特別佳為碳化鎢。碳化鎢塗覆可藉噴灑法進行。
此外為了防止塗布液在流延模90之縫端上部分地乾燥固化，其較佳為在縫端上提供溶劑供應裝置(未示)，其上在縫之兩邊與粒之兩邊與外部空氣間形成氣液界面。其較佳為對這些氣液界面供應可溶解塗布液之溶劑(例如86.5質量%之二氯甲烷、13質量%之甲醇、0.5質量%之正丁醇的混合溶劑)。溶劑較佳為以0.1毫升/分鐘至1.0毫升/分鐘供應至粒之各邊。如此在粒之兩邊防止固化及將固體混入流延薄膜中。應注意，用於供應溶劑之泵具有最大5%之脈衝率。
此外為了製造光學性質優良之薄膜76，在流延塗布液流延期間必須在流延模89與流延帶85之間安定所排放流延塗布液之粒形成。因此其較佳為提供減壓室68以控制粒上游側之壓力。在藉減壓調整粒上游側之壓力時，其防止因大氣中之風作用而在粒表面上形成波形不均勻。粒上游側之壓力並未特別地限制。然而為了製造光滑性優良之流延薄膜70，此壓力較佳為較大氣壓力低10 Pa至2000 Pa之範圍。
在轉移區域77中有多個輥，及用於對濕膜75饋出溫度經調整之乾燥空氣以使乾燥較快之乾燥裝置100。此外拉幅機裝置78包括在軌道(未示)上行進之鏈(未示)、附於鏈上之夾子(未示)、及乾燥器(未示)。在拉幅機裝置78下游配置用於切除薄膜76之兩個側邊部分的邊緣切割裝置102。
在乾燥室80中有多個輥及吸附裝置106。此外乾燥室80具有用於控制內溫之溫度控制裝置(未示)。冷卻室81將薄膜76冷卻至室溫。然後強制中和裝置(或中和棒)107消除薄膜76帶有之靜電電位能。此外在捲繞室中提供捲繞輥110及壓迫輥111。
以下解釋在薄膜生產線50中製造薄膜76之次序。
首先將用於形成主層之第二塗布液、用於形成接觸層之第一塗布液、及用於形成暴露層之第三塗布液各經第一至第三進料線L1至L3進料至進料區88，同時適當地控制第一至第三塗布液之進料量。在進料區88中有各第一至第三塗布液用通道，而且將第一至第三塗布液會合成為流延塗布液。然後將流延塗布液進料至流延模89。
在流延室72中，吹風機90具有出口(未示)。出口朝向流延帶85之行進方向(或流延膜之輸送方向)。將溫度經控制之乾燥空氣自出口朝向流延帶85上之流延薄膜70饋出，使得乾燥空氣之進料方向幾乎與輸送方向平行。如此防止在流延薄膜70之薄膜表面上形成不均勻。此外在流延室72中，自流延薄膜70蒸發之溶劑蒸氣被冷凝器92液化，然後藉回收裝置93回收。將所回收溶劑藉精製裝置(未示)精製及再循環且再使用作為塗布液製備用溶劑。
在流延薄膜70具有自撐性質時，將其自帶72剝除成為以輥95支撐之濕膜75。濕膜75恰在剝除後之殘餘溶劑含量較佳為10質量%至200質量%之範圍。應注意，殘餘溶劑含量為按乾燥計，而且使用經完全乾燥之流延薄膜70的樣品及所製造薄膜測量。如果流延薄膜70之樣品重量為x及乾燥後樣品之重量為y，則按乾燥計之溶劑含量(%)依公式{(x－y)/y}×100計算。
然後將濕膜75經具有許多輥之轉移區域77運輸。在轉移區域77中，在以輥支撐而轉移濕膜75時將乾燥空氣自吹風機100饋出而乾燥濕膜75。來自吹風機100之乾燥空氣的溫度較佳為控制在20℃至250℃之範圍。乾燥空氣之溫度可考量用於流延塗布液之聚合物、添加劑等之種類、製造速度等而視情況地決定。
在轉移區域77中，濕膜75之下游側(即接近轉移區域77之出口)的轉動速度較佳為較上游側快。如此對濕膜75施加適當張力以減少皺紋及縐褶。此外藉由對其中殘餘含量高之濕膜75施加張力而容易地調整定向。如此適當地控制所製造薄膜76之遲滯。
然後將濕膜75轉移至拉幅機裝置78中。在拉幅機裝置78中以夾子(未示)夾住兩個側邊部分，然後將乾燥空氣自吹風機(未示)饋出至經運輸濕膜75。因此進行濕膜75之乾燥，而且自拉幅機裝置78饋出成為薄膜76。此外在拉幅機裝置78中使按濕膜75之寬度方向排列之成對夾子的距離大，將濕膜75按寬度方向拉伸。如此調整濕膜75中分子之定向，因此可將所得薄膜85之遲滯值控制成預定值。此外調整按寬度方向施加之張力使得可拉伸濕膜75。如此可調整濕膜75之厚度。
拉幅機裝置78之內部較佳為隔成多個獨立地控制溫度之隔間。如此在轉移濕膜75時，將濕膜75在不同溫度逐漸乾燥，其減少溶劑之急劇蒸發，因此將薄膜消泡。結果所製造薄膜之光滑性優良。應注意，此具體實施例之拉幅機裝置78為具有多個夾子作為夾構件之夾型。然而除了夾子，拉幅機裝置78中可提供梢。在此情形，將梢敲入濕膜75之兩個側邊部分，然後按寬度方向拉伸濕膜75。
濕膜75按長度方向之拉伸及鬆弛係在轉移區域77中進行，而且寬度方向係在拉幅機裝置78中進行。在轉移區域77中之拉伸及鬆弛方法可如下所述控制轉速而實行。在這些情形，拉伸比例(拉伸前後之薄膜長度或薄膜寬度差的百分比)為0.5%至300%之範圍。應注意，在轉移區域77或拉幅機裝置78中對濕膜75施加張力時，乾燥溫度較佳為保持幾乎固定。如此防止溫度差造成拉伸比例不同。
將濕膜75自拉幅機裝置100朝向邊緣切割裝置102饋出以切除在拉幅機裝置78中受損之兩個側邊部分，而成為薄膜76。藉切割器吹風機(未示)將切除之側邊部分送至壓碎器103，及藉壓碎器103壓成碎片。將碎片再使用以製備塗布液，其就降低製造成本而言為有效的。如此可去除在拉幅機裝置78中夾住而損壞之兩個側邊部分，因此所製造薄膜76之光滑性優良。應注意，兩個側邊部分之切割程序可省略。然而其較佳為在流延程序與捲繞程序間實行切割。
將切除側邊部分之薄膜76送至乾燥室80且在其中進一步乾燥。在乾燥室80中，薄膜76經輥104運輸。乾燥室80之內溫並未特別地限制。然而其較佳為60℃至145℃之範圍。薄膜76之表面溫度係藉配置於薄膜76之支撐途徑上方的溫度計測量。如此防止薄膜76中聚合物之熱損壞且有效地蒸發溶劑。如此足夠地乾燥。此外在此具體實施例中，因乾燥室80而自薄膜76蒸發之溶劑蒸氣被吸附裝置106吸附及回收。在吸附裝置中將溶劑蒸氣自空氣去除，其再使用作為乾燥室80中之乾燥空氣。如此可降低能量成本因此及製造成本。
如果薄膜76之溫度急劇地增加，則薄膜76之形式改變。因此可在邊緣切割裝置102與乾燥室80之間提供預先乾燥室(未示)以預先乾燥薄膜76。如此防止薄膜76之溫度的急劇增加。
將薄膜76運輸至冷卻室80中，及在其中冷卻至大約室溫。其可提供濕度控制室(未示)以調節乾燥裝置70與冷卻室80間之濕度。如此將薄膜76在冷卻室81中調節其濕度後固定。因此減少薄膜表面上之皺紋。
然後強制中和裝置(或中和棒)107消除薄膜76帶有之靜電電位能至預定值(例如－3 kV至＋3 kV之範圍)。在此具體實施例中並未限制中和程序之位置。在中和後藉壓花輥將薄膜76之兩側部分壓花以提供滾紋。如果提供壓花，則薄膜76之光滑性變大。
在最後程序中，在捲繞室82中藉捲繞軸110捲繞薄膜76。此時對壓迫輥111施加預定值之張力。為了捲繞薄膜76而不發生皺紋及縐褶，其較佳為自捲繞開始至結束逐漸改變張力。在本發明中，聚合物薄膜76之長度較佳為至少100米。薄膜寬度較佳為1400毫米至2500毫米之範圍。此外即使寬度超過2500毫米，本發明仍有效。
所製造薄膜76之厚度較佳為20微米至100微米之範圍，特別是20微米至80微米之範圍，而且特別是30微米至70微米之範圍。然而本發明不限於以上之厚度值。
在第6圖中，構成流延塗布液之第一至第三塗布液的號碼各為120、121及122。將流延塗布液在流延帶85上共流延以形成流延薄膜70。第一至第三塗布液120至122中，至少兩者具有不同之黏度。在此具體實施例中，流延薄膜70具有三層結構，暴露層、基層及接觸層之號碼各為120a、121a及122a。在流延薄膜70中，如果將接觸層120a之厚度稱為t1(微米)，主層121a為t2(微米)及暴露層122a為t3(微米)，則其較佳為滿足公式t1t3t2。如此主層121a之厚度最大，及暴露層120a幾乎與主層121a相同。在此情形安定地形成流延塗布液之粒，而且暴露層120a之調平效果變高。如此防止暴露層上發生不均勻。此外接觸層122a之厚度幾乎與暴露層120a相同則可足夠地進行乾燥，而且部分之流延薄膜不殘留在流延帶85之表面上。在條件t2<t3下乾燥時間變長因此生產力變低。此外在條件t3<t1下可決定撐體層122a之厚度，只要可足夠地進行乾燥。然而在此情形，如果形成以使剝除力高之撐體層太薄，則調平效果降低。
此外暴露層之厚度t3對流延薄膜總厚度t1＋t2＋t3之百分比較佳為3%至40%，而且特別是5%至30%之範圍。各暴露層、主層及接觸層120a至122a之厚度可藉由調整塗布液之流速及流延寬度而控制。
第一塗布液120之黏度稱為η 1(Pa．s)，第二塗布液121為η 2(Pa．s)，及第三塗布液122為η 3(Pa．s)。較佳為黏度滿足公式η 3η 1η 2，及η 3滿足公式5 Pa．sη 330 Pa．s，而且較佳為10 Pa．sη 320 Pa．s。如此暴露層之調平效果適當且安定地形成流延粒。然而在本發明中獨立地調整黏度η 1,η 2,η 3，而且其值並未特別地限制，只要滿足以上之條件。例如條件可為η 3η 1及η 1＝η 2，或η 3＝η 1及η 1η 2。此外滿足較佳為5 Pa．sη 330 Pa．s，而且特別是10 Pa．sη 320 Pa．s之條件。如此暴露層120a之調平效果變大。
依照暴露層用第三塗布液，如果將固態材料之重量稱為A，及將溶劑之重量稱為B，則固態材料在第三塗布液中之百分比X示為[(A－B)/A]×100。如此百分比X較佳為16%至21%，而且特別是16%至19%之範圍，而(A－B)為固體含量，即塗布液所含聚合物及添加劑之量。固態材料為塗布液所含之添加劑及聚合物。滿足以上固態材料含量條件之塗布液具有低黏度。因此自流延模排放塗布液時發生之壓力損失變低，使得其可安定地形成流延粒。此外減少鯊魚皮，即排放時在粒發生之稍微厚度不均勻。如此所製造薄膜之光滑性優良。此外流延薄膜具有高流體性。因此即使因大氣及條件失調而發生如波形條之不均勻，其表面因表面張力之效果而變光滑。此現象在以上稱為調平。然而如果固態材料之含量低於16重量%，則黏度太低，而且對流延薄膜施加之乾燥空氣擾亂薄膜表面之光滑化。如此薄膜表面不變光滑，而且光滑性變低。如果含量超過21重量%，則黏度太高，而且在排放時發生更多鯊魚皮。因此調平效果變低，而且光滑性變低。
所製造薄膜之光滑性主要依暴露層用第三塗布液而定。在本發明中，第三塗布液之黏度最低，而且第一塗布液之黏度及厚度最大。如此高黏度塗布液流延最多。因此粒形成變安定且在撐體上乾燥流延薄膜變快。此外乾燥空氣對暴露層之光滑性影響最大。在本發明中，由於暴露層係由低黏度第三塗布液形成，調平效果變大，如此流延層之光滑性變低減少。此外由於光滑性變大，所製造薄膜之表面條件適當。在此情形亦防止在薄膜製造期間在拉幅機裝置中拉伸濕膜時發生之拉伸不均勻。
本發明之溶液流延方法有用於流延多種塗布液之流延方法，例如共流延法及循序流延法。在此具體實施例中實行共流延法。在循序流延法中，如第7圖所示，自流延模150至152循序地流延多種塗布液。將流延模150配置於其他流延模151,152之最上游部分，而且排放用於形成接觸層之第一塗布液。然後將流延模151配置於流延模150下游及鄰接，及而且排放用於形成主層之第二塗布液。將流延模152配置於最下游部分，及排放用於形成暴露層之第三塗布液。如此流延薄膜160具有三層結構。此外在本發明中可組合共流延法及循序流延法。此外進料區可附於流延模150至152至少之一，或者流延模可為多岐管型。
流延模、流延室與撐體之結構、共流延、剝除、拉伸、各程序之乾燥條件、處理、捲曲、修正光滑性後之捲繞方法、及溶劑與薄膜回收敘述於日本專利公開公告第2005－104148號之[0617]至[0889]。
日本專利公開公告第2005－104148號之[1073]至[1087]敘述關於所捲繞醯化纖維素薄膜之性質及其測量方法。此性質及測量方法可應用於本發明。
醯化纖維素薄膜較佳為在至少一個表面之表面處理後以數種方式使用。較佳之表面處理為真空輝光放電、大氣壓力下電漿放電、UV光照射、電暈放電、火燄處理、酸處理與鹼處理。此外較佳為進行這些表面處理之一。
醯化纖維素薄膜可在至少一個表面上具有塗底漆，而且以數種方式使用。
其較佳為使用醯化纖維素薄膜作為其上可提供至少一種功能層之基膜。較佳之功能層為抗靜電層、硬化樹脂層、抗反射層、易黏著層、抗眩層、與光學補償層。
這些功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種界面活性劑。此外功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種潤滑劑。此外功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種消光劑。此外功能層較佳為含1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種抗靜電劑。形成功能層之條件及方法詳述於日本專利公開公告第2005－104148號之[0890]至[1087]，其可應用於本發明。如此所製造薄膜中可具有數種功能及性質。
所製造醯化纖維素薄膜可有效地作為偏光濾色片用保護膜，及光學補償膜。在偏光濾色片中將醯化纖維素薄膜黏附於偏光片。其通常將兩片偏光濾色片黏附於液晶層而可製造液晶顯示器。應注意，液晶層及偏光濾色片之排列不限於此，而且數種已知排列為可行的。日本專利公開公告第2005－104148號詳細揭示TN型、STN型、VA型、OCB型、反射型、及其他型式之液晶顯示器。此外在此申請案之說明中，醯化纖維素薄膜具有光學各向異性層，而且另一片醯化纖維素薄膜具有抗反射及抗眩功能。此外此公告敘述關於具有適當光學性質之光學雙軸醯化纖維素薄膜。此醯化纖維素薄膜可用於偏光濾色片用保護膜。公告第2005－104148號之[1088]至[1265]之說明可應用於本發明。
以下解釋本發明實行之實例。然而本發明不限於此實例。
藉第1圖所示之塗布液生產線10混合以下化合物使得可製造各接觸層、基層及暴露層用塗布液。在此實施例中準備不僅溶劑槽11，亦準備用於儲存甲醇之甲醇槽(未示)。在此實例中應注意，儲存於溶劑槽11之溶劑成分為作為第一溶劑成分之二甲基甲烷，而且使用醇槽中之醇作為第二溶劑成分。
混合以下化合物使得可製備TAC塗布液A作為暴露層用第三塗布液122。應注意，其使用其中按如下混合比例混合二氯甲烷與甲醇之混合溶劑。此外將遲滯控制劑及顆粒與混合溶劑混合，使得可得第三液體58a。
應注意，使用遲滯控制劑及顆粒作為第三液體58a。
首先將適量之二氯甲烷自溶劑槽11進料至溶解槽15，然後將適量之甲醇自甲醇槽進料至溶解槽15。然後將三乙酸纖維素自進料漏斗13進料至溶解槽15。然後在溶解槽15中攪拌三乙酸纖維素、二氯甲烷與甲醇，使得可得到混合物17。然後將混合物17進料至加熱裝置22，在此將三乙酸纖維素進一步溶於溶劑，而且藉溫度控制器23冷卻至大約室溫，使得在濃縮前可得到一級塗布液。將一級塗布液進料至沖洗裝置31，在此蒸發溶劑。如此得到預定濃度之一級塗布液20。
藉泵P2自沖洗裝置31抽取經濃縮一級塗布液20，及藉由照射非常微弱之超音波而消泡。如此藉第二過濾裝置26完成過濾使得可捕捉雜質。然後將一級塗布液20進料至原料槽28。
然後將部分之一級塗布液20進料至第三進料線L3。然後驅動泵P8以將第三液體58a自第二槽58進料至第二進料線L2。藉靜態混合器59將一級塗布液20與第三液體58a混合及攪拌。如此製備用於形成暴露層之第三塗布液。第三塗布液120之黏度η 3為15 Pa．s。此外在暴露層用第三塗布液中，溶劑對塗布液重量之百分比，即固態化合物在第三塗布液中之含量X，為18%。如果塗布液之重量為A及有機溶劑之重量為B，則含量X示為[(A－B)/A]×100。
混合以下化合物使得可製備接觸層用第一塗布液及主層用第二塗布液。依照第一及第二塗布液，百分比X為23%。製備第一及第二塗布液使得其濃度可較第三塗布液高。
應注意，遲滯控制劑及顆粒係含於第一及第三液體52a,58a。
以如上方法製備TAC塗布液B且作為接觸層及主層用第一及第二塗布液。然後將由TAC製造之第一至第三塗布液120至122進料至薄膜生產線50。首先將第一至第三塗布液120至122自流延模89共流延至流延帶85上，以形成具有主層121a、接觸層120a及暴露層122a之三層結構的流延薄膜70。在流延時調整各塗布液之流延體積，使得接觸層120a之厚度t1、主層121a之厚度t2、暴露層122a之厚度t3可滿足公式t1t3t2。
然後將流延薄膜70自流延帶85剝除成為濕膜75，而且在運輸區域77及拉幅機裝置78中乾燥。如此得到薄膜76。然後將薄膜76進料至乾燥室80中，在此薄膜76通過許多輥105。在乾燥室80中運輸薄膜76時進行足夠之乾燥。最後在捲繞室82中將薄膜76捲繞於捲繞輥110。依照所製造薄膜76，殘餘溶劑含量為0.4重量%，及厚度為80微米。所製造薄膜具有原為流延薄膜70之接觸層的第一層，原為主層之第二層，及原為暴露層之第三層。在此具體實施例中並未特別地控制第二層之厚度t2’。由於如上調整流延體積，其將所製造薄膜76在拉伸後之薄膜厚度控制成80微米，而且t1’、t3’值各為3微米及20微米。
在實例1中，在各進料管線L1至L3中各第一至第三液體52a,55a,58a之流速V1及流延塗布液之流速V2滿足公式V1/V2＝3，而且在各進料管線L1至L3中流動之流延塗布液的剪切速率為1.3(秒－1
)。Reynolds數為5。此外各管60具有縫形出口69，而且元件之數量為42。出口至靜態混合器之距離D為10毫米。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為15 Pa．s，及固態化合物之百分比X為17重量%。如表1所示改變所製造薄膜76中各層之厚度。其他條件與實例1相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為20 Pa．s，及固態化合物之百分比X為19重量%。如表1所示改變所製造薄膜76中各層之厚度。流延薄膜70之薄膜總厚度為100微米。其他條件與實例1相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為50 Pa．s，及固態化合物之百分比X為20重量%。其他條件與實例1相同。
使用具有圓形出口之管代替具有縫形出口之管。其他條件與實例1相同。
在塗布液生產線10中混合以下化合物，使得可製備環聚烯烴塗布液C作為暴露層用第三塗布液122。
首先將100質量%之降莰烯羧酸甲酯與100質量%之經純化甲苯進料至反應瓶中。然後將25莫耳%之己酸伸乙酯－Ni(單體質量)溶於甲苯，亦將溶於甲苯之0.225莫耳%之三(五氟苯基)硼(單體質量)與0.25莫耳%之三乙鋁(單體質量)進料至反應瓶中。然後攪拌混合物以反應18小時。在反應後將混合物進料至過量乙醇中，使得聚合物可沉澱。將沉澱之聚合物精製及乾燥。如此所得聚合物為環聚烯烴。
如實例1，如下在第1圖之塗布液生產線10中製備環聚烯烴塗布液。首先將適量之二氯甲烷自溶劑槽11進料至溶解槽15，然後將適量之甲醇自甲醇槽進料至溶解槽15。然後將環聚烯烴自進料漏斗13進料至溶解槽15。然後在溶解槽15中攪拌環聚烯烴、二氯甲烷與甲醇，使得可得到混合物17。然後藉超音波照射將混合物消泡，然後使用第二過濾裝置26過濾而捕捉雜質。在過濾後將混合物17進料至原料槽28中且儲存於其中作為一級塗布液20。
然後將部分之一級塗布液20進料至第三進料線L3。然後驅動泵P8以將第三液體58a自第二槽58進料至第二進料線L2。藉靜態混合器59將一級塗布液20與第三液體58a混合及攪拌。如此製備用於形成暴露層之第三塗布液。第三塗布液122之黏度η 3為20 Pa．s。
在塗布液生產線10中混合以下化合物，使得可製備環聚烯烴塗布液D作為接觸層用第一塗布液120及主層用第二塗布液121。第一及第二塗布液120,121之黏度η 1,η 2之黏度為65 Pa．s，而且含量X為25重量%。
然後將由環聚烯烴製造之第一至第三塗布液120至122進料至薄膜生產線50。首先將第一至第三塗布液120至122自流延模89共流延至流延帶85上，以形成具有主層121a、接觸層120a及暴露層122a之三層結構的流延薄膜70。
在流延時調整各塗布液之流延體積使得可滿足t1t3t2之條件。將流延薄膜70在拉伸後之薄膜厚度控制成80微米。然而調整各第一及第二塗布液120,121之流延體積，使得所製造薄膜76中第一層之厚度t1’為3微米，及第三層之厚度t3’為10微米。
然後將流延薄膜70自流延帶85剝除成為濕膜75，而且在運輸區域77及拉幅機裝置78中乾燥。如此得到薄膜76。然後將薄膜76進料至乾燥室80中，在此薄膜76通過許多輥105。在乾燥室80中運輸薄膜76時進行足夠之乾燥。最後在捲繞室82中將薄膜76捲繞於捲繞輥110。依照所製造薄膜76，殘餘溶劑含量為0.4重量%，及厚度為80微米。
調整第三液體58a中之溶劑量使得可控制第三塗布液122之黏度η 3及含量X。第三層之厚度t3’為10微米。其他條件與實例4相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得可控制第三塗布液122之黏度η 3及含量X。第三層之厚度t3’為25微米。其他條件與實例4相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為65 Pa．s，及固態化合物之百分比X為25重量%。第三層之厚度t3’為10微米。其他條件與實例4相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為10 Pa．s，及固態化合物之百分比X為19重量%。第三層之厚度t3’為25微米。其他條件與實例4相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為4 Pa．s，及第三塗布液122中固態化合物之百分比X為14重量%。如表1所示改變流延薄膜中各層之厚度。其他條件與實例1相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為10 Pa．s，及第三塗布液122中固態化合物之百分比X為17重量%。如表1所示改變流延薄膜中各層之厚度。其他條件與實例1相同。
調整第三液體58a中之溶劑量使得第三塗布液122之黏度η 3可為20 Pa．s，及第三塗布液122中固態化合物之百分比X為21重量%。流延薄膜70之薄膜總厚度為80微米。第三層之厚度t3’為1微米。其他條件與實例4相同。
在實例及比較例中，以如下方式估計流延薄膜脫離撐體之剝除力、所製造薄膜之平面性。
在剝除流延薄膜後以肉眼觀察流延薄膜之表面。如果部分之流延薄膜未殘留在表面上且流延薄膜之生產力不變低，則估計為B(許可)。如果部分之流延薄膜殘留在表面上且可使用所製造薄膜，則估計為C。如果部分之流延薄膜殘留在表面上且流延薄膜之生產力變低，則估計為N。
以肉眼觀察所製造薄膜之薄膜表面。如果有表面不均勻且薄膜表面光滑，則估計為A(優良)。如果有些微表面不均勻且可使用所製造薄膜，則估計為B(可用)。如果有表面不均勻且無法適當地使用所製造薄膜，則估計為C(使用上有顧慮)。如果表面不均勻太大且無法使用所製造薄膜，則估計為N(否定)。
表1顯示在以上實例及比較例中製備暴露層用第三塗布液之條件及結果。
如以上實例及比較例之結果，本發明製造之薄膜優良地作為液晶顯示器中之光學補償膜。此外流延薄膜脫離撐體之剝除力良好。因此可以高生產力製造適合光學用途之聚合物薄膜，如上所述。
各種變化及修改在本發明中為可行的且在本發明中可了解。
10．．．塗布液生產線
11．．．溶劑槽
13．．．加料漏斗
15．．．溶解槽
17．．．混合物
20．．．一級塗布液
22．．．加熱裝置
23．．．溫度控制裝置
25．．．第一過濾裝置
26．．．第二過濾裝置
28．．．原料槽
31．．．沖洗裝置
32．．．回收裝置
33．．．精製裝置
35．．．外套
37．．．馬達
38．．．第一攪拌器
39．．．馬達
40．．．第二攪拌器
43．．．外套
45．．．馬達
46．．．攪拌器
50．．．薄膜生產線
52．．．第一槽
52a．．．第一、第二、第三液體
53．．．第一靜態混合器
55．．．第二槽
55a．．．第二液體
56．．．第二靜態混合器
58．．．第三槽
58a．．．第三液體
59．．．第三靜態混合器
60．．．管線
62．．．元件
62a．．．元件62之上游端
63．．．元件
65．．．管
66．．．圓柱形主體
68．．．噴嘴
69．．．縫形出口
70．．．流延薄膜
72．．．流延室
75．．．濕膜
76．．．薄膜
77．．．轉移區域
78．．．拉幅機裝置
80．．．乾燥室
81．．．冷卻室
82．．．捲繞室
85．．．流延帶
86a．．．支持輥
86b．．．支持輥
88．．．進料區
89．．．流延模
90．．．吹風機
91．．．介質循環裝置
92．．．冷凝器
93．．．回收裝置
95．．．輥
97．．．溫度控制器
98．．．減壓室
99．．．擋風板
100．．．乾燥裝置
102．．．邊緣切割裝置
103．．．壓碎器
104．．．輥
105．．．輥
106．．．吸附裝置
107．．．強制中和裝置
110．．．捲繞輥
111．．．壓迫輥
120．．．第一塗布液
120a．．．暴露層
121．．．第二塗布液
121a．．．基層
122．．．第三塗布液
122a．．．接觸層
150．．．流延模
151．．．流延模
152．．．流延模
160．．．流延薄膜
L1．．．第一進料線
L2．．．第二進料線
L3．．．第三進料線
P1．．．泵
P2．．．泵
P3．．．泵
P4．．．泵
P5．．．泵
P6．．．泵
P7．．．泵
P8．．．泵
V1．．．閥
V2．．．閥
第1圖為塗布液生產線之略示圖；第2圖為使用靜態混合器將添加劑加入一級塗布液之一個實例的解釋圖；第3圖為用於加入添加劑之噴嘴的正視圖，其描述其中一級塗布液流動之管線中狀態；第4圖為管線中噴嘴出口之前視圖；第5圖為本發明薄膜生產線之略示圖；第6圖為描述在薄膜生產線中將流延塗布液自模流延之狀況的略示圖；第7圖為依照本發明之循序流延法的一個具體實施例之略示圖。
10．．．塗布液生產線
11．．．溶劑槽
13．．．加料漏斗
15．．．溶解槽
17．．．混合物
20．．．一級塗布液
22．．．加熱裝置
23．．．溫度控制裝置
25．．．第一過濾裝置
26．．．第二過濾裝置
28．．．原料槽
31．．．沖洗裝置
32．．．回收裝置
33．．．精製裝置
35．．．外套
37．．．馬達
38．．．第一攪拌器
39．．．馬達
40．．．第二攪拌器
43．．．外套
45．．．馬達
46．．．攪拌器
50．．．薄膜生產線
52．．．第一槽
52a．．．第一、第二、第三液體
53．．．第一靜態混合器
55．．．第二槽
55a．．．第二液體
56．．．第二靜態混合器
58．．．第三槽
58a．．．第三液體
59．．．第三靜態混合器
L1．．．第一進料線
L2．．．第二進料線
L3．．．第三進料線
P1．．．泵
P2．．．泵
P3．．．泵
P4．．．泵
P5．．．泵
P6．．．泵
P7．．．泵
P8．．．泵
V1．．．閥
V2．．．閥
Claims (13)
- 一種製造聚合物薄膜之方法，其係包括以下步驟：將添加劑加入一級塗布液(其為聚合物與有機溶劑之混合物)以製備三種塗布液；將該塗布液在移動撐體上流延以形成具有三層重疊之流延薄膜，該三層為厚度t1(微米)之第一層、厚度t2(微米)之第二層、及厚度t3(微米)之第三層，該厚度t1、t2與t3至少之一不同，而且滿足t1t3t2之條件；將該流延薄膜自該撐體剝除成為含該有機溶劑之濕膜；將該濕膜之兩個側邊部分以夾構件夾住；移動該夾構件而將該濕膜按寬度方向拉伸；及在該拉伸期間乾燥該濕膜使得可得到該聚合物薄膜。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該第三層之該厚度t3對該流延薄膜總厚度之百分比為3%至40%之範圍。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該用於形成該第一至第三層之塗布液各為第一塗布液、第二塗布液及第三塗布液，而且如果將該第一、第二及第三塗布液之黏度各稱為η 1(Pa．s)、η 2(Pa．s)及η 3(Pa．s)，則其滿足條件η 3η 1η 2。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該聚合物為聚合程度在250至450之範圍的醯化纖維素。
- 如申請專利範圍第4項之製法，其中該第三塗布液之該黏度η 3滿足5 Pa．sη 330 Pa．s。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該第三塗布液所含固態化合物之質量A(克)與該有機溶劑之質量B(克)滿足公式16[(A－B)/A]×10021。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該一級塗布液在管線中進料，其中將該添加劑經連接該管線之管加入該一級塗布液；；及其中藉提供於該管線中之靜態混合器攪拌該一級塗布液與該添加劑之混合物。
- 如申請專利範圍第7項之製法，其中該管在其一端包括按該管線直徑方向延伸之縫形出口。
- 如申請專利範圍第8項之製法，其中該縫之長度為該管線內徑之20%至80%的範圍。
- 如申請專利範圍第8項之製法，其中該縫之餘隙C為至少0.1毫米且最大為該管線內徑之十分之一。
- 如申請專利範圍第8項之製法，其中該添加劑至該線上混合器之距離D為1毫米至250毫米之範圍。
- 如申請專利範圍第8項之製法，其中在該管中流動之該添加劑的順流速度V1與在該管線中流動之該一級塗布液的順流速度V2滿足條件1V1/V25。
- 如申請專利範圍第1項之製法，其中該流延為共流延或循序流延。
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| CN107635632B (zh) * | 2014-12-01 | 2020-07-07 | 百德福钢带有限公司 | 用于制造基于溶剂的膜或基于溶剂的薄膜的方法 |
| JP6794171B2 (ja) * | 2015-09-07 | 2020-12-02 | キヤノン株式会社 | 円筒押出ダイおよびシームレスチューブの製造方法 |
| KR101922535B1 (ko) * | 2018-01-05 | 2018-11-28 | 사빅 에스케이 넥슬렌 컴퍼니 피티이 엘티디 | 추가 혼합 유닛을 포함하는 혼합 시스템 |
| CN109968574B (zh) * | 2019-05-16 | 2024-02-06 | 江苏科润膜材料有限公司 | 生产增强型全氟离子交换膜的钢带流延装置及其制膜方法 |
| CN113771275B (zh) * | 2021-09-18 | 2025-05-06 | 汕头大学 | 一种新型结构流延模头 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020136853A1 (en) * | 2001-01-24 | 2002-09-26 | Koji Koyama | Acrylic resin laminated film and laminated molding using the same |
| JP2003276037A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-30 | Konica Corp | セルロースエステル積層フィルムの製造方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002187149A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | セルロースアシレートフイルムの製造方法 |
| EP1333055B1 (en) * | 2000-11-09 | 2008-03-12 | FUJIFILM Corporation | Solution of cellulose acylate in mixed solvent comprising ketone and ester |
| JP4169183B2 (ja) * | 2001-05-18 | 2008-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 横延伸装置 |
| EP1329297A3 (en) * | 2001-06-15 | 2011-10-19 | FUJIFILM Corporation | Method of producing of cellulose ester film |
| JP4759880B2 (ja) * | 2001-08-16 | 2011-08-31 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | セルロースエステルフィルムの製造装置 |
| US7341785B2 (en) * | 2002-08-01 | 2008-03-11 | General Motors Corporation | Low shrink low density laminate formulation |
| DE10318108A1 (de) * | 2003-04-22 | 2004-11-11 | Bayer Ag | Verfahren zur Mischung von Polymerschmelzen mit Additiven |
| JP2004322536A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 溶液製膜方法及び光学用ポリマーフィルム、偏光板保護膜、偏光板、光学機能性膜、液晶表示装置 |
| US20040259382A1 (en) * | 2003-06-23 | 2004-12-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Apparatus and method of producing dope |
| US20060066005A1 (en) * | 2004-09-24 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for producing dope and solution casting method |
| JP4593329B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2010-12-08 | 富士フイルム株式会社 | ドープの製造方法及び装置、並びに製膜方法 |
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020136853A1 (en) * | 2001-01-24 | 2002-09-26 | Koji Koyama | Acrylic resin laminated film and laminated molding using the same |
| JP2003276037A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-30 | Konica Corp | セルロースエステル積層フィルムの製造方法 |
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