TWI385421B - A polarizing plate, a manufacturing method thereof, an optical film, and an image display device using the same - Google Patents

Description

偏光板、其製造方法、光學薄膜及使用其之影像顯示裝置

本發明係關於使用於液晶顯示裝置(LCD)、電致發光顯示裝置(ELD)等影像顯示裝置之偏光板及其製造方法。又，本發明係關於含此偏光板之光學薄膜及具有前述偏光板或前述光學薄膜之影像顯示裝置。

使用於影像顯示裝置之偏光板為提供明亮、色重現性良好之影像，被要求必須兼具高穿透率與高偏光度。此種偏光板一般係利用碘或二色性染料等二色性物質在聚乙烯醇(PVA)系膜上染色而作為偏光膜後，在此偏光膜之兩面貼合三乙醯基纖維素膜等聚合物膜構成之保護膜所製成。

此種偏光板除了穿透率、偏光度及色相等之優異之光學特性以外，也被要求需具備無不均之影像顯示、即所謂優異之面內均勻性。對此面內均勻性，作為改善偏光膜之不均(例如參照專利文獻1)及改善保護膜之不均(例如參照專利文獻2)，以往曾分別揭示提高偏光板之面內均勻性之技術。但，隨著近年來之影像顯示裝置之大型化及畫質之提高，對偏光板所要求之面內均勻性之要求日趨嚴苛，且如藉反射光之濃淡所確認之條紋狀之凹凸不均(條紋不均)一般，已產生新模態之不均，尚難斷言已獲得充分之均勻性。前述條紋不均係在偏光板之略中央部，發生於與MD方向(流動方向)相同之方向。

專利文獻1：日本特開2001－290025號公報專利文獻2：日本特開2002－221620號公報

本發明係鑑於上述問題點而研發者，其目的在於在偏光膜之單面或兩面經由接著層或黏著層貼合保護膜之偏光板，以抑制條紋狀之凹凸不均而提供面內均勻性優異之偏光板及其製造方法。另外，本發明之目的在於提供在此偏光板疊層至少1層之光學功能層之光學薄膜及具有前述偏光板或前述光學薄膜之影像顯示裝置。

本發明人等為解決前述問題，經銳意探討之結果，發現藉以下所示之偏光板及其製造方法，可達成上述目的，終於完成本發明。

本發明之偏光板係在偏光膜之單面或兩面經由接著層或黏著層貼合保護膜之偏光板，其特徵在於接著層或黏著層之厚度為52 nm以下，前述偏光板貼合時之偏光膜之水分率最好為15重量%~26重量%。

作為本發明之偏光板之製造方法，在偏光膜之單面或兩面經由接著層或黏著層貼合保護膜後，加熱乾燥之偏光板之製造方法中，其特徵在於以乾燥後之接著層或黏著層之厚度為52 nm以下之方式疊層接著劑或黏著劑。此時，在偏光膜之單面或兩面，利用接著層或黏著層貼合保護膜之際，最好在將偏光膜之水分率調整為15~26重量%後將其貼合。

本發明係關於在前述偏光板或在利用前述其製造方法所得之偏光板，至少疊層1層之光學功能層之光學薄膜，且關於前述偏光板或具有前述光學薄膜之影像顯示裝置。

如上所述，本發明之偏光板係在偏光膜之單面或兩面經由接著層或黏著層貼合保護膜之偏光板，其特徵在於前述接著層或前述黏著層之厚度為52 nm以下。此種偏光板可抑制在適用於影像顯示裝置時也可辨識之條紋狀之凹凸不均，提供面內均勻性優異之偏光板。另外，使用此偏光板時，可實現高解像度且高對比度之影像顯示裝置。

本發明之偏光板係在偏光膜之單面或兩面經由厚52 nm以下之接著層或黏著層貼合保護膜之偏光板。此時之接著層或黏著層係利用接著劑或黏著劑所形成，雖無特別限定，但作為接著層或黏著層，在輕量化或薄膜化比黏著劑容易之點上，以使用接著劑較為理想。此種接著劑或黏著劑一般係塗敷於偏光膜或保護膜之單面或兩面，貼合偏光膜與保護膜，乾燥後成為疊層偏光膜、接著層或黏著層及保護膜之偏光板。

作為前述之偏光板之乾燥後之接著層或黏著層之厚度，只要在52 nm以下，即可獲得本發明之效果。其中，較好為35 nm以下，更好為29 nm以下。此厚度太厚時，難以保持接著層或黏著層之面內均勻性，而成為條紋狀之凹凸不均之原因，故無法獲得本發明之效果。又，作為接著層或黏著層之最低限之厚度，由於也受到接著層或黏著層之種類影響，並無特別限定，但較好為5 nm以上，更好為10 nm以上。此接著層或黏著層之厚度太薄時，難以獲得作為偏光板最低限度所需之接著力，且容易發生新的外觀上之缺失。

作為形成接著層之接著劑之接著處理方法，並無特別限定，但可使用例如含乙烯系聚合物之接著劑等。此種接著劑構成之接著層可形成作為水溶液之塗敷乾燥層等，但在調製該水溶液之際，也可依照需要，混合交聯劑及其他添加劑、酸等之觸媒。作為前述接著劑之乙烯系聚合物，較好為聚乙烯醇系樹脂。又，在聚乙烯醇系樹脂中，可含有硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺、草酸等水溶性交聯劑。尤其，使用聚乙烯醇系之聚合物膜作為偏光膜之情形，從接著性之點言之，以使用含有聚乙烯醇系樹脂之接著劑較好。另外，從提高耐用性之點言之，以使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之接著劑更好。

前述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，但從接著性之點言之，以平均聚合度100~3000程度、平均皂化度85~100摩爾%程度較好。又，作為接著層水溶液之濃度，只要依照作為目標之接著層之厚度適宜地決定即可，故並無特別限定，但以0.1~15重量%較好，0.5~10重量%更好。此溶液濃度過高時，黏度會過黏，故容易發生條紋狀之凹凸不均，溶液濃度過低時，塗敷性不良，容易變得不均。

聚乙烯醇系樹脂可列舉將聚醋酸乙烯酯皂化所得之聚乙烯醇；其衍生物；以及醋酸乙烯酯與具有共聚合性之單體之共聚物之皂化物；將聚乙烯醇乙縮醛化、聚氨酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等之改性聚乙烯醇。作為前述單體，可列舉馬來酸酐、富馬酸、丁烯酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸酯等之不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等之α－烯烴、(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N－羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽、N－乙烯基吡咯烷酮、N－乙烯基吡咯烷酮衍生物等。此等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。

含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係利用習知之方法使聚乙烯醇系樹脂與二乙烯酮反應所獲得。例如，可列舉預先使聚乙烯醇系樹脂分散於醋酸等溶劑中，於此添加二乙烯酮之方法、預先使聚乙烯醇系樹脂溶解於二甲替甲醯胺或二噁烷等溶劑，於此添加二乙烯酮之方法等。又，可列舉使二乙烯酮氣體或液狀二乙烯酮直接接觸聚乙烯醇之方法。

含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基改性度只要在0.1摩爾%以上，並無特別限定。不足0.1摩爾%時，接著劑層之耐水性不充分，並不適當。乙醯乙醯基改性度較好為0.1~40摩爾%程度，更好為1~20摩爾%，特好為2~7摩爾%。乙醯乙醯基改性度超過40摩爾%時，與交聯劑之反應點變少，耐水性之提高效果較小。此種乙醯乙醯基改性度可利用核磁共振(NMR；Nuclear Magnetic Resonance)加以測定。

作為交聯劑，可無特別限定地使用一般使用於交聯劑之材料，例如在使用如前所述之聚乙烯醇系樹脂之接著劑之情形，可適合使用至少具有2個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能團之化合物。例如，可列舉乙二胺、三乙二胺、具有2個己撐二胺等之亞烴基與氨基之烷基二胺類；三異氰酸間甲苯酯、氫氧化三異氰酸間甲苯酯、三羥甲基丙烷二異氰酸間甲苯酯、三苯甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙甲烷三異氰酸4－苯酯、異佛爾酮二異氰酸酯及此等之酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等之異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油或三縮水甘油醚、1,6－己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、縮水甘油苯胺、二縮水甘油胺等之環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等之單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、馬來二醛、鄰苯二醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基三聚氰胺、乙稀胍胺、苯並胍胺與甲醛之縮合物等之氨基甲醛樹脂；以及鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬、或三價金屬之鹽及其氧化物。此等之中，以氨基甲醛樹脂，尤其是具有羥甲基之羥甲基化合物較為合適。

交聯劑之混合量對樹脂100重量份，一般為0.1~35重量份程度，較好為使用10~25重量份，但在重視接著劑之耐用性之情形，由接著劑之調製至形成接著層之時間(可用時間)雖會變短，但相反地混合30重量份以上46重量份以下，更好為混合32重量份以上40重量份以下之交聯劑也有效。

在前述接著層或黏著層中，也可進一步含有矽烷耦聯劑、鈦耦聯劑等之耦聯劑、各種黏著賦予劑、紫外線吸收劑、氧化防止劑、耐熱穩定劑、耐加水分解穩定劑等之穩定劑。

前述偏光板若係在偏光膜之單面或兩面經由接著層或黏著層貼合保護膜之偏光板，則也可不限定有關偏光膜或保護膜、及接著層或黏著層之層數等諸條件，而在接著層或黏著層、及保護膜或偏光膜之間設置下塗層及易接著處理層等。

作為將偏光膜與保護膜經由接著層或黏著層貼合之方法，只要適宜地使用以往習知之方法即可，並無特別限定。例如，可列舉使其與調整濃度及黏度後之接著劑(溶液)或黏著劑(溶液)同時通過第1輥與第2輥之一對輥間而予以觸壓貼合之方法。尤其，在本發明中具有將接著層或黏著層薄化至不會被一般使用之程度之特徵，故可調整接著劑溶液或黏著劑溶液之濃度，並適宜地調整觸壓貼合之輥間之距離及輥之材質、輥徑、貼合時之搬送速度等，且控制施加至接著層或黏著層之壓力，藉以調整偏光板之接著層或黏著層之厚度。例如，為了薄化接著層或黏著層，除了降低接著劑溶液或黏著劑溶液之濃度(基礎濃度)及縮小觸壓貼合之輥間之距離以外，作為前述輥之材質使用硬材質及使用更小之前述輥之直徑等之控制也相當重要。

在前述輥塗敷中，最好使用金屬輥作為第1輥，使用在金屬製之芯部塗敷橡膠層或樹脂層之彈性輥作為第2輥。可藉在第2輥之彈性輥之橡膠層或樹脂層之彈性力，將接著層或黏著層之厚度控制在52 nm以下，故可抑制在偏光板所生之條紋狀之凹凸不均。

在1對輥之輥塗敷中，已知一方輥為具有彈性層之彈性輥之情形之輥間之間隙(H)可利用下式表示：H＝2×(μ V)^{1 / 2} (LR/E)^{1 / 3} (1/W)^{1 / 8} 。在此，μ：塗敷液之黏度、V：塗敷速度、L：彈性層之層厚、E：彈性層之硬度、R：輥徑、W：層壓壓力。參照Chemical Engineering Science Vol.43,No.10,P2673－2684(1988)。在本發明中，參考上述間隙(H)之式，將其適用於製造偏光板之偏光膜與保護膜間之接著層或黏著層，將接著層或黏著層之厚度控制在52 nm以下，並探討作成偏光板之際之條件。

作為前述第1輥，最好使用金屬輥。作為金屬輥，使用表面硬度高於第2輥之金屬輥。作為金屬輥之材料，例如，可列舉鐵、不銹鋼、鈦、鋁等。作為金屬輥，從費用對效果比之點言之，以鐵輥較為合適。

作為前述第2輥，例如最好使用在金屬製之芯部塗敷橡膠層或樹脂層之彈性輥。作為此橡膠層或樹脂層之硬度，較好為使用60以上之硬度，更好為使用80以上之硬度。又，為防止膜表面之刮傷，以90以下之硬度較為理想。作為此時之硬度，例如，可利用JIS K6253(1997)揭示之方法，利用市售之硬度計(A型)加以測定。

另外，作為第1輥與第2輥之直徑，因直徑愈小時，接觸於膜之面積愈小，故相對地施行於膜面之壓力愈高。因此，作為輥之直徑，較好為使用250 mm以下之直徑，更好為使用200 mm以下之直徑，最好為使用150 mm以下之直徑。但，此直徑過小時，輥之耐用性會變弱，不能施加充分之力，故較好為使用30 mm以上之輥，更好為使用70 mm以上之輥。

又，貼合時之搬送速度有速度愈快時，接著層或黏著層之厚度愈厚之傾向，但並無特別限定，通常最好調整為2 m/分~50 m/分。

又，貼合時，施加於接著層或黏著層之層壓壓力並無特別限定，可適宜地加以設定。層壓壓力從調整之容易度、偏光板之生產性之點言之，較好為0.2~1 MPa程度，更好為0.2~0.6 MPa程度。層壓壓力之測定係利用富士照相軟片製之感壓紙「普列斯凱(超極低壓：LLLW)」，利用電腦影像處理將該感壓紙之色變化二值化，由所製作之壓力標準線之近似式求出有關其發色面積與濃度。

又，貼合時，最好使用可在無溶劑或低溶劑狀態貼合接著層或黏著層之乾式層壓法。作為此乾式層壓法，只要使用以往習知之乾式層壓用接著劑及貼合方法即可，但在本發明應用此方法時，獲悉可獲得降低更進一步之條紋狀之凹凸不均之效果。

作為前述乾式層壓用接著劑，可列舉二液硬化型接著劑、二液溶劑型接著劑、一液無溶劑型接著劑等。作為二液硬化型接著劑，可使用丙烯酸系，作為二液溶劑型接著劑，可使用聚酯系、芳香族聚酯系、脂肪族聚酯系、聚酯/聚氨酯系、聚醚/聚氨酯系，作為一液無溶劑型接著劑(濕氣硬化型)，可使用聚醚/聚氨酯系等之樹脂。

作為貼合偏光膜與保護膜之際之偏光膜之水分率，並無特別限定，但過低時，形成偏光板時，容易發生條紋狀之凹凸不均，反之，水分率過高時，在耐用性、接著力及接著層或黏著層之厚度之點上難以控制。因此，作為將保護膜貼合於本發明之偏光膜時之偏光膜之水分率，較好為15~26重量%，更好為19~25重量%，最好為22~25重量%。此種偏光膜之水分率，一般可利用偏光膜製程中之乾燥條件加以調整，但也可依需要另行設置調濕處理步驟，施行對水浴中之浸漬及水滴之噴霧或再度之加熱乾燥及減壓乾燥。雖也因前述乾燥處理而異，但通常，利用濕式法製作之PVA系偏光膜在未調整狀態之水分率為26~33重量%程度，故可以30~50℃程度之溫度加熱乾燥60~180秒鐘程度而獲得前述水分率。

作為前述偏光膜，通常使用利用碘或二色性染料等二色性物質在聚乙烯醇(PVA)系膜等聚合物膜上然染色而單軸拉伸之偏光膜。此種偏光膜之厚度並無特別限定，但通常為5~80 μm程度。偏光膜之厚度有愈薄時愈容易看見條紋狀之凹凸不均之傾向，故偏光膜較好為使用40 μm以下之厚度。尤其，偏光膜之厚度在25 μm以下之情形，本發明之效果更為顯著。

作為偏光膜之光學特性，以偏光膜單體測定時之單體穿透率以43%以上較好，43.3~45.0%之範圍更好。又，準備2張前述偏光膜，將2張偏光膜之吸收軸互相重疊成90°所測定之正交穿透率最好更小，實用上，較好為0.00%以上0.050%以下，更好為0.030%以下。作為偏光度，實用上，較好為99.90%以上100%以下，特好為99.93%以上100%以下。作為偏光板測定之際也以獲得大致與此同等之光學特性為宜。

作為形成偏光膜之聚合物膜可無特別限定地使用各種聚合物膜。例如，可列舉聚乙烯醇(PVA)系膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)系膜、乙烯．醋酸乙烯共聚物系膜、及在此等之局部皂化膜、纖維素系膜等之親水性高分子膜施行PVA之脫水處理物及聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯烴系定向膜等。其中，從碘等二色性物質產生之染色性較優之點言之，最好使用PVA系膜。

前述聚合物膜之材料之聚合物之聚合度一般為500~10000，較好為100~6000之範圍，更好為1400~4000之範圍。另外，皂化膜之情形，其皂化度例如從對水之溶解性之點言之，較好為75摩爾%以上，更好為98摩爾%以上，在98.3~99.8摩爾%之範圍更好。

使用PVA系膜作為前述聚合物膜之情形，適宜使用使溶解於水或有機溶劑之原液流延成膜之流延法、澆鑄法、擠出法等任意之方法作為PVA系膜之製法所成膜之聚合物膜。此時之相位差值最好使用5 nm~100 nm之相位差值。又，為獲得面內均勻之偏光膜，PVA系膜面內相位差誤差最好儘可能地小，PVA系膜面內相位差誤差在測定波長1000 nm中較好為10 nm以下，更好為5 nm以下。

作為前述偏光膜之製造方法，雖未限定於此，但一般大致上分為乾式拉伸法與濕式拉伸法。作為濕式拉伸法之偏光膜之製造步驟，可依照其條件使用適當之方法，例如，一般使用以膨潤、染色、交聯、拉伸、水洗及乾燥處理步驟構成之一連串製程製造前述聚合物之方法。在除了乾燥處理步驟以外之此等各處理步驟中，一面浸漬於各種溶液組成之浴中，一面施行各處理。此時之各處理步驟之膨潤、染色、交聯、拉伸、水洗及乾燥之各處理之順序、次數及實施之有無並無特別限定，既可在一處理步驟中同時施行若干種處理，也可不施行若干種處理。例如，拉伸處理既可在染色處理後施行，也可與膨潤及染色處理同時施行拉伸處理，且也可在施行拉伸處理後施行染色處理。另外，在拉伸處理之前後施行交聯處理也相當理想。又，作為拉伸處理，可無限定地使用適宜之方法，例如輥式拉伸之情形，使用利用輥間之輥之圓周速差施行拉伸之方法。另外，在各處理中也可適宜地添加硼酸及硼砂或碘化鉀等之添加劑。因此，在偏光膜中，也可依需要含有硼酸及硫酸鋅、氯化鋅、碘化鉀等。甚至於在此等若干種處理中，既可適宜地向流動方向或寬度方向拉伸，也可在各處理中施行水洗處理。

作為膨潤處理步驟，例如，將前述聚合物膜浸漬於注滿水之處理浴(膨潤浴)中。藉此，水洗聚合物膜，可洗淨聚合物膜表面之污垢及結塊防止劑，並使聚合物膜膨潤，故可期待獲得防止染色不均等之不均勻性之效果。在此膨潤浴中，也可適宜地添加甘油及碘化鉀等，添加之濃度最好為甘油5重量%以下、碘化鉀10重量%以下。膨潤浴之溫度為20~45℃程度，在膨潤浴之浸漬時間為2~180秒鐘程度。又，也可在此膨潤浴中拉伸聚合物膜，其時之拉伸倍率為1.1~3.5倍程度。

作為染色處理步驟，例如，可列舉將前述聚合物膜浸漬於含碘等二色性物質之處理浴(染色浴)中而加以染色之方法。作為前述二色性物質，可使用以往習知之物質，例如碘或有機染料等。作為有機染料，例如，紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、寶石紅BL、波爾多GS、天藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、橘LR、橘3R、深紅GL、深紅KGL、剛果紅、亮紫BK、深藍G、深藍GL、深橘GL、直接天藍、直接一級橘S，一級黑等。此等二色性物質可使用一種，也可併用2種以上。其中，碘因偏光度等光學特性優異，容易獲得本發明之條紋狀之凹凸不均之降低效果，故最適合使用。

作為染料浴之溶液，可使用將前述二色性物質溶解於溶劑之溶液。作為溶劑，一般使用純水，但也可進一步添加與水具有相容性之有機溶劑。作為二色性物質之濃度，通常為0.010~10重量%程度。聚合物膜在此染料浴中之浸漬時間並無特別限定，通常為0.5~20分程度，染色浴之溫度為5~42℃。也可在此染料浴中拉伸聚合物膜，與前處理步驟之拉伸倍率累積之累積倍率為1.1~3.5倍程度。

使用碘作為前述二色性物質之情形，可進一步提高染色效率，故最好在染料浴中進一步添加碘化物。作為此碘化物，例如，可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。此等碘化物之添加比率在前述染料浴中，只要0.010~10重量%程度即可。其中，添加碘化鉀較為理想。碘與碘化鉀之比率(重量比)最好為1：5~1：100之範圍。另外，基於提高面內均勻性之目的，也可適宜地添加硼化合物等之交聯劑。

又，作為染色處理，除浸漬於如前述之染料浴之方法外，既可使用例如將含二色性物質之水溶液塗敷或噴霧於前述聚合物膜之方法，也可使用在前述聚合物膜製膜時預先混入二色性物質之方法。

作為交聯處理，例如，可將聚合物膜浸漬於含交聯劑之處理浴(交聯浴)中處理。作為交聯劑，可使用以往習知之物質。例如，可列舉硼酸、硼砂等硼化合物及乙二醛、戊二醛等，此等可單獨使用一種或併用二種以上。併用二種以上之情形，例如，最好使用硼酸與硼砂之組合，又，其添加比率(摩爾比)為4：6~9：1程度。作為交聯劑之溶劑，一般使用純水等之水，也可含有與水具有相容性之有機溶劑。交聯浴中之交聯劑濃度為1~10重量%程度。

前述交聯浴中，從可獲得偏光膜面內均勻性之點言之，也可添加碘化物。作為此碘化物，例如，可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦，此含量為0.05~15重量%，更好為0.5~8重量%。其中，硼酸與碘化鉀之組合較好，硼酸與碘化鉀之比率(重量比)較好為1：0.1~1：3.5之範圍，更好為1：0.5~1：2.5之範圍。交聯浴之溫度通常為20~70℃，浸漬時間通常為1秒~15分程度。另外，交聯處理也與染色處理同樣，既可使用塗敷或噴霧含交聯劑之有機溶液之方法，也可與交聯處理同時施行拉伸處理。此時之累積拉伸倍率為1.1~3.5倍程度。

作為拉伸處理步驟，在濕式拉伸法之情形，在浸漬於處理浴(拉伸浴)中之狀態拉伸至累積拉伸倍率為2~7倍程度。作為拉伸浴之溶液，較好為使用在水、乙醇或各種有機溶劑等之溶劑中添加各種金屬鹽或碘、硼或鋅之化合物之溶液。其中，較好為使用分別添加硼酸及/或碘化鉀2~18重量%程度之溶液。同時使用硼酸與碘化鉀之情形，其含有比率(重量比)較好為1：0.1~1：4程度。此拉伸浴之溫度較好為40~67℃程度。

作為水洗處理步驟，例如，可利用將聚合物膜浸漬於處理浴(水洗浴)中，沖洗掉前面之處理所附著之硼酸等不要殘存物。也在上述水溶液中可添加碘化物，例如，較好為使用碘化鈉或碘化鉀。水洗浴之溫度較好為10~60℃程度。此水洗處理之次數可無特別限定地實施多數次，各水洗浴中之添加物之種類及濃度以適宜調整為宜。

又，從各處理浴拉起聚合物膜之際，為防止滴液之發生，既可利用以往習知之夾膜輥等之除液輥，也可利用空氣刮刀刮掉液體等方法，除去多餘之水分。

作為乾燥處理步驟，可使用自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥等以往習知之乾燥方法。例如，在加熱乾燥中，加熱溫度為20~80℃程度，乾燥時間為1~10分鐘程度。又，也在此乾燥處理步驟中適宜地加以拉伸。

另外，作為前述處理步驟所得之偏光膜之最終拉伸倍率(總拉伸倍率)，較好為3.0~7.0倍。總拉伸倍率不足3.0倍時，難以獲得高偏光度之偏光膜，超過7.0倍時，膜容易斷裂。

又，偏光膜之製造方法並不限定於上述製造方法，也可利用其他製造方法製造偏光膜。例如，可例舉乾式拉伸法或在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等之聚合膜中混入二色性物質，經製膜、拉伸之方法，或以定向於單軸方向之液晶為主質而以二色性染料為客質之O型膜之方法(美國專利5,523,863號、日本特表平3－503322號公報)、使用二色性之液向型液晶等之E型膜之方法(美國專利6,049,428號)。

作為前述保護膜，因係以保護偏光膜為目的，故以透明性、機械的強度、熱穩定性、各向同性等優異者較為理想。保護膜之厚度一般為1~300 μm程度，以5~100 μm程度更好。尤其，使用較薄之保護膜之情形，較容易看到本發明之問題之條紋狀之凹凸不均，故保護膜之厚度以使用5~60 μm程度之情形較為合適，對偏光板之本發明之效果較為顯著。又，從提高偏光特性或耐用性及接著特性等之點言之，以利用鹼等對保護膜表面施行皂化處理較為理想。此種保護膜之透濕度依據溫度40℃相對濕度90%之JIS Z0208(杯法)測定之結果，為0.5~5000 g/m² ．24h程度。

作為形成保護膜之材料，可列舉對苯二甲酸乙二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯之聚酯系之聚酯系聚合物、二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸酯等之丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯及丙烯腈．苯乙烯共聚物(AS樹脂)等之苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，聚乙烯、聚丙烯、具有環系或原菠烯構造之聚烯烴、如聚乙烯．聚丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等之醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙醇縮丁醛系聚合物、芳基化合物系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或前述聚合物之混合物等也可列舉作為形成前述保護膜之聚合物之例。保護膜也可形成作為將丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯氨酯系、環氧系、矽系等之熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層。此等之中，纖維素系聚合物、具有環系或原菠烯構造之聚烯烴系聚合物較好，尤其使用三乙醯纖維素構成之保護膜之情形，本發明之效果更為顯著。

將此保護膜貼合於偏光膜之兩面之情形，也可在其單面使用具有各異之特性之保護膜。作為其特性，例如，可列舉厚度、材質、光穿透率、拉伸彈性率或光學功能層之有無等。

在前述偏光板中，可進一步使用作為至少疊層1層之各種光學功能層之光學薄膜。作為此光學功能層，例如可列舉施行硬塗層處理層及反射防止處理層、黏附防止處理層、及擴散層或防眩處理層等之表面處理層及視角補償或光學補償等為目的之定向液晶層。另外，可列舉在偏光變換元件、反射板或半穿透板、相位差板(含1/2或1/4等之波長板(λ板))、視角補償膜。亮度增強膜等之影像顯示裝置等之形成所使用之疊層1層或2層以上之光學薄膜之偏光板。尤其最好使用在前述偏光板使用疊層反射板或半穿透反射板所構成之反射型偏光板或半穿透型偏光板、疊層相位差板板所構成之橢圓偏光板或圓偏光板、疊層視角補償層或視角補償膜所構成之寬視角偏光板、或疊層亮度增強膜所構成之偏光板。

疊層前述光學功能層之情形，一般只要在偏光板等之膜上直接疊層前述表面處理層或定向液晶層即可，但各種膜構成之光學功能層最好使用經由前述接著層或黏著層疊層之方法。作為此時之接著層或黏著層，尤其以使用黏著劑構成之黏著層較為理想。

作為黏著劑構成之黏著層，例如可利用丙烯酸系、矽系、聚酯系、聚氨酯系、聚醚系、橡膠系等依據以往之適宜之黏著劑所形成。作為此黏著劑，從吸濕引起之發泡現象及剝離現象之防止、熱膨脹差等引起之光學性能之降低或液晶胞之翹曲防止，進而在高品質而耐用性優異之影像顯示裝置之形成性等之點上言之，以吸濕性低而耐熱性優異之黏著劑為宜。另外，從防止偏光板等之光學性能之變化之點言之，以硬化或乾燥之際不需要高溫之處理，且不需要長時間之硬化處理及乾燥時間之黏著劑為宜。從此種觀點，在偏光板及光學膜最好使用丙烯酸系黏著劑。又，也可形成在前述黏著劑中添加微粒以顯示光擴散性之黏著層。

此接著層或黏著層只要依需要設置於需要之面即可，例如，若提及如本發明之偏光膜與保護膜所構成之偏光板時，只要依需要在偏光板之單面或兩面，即在保護膜，只要在貼附於偏光膜之相反側之面設置接著層或黏著層即可。如此，在供疊層光學功能層使用之情形之黏著劑構成之接著層或黏著層之乾燥後之厚度方面，並無特別限定，但一般為1~500 μm程度，較好為5~200 μm，更好為10~100 μm。將接著層或黏著層之厚度設定於此範圍時，可緩和偏光板與光學功能層之尺寸異動產生之應力。

前述黏著劑構成之黏著層露出表面之情形，基於在該黏著層供實用以前之期間之污染防止之目的，最好利用隔離層加以暫時覆蓋。隔離層最好使用在依據前述保護膜等之適宜之膜上，依照需要設置矽系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適宜之剝離劑構成之剝離膜之隔離層。

施以硬塗層處理之目的在於防止偏光板表面受傷等，例如，可利用將丙烯酸系、矽系等適當之紫外線硬化樹脂等硬度及光滑特性等優異之硬化薄膜附加在保護膜表面之方式等形成。施行反射防止處理之目的在於防止外光在偏光板表面反射，可利用形成依據以往之反射防止膜等方式達成。又，施行黏附防止處理之目的在於防止與鄰接層密接。

防眩處理之目的在於防止外光在偏光板表面反射而阻礙透過偏光板之光之辨識，例如，可利用噴砂方式或壓花加工方式之粗面化方式或透明微粒子之混合方式等之適當方式，在保護膜表面附上微細凹凸構造之方式形成。作為在前述表面微細凹凸構造之形成所含之微粒子，例如可使用平均粒徑0.5~50 μm之二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等構成而具有導電性之無機系微粒子、交聯或未交聯之聚合物等構成之有機系微粒子等之透明微粒子。形成表面微細凹凸構造之情形，微粒子之使用量在形成表面微細凹凸構造之透明樹脂100重量份中，一般為2~70重量份程度。防眩層亦可兼具作為擴散偏光板之穿透光，以擴大視角等用之擴散層(視角擴大機能等)。

又，前述反射防止層、黏附防止層、擴散層及防眩層等光學功能層除可直接設於偏光板外，也可另外設成作為與偏光板獨立之個體膜。

反射型偏光板係在偏光板設置反射層，用以形成使來自辨識側(顯示側)之入射光反射而予以顯示之型式之液晶顯示裝置等，可省略背光源等之光源，具有容易謀求液晶顯示裝置之薄型化等優點。反射型偏光板之形成，可利用依需要經由保護膜等在偏光板之單面附設金屬等構成之反射層之方式等適宜方式形成。

又，半穿透型偏光板可利用在上述中形成以反射層反射光，且使其穿透之半反射鏡等之半穿透型之反射層之方式獲得。半穿透型偏光板通常設於液晶胞之背側，可形成在較亮之氣氛下使用液晶顯示裝置時，可使來自辨識側(顯示側)之入射光反射而顯示影像，在較暗之氣氛下，則使用內藏於半穿透型偏光板之背側之背光源等之內建光源而顯示影像之型式之液晶顯示裝置等。

茲說明有關在偏光板再疊層相位差板所構成之橢圓偏光板或圓偏光板。將直線偏光變成橢圓偏光或圓偏光，或將橢圓偏光或圓偏光變成直線偏光，或改變直線偏光之偏光方向之情形，需使用相位差板等。尤其，作為將直線偏光變成圓偏光，或將圓偏光變成直線偏光之相位差板，通常使用所謂1/4波長板(又稱為λ/4板)。1/2波長板(又稱為λ/2板)通常係使用於改變直線偏光之偏光方向之情形。

橢圓偏光板可有效使用於補償(防止)因超扭轉向列(STN)型液晶顯示裝置之液晶層之雙折射所生之著色(藍或黃)，以有效施行無前述著色之黑白顯示之情形等。另外，控制三維之折射率之橢圓偏光板也可補償(防止)由斜方向看液晶顯示裝置之畫面之際所生之著色，故相當理想。圓偏光板可有效使用於例如調整影像作彩色顯示之反射型液晶顯示裝置之影像之色調之情形等，且具有防止反射之機能。

作為相位差板，可列舉將聚合物膜單軸或二軸拉伸處理所構成之雙折射性膜、使液晶單體定向後，使其交聯、聚合之定向膜、液晶聚合物之定向膜、及以膜支持液晶聚合物之定向層之膜等習知之膜。

相位差板例如可以使用對應於以補償各種波長板及液晶層之雙折射產生之著色及視角差為目的等而具有適宜之相位差之相位差板，也可使用疊層2種以上之相位差板以控制相位差等之光學特性之相位差板等。

視角補償膜係用以擴大視角，以便即使在由略傾斜方向而非由垂直於畫面之方向看液晶顯示裝置之畫面時也可較鮮明地看得見影像之膜。可使用以防止液晶胞之相位差引起之辨識角變化產生之著色等及擴大優良辨識之視角等為目的之適宜之膜。又，從達成優良辨識之視角之點等言之，可適合使用以三乙醯基纖維素膜支持液晶聚合物之定向層，尤其是鈕變液晶聚合物之傾斜定向層構成之光學的各向異性層之光學補償相位差板。

作為偏光變換元件，例如，可列舉各向異性反射型偏光元件及各向異性散射型偏光元件。例如，可列舉日東電工製之PCF系列及3M公司製之DBEF系列等。又，作為各向異性反射型偏光元件，也可適合使用反射型柵偏光器。作為其例，可列舉Moxtek製之Micro Wires等。另一方面，作為各向異性散射型偏光元件，例如，可列舉3M公司製之DRPF等。

貼合偏光板與亮度增強膜之偏光板通常設於液晶胞之背側端使用。亮度增強膜係呈現在自然光藉液晶顯示裝置等之背光源及來自背側之反射等而入射時，可反射特定偏光軸之直線偏光或特定方向之圓偏光，而使其他光穿透之特性，將亮度增強膜與偏光板疊層之偏光板可使來自背光源等之光源之光入射而獲得特定偏光狀態之穿透光，並反射前述特定偏光狀態以外之光而使其不穿透。在此亮度增強膜面反射之光再經設於後側之反射層等反轉而再入射於亮度增強膜，其一部分或全部穿透成為特定偏光狀態之光而可謀求增加穿透亮度增強膜之光量，並供應難以被偏光膜吸收之偏光，以謀求可利用於液晶影像顯示等之光量之增加，藉以提高亮度。

又，本發明之偏光板如上述偏光分離型偏光板一般，也可由疊層偏光板與2層或3層以上之光學功能層所構成。因此，也可為組合上述反射型偏光板或半穿透型偏光板與相位差板之反射型橢圓偏光板或半穿透型橢圓偏光板等。

將前述光學功能層疊層於偏光板之光學薄膜也可在液晶顯示裝置等之製程中利用逐次個別地疊層方式形成，但預先疊層成光學薄膜者具有可提高品質穩定性及組裝作業等優異之液晶顯示裝置等之製程之優點。疊層可使用接著層等適宜之接著機構。接著前述偏光板與其他之光學功能層之際，該等光學軸可依照目的之相位差特性等形成適宜之配置角度。

又，上述之偏光板、光學功能層及接著層、黏著層等之各層例如也可採用以水楊酸酯系化合物或苯並苯酚系化合物、苯並三唑系化合物或丙烯酸氰酯系化合物、鎳絡鹽系化合物等紫外線吸收劑處理之方式等適當方式而使其具有紫外線吸收功能。

本發明之偏光板可適合於使用於液晶顯示裝置(LCD)、電致發光顯示裝置(ELD)等之影像顯示裝置之形成。

偏光板可適合於使用於液晶顯示裝置之形成等，例如，可使用於在液晶胞之單側或兩側配置偏光板所構成之反射型及半穿透型、或穿透．反射兩用型等之液晶顯示裝置。液晶胞基板也可使用塑膠基板、玻璃基板之任何一種。形成液晶顯示裝置之液晶胞可任意選擇，例如，也可使用薄膜電晶體型所代表之主動矩陣驅動型之液晶胞、扭轉向列型或超扭轉向列型所代表之單純矩陣驅動型之液晶胞等適宜之型式之液晶胞。

又，在液晶胞之兩側設置偏光板及光學薄膜之情形，此等既可相同，亦可相異。另外，在形成液晶顯示裝置之際，例如，可將稜鏡陣列板及透鏡陣列板、光擴散板及背光源等之適宜之零件在適宜之位置配置1層或2層以上。

接著，說明有關有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)。一般，有機EL顯示裝置係在透明基板上依序積層透明電極、有機發光層與金屬電極，以形成發光體(有機EL發光體)。在此，有機發光層係各種有機薄膜之積層體，例如已知有具有三苯胺衍生物等構成之電洞注入層、蒽等之螢光性有機固體構成之發光層之積層體、或此種發光層與苝衍生物等構成之電子注入層之積層體、或此等之電洞注入層、發光層、及電子注入層之積層體、等種種組合之構成。

有機EL顯示裝置係利用將電壓施加至透明電極與金屬電極，而將電洞與電子注入有機發光層，此等電洞與電子之再耦合所生之能量會激發螢光物質，利用被激發之螢光物質回到基底狀態時，會放射出光線之原理而發光。途中之再耦合之機理與一般之二極體相同，由此亦可預料地，電流與發光強度對施加電壓呈現附帶有整流性之強的非線性。

在有機EL顯示裝置中，為取出在有機發光層之發光，至少必須有一方電極透明，通常以氧化銦錫(ITO)等透明導電體形成之透明電極作為陽極。另一方面，為容易進行電子注入以提高發光效率，陰極使用功函數小的物質相當重要，通常使用Mg－Ag、Al－Li等之金屬電極。

在此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層以極薄之厚10 nm程度之膜形成。因此，有機發光層也與透明電極同樣，可使光大致完全穿透。此結果，非發光時，由透明基板之表面入射，穿透透明電極與有機發光層而在金屬電極反射之光會再向透明基板之表面側出射，故由外部辨識時，有機EL顯示裝置之顯示面看起來像鏡面。

在因施加電壓而發光之有機發光層之表面側具有透明電極，且在有機發光層之背面側具有金屬電極所構成之含有機EL發光體之有機EL顯示裝置中，可在透明電極之表面側設置偏光板，在此等透明電極與偏光板之間設置相位差板。

相位差板及偏光板具有使由外部入射而在金屬電極反射之光偏光之作用，故可因該偏光作用而具有不能由外部辨識金屬電極之鏡面之效果。尤其，以1/4波長板構成相位差板，且將偏光板與相位差膜之偏光方向之形成角度調整於n/4時，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。

實施例

以下，列舉實施例及比較例更具體地說明本發明，但本發明不受此等實施例及比較例任何限定。

實施例1 (偏光膜之製作)

利用厚50 μm之聚乙烯醇(PVA)膜(日本合成化學工業(株)製、M－5000)，一面在30℃之純水中浸漬60秒鐘，一面拉伸至拉伸倍率2.5倍，在30℃之碘水溶液(重量比：純水/碘(I)/碘化鉀(KI)＝100/0.01/1)中染色45秒鐘，在3重量%硼酸水溶液中浸漬30秒鐘，在4重量%硼酸水溶液中拉伸至拉伸倍率5.8倍，在5重量% KI水溶液中浸漬10秒鐘後，在一直保持膜之張力之狀態下，以60℃乾燥3分鐘而獲得偏光膜。此偏光膜之厚度為19 μm，水分率為23.2%。

(接著劑之調製)

將PVA樹脂(日本合成化學工業(株)製：高適能)100重量份與交聯劑(大日本油墨化學工業(株)製：Waterzole)35重量份溶解於純水3760重量份中而調製接著劑。

(偏光板之製作)

在前述所得之偏光膜之兩面，利用前述調製之接著劑貼合厚40 μm之三乙醯基纖維素(TAC)膜(富士照相軟片公司製：UZ－40T)。在貼合中，使用直徑100 mm之鐵輥作為第1輥，另一方面，使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度65度、層厚3.5 mm)之構成之直徑100 mm之橡膠輥作為第2輥，以由上下觸壓之形態施行貼合。此時之貼合部份之層壓壓力為0.38 MPa。搬送速度為5.8 m/分。其後，以60℃乾燥3分鐘而製成偏光板。偏光板乾燥後之接著層之厚度為22 nm。

實施例2

在實施例1之(偏光膜之製作)中，使用厚75 μ m之PVA膜((株)克拉列製、聚合度2400)，其他與實施例1同樣之條件製作偏光膜，獲得厚度27 μm、乾燥後之水分率24.8%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，與實施例1同樣地貼合厚80 μm之TAC膜(富士照相軟片公司製：UZ－80T)，以製作偏光板。偏光板乾燥後之接著層之厚度為31 nm。

實施例3

在實施例1之(偏光膜之製作)乾燥中，在一直保持膜之張力之狀態下，以25℃乾燥1.5分鐘而獲得厚度為19 μm，乾燥後之水分率為26.7%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，貼合與實施例1同樣之TAC膜，與實施例1同樣地製作偏光板，此時之貼合使用直徑200 mm之鐵輥作為第1輥，另一方面，使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度80度、層厚7 mm)之構成之直徑200 mm之橡膠輥作為第2輥。此時之貼合部份之層壓壓力為0.42 MPa。搬送速度為5.8 m/分。偏光板乾燥後之接著層之厚度為49 nm。

實施例4

在實施例1之(偏光膜之製作)中，使用厚75 μm之PVA膜((株)克拉列製、聚合度2400)製作，以60℃乾燥5分鐘，而獲得厚度27 μm、乾燥後之水分率19.8%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，與實施例1同樣地貼合與實施例1同樣之TAC膜，以製作偏光板。在此時之貼合中，使用直徑200 mm之鐵輥作為第1輥，另一方面，使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度65度、層厚7 mm)之構成之直徑200 mm之橡膠輥作為第2輥。此時之貼合部份之層壓壓力為0.26 MPa。搬送速度為5.8 m/分。偏光板乾燥後之接著層之厚度為49 nm。

實施例5

在實施例1之(偏光膜之製作)乾燥中，以80℃乾燥4.5分鐘，一面送風，一面乾燥而獲得厚度為19 μm，乾燥後之水分率為14.6%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，與實施例1同樣地貼合與實施例1同樣之TAC膜，以製作偏光板。在此時之貼合中，使用直徑200 mm之鐵輥作為第1輥，另一方面，使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度65度、層厚7 mm)之構成之直徑200 mm之橡膠輥作為第2輥。此時之貼合部份之層壓壓力為0.26 MPa。搬送速度為5.8 m/分。偏光板乾燥後之接著層之厚度為51 nm。

比較例1

在實施例1之(偏光膜之製作)乾燥中，在一直保持膜之張力之狀態下，以25℃乾燥1分鐘而獲得厚度為19 μm，乾燥後之水分率為26.9%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，與實施例1同樣地貼合與實施例1同樣之TAC膜，製作偏光板。在此時之貼合中，第1輥及第2輥皆使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度80度、層厚7 mm)之構成之直徑200 mm之橡膠輥。此時之貼合部份之層壓壓力為0.28 MPa。搬送速度為5.8 m/分。偏光板乾燥後之接著層之厚度為54 nm。

比較例2

在實施例1之(偏光膜之製作)乾燥中，在一直保持膜之張力之狀態下，以25℃乾燥1.5分鐘而獲得厚度為19 μm，乾燥後之水分率為28.3%之偏光膜。在此偏光膜之兩面，與實施例1同樣地貼合與實施例1同樣之TAC膜，製作偏光板。在此時之貼合中，使用直徑200 mm之鐵輥作為第1輥，另一方面，使用鐵芯周圍具有橡膠層(硬度65度、層厚7 mm)之構成之直徑200 mm之橡膠輥作為第2輥。此時之貼合部份之層壓壓力為0.26 MPa。搬送速度為8.7 m/分。偏光板乾燥後之接著層之厚度為78 nm。

就實施例及比較例所製作之偏光板，利用以下方法進行評估。

(接著層厚度測定方法)

由利用FE－TEM(Field Emission Transmission Electron Microscope：場致發射透光型電子顯微鏡)測定所得之剖面照片加以計測。

(偏光膜之水分率測定方法)

由所得之偏光膜切取180 mm×500 mm之試樣，測定其初始重量(W(g))。將該試樣在120℃之乾燥機內放置2小時後，測定乾燥後重量(D(g))。由此等測定值，利用下式求出水分率。

水分率(%)＝{(W－D)/W}×100

(偏光板之外觀評估方法)

由所得之偏光膜切取50 mm×60 mm之試樣，以平坦狀態加以固定。在試樣下方鋪著面積大於試樣之黑紙。在日光燈下，將反射光照射在試樣之表面。由對試樣之表面接近水平之狀態，利用目視對試樣表面之日光燈之反射光進行評估。評估內容如下：○：在偏光板表面，連微小之條紋狀之凹凸不均也看不見。

△：在偏光板表面，可看見微小之條紋狀之凹凸不均×：在偏光板表面，可看見明顯之條紋狀之凹凸不均

(偏光板表面之凹凸變化之大小(斜度))

就偏光板表面之條紋狀之凹凸不均，利用接觸式表面粗度計(Tenor－Instruments公司製；P－11)測定凹凸分布之資料。測定條件為觸針壓：8 mg、掃描速度：0.4 mm/秒、頻率：50 Hz、掃描長度：30 mm、截止範圍：0.28－1.4 mm。對凹凸分布之資料進行傅里葉分析，獲得符合凹凸之週期與振幅，由其結果算出凹凸變化之大小(斜度)。凹凸變化之大小(斜度)愈小時，被認為條紋狀之凹凸不均也愈小。

就上述實施例及比較例所作之有關製造條件(第1輥、第2輥、層壓壓力)、保護膜貼合時之偏光膜之厚度及水分率、偏光板乾燥後之接著層之厚度、以及偏光板之外觀評估(條紋狀之凹凸不均)及凹凸變化之大小(斜度)之評估結果，可匯總成如表1所示。

[表1]

由上述表1之結果可以明悉：接著層之厚度在52 nm以下時，在偏光板之面內難以辨識條紋狀之凹凸不均，但超過52 nm，條紋狀之凹凸不均變得容易看見。又，貼合保護膜時之偏光膜之水分率在15~26重量%之範圍內者，利用目視之條紋狀之凹凸不均所評估之面內均勻性特別優異。

(產業上之可利用性)

本發明之偏光板及包含此偏光板之光學薄膜可妥適適用於液晶顯示裝置(LCD)、電致發光顯示裝置(ELD)等之影像顯示裝置。

Claims (11)

1. 一種偏光板之製造方法，其係在偏光膜之單面或兩面經由接著劑或黏著劑貼合保護膜後，加熱乾燥之偏光板之製造方法，其特徵在於以乾燥後之接著層或黏著層之厚度為52 nm以下之方式疊層接著劑或黏著劑者，其中在偏光膜與保護膜之間，使用接著劑或黏著劑，利用使此等通過第1輥與第2輥之一對輥而加以觸壓貼合者。
2. 如請求項1之偏光板之製造方法，其中在偏光膜之單面或兩面，利用接著劑或黏著劑貼合保護膜之際，在將偏光膜之水分率調整為15~26重量%後將其貼合者。
3. 如請求項1之偏光板之製造方法，其中偏光膜之厚度為5~40μm者。
4. 如請求項1之偏光板之製造方法，其中第1輥係金屬輥，第2輥係在金屬製之芯部塗敷橡膠層或樹脂層之彈性輥者。
5. 如請求項4之偏光板之製造方法，其中第1輥係鐵輥者。
6. 如請求項4之偏光板之製造方法，其中第2輥之橡膠層或樹脂層之硬度在60以上90以下者。
7. 如請求項1之偏光板之製造方法，其中第1輥與第2輥之輥直徑在30 mm以上250 mm以下者。
8. 如請求項1之偏光板之製造方法，其中在偏光膜之單面或兩面利用接著劑貼合保護膜之偏光板之製造方法中，利用層壓用接著劑貼合者。
9. 一種偏光板，其係利用如請求項1之製造方法所獲得者。
10. 一種光學薄膜，其係在如請求項9之偏光板上至少疊層1層光學功能層者。
11. 一種影像顯示裝置，其係包含如請求項9之偏光板、或如請求項10之光學薄膜者。