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TWI382934B - 水壓轉印方法、水壓轉印用薄片及水壓轉印用基底薄膜 - Google Patents

水壓轉印方法、水壓轉印用薄片及水壓轉印用基底薄膜 Download PDF

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TWI382934B
TWI382934B TW093131979A TW93131979A TWI382934B TW I382934 B TWI382934 B TW I382934B TW 093131979 A TW093131979 A TW 093131979A TW 93131979 A TW93131979 A TW 93131979A TW I382934 B TWI382934 B TW I382934B
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water
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aqueous solution
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Shintaro Hikasa
Takanori Isozaki
Toru Sanefuji
Nobuo Tanaka
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Kuraray Co
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Description

水壓轉印方法、水壓轉印用薄片及水壓轉印用基底薄膜
本發明係關於使用在聚乙烯醇系聚合物薄膜上形成印刷層的轉印用薄片，將印刷圖案施加於具有凹凸及曲面的成形體表面的水壓轉印方法。另外，關於適宜應用於如此之水壓轉印方法的水壓轉印用基底薄膜。
作為在非平面形狀的成形體表面施以印刷的方法，一般採用將形成有印刷層的轉印用薄片，讓其印刷面朝上浮於水面，使其充分膨脹後，從上方朝向水中壓附成形體，在成形體表面轉印印刷層的方法(例如，日本特開昭51-21914號公報、特開昭54-33115號公報等)。以往，將以聚乙烯醇系聚合物(以下，亦簡稱聚乙烯醇系聚合物為「PVA」，簡稱聚乙烯醇系聚合物薄膜為「PVA薄膜」)等的水溶性或水膨潤性的樹脂為原料的薄膜作為基底薄膜用於如此之轉印薄片。用於該用途之基底薄膜，必須要有印刷適宜性優良、浮於水面上時具有膨潤性及纏附於成形體的性質(均勻轉印性)等，過去提出有依據如此之要求的水壓轉印用基底薄膜(例如，日本特開昭54-92406號公報、特開昭54-150208號公報等)。
但是，PVA薄膜具有當浮於水面上時發生膨潤而漸漸擴展的性質，因此在形成印刷層於PVA組成的基底薄膜上進行印刷轉印的情況，其印刷層也與在水面上發生膨潤的基底薄膜一起產生伸展，使得轉印於成形體的印刷圖案與印刷於基底薄膜上的原來的印刷圖案產生差異，尤其是在因印刷圖 案的伸展而有模糊不清的情況，將招致無法轉印鮮明且高精細的印刷圖案的問題。
還有預先縮小圖案而進行付印的情況，在該情況也無法充分抑制因轉印基底的伸展引起的印刷圖案的模糊不清。為改善該問題，提出在將轉印基底浮於水面上，發生使該薄片的伸展應力消失為止的膨潤後，在朝寬度方向漸漸強制性縮小而維持於設定寬度的狀態下，轉印於被轉印體的方法(例如，日本特開平4-308798號公報)。另外，作為基底薄膜的一種改良嘗試，提出PVA與特定的天然橡膠系黏性物質組成的厚度為10~50μm的薄膜所構成，經過膨潤時間(在將薄膜浮於25℃的水面上時，至波狀的波紋消失而成為平滑的膜面的時間)的3倍時間時的面積倍率的膨潤伸展率為1.35倍以下的轉印印刷薄膜(例如，日本特開平7-117328號公報)。但是，在日本特開平4-308798號公報記載的方法中，在縮小轉印薄片時皺紋進入薄片，會有無法均勻地縮小印刷圖案而產生變形的情況，因此無法正確地將印刷於轉印薄片的印刷圖案轉印於成形體上。另外，在日本特開平7-117328號公報記載的轉印印刷薄膜的情況，其薄膜的表面平滑性變低，無法將高精細的印刷圖案形成於薄膜上，或是，因為PVA與天然橡膠系黏性物質的膨潤性的差異，會有當浮於水面上時在薄膜產生皺紋的情況，而無法進行高精細的印刷圖案的轉印印刷。又，在轉印後的薄膜的洗淨步驟，具有不易除去天然橡膠系黏性物質的情況，無法充分作為抑制其在水面的伸展性的薄膜。
另外，提出在將轉印薄片浮於水面上後塗敷油墨活性化溶劑的方法(例如，日本特開昭58-191187號公報)，根據該方法，可某種程度地抑制因轉印薄片的膨潤引起的印刷圖案的伸展。但是，在該方法中，有關對將轉印薄片浮於水面上的時間及塗敷油墨活性化溶劑後轉印於被轉印體上的時間等的控制，完全未有任何考量，因此仍有無法解決轉印高精細圖案的問題。
本發明正是用於上述課題提出而完成發明者，其目的在於提供一種使用在屬基底薄膜的聚乙烯醇系聚合物薄膜上形成印刷層的轉印用薄片，將高精細的印刷圖案轉印於具有凹凸及曲面的成形體表面的水壓轉印方法。其另一目的在於提供一種適宜應用於如此之水壓轉印方法的水壓轉印用基底薄膜。
上述課題係通過提供一種水壓轉印方法所解決，係將在聚乙烯醇系聚合物薄膜上形成有印刷層的轉印用薄片，讓其印刷層朝上浮於水溶液的液面上後，藉由將成形體朝向液面的方向壓附而將印刷層轉印於成形體上的水壓轉印方法，其特徵為：上述水溶液的表面張力為45mN/m以下，且轉印時的上述轉印薄片的伸展率為1.30倍以下。藉由將表面張力設定為特定值以下，可抑制轉印薄片在水溶液的液面上因膨潤而引起的伸張，其結果可於具有凹凸或曲面之成形體表面， 鮮明地印刷高精細的圖案。
此時，以上述水溶液的表面張力為15mN/m以上為較佳。以轉印時的上述轉印薄片的伸展率為1.20倍以下為較佳。上述水溶液最好還含有0.001~3重量%的界面活性劑。上述水溶液的固形量濃度最好為0.001~5重量%。在將上述轉印用薄片浮於液面上之前，以塗敷油墨活性化溶劑為較佳。另外，在將上述轉印用薄片浮於液面上後至朝向液面的方向壓附成形體為止的時間，最好為40~240秒。
上述課題係通過提供一種水壓轉印用基底薄膜所解決，係由100重量份的聚乙烯醇系聚合物及0.05~5重量份的界面活性劑組成的水壓轉印用基底薄膜，其特徵為：含有0.01重量%的上述界面活性劑的20℃水溶液的表面張力為40 mN/m以下，且在將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上時的伸展率為1.6倍以下。藉此，形成印刷層於本發明之水壓轉印用基底薄膜上用以作為轉印薄片，在使用此進行轉印印刷的情況，可抑制浮於水面上產生膨潤時的伸張，其結果可於具有凹凸之非平面形狀的成形體表面，轉印高精細的印刷圖案。
此時，上述基底薄膜，無論是相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物含有0.5~10重量份的可塑劑、還是相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物含有0.1~15重量份的澱粉、還是相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物含有0.1~5重量份的硼酸或其衍生物，均較佳。
上述基底薄膜的含水率，最好為1.5~4重量%。上述基 底薄膜的位相差最好為40nm以下。上述基底薄膜的厚度最好為20~50μm。另外，在薄膜的長度方向上以50℃施加1分鐘8.0kg/m的張力時的寬度收縮率，最好為0.01~1.5%。
從將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)最好為5~20秒。上述基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要的時間(T2)最好為15~40秒。從將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)，與上述基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要的時間(T2)的比(T1/T2)，最好為0.3~0.8。另外，形成印刷層於上述水壓轉印用基底薄膜上而成的轉印薄片，也為本發明之較佳實施形態。
根據本發明之水壓轉印方法，使用在屬基底薄膜的聚乙烯醇系聚合物薄膜上形成印刷層的轉印用薄片，可將高精細的印刷圖案轉印於具有凹凸及曲面的成形體表面。另外，使用本發明之水壓轉印用基底薄膜，也可於具有凹凸及曲面的成形體表面，轉印高精細的印刷圖案。
在本發明之水壓轉印方法中，將在聚乙烯醇系聚合物薄膜上形成有印刷層的轉印用薄片，讓其印刷層朝上浮於水溶液的液面上後，藉由將成形體朝向液面的方向壓附而將印刷層轉印於成形體上。此時，重要的是，上述水溶液的表面張力為45mN/m以下，且轉印時的上述轉印薄片的伸展率為 1.30倍以下。
本發明之水壓轉印方法中所使用的水溶液的表面張力為45mN/m以下，且以40mN/m以下為較佳，尤以35mN/m以下為更佳。藉由將水溶液的表面張力設定為特定值以下，可抑制轉印薄片在水溶液的液面上因膨潤而引起的伸張，其結果可於具有凹凸或曲面之成形體表面，鮮明地印刷高精細的圖案。在水溶液的表面張力超過45mN/m的情況，抑制轉印薄片在水溶液的液面上的伸張效果減小，在印刷擴大的狀態下產生圖案模糊不清，從而無法轉印鮮明且高精細的圖案。另一方面，在水溶液的表面張力過小的情況，攪拌水溶液時所產生的泡沫不易消去，因而有泡沫殘留於印刷圖案中，無法將高精細圖案轉印於成形體上的情況。根據以上理由，以水溶液的表面張力為15mN/m以上為較佳，以20mN/m以上為更佳。在此，水溶液的表面張力係在進行轉印時之水溶液的濃度及溫度下所測定的值。
本發明之水壓轉印方法中，將轉印薄片浮於水溶液的液面上進行轉印時的該轉印薄片的伸展率為1.30倍以下，且以1.20倍以下為較佳，尤以1.10倍以下為更佳。為忠實再現印刷版的圖案，以無轉印薄片的尺寸變化(伸展率為1.0倍)為最佳，但即使伸展率為1.30倍以下，與以往的1.5倍以上擴展的情況比較，仍可形成高精細圖案的轉印。另一方面，在伸展率低於1.0倍的情況，因為轉印薄片變得較原來的寬度減小，因此不僅生產性降低，而且在進行連續轉印的情況，無法進行讓轉印薄片在水面上蛇行而穩定的轉印印 刷，而有在工程通過性上產生問題的情況，因此較不理想。因此，以伸展率為1.0倍以上為較佳。在此，轉印薄片的伸展率，顯示將塗敷有油墨活性化溶劑的轉印薄片浮游於水溶液的液面上後經過指定時間的時點的印刷圖案的擴展比率者，是藉由後述的實施例所記載的方法所測定。
作為設定水溶液的表面張力為45mN/m以下的方法，並無特別的限定，可舉出通過將適當量的一般販售的非離子性、離子性的界面活性劑、碳化氫類、醚類、醇類等的有機溶劑等添加於水中，以調整水溶液之表面張力的方法，但在此等之中，仍以使用界面活性劑進行調整者為較佳。界面活性劑可讓其本身添加於水溶液中，也可如後述般，藉由將含於基底薄膜的界面活性劑溶解於水溶液中，而事實上予以添加。
所使用之界面活性劑，只要為水溶性，且具有界面活性性能者，並無特別的限制，可使用非離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、兩性界面活性劑的任一者。其中，非離子系界面活性劑、尤其是下述式(1)所示的聚氧化乙烯基烷基醚，因其基底薄膜的製膜時的剝離性良好，且具有適當的界面活性能力，價格較為廉價而較適合使用。
R-O(CH2 CH2 O)n H (1)
(其中，R為碳數6~20的飽和或不飽和的鏈型碳化氫基，n為2~20的整數。)
在上述式(1)中，R所表示的碳數6~20的飽和或不飽和 的鏈型碳化氫基，可為碳數6~20的烷基或鏈烯基，此等基可為直鏈狀或也可為分枝狀。
上述水溶液之界面活性劑的含量，最好為0.001~3重量%，且以0.003~1.5重量%為較佳，尤以0.005~1重量%為更佳。在界面活性劑的含量低於0.001重量%的情況，抑制轉印薄片在水溶液的水面上的伸張的效果減小，從而有在印刷擴大的狀態下產生圖案模糊不清，無法轉印鮮明且高精細的圖案之虞。另一方面，在界面活性劑的含量大於3重量%的情況，攪拌含有界面活性劑的水溶液時所產生的泡沫不易消去，且泡沫殘留於印刷圖案中，因而有無法對成形體實現美麗圖案轉印之虞。
用於水壓轉印的水溶液，藉由反覆使用，溶解屬基底薄膜的原料的PVA，以增加固形量濃度。因此，至轉印薄片膨潤為止所需要的時間，具有與時間經過一起變化的情況。該傾向在使用卷取為滾筒狀的轉印薄片，連續進行水壓轉印的情況尤為顯著，而有無法繼續穩定的運行的情況。從上述理由可知，在本發明之水壓轉印方法中，最好藉由預先將以後述之聚乙烯醇系聚合物為原料的轉印薄片溶解於水溶液中，用以控制水溶液的固形量濃度。此時，水溶液的固形量濃度最好為0.001~5重量%，且以0.05~4重量%為較佳，以0.1~3重量%為更佳。若水溶液的固形量濃度超過5重量%，則水溶液的黏度上升，較為不易進行對成形體的轉印，或是，滯留於水溶液中的印刷層，在轉印時黏附於水壓轉印薄膜的表面，從而無法將高精細的印刷圖案轉印於成形體 上。另一方面，在水溶液的固形量濃度低於0.001重量%的情況，未發現有控制水溶液的固形量濃度的效果。
在此，水溶液的固形量濃度(重量%)，係在將以105℃且經過24小時乾燥水溶液後的重量設為V1，將施以乾燥前的水溶液的重量設為V2時，由(V1/V2)×100所表示。
本發明中，用於水壓轉印的水溶液的溫度，最好為10~40℃，且以20~36℃為較佳，尤以25~33℃為更佳。在水溶液的溫度低於10℃的情況，形成印刷層於聚乙烯醇系聚合物薄膜上的轉印薄片至膨潤為止所需要的時間增長，為進行轉印印刷而需要時間，而有生產性降低的情況。另一方面，在超過40℃的情況，轉印薄片從膨潤開始至溶解為止的時間變短，因此在轉印時將成形物朝向水面上的轉印薄片壓附時，會有該已膨潤的轉印薄片無法承受該壓力而裂開，而無法轉印高精細圖案的情況。
本發明中，用於水壓轉印用基底薄膜的聚乙烯醇系聚合物，可為未改質的PVA，或是，也可為在PVA的主鏈中，在未阻礙本發明的效果的範圍，將乙烯、丙烯等的烯烴類；丙烯酸及丙烯酸酯類；甲基丙烯酸及甲基丙烯酸酯類；丙烯醯胺衍生物、甲基丙烯醯胺衍生物、乙烯醚類；鹵化乙烯、丙烯基化合物、順丁烯二酸及其鹽或酯類；乙烯矽烷化合物等的單體之1種類或2種類以上共聚而成的改質PVA。依此等的單體的改質量，通常最好為25莫耳%以下，且以5莫耳%以下為更佳。
聚乙烯醇系聚合物的聚合度較佳為500~5000，且以 700~4000為更佳，以1000~3000為最佳。在聚乙烯醇系聚合物的聚合度低於500的情況，具有作為基底薄膜的機械強度不足的情況，尤其是在連續施以印刷時等具有薄膜破斷的情況。另一方面，在聚乙烯醇系聚合物的聚合度超過5000的情況，具有聚乙烯醇系聚合物的生產率降低，或是，水溶性降低，作為轉印薄片較難獲得經濟的水壓轉印速度的情況。
另外，聚乙烯醇系聚合物的皂化度，最好為80~99.9莫耳%，且以80~99莫耳%為較佳，尤以82~95莫耳%為更佳，尤以85~93莫耳%為更佳，以87~91莫耳%為最佳。在聚乙烯醇系聚合物的皂化度低於80莫耳%的情況，會有溶解於PVA薄膜的水中的速度降低，或不溶化於水中等，在作為轉印薄片時，在轉印步驟，其通過性惡化，或印刷時薄膜伸展而產生圖案的變形的情況。皂化度過高的PVA在工業製造上困難的情況很多。
如上述，藉由降低水溶液的表面張力，可抑制轉印薄片在水溶液的液面上因膨潤而引起的伸張，其結果可於具有凹凸或曲面之成形體表面，鮮明地印刷高精細的圖案。水溶液的表面張力，也可藉由使用含有界面活性劑的PVA組成的水壓轉印用基底薄膜而予以減低。該情況，因為藉由反覆進行轉印操作，讓PVA及界面活性劑溶解於水溶液中，因此藉由將溶解的濃度調製在指定範圍內，即可自動調整水溶液的表面張力。
亦即，通過使用一種水壓轉印用基底薄膜，即可達成本 發明之目的，該水壓轉印用基底薄膜，係由100重量份的聚乙烯醇系聚合物及0.05~5重量份的界面活性劑組成的水壓轉印用基底薄膜，其特徵為：含有0.01重量%的上述界面活性劑的20℃水溶液之表面張力為40mN/m以下，且在將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液之液面上時的伸展率為1.6倍以下。
本發明之水壓轉印用基底薄膜所含有的界面活性劑，係將含有0.01重量%的上述界面活性劑的20℃的水溶液的表面張力成為40mN/m以下者。藉此，形成印刷層於本發明之水壓轉印用基底薄膜上用以作為轉印薄片，在使用此進行轉印印刷的情況，可抑制浮於水面上產生膨潤時的伸張。上述表面張力最好為38mN/m以下，且尤以36mN/m以下為更佳。在表面張力超過40mN/m的情況，無法充分抑制水面上的薄膜的伸張，具有無法實現將高精細的印刷圖案轉印於成形體的情況。另一方面，上述表面張力最好為15mN/m以下。在表面張力低於15mN/m的情況，在水溶液產生泡沫，而有工程通過性惡化之虞。
作為界面活性劑，只要其水溶液狀態的表面張力滿足上述條件，作為添加於基底薄膜的成分，即可使用以往所使用的界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可舉出非離子型或離子型的界面活性劑。非離子型界面活性劑，如可舉出聚氧化乙烯基油醚、聚氧化乙烯基月桂基醚等的聚氧化乙烯基烷基醚類；聚氧化乙烯基辛基苯酯醚等的聚氧化乙烯基烷基苯酯醚類；聚氧化乙烯基月桂酸酯等的聚氧化乙烯基烷基醚類； 聚氧化乙烯基月桂基醯胺醚等的聚氧化乙烯基烷基醯胺類；聚氧化乙烯基月桂酸醯胺等的聚氧化乙烯基烷基醯胺類；油酸二乙醇醯胺等的鏈烷醇醯胺類；聚氧化烴基丙烯基苯酯醚等的聚氧化烴基丙烯基苯酯醚類等。另外，陰離子性界面活性劑，如可舉出月桂酸鉀等的香旱芹酮酸類、辛基硫酸鹽等的硫酸酯類、十二烷基苯磺酸等的磺醯酸類等。另外，陽離子性界面活性劑，如可舉出月桂基胺基鹽酸鹽等的胺基類、月桂基三甲基銨基氯化物等的第4級銨鹽類等。界面活性劑可組合以上的一種或2種以上予以使用。
本發明之界面活性劑，係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，使用0.05~5重量份的量，其中，以0.07~4重量份的量為較佳，以0.1~3重量份的量為更佳。在界面活性劑的量低於0.05重量份的情況，無法抑制水壓轉印用基底薄膜浮於水面上進行膨潤時的伸張，無法進行高精細的印刷圖案之轉印。另一方面，在界面活性劑的量大於5重量份的情況，會有在薄膜表面滲出界面活性劑而糟蹋印刷或於薄膜上產生污染的情況。
另外，重要的是，將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上時的伸展率為1.6倍以下。在基底薄膜的伸展率超過1.6倍的情況，在形成印刷層而於成形體進行轉印印刷時，被轉印的印刷圖案與原來的印刷圖案比較被擴大而變得模糊不清或變形，而有無法進行高精細的印刷圖案之轉印的情況。基底薄膜的伸展率最好為1.4倍以下。另一方面，基底薄膜的伸展率為0.9倍以上為 較佳。在基底薄膜的伸展率為0.9倍以下的情況，轉印薄片較原來的寬度減小，因此不僅生產性降低，而且在進行連續轉印的情況，而有產生無法進行讓轉印薄片在水面上蛇行而穩定的轉印印刷等的工程通過性上的問題之虞。基底薄膜的伸展率為0.95倍以上為較佳。在此，轉印薄片的伸展率，係顯示將水壓轉印用基底薄膜浮游於水溶液的液面上後，經過指定時間的時點的印刷圖案的擴展比率者，其詳細的測定方法，出示於實施例中。
基於對本發明之水壓轉印用基底薄膜提供柔軟性及提升水溶性的目的，最好含有可塑劑。使用之可塑劑的種類並無特別的限定，但以甘油、二甘油、三亞甲基乙二醇、丙二醇、二甘醇等的多價醇系可塑劑為較佳，尤其以甘油的使用為更佳。可塑劑的添加量，係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，最好為0.5~10重量份，尤以1~10重量份為較佳。在可塑劑的量低於0.5重量份的情況，藉由減低薄膜的耐衝擊性，具有在印刷時薄膜發生裂開的情況。另一方面，在超過10重量份的情況，會有薄膜吸濕而於印刷時於薄膜產生伸展，或產生破裂的情況，因此較不理想。
另外，作為於本發明之水壓轉印用基底薄膜，調整形成印刷層於基底薄膜時所必要的機械強度、採用形成有印刷層的轉印薄片時的耐濕性、依浮於水面的轉印薄片的吸水的柔軟化性、在水面的伸展性及擴散性等的目的，最好還含有澱粉、上述聚乙烯醇系聚合物以外的水溶性高分子等。
作為用於該目的的澱粉，例如，可舉出玉米澱粉、馬鈴 薯澱粉、甘蔗澱粉、小麥澱粉、稻米澱粉、木薯澱粉、椰子樹澱粉等的天然澱粉類；施以醚化加工、酯化加工、氧化加工等的加工澱粉類等，此等中又以使用加工澱粉類為較佳。澱粉類的添加，除上述效果外，還具有抑制薄膜彼此的密接或薄膜與金屬滾筒的密接的效果。若薄膜彼此密接的話，則於基底薄膜施以連續印刷時等成為薄膜伸展的原因，因此較不理想。澱粉類的添加量，係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，最好為0.1~15重量份，其中以0.3~10重量份為較佳，尤以0.5~5重量份為更佳。
另外，水溶性高分子如可舉出糊精、明膠、骨膠、酪肥、蟲膠、阿拉伯樹膠、聚丙烯酸醯胺、聚丙烯酸鹼、聚乙烯甲醚、乙烯甲醚與順丁烯二酸酐的共聚物、乙酸乙烯酯與甲叉丁二酸的共聚物、聚乙烯吡咯烷酮、纖維素、乙醯纖維素、乙醯丁基纖維素、羧甲基纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素、羥乙基纖維素、藻朊酸鹼等。水溶性高分子的添加量，係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，最好為15重量份以下，其中尤以10重量份以下為更佳。若水溶性高分子的添加量超過15重量份時，會有水壓轉印時的轉印薄片溶解性及分散性惡化的擔憂。
另外，基於只要在未損及本發明的效果的範圍，對於本發明之水壓轉印用基底薄膜，調節從浮於水面開始的吸水產生的柔軟化的速度、在水面的伸展性、在水中的擴散所需要的時間的目的，還可添加無機鹽類等的添加劑。
對無機鹽類並無特別的限制，可舉出硼酸或其衍生物、 例如，硼酸、硼砂等。其添加量係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，最好為5重量份以下，其中尤以1重量份以下為更佳。若超過5重量份時，基底薄膜的水溶性顯著降低，較不理想。另外，其添加量係相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，最好為0.1重量份以上。
又，本發明之水壓轉印用基底薄膜，在未阻礙本發明之目的的範圍內，還可添加熱安定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、著色劑、充填劑等。此等添加劑的添加量，通常相對100重量份的PVA，最好為10重量份以下，其中尤以5重量份以下為更佳。若添加劑的添加量超過10重量份時，則有PVA薄膜的耐衝擊性惡化的擔憂。
本發明之水壓轉印用基底薄膜，係藉由進行聚乙烯醇系聚合物與上述含有界面活性劑的水溶液的流延製膜的方法等已知方法進行製膜而獲得。
本發明之水壓轉印用基底薄膜的含水率，最好為1.5~4重量%，其中以1.8~3.5重量%為較佳，尤以2~3重量%為更佳。若基底薄膜的含水率超過4重量%，則有形成印刷層時的印刷圖案產生模糊不清，或印刷時薄膜沿長度方向伸展的擔憂。在基底薄膜的含水率低於1.5重量%時，因為耐衝擊性的降低，不僅薄膜容易產生裂紋，而且容易產生靜電，因此會附著灰塵及髒物，而有無法進行高精細印刷的擔憂。上述含水率係藉由調整薄膜製造時的乾燥條件來獲得。
本發明之水壓轉印用基底薄膜的位相差最好為40nm以下，尤以34nm以下為較佳。在此，位相差係由基底薄膜的 雙折射率與膜厚的乘積(雙折射率×膜厚)所示。該雙折射率係由製膜步驟等所供給的薄膜的分子配向程度所決定。在位相差超過40nm的情況，薄膜的長度方向與寬度方向的應力差異為其原因，或尤其是吸濕時皺紋進入基底薄膜的表面，而阻礙具有高精細印刷圖案的印刷層的形成，或浮於水面時轉印薄片以不均勻的狀態伸展產生印刷圖案的變形，較不理想。在將位相差設為40nm以下時，在薄膜製造時，在鼓上或皮帶上使薄膜充分乾燥，在其後的步驟中不施以張力進行卷取的作業尤為重要。
本發明之水壓轉印用基底薄膜的厚度最好為20~50μm，尤以25~45μm以下為更佳。在厚度超過50μm的情況，浮於水面的基底薄膜需要花費膨潤的時間，造成需要花費時間於轉印後的基底薄膜的除去(脫膜)，從而招致生產性的降低。另外，在厚度低於20μm的情況，因為薄膜強度降低，而有在印刷時等產生破損、或當在水壓轉印時從上方壓附成形體時產生薄膜破損，而無法轉印的情況。
在本發明之水壓轉印用基底薄膜中，在薄膜的長度方向上以50℃施加1分鐘8.0kg/m的張力時的寬度收縮率，最好為0.01~1.5%。在基底薄膜的上述條件的寬度收縮率超過1.5%時，則有在印刷時產生印刷層的印刷圖案的變形，或在多色印刷時產生印刷圖案的偏移的情況，較不理想。在寬度收縮率低於0.01%時，在對基底薄膜施以連續印刷時，在產生張力變動的時點，會有薄膜裂開的情況，另外，從基底薄膜的印刷步驟的通過性的點考慮，較不理想。上述寬度收縮 率最好為0.05~1.0%。
本發明之水壓轉印用基底薄膜，基於提升薄膜表面的平滑性或提升形成印刷層的轉印薄片的外觀的目的，最好在薄膜表面施以表面粗糙處理。作為施以表面粗糙處理的方法，可舉出在薄膜的製膜時將滾筒或皮帶的粗糙表面轉印於薄膜上的線上表面粗糙處理法、暫時將薄膜卷取於滾筒上後施以壓花處理的方法等。施以表面粗糙處理的表面粗糙度Ra，最好為0.5μm以上，尤以1μm以上為較佳。
本發明中使用之PVA薄膜的長度及寬度，雖無特別的限制，但作為長度下限，從PVA薄膜印刷時的生產性的觀點考慮，最好為1m以上，其中以100m以上為較佳，尤以1000m以上為更佳。PVA薄膜的長度上限，以5000m以下為較佳，尤以3000m以下為更佳。作為PVA薄膜的寬度下限，最好為50cm以上，其中，以80cm以上為較佳，尤以100cm以上為更佳。若PVA薄膜的寬度小於50cm時，具有印刷時的生產性降低的情況。PVA薄膜的寬度上限，最好為4m以下，尤以3m以下為更佳。若寬度超過4m時，具有不易製造具有均勻厚度的PVA薄膜的情況。
從將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)最好為5~20秒。若時間(T1)太長時，則在轉印印刷時薄膜的膨潤不夠充分，因此於印刷圖案產生皺紋，相反，若太短的話，在水面上的薄膜的尺寸變化較大，因此無法充分控制伸展性，均無法進行高精細的印刷圖案的轉印。時間(T1)尤以8 ~17秒為更佳。在此，時間(T1)係表示從將薄膜浮於水面上至在薄膜全面產生皺紋為止的時間。時間(T1)可藉由薄膜的厚度所控制。
上述基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要的時間(T2)最好為15~40秒。若時間(T2)太長時，則有轉印後的脫模性降低的情況，若太短時，則在立體物進行轉印印刷的情況，有無法在內部的較深部位進行轉印印刷的情況。時間(T2)尤以18~37秒為更佳。時間(T2)可藉由聚乙烯醇系聚合物的皂化度與可塑劑量所控制。
從將上述基底薄膜浮於溶解0.05重量%的上述基底薄膜的30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)，與上述基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要的時間(T2)的比(T1/T2)，最好為0.3~0.8。發現利用設在特定該比(T1/T2)的範圍內，不會產生上述問題點，而可進行高精細的印刷圖案的轉印印刷。比(T1/T2)係以0.34以上為較佳。另外，比(T1/T2)尤以0.7以下為較佳，以0.5以下為更佳。
溶解0.5重量%的形成印刷層於上述水壓轉印用基底薄膜上而成的轉印薄片的30℃水溶液的表面張力，最好為45mN/m以下。該表面張力在實際進行轉印操作時，係假定適當量溶解本發明之基底薄膜的水溶液的表面張力者。在水溶液的表面張力超過45mN/m的情況，抑制轉印薄片在水溶液的伸張的效果減小。水溶液的表面張力最好為40mN/m以下，尤以35mN/m以下未較佳。另一方面，在水溶液的表面張力過小的情況，溶解上述基底薄膜的轉印液的泡沫大，因 而有在轉印時泡泡混入成形體與轉印印刷薄片間而於印刷圖案上產生缺陷的問題的擔憂。從該理由出發，水溶液的表面張力最好為15mN/m以上，尤以20mN/m以上為較佳。作為在上述範圍調整水溶液的表面張力的方法，可利用調整聚乙烯醇系聚合物的皂化度、聚合度、界面活性劑等的添加物的種類或量來進行。
為了於基底薄膜上施以印刷，可採用照相凹版印刷、網版印刷、膠板印刷、輥子塗敷等的習知印刷方式。印刷油墨可使用習知油墨。此時所使用之印刷油墨，最好使用非水溶性樹脂組成的黏合劑、染料、顏料等的著色劑及溶劑組成的印刷油墨。非水溶性樹脂可舉出硝酸纖維素、醇酸樹脂、醯胺樹脂、丙烯樹脂、乙烯樹脂、松香醚、順丁烯二酸改質松香醚等，也可將此等混合使用。溶劑可舉出甲苯、乙酸乙酯、甲基乙酮、甲基異丁酮、乙二醇醚、乙醇、異丙醇、丁醇、酞酸丁酯、苯二甲酸辛酯等，也可將此等混合使用。
基於在將上述轉印用薄片浮於液面上之前，將轉印用薄片的印刷層柔軟化，用以發現對成形體的均勻轉印性的目的，通常進行塗敷油墨活性化溶劑的作業，本發明中也推薦該操作。在此種情況下，通過預先將印刷層柔軟化以改善均勻轉印性，但轉印薄片因膨潤而變得容易伸展。因此，如本發明般藉由控制表面張力以抑制轉印薄片的伸張，就顯得相當重要。油墨活性化溶劑可舉出丁賽路蘇乙酸酯、丁二甘醇乙醚乙酸酯、甲基丙烯酸丁酯、二丁基酞酸酯、硫酸鋇等。
對使用轉印薄片之成形體的印刷層轉印，係藉由將轉印 用薄片，讓其印刷層朝上而浮於水溶液的液面上，朝向液面的方向壓附成形體所進行。
將上述轉印用薄片浮於液面上後至朝向液面的方向壓附成形體為止的時間，最好為40~240秒。該時間尤以60~180秒為更佳。在開始對成形體的轉印低於40秒時，轉印用薄片的膨潤不夠充分，轉印用薄片的伸展力無法達到一定，伸展力與抑制力的關係無法達到平衡，因此，有可能為印刷圖案的擴大正進行的途中。若對成形體的轉印開始超過240秒時，轉印用薄片的膨潤進行過多，一部分溶解而開始擴散，於轉印於成形體的印刷圖案上產生伸展斑痕，極端的情況下還有產生斷裂的擔憂。
在製造相同批量的製品的期間，最好以上述水溶液的表面張力變動減小的方式進行調整。藉由如此般作業，即可連續形成尺寸精度的再現性良好的印刷圖案。藉由反覆進行轉印操作，將PVA溶解於水溶液中，因此最好邊繼續加水，邊將PVA濃度調整成為一定。此時，為讓界面活性劑濃度也保持為一定，如後述般，將放入界面活性劑的PVA薄膜作為基底薄膜，其因為操作簡單而較佳。
本發明中，轉印於成形體上的印刷圖案的伸展率，最好為1.35倍以下，尤以1.25倍以下為較佳。為忠實再現印刷版的圖案，以轉印薄片的伸展率為接近1.0倍為較佳，但在伸展率低於1.0倍的情況，則有在生產性及工程通過性上產生問題的擔憂。因此，以印刷圖案的伸展率為1.0倍以上為較佳。
在本發明之水壓轉印用基底薄膜設置印刷層的轉印薄片，係為了在木板、膠合板、木屑板等的木質基材；各種塑膠成形品；紙漿膠合板、石板、石綿膠合板、GRC(玻璃纖維補強膠合板)成形品、混凝土板等的纖維膠合板製品；石膏板、矽酸鈣板、矽酸鎂板等的無機質板狀物；鐵、銅、鋁等組成的金屬板或此等的合金板；及此等的複合物等組成的成形品上施以印刷而使用。施以印刷的成形體表面的形狀，可為平坦狀、或為粗面、也可為具有凹凸形狀，轉印薄片係適宜用於對具有凹凸形狀的成形體等的表面的印刷。
[實施例]
以下，參照實施例進一步詳細說明本發明，但本發明並不受限於此等內容。
在以下的參考例1、2及比較例1~4中，水溶液的表面張力、轉印薄片的伸展率及轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率的測定，係依以下方式進行。
(水溶液的表面張力)
使用協和界面科學(股)製的表面張力計CBVP-A3，依據威爾海密法進行測定。
(轉印薄片的伸展率)
使用縱20cm×橫20cm的正方形的轉印薄片，在其中央部使用水性筆，描繪直徑為4cm大小的圓。在該轉印薄片上藉由噴塗法塗敷油墨活性化溶劑後，在浮遊於保持為30℃水溶液的液面上經過約10秒後，於薄片表面產生皺紋。薄片表面的皺紋，隨時間的經過漸漸消失，薄片表面成為完全平 滑的面。在從將轉印薄片浮遊於水溶液的液面上開始，經過至薄片表面成為平滑面所需要時間的4倍時間的時點，針對描繪於轉印薄片的圓，測定顯示最大變化部位的直徑，由原來的直徑(4cm)除此，算出「轉印薄片的伸展率」。
(轉印於成形物上印刷圖案的伸展率)
與上述轉印薄片的伸展率的測定相同，在從將轉印薄片浮遊於水面上開始，經過至薄片表面成為平滑面所需要的時間的4倍時間的時點，從浮遊於水面上的轉印薄片上，與水面平行壓附厚度為4mm、大小為20cm×20 cm的ABS樹脂板，將印刷圖案轉印於ABS樹脂板。針對有關與印刷圖案一起轉印於ABS樹脂板的圓，測定顯示最大變化部位的直徑，由原來的直徑(4cm)除此，算出「轉印於成形物上印刷圖案的伸展率」。
(參考例1)
將聚合度1780、皂化度88莫耳%的100重量份的聚乙烯醇、5重量份的甘油、5重量份的醚化澱粉組成的組成物的15重量%水溶液，押出於具有粗糙面的表面溫度為90℃的鼓面，藉由進行流延製膜，獲得厚度為30μm的經表面粗糙處理的基底薄膜。在基底薄膜的平滑面(經表面粗糙處理的面)，使用顏料(茶色)/醇酸樹脂/甲苯/乙酸乙酯/異丙醇=10/20/20/30/20(重量比)組成的凹版印刷油墨，印刷木紋圖案，獲得轉印薄片。
將獲得的一部分轉印薄片及聚氧化乙烯基月桂基醚(在0.01重量%水溶液，以20℃所測定的表面張力為27.8mN/m， 氧化乙烯的附加莫耳數(n)=5，親水親油平衡度HLB：10.8)溶解於水中，放入浴槽保持30℃的水溫。獲得的水溶液的表面張力為30.2mN/m，聚氧化乙烯基月桂基醚的含量為0.01重量%，固形量濃度為0.10重量%。將上述轉印薄片切割成縱20cm×橫20 cm的正方形，在塗敷油墨活性化溶劑(26重量份的丁賽路蘇乙酸酯、26重量份的丁二甘醇乙醚乙酸酯、8重量份的甲基丙烯酸丁酯、20重量份的二丁基酞酸酯、20重量份的硫酸鋇的混合物)後，將印刷面朝上，浮遊於水溶液的液面上，測定轉印薄片的伸展率。在轉印薄片接觸於水面後，在13秒時雖於薄片表面產生皺紋，但在7秒後(接觸於水面20秒後)，皺紋消失而變得平滑。自轉印薄片接觸於水面開始經80秒後的伸展率為1.10倍。另外，與上述分開將上述轉印薄片切割成縱20cm×橫20 cm的正方形，在噴塗塗敷油墨活性化溶劑後，將印刷面朝上，浮遊於水溶液的液面上後，將印刷圖案轉印於ABS樹脂板上，經測定轉印於成形物的印刷圖案的伸展率，為1.12倍。在ABS樹脂板上鮮明地轉印有無漏印刷或無沾污的高精細印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
(參考例2)
除在參考例1中，取代聚氧化乙烯基月桂基醚(HLB：10.8)，使用相同重量的聚氧化乙烯基油醚(HLB：11.3)，將水溶液的表面張力設為38.2mN/m外，其餘與參考例1相同，對ABS樹脂板進行水壓轉印。轉印薄片的伸展率為1.26倍。另外，接觸於水面開始經72秒後的轉 印於成形物上的印刷圖案的伸展率為1.27倍，在ABS樹脂板上鮮明地轉印有無漏印刷或無沾污的高精細印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
(比較例1)
除在參考例1中，使水溶液中之聚氧化乙烯基月桂基醚的含量降低，且水溶液的表面張力設為50.3mN/m外，其餘與參考例1相同，對ABS樹脂板進行水壓轉印。轉印薄片的伸展率為1.39倍。另外，接觸於水面開始經72秒後的轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率為1.42倍。在轉印於ABS樹脂板上的印刷圖案上雖無漏印刷或無沾污，但因印刷圖案的膨潤而產生圖案的模糊不清，從而無法獲得高精細的印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
(比較例2)
除在參考例1中，使用僅使轉印薄片溶解於水溶液中，且表面張力調整為60.8mN/m的水溶液外，其餘與參考例1相同，對ABS樹脂板進行水壓轉印。轉印薄片的伸展率為1.54倍。另外，接觸於水面開始經68秒後的轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率為1.57倍。在轉印於ABS樹脂板上的印刷圖案上雖無漏印刷或無沾污，但因產生圖案的模糊不清而無法獲得高精細的印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
(比較例3)
除在參考例1中，取代聚氧化乙烯基月桂基醚(HLB：10.8)，使用聚氧化乙烯基油醚(HLB：15.0)，在加上異丙醇，且將水溶液的表面張力設為62.5mN/m外，其餘與參 考例1相同，對ABS樹脂板進行水壓轉印。水溶液之固形量濃度為0.10重量%。轉印薄片的伸展率為1.61倍。另外，接觸於水面開始經72秒後的轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率為1.64倍。在轉印於ABS樹脂板上的印刷圖案上雖無漏印刷或無沾污，但因產生圖案的模糊不清，而無法獲得高精細的印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
(比較例4)
除在參考例1中，僅將水放入浴槽中，且為20℃(在20℃測定的表面張力為72.8mN/m)外，其餘與參考例1相同，對ABS樹脂板進行水壓轉印。轉印薄片的伸展率為1.8倍。另外，接觸於水面開始經68秒後的轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率為1.85倍。在轉印於ABS樹脂板上的印刷圖案上雖無漏印刷或無沾污，但因產生圖案的模糊不清而無法獲得高精細的印刷圖案。表1顯示所有評價結果。
從表1明顯可知，隨著轉印時的水溶液的表面張力的上升，浮遊於液面上的轉印薄片的伸展率增大。因此，可知藉由將水溶液的表面張力調整為適當的值，即可將所需伸展率的印刷圖案轉印於成形品上。
在以下的實施例3~5及比較例5~8中，水溶液的表面張力、基底薄膜的含水率、基底薄膜的位相差、基底薄膜的寬度收縮率、時間(T1)、時間(T2)、基底薄膜的伸展率及轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率，係依以下方法求得。
(水溶液的表面張力)
使用協和界面科學(股)製的表面張力計CBVP-A3，依據威爾海密法進行測定。
(含水率)
使用真空乾燥機(YAMATO科學(股)製DP33)與真空泵(日立工機(股)製VR16LP)，從在1Pa以下的減壓狀態進行50℃、2小時的乾燥的重量變化率，求得基底薄膜的含水率(%)。
含水率(%)=[(乾燥前的薄膜重量-乾燥後的薄膜重量)/乾燥前的薄膜重量]×100%
(位相差)
使用自動雙折射計(KOBRA21SDH、王子計測機器股份有限公司製)針對基底薄膜測定任意點的位相差。
(薄膜的寬度收縮率)
將樣料的薄膜寬度設為L1，在薄膜的長度方向以50℃、施以1小時的8.0kg/m的張力後的薄膜寬度設為L2，藉由以下的公式求得寬度收縮率。
寬度收縮率(%)=[(L1-L2)/L1]×100
(時間(T1))
將水壓轉印用基底薄膜，以成為0.05重量%的濃度的方式溶解於水中，放入浴槽並保持水溫為30℃。將切割為縱20cm×橫20 cm的正方形的水壓轉印用基底薄膜，測定從讓薄膜浮於上述水溶液的水面上至薄膜產生膨潤而在薄膜表面全面產生皺紋為止的時間，將此時間作為時間(T1)。
(時間(T2))
在30℃的恆溫槽設置電磁攪拌器。將放入一升蒸留水的一升的玻璃燒杯放入上述恆溫槽內，使用5cm的旋轉子、且以250rpm的轉速進行攪拌。在燒杯內的蒸留水成為30℃後，開始水溶性的測定。將薄膜切成40cm×40 cm的正方形，將此夾於滑件上，浸漬於30℃的攪拌水中，觀察薄膜的溶解狀態，測定薄膜完全溶解所需要的時間(秒數)，將此時間作為時間(T2)。
(基底薄膜的伸展率)
將水壓轉印用基底薄膜，以成為0.05重量%的濃度的方式溶解於水中，放入浴槽並保持水溫為30℃。與此分開，將水壓轉印用基底薄膜切割為縱20cm×橫20 cm的正方形，在其中央部使用水性筆，描繪直徑為4cm大小的圓，在浮遊於保持為30℃水溶液的液面上經過約10秒後，在薄片表面產生皺紋。薄片表面的皺紋，隨時間的經過漸漸消失，薄片表面成為完全平滑的面。在從將水壓轉印用基底薄膜浮遊於水溶液的液面上開始，經過至薄片表面成為平滑面所需要的時間的5倍時間的時點，針對描繪於基底薄膜的圓，測定顯示最大直徑的部位，由原來的直徑(4cm)除此，算出「基底薄膜的伸展率」。
(印刷圖案的伸展率)
藉由印刷裝置於水壓轉印用基底薄膜上施以印刷，製作轉印薄片。將獲得的轉印薄片，以成為0.5重量%的固形量濃度的方式溶解於水中調製為水溶液，放入浴槽並保持水溫為 30℃。與此分開，將水壓轉印用基底薄膜切割為縱20cm×橫20 cm的正方形，在其中央部使用水性筆，描繪直徑為4cm大小的圓。在該轉印薄片上以噴塗法塗敷油墨活性化溶劑(26重量份的丁賽路蘇乙酸酯、26重量份的丁二甘醇乙醚乙酸酯、8重量份的甲基丙烯酸丁酯、20重量份的二丁基酞酸酯、20重量份的硫酸鋇的混合物)後，浮遊於保持為30℃水溶液的液面上經過約10秒後，在薄片表面產生皺紋。薄片表面的皺紋，隨時間的經過漸漸消失，薄片表面成為完全平滑的面。在從將水壓轉印用基底薄膜浮遊於水溶液的液面上開始，經過至薄片表面成為平滑面所需要的時間的4倍時間的時點，從浮遊於水面上的轉印薄片上，與水面平行壓附厚度為4mm、大小為20cm×20 cm的ABS樹脂板，將印刷圖案轉印於ABS樹脂板上。針對轉印印刷圖案於ABS樹脂板上的圓，測定顯示最大變化部位的直徑，由原來的直徑(4cm)除此，算出「轉印於成形物上的印刷圖案的伸展率」。
(實施例3)
使用鼓式製膜機，將聚合度1750、皂化度88莫耳%的100重量份的聚乙烯醇、4重量份的甘油、1.2重量份的聚氧化乙烯基月桂基醚(在0.01重量%水溶液，以20℃所測定的表面張力為27.8mN/m，氧化乙烯的附加莫耳數(n)=5，親水親油平衡度HLB：10.8)組成的組成物的30重量%水溶液，從T模具朝旋轉之表面溫度為90℃的鼓面上吐出，並予以乾燥，獲得厚度為30μm的水壓轉印用基底薄膜。獲得之基底薄膜的含水率為3.6重量%，延緩率為30nm。另外，相對該 基底薄膜，在長度方向上以50℃、施以1小時的8.0kg/m的張力時的寬度收縮率為1.1%。該基底薄膜完全溶解於30℃的水中所需要的時間(T2)為26秒。
將獲得之水壓轉印用基底薄膜，以成為0.05重量%的濃度的方式溶解於水中調製為水溶液，放入浴槽並保持水溫為30℃，將基底薄膜切割為縱20cm×橫20 cm的正方形，在其中央部使用水性筆，描繪直徑為4cm大小的圓後，浮遊於上述水溶液的液面上，測定基底薄膜的伸展率。基底薄膜在接觸於水面後，在9秒(T1)時雖於薄片表面產生皺紋，但在5秒後(接觸於水面14秒後)，皺紋消失而變得平滑。比(T1/T2)為0.35。另外，基底薄膜接觸於水面開始經70秒後的伸展率為1.47倍。
對上述水壓轉印用基底薄膜，通過50℃的預加熱後，使用顏料、醇酸樹脂及溶劑組成的凹版印刷油墨，藉由凹版印刷方式進行3色的印刷，獲得轉印薄片。將所獲得之轉印薄片，以固形量濃度成為0.5重量%的方式溶解於水中調製為水溶液，放入浴槽並保持水溫為30℃。此時之水溶液的表面張力為39mN/m。
在上述轉印薄片的印刷面上噴塗塗敷油墨活性化溶劑後，將印刷面朝上，浮遊於上述水溫30℃的水溶液上。轉印薄片在接觸於水面後，在12秒時雖於薄片表面產生皺紋，但在7秒後(接觸於水面19秒後)，皺紋消失而變得平滑。經76秒後從上方壓入ABS樹脂製平板成形體，將印刷圖案轉印於ABS樹脂板上。經測定轉印於成形物的印刷圖案的 伸展率，為1.32倍。在ABS樹脂板上鮮明地轉印有無漏印刷或無沾污的高精細印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
(實施例4)
使用鼓式製膜機，將聚合度2050、皂化度89莫耳%的100重量份的聚乙烯醇、1.0重量份的聚氧化乙烯基油醚(在0.01重量%水溶液中，以20℃所測定的表面張力為31.1mN/m，氧化乙烯的附加莫耳數(n)=8，親水親油平衡度HLB：11.3)、5重量份的甘油、3重量份的醚化澱粉、0.3重量份的硼酸組成的組成物的30重量%水溶液，從T模具朝旋轉之表面溫度為90℃的鼓面上吐出，並予以乾燥，獲得厚度為37μm的水壓轉印用基底薄膜。獲得之基底薄膜的含水率為2.8重量%，延緩率為26nm。另外，相對該基底薄膜，在長度方向上以50℃、施以1小時的8.0kg/m的張力時的寬度收縮率為0.2%。該基底薄膜完全溶解於30℃的水中所需要的時間(T2)為34秒。
此外，與實施例3相同，將基底薄膜浮遊於水溶液的液面上接觸於水面，經12秒(T1)時於薄膜表面產生皺紋，在10秒後(接觸於水面22秒後)，皺紋消失而變得平滑。比(T1/T2)為0.35。另外，基底薄膜接觸於水面開始經110秒後的伸展率為1.38倍。
接著，與實施例3相同，藉由對基底薄膜進行印刷，製成轉印薄片。將所獲得之轉印薄片，以固形量濃度成為0.5重量%的方式溶解於水中，保持水溫為30℃之水溶液的表面張力為37mN/m。與實施例3相同，經測定轉印於ABS樹脂 板的印刷圖案的伸展率，為1.23倍。在ABS樹脂板上鮮明地轉印有無漏印刷或無沾污的高精細印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
(實施例5)
在實施例3中，除將基底薄膜的含水率設為5.2重量%以外，其餘與實施例3相同，獲得水壓轉印水壓轉印用基底薄膜。獲得之基底薄膜的延緩率為35nm。另外，相對該基底薄膜，在長度方向上以50℃、施以1小時的8.0kg/m的張力時的寬度收縮率為2.4%。該基底薄膜完全溶解於30℃的水中所需要的時間(T2)為26秒。
此外，與實施例3相同，將基底薄膜浮遊於水溶液的液面上與水面接觸，經7秒(T1)時於薄膜表面產生皺紋，在5秒後(接觸於水面12秒後)，皺紋消失而變得平滑。比(T1/T2)為0.27。另外，基底薄膜接觸於水面開始經60秒後的伸展率為1.50倍。
接著，與實施例3相同，藉由對基底薄膜進行印刷，製成轉印薄片，在製成轉印薄片部分，略微偏移印刷塗敷3色的油墨。這是考慮到因為基底薄膜的水分率高，而為了提高印刷時的寬度收縮率，會產生印刷偏移的緣故。將所獲得之轉印薄片，以固形量濃度成為0.5重量%的方式溶解於水中，保持水溫為30℃之水溶液的表面張力為39mN/m。與實施例3相同，經測定轉印於ABS樹脂板的印刷圖案的伸展率，為1.35倍。在轉印於ABS樹脂板上的印刷圖案上雖無漏印刷或無沾污，但因上述印刷偏移的緣故，而有不明顯的 印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
(比較例8)
在實施例3中，除6.0重量份的聚氧化乙烯基月桂基醚的使用量，其餘與實施例3相同，在製成基底薄膜及轉印薄片時，因為在薄膜表面滲出界面活性劑，使得印刷圖案模糊不清。另外，對ABS樹脂板進行水壓轉印，經測定轉印於成形物的印刷圖案的伸展率，為1.20倍。雖可抑制印刷圖案的擴大引起的主要模糊處，但在ABS樹脂板上，薄膜表面的污點仍被原樣轉印。表2顯示所有評價結果。
(比較例5)
除在實施例3中，取代聚氧化乙烯基月桂基醚，使用聚氧化乙烯基聚苯乙烯苯基醚(在0.01重量%水溶液中，以20℃所測定的表面張力為43.0mN/m，氧化乙烯的附加莫耳數(n)=14.5)外，其餘與實施例3相同，製成基底薄膜及轉印薄片，並予以評價。對ABS樹脂板進行水壓轉印，經測定轉印於成形物的印刷圖案的伸展率，為1.83倍。轉印於ABS樹脂板的印刷圖案雖無漏印刷或無沾污，但於印刷圖案上因膨潤產生圖案模糊，因此無法獲得高精細的印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
(比較例6)
除在實施例3中，取代使用1.2重量份的聚氧化乙烯基月桂基醚作為界面活性劑，而使用0.02重量份的聚氧化乙烯基十六烷醚(在0.01重量%水溶液中，以20℃所測定的表面張力為38.2mN/m，氧化乙烯的附加莫耳數(n)=15.0)外， 其餘與實施例3相同，製成基底薄膜及轉印薄片，並予以評價。對ABS樹脂板進行水壓轉印，經測定轉印於成形物的印刷圖案的伸展率，為2.0倍。轉印於ABS樹脂板的印刷圖案雖無漏印刷或無沾污，但產生圖案模糊，因此無法獲得高精細的印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
(比較例7)
除在實施例3中，為添加界面活性劑外，其餘與實施例3相同，製成基底薄膜及轉印薄片，並予以評價。對ABS樹脂板進行水壓轉印，經測定轉印於成形物的印刷圖案的伸展率，為2.3倍。轉印於ABS樹脂板的印刷圖案雖無漏印刷或無沾污，但產生圖案模糊，因此無法獲得高精細的印刷圖案。表2顯示所有評價結果。
從表2明顯可知，隨著轉印時的水溶液的表面張力的上升，浮遊於液面上的轉印薄片的伸展率增大。因此，可知為轉印鮮明的印刷圖案，使用適宜配合適當的界面活性劑，且浮於水溶液時的伸展率為一定值以下的基底薄膜，相當重要。

Claims (20)

  1. 一種水壓轉印用基底薄膜，係由100重量份的聚乙烯醇系聚合物及0.05~5重量份的界面活性劑所構成之水壓轉印用基底薄膜，其特徵為：含有0.01重量%該界面活性劑之20℃水溶液的表面張力為40mN/m以下，且在將該基底薄膜浮於溶解0.05重量%之該基底薄膜的30℃水溶液之液面上時的伸展率為1.6倍以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之水壓轉印用基底薄膜，其中相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，含有0.5~10重量份的可塑劑。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，含有0.1~15重量份的澱粉。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中相對100重量份的聚乙烯醇系聚合物，含有0.1~5重量份的硼酸或其衍生物。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中含水率為1.5~4重量%。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中位相差為40nm以下。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中厚度為20~50μm。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中在薄膜的長度方向上，以50℃施加1分鐘8.0kg/m之張力時的寬度收縮率為0.01~1.5%。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中從將該基底薄膜浮於溶解0.05重量%之該基底薄膜的30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)為5~20秒。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中該基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要的時間(T2)為15~40秒。
  11. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中從將該基底薄膜浮於溶解0.05重量%該基底薄膜之30℃水溶液的液面上至薄膜收縮為止的時間(T1)，與該基底薄膜在30℃的水中完全溶解所需要時間(T2)的比(T1/T2)為0.3~0.8。
  12. 如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜，其中該界面活性劑為非離子型界面活性劑。
  13. 一種水壓轉印用薄片，其係在如申請專利範圍第1或2項之水壓轉印用基底薄膜上形成印刷層而成。
  14. 一種水壓轉印方法，係藉由將如申請專利範圍第13項之水壓轉印用薄片，讓其印刷層朝上地浮於水溶液之液面上，然後將成形體朝向液面壓貼而將印刷層轉印於成形體 上之水壓轉印方法，其特徵為：該水溶液的表面張力為45mN/m以下，且轉印時該水壓轉印用薄片的伸展率為1.30倍以下。
  15. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中該水溶液的表面張力為15mN/m以上。
  16. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中轉印時該水壓轉印用薄片的伸展率為1.20倍以下。
  17. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中該水溶液含有0.001~3重量%的界面活性劑。
  18. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中該水溶液的固形量濃度為0.001~5重量%。
  19. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中在將該水壓轉印用薄片浮於液面上之前，塗敷油墨活性化溶劑。
  20. 如申請專利範圍第14項之水壓轉印方法，其中從將該水壓轉印用薄片浮於液面上、然後到把成形體朝向液面壓貼的時間為40~240秒。
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