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1364774 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種場發射陰極及其製備方法,尤指一 種適用於場發射顯示器之場發射陰極及/其製備方法。曰 5 【先前技術】 奈米碳管自西元1991年由曰本NEC公司在實驗中發現 之後,由於奈米碳管多種特質適合多元化的應用如:因 石墨層捲曲方式或管徑大小的不同,可使其具有金屬或半 10導體的電子特性、中空外形具有及小的尖端曲率半徑、高 化學穩定度、高機械強度以及良好的氣體儲存㈣,因此, 奈米碳管成為備受注目之新興材料。 不米反苔疋具有奈米級直控與咼長度管徑比的石墨 管。碳管内徑大小可介於〇·4奈米至數十奈米之間,碳管外 15徑大小則可介於1奈米至數百奈米之間,其長度則可在數微 米至數十微米之間。奈米碳管的結構可以是由單層或多層 的石墨層捲曲形成的中空管柱狀結構。當其應用在場發射 顯示器的陰極結構中時,因奈米碳管具有相當高的長度管 徑比與尚化學穩定度,其在較低電壓下所產生的電場可引 2〇發出相當大的電流密度,使其成為場發射顯示器陰極結構 中場發射源的最佳材料。 然而’在場發射顯示器操作時會使得奈米碳管在外加 電場的作用下因歐姆熱效應使其溫度上升,並進而與場發 5 1364774
10 ,較佳為多壁式奈米碳 材料,較佳為二氧化矽, 20 顯示器中的殘餘氣體產生反應而造成奈米碳管被氧化, 因此影響場發射顯示器的使用年限與其電流穩定性。 【發明内容】 本發月之目的係在提供一種場發射陰極及其製備方 法,俾能在高電場環帛下保護場發射陰極之結構。 本發明之另—目的係在提供一種場發射陰極及其製備 方法’俾能增加場發#電流之效能與穩定度。 —為達成上述目的,本發明提供一種場發射陰極,包括. :奈!碳管以及—非晶質披覆材。非晶質彼覆材係附著於 不米碳管之一表面。 為達成上述目@ ’本發明另提供—種製備場發射陰極 、、包括下列步驟:將一前驅物與一奈米碳管均勻混合 2混合物,以及加熱混合物以在奈求碳管之一表面上產 生一非晶質披覆材。 ^上述奈米碳管可為任意結構 官。上述非晶質披覆材亦可為任意 更佳為非晶質結構之二氧化矽薄膜 柯可經由—則呢卿叻附者於奈米碳管 之任前驅物可為適用於溶膠凝膠法(S〇1-gel method) 之任意材料,較佳為四乙氧基矽甲烷。 在將前驅物與奈米碳管均勾混合之前,奈 由一酸劑清洗以去除其中的觸媒、雜質或不純物,並= 6 1364774 用超音波震盪以將奈米碳管均勻分散於一溶劑當中,以利 與前驅物均勻混合β 上述前驅物與奈米碳管混合之比例並無限定,較佳為 使前驅物與奈米碳管之重量比例介在10至30倍之間。在前 5驅物與奈来碳管均勻混合之後,此混合物可經由攪拌至乾 燥狀態,較佳為在室溫環境下攪拌以得到混合物之粉末。 其後,可將混合物在氬氣中加熱至7〇〇至9〇〇它,以使前趨 物而在奈米仅管表面形成非晶質披覆材其厚度較佳介在1 • 至20奈米之間,更佳為介在5至10奈米之間。 1〇 之後,可將表面上產生有非晶質彼覆材之奈米碳管與 -導電膠體混合,再塗佈於一導電基材之表面上,並將該 導電基材加熱,以去除溶劑等不純物和增進奈米碳管與導 電基材之附著。導電基材之種類係無限定,較佳為導電玻 璃,如:氧化銦錫(ΙΤ0),導電膠體之材料係無限定,較 15 佳為銀膠。 因為奈米碳管表面上形成並附著有上述非晶質彼覆 • 使得上述場發射陰極在高電場環境下不容易被氧化, 而保護場發射陰極之結構,此外 1 傅此外,其亦可以使用較低的電 %即達到場發射效果,並在雷媒 |社電场增加時發出穩定的電流, 0 以增加場發射電流之效能與穩定度。 【實施方式】 一較佳實施例之場發射陰極 請參考圖1,其為本發明第 的結構示意圖。 7 1364774 如圖中所示,本實施例之場發射陰極1包括一奈米碳管 11與一非晶質披覆材12。在本實施例中,奈米碳管11是一 多壁式的奈米碳管,其為空管狀結構,而非晶質披覆材12 是附著於奈米碳管11之外表面上。上述非晶質彼覆材12是 5 非晶質結構之二氧化矽薄膜,其在高電場環境令會保護奈 米碳管11不被氧化,而使奈米碳管11得以穩定地產生電流。 另請一併參考圖2,其為製備本實施例場發射陰極1之 方法流程圖。 首先’使用一酸劑清洗奈米碳管11 (步驟21〇)以去除 10 奈米碳管11中可能含有的觸媒、雜質或不純物。在本實施 例中使用的酸劑是硝酸,其係以2:1的比例與奈米碳管混合 並加熱至110°C持續6小時。 其k ’將經酸洗過後的奈米碳管1 1與一前驅物均勻混 合為一混合物(步驟220 )。在本實施例中是將〇.〇5g經酸洗 15的奈米*反管11加入3〇〇ml的乙醇溶劑當中,並以超音波震盛 10分鐘以使奈米碳管11平均分散於溶劑中。之後,再調配 前驅物:去離子水:乙醇溶劑之重量比例為2:丨:4之溶液,將之 與經超音波震盪而均勻分散的奈米碳管11均勻混合。此處 所使用的前驅物是適用於溶膠凝膠法之四乙氧基矽甲烷 2〇 ( Tetrathoxysilane ),然而在其他實施例中可使用適用於 /合膠凝夥法之其他成分作為前驅物。此外,依照前驅物所 添加的重量比例的不同,其後可產出不同厚度的非晶質披 覆材12, iUb前驅物添加的重量比例係無限定為特定比 8 1364774 例,其端視所需要形成的非晶質披覆材12厚度,在本實施 例中,前驅物之重量比例可為奈米碳管丨丨之⑺至儿倍。 . 繼而,將奈米碳管11與前驅物均勻混合的混合物攪拌 至乾燥(步驟230 )。本實施例是在室溫環境當中以磁石攪 5拌混合物至乾燥形成乾粉狀態。 其後,將上述經乾燥之混合物加熱以產生非晶質披覆 材12 (步驟240 ) ^在本實施例中,是將上述經乾燥形成的 2粉置放於氬氣中加熱至8〇(rc並維持此溫度丨5小時以使 鲁 月”趨物之石夕氧基與奈米碳管U表面之官能基產生鍵結而形 10成非晶質披覆材12,然而此溫度係無限定,其可在7〇〇至9〇〇 °C之間。 之後,將步驟240中在表面形成非晶質披覆材12之奈米 碳管11與一導電膠體混合,再塗佈於一導電基材的表面 上。在本實施例中,上述導電膠體是銀膠,上述導電基材 15是氧化銦錫(IT〇),而導電膠體與奈米碳管11混合的重量 比例是7:1。此外,此處是使用攪拌脫泡機以將銀膠與奈米 φ 碳管11混合後,將其混合物利用旋轉塗佈機或是網印設備 將其均勻塗佈在導電基材上,然而在其他實施例中可以使 用其他機器以達到均勻塗佈之結果。 20 最後’將塗佈完成的導電基材加熱以去除奈米碳管11 與銀膠内的殘餘成分’如:溶劑,以使奈米碳管11與銀膠 更為緻密並且牢固地附著於導電基材的表面。 另請參考圖3及圖4’其分別顯示本發明第二、第三較 佳貫施例之場發射陰極,其是以相似於第一實施例之製作 9 1364774 方式製作’唯前驅物與奈米碳管之間的重量比例不同,因 此形成與第-實施例不同厚度之非晶質彼覆材。在圖3中, 奈米碳管外表面上非晶質披覆材之厚度是10奈米,在圖4 中’非晶質披覆材之厚度是5奈米。 5 另睛參考圖5,其顯示傳統之奈米碳管與本發明第二、 第二較佳實施例之外加電場_電流密度(〗_ν)關係囷。如圖 中所示,傳統之奈米碳管的曲線(以圓點表示)與第二實 施例的曲線(以三角形表示)或第三實施例的曲線(以方 • 形表示)相較,傳統之奈米碳管需要較大的電場環境才能 10產生電流。換句話說,本發明在奈米碳管外表面上形成並 附著有非晶質披覆材的場發射陰極在較小的電場環境下即 可產生場發射電流,其場發射效能確為增加。 其次,請參考圖6,其顯示傳統之奈米碳管與本發明第 二、第三實施例之場發射陰極在相同7v//zm的電場環境中 15 所測得的時間與電流關係。如圖中所示,本發明的第二、 第三較佳實施例的場發射陰極隨著時間增加,其電流與傳 φ 統奈米碳管的場發射電流相較,確實是顯著地趨向穩定。 是故,由上述中可以得知,本發明之場發射陰極在奈 米碳管之一表面上形成並附著有一非晶質披覆材,以保護 20奈米碳管在高電場環境中不被氧化,並且增進場發射效益 與穩定場發射電流。 上述貫施例僅係為了方便說明而舉例而已,本發明所 主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準,而非僅限 於上述實施例。 1J04774 【圖式簡單說明】 圖1係本發明第—較㈣施例之場發 圖2係製備本發明笸麩社总 構不忍圖。 程圖。 #月第-較佳實施例之場發射陰極之方法流 圖3係本發明第二較佳實施例之場發射陰極。 圖4係本發明第二較佳實施例之場發射陰極。 = 係傳統之奈米碳管與本發明第二、第三較佳實施例之外 加電場-電流密度(I_V)關係圖。 5係傳統之奈米石厌管與本發明第二第三實施例之場發射 陰極在相同電場環境中所測得的時間與電流關係圖。 【主要元件符號說明】 非晶質坡覆材12 場發射陰極1 奈米碳管11 15 11
Claims (1)
1364774 第96126·739號,101年2月修正頁 , 丄 »日修正本 十、申請專利範圍: 一~-- L 一種場發射陰極,包括: 一奈米碳管;以及 一非晶質披覆材,係形成並附著於該奈米碳管之一表 5 面其中,該非晶質彼覆材係經由一適用於溶膠凝膠法之 前驅物與該奈米碳管均勻混合為一混合物,且該混合物係 在氬氣中加熱至700至9〇〇。(: ’以形成並附著於該奈米碳管 之該表面。 2.如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 10 該奈米碳管係一空管狀結構。 3,如申請專利範圍第2項所述之場發射陰極,其中, 該奈米碳管係為多壁式的奈米碳管。 4.如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 該非晶質披覆材係一薄膜。 15 5·如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 該非晶質披覆材係為二氧化石夕。 6·如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 該前驅物係為四乙氧基矽甲烷。 7.如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 20 該别驅物與奈米碳管之重量比例係在1 〇至30倍之間。 •. 8·如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 該非晶質披覆材之厚度介在I至20奈米之間。 9.如申請專利範圍第1項所述之場發射陰極,其中, 該非晶質披覆材之厚度介在5至1〇奈米之間。 12 1364774 ίο.—種製備場發射陰極方法,包括: 將-剌於溶勝凝膠法之前驅物與―奈米碳管均句混 合為一液合物;以及 加熱該混合物以在該奈米碳管之一表面上產生一非晶 5貝坡覆材,其中,該混合物係在氬氣中加熱至7〇〇至900。(:。 11. 如申請專利範圍第1〇項所述之製備場發射陰極方 法,其更包括以一酸劑清洗該奈米碳管。 12. 如申請專利範圍第1〇項所述之製備場發射陰極方 法,其中,s哀奈米碳管係經由超音波震盪以與該適用於溶 10 膠凝膠法之前驅物均勻混合。 13. 如申請專利範圍第1〇項所述之製備場發射陰極方 法’其中,該混合物係經授拌至乾燥。 14. 如申請專利範圍第10項所述之製備場發射陰極方 法’其中’該奈米碳管係一多壁式的奈米碳管。 15 15·如申請專利範圍第10項所述之製備場發射陰極方 法,其中’該前驅物係為四乙氧基石夕甲烧。 16. 如申請專利範圍第1〇項所述之製備場發射陰極方 法,其中,該非晶質坡覆材係為二氧化矽。 17. 如申請專利範圍第1〇項所述之製備場發射陰極方 2〇 法’其更包括將表面上產生有該非晶質坡覆材之奈米碳管 與一導電膠體混合,再塗佈於一導電基材。 18. 如申請專利範圍第17項所述之製備場發射陰極方 法,其更包括將該導電基材加熱。 13
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| KR100669750B1 (ko) * | 2004-11-04 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 탄소 나노 튜브가 포함된 중형 다공성 탄소 복합체 |
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