1364069 九、發明說明： C 明戶斤屬系餘々頁 發明領域 本發明係有關-種基板之處理裝£，該處理裳置係以 5預定角度傾斜搬送基板時併同進行處理者。 C 前^^标】 發明背景 • 液晶顯示裝置所用的玻璃製之基板上，形成有電路圖 案。為在基板上形成電路圖案，可採用微影製程技術。眾 !〇所周知，微影製程係在前述基板上塗佈抗钱劑並透過已 形成有電路圖案之遮罩而對該抗蝕劑照射光。 接著，去除抗钮劑中未照射到光之部分，或照射到光 之。P刀ϋ對基板中已去除掉抗餘劑之部分進行姓刻，飯 刻後再去除抗_等，藉由反覆進行前述一連串動作而在 15 前述基板上形成電路圖案。
此種微影製程中，有如下之程序，即，在前述基板上 塗佈顯像液、姓刻液，或姓刻後藉由用以去除抗姓劑之剝 離液等而對基板進行處理之程序，進而，還有以洗淨液進 行洗淨之程序’洗淨後必須去除附著殘留在基板上的洗淨 2〇 液之乾燥程序。 歷來，對基板進行前述—連串處理時，該基板係藉由 讓軸線成水㈣加魏置之料雜，在水倾態下而依 次搬送至各處理室，並於Μ理室㈣行前述各種處理。 然而，近年來，液 晶顯示裝置所用的玻璃製之基板有 5 自喜匕且薄型化之傾向1此，若水平搬送基板因基板 各的重量，搬送滾輪間之基板的偏斜情形將加劇，使得 "處理i内之處理變得無法均等地在基板的整個板 面上進 旦再者，基板大型化時，供給而滯留在基板上的處理液 里將増大，隨著滞留在基板上的處理液量，施加於前述搬 送軸之負荷變大，因此也使得搬送軸偏斜情形加重。故， 基板會跟搬送軸一同偏斜，導致無法進行均等處理。 因此，近來為減少基板之偏斜，以預定角度傾斜搬送 基板時併同進行處理此一方式已漸為實用化。若傾斜搬送 基板’不僅可去除搬送滾輪間之因基板自身的重量而產生 的偏斜’亦可防止水平地進行搬送時，處理液滯留在基板 上，並因基板自身的重量而使得基板偏斜等狀況。 傾斜搬送前述基板時，係以支撐滾輪支撐基板之傾斜 方向的下面，並以驅動滾輪支撐基板下端。又’藉由旋轉 驅動該驅動滾輪’而將前述基板朝驅動滾輪之旋轉方向搬 送。 别述支樓滾輪係沿基板之搬送方向而以預定間隔，再 者’讓其軸線與呈傾斜狀之基板的板面平行地而加以設 置’即’該支標滾輪在軸方向上，係隔有預定間隔而可旋 轉地，設在與基板之傾斜角度為相同角度而傾斜配置之多 數安裝軸上。 【韻^明内容】 發明欲解決之課題 惟，如前述，利用下述構造，即，藉由設在安裝軸上 之支撐滾輪支樓傾斜基板’並驅動卡合於基板下端之驅動 滾輪而搬送基板時’由於基板大型化，前述安裝軸無法避 免長尺寸化。即’女裝轴必須較呈傾斜狀之基板的上下方 向尺寸（高度尺寸）更長，再者，近來伴隨著基板大型化，必 須讓安裝轴為2m以上的長度尺寸。 安裝轴長尺寸化’特別是2m以上的長度，由於該安裝 軸係以預定肖度顺設置’以及隔著切滾輪而增加基板 的重量等情形’钱軸以生偏斜。若安裝軸產生偏斜， 以預定間_在該安裝軸上的多數支樓滾輪，即無法以均 等的強度碰觸基板板面。 即’會產生幾乎無法碰觸到基板的支撐滚輪 ，以及太 過強力地碰觸基板之支撐滚輪 因此，變得無法順暢地搬 送基板，且有因強力地碰觸之切滾輪而損傷基板之虞。 本發明係提供-種基板之處理袭置，該處理裝置在以 預疋角度傾斜搬送基板時，可讓多數支撐滾輪均等地碰觸 基板而加以搬送。 用以解決課題之手段 本發明係一種基板之處理裝置，係以預定角度傾斜搬 送基板，且於雜送過財_基板騎肢處理者，包 含有：多數處理室’係崎前述基板之寬度尺寸更小的寬 度尺寸形成且並舰置’心料述絲進行各個預定處 理，多數安裝構件，係長度尺寸設定為較前述基板之高度 尺寸更短，且在各處理室内於上下方向以預定間隔地且與 前述基板之搬送方向平行地設置；支撐滾輪，係可旋轉地 設於各安裝構件上’用以支樓於前述處理室内以預定角度 傾斜搬入之前述基板的傾斜方向下側之面；及驅動滾輪， 係可旋轉驅動地設於各處理室内，且藉由支撐並旋轉驅動 前述基板之下端，而將該基板朝預定方向搬送，該基板係 藉由前述支撐滾輪支撐傾斜方向下側之面者。 本發明係一種基板之處理裝置，係以預定角度傾斜搬 送基板，且於該搬送過程中對該基板進行預定處理者，包 含有：多數處理室，係以較前述基板之寬度尺寸更小的寬 度尺寸形成且並列設置，用以對前述基板進行各個預定處 理；支撐滾輪，係用以支撐以預定角度傾斜送入前述處理 室内之前述基板的傾斜方向下側之面；及驅動滾輪，係可 旋轉驅動地設於各處理室内，且藉由支撐並旋轉驅動前述 基板之下端’而將該基板朝預定方向搬送’該基板係藉由 前述支撐滾輪支撐傾斜方向下側之面者。 發明之功效 依本發明，係讓處理室之寬度尺寸小於基板的寬度尺 寸，並讓設有支撐滾輪的安裝構件之長度尺寸短於基板的 高度尺寸’又’沿處理室的寬度方向設置該安裝構件。因 此，可讓安裝構件的長度尺寸短於基板的寬度尺寸及高度 尺寸許多，故’安裝構件不易產生偏斜’並可藉由設於該 安裝構件上之支撐滾輪而確實地支撐住基板。 圖式簡單説明 第1圖係例示本發明一實施態樣之處理裝置在寬度方 丄 *364069 向上的縱剖面圖。 第2圖相同地，係處理裝置中第2處理部分之縱剖面圖。 第3圖相同地，係處理裝置的橫刮面圖。 第4圖係例示支揮滾輪的安裝構造之剖面圖。 5 【實施方式】 較佳實施例之詳細說明 第1圖係概略地例示本發明之處理裝置的構造圖，該處 理裝置具有框體1。在本實施態樣中，該框體1内，係藉由 於長向方向上以預定間隔而加以設置之多數間隔壁2，而間 1〇隔出第1乃至第3等三個處理室3〜5。即，框體1在橫方向上 並列形成有第1乃至第3處理室3〜5。 第3圖係該框體丨的橫剖面圖，框體丨的長向方向一端之 側壁la上，細長狀之搬入口 6在上下方向上，係以預定角 度，譬如75度之角度傾斜而形成，長向方向另一端的側壁 lb上，同樣地以相同角度傾斜形成有細長狀之搬出口 7 ^將 框體1内間隔為三個處理室3〜5之二個間隔壁2上，形成有 以同於前述搬入口 6及搬出口 7之角度而傾斜的細長狀連通 σ 8。 第1乃至第3處理室3〜5内，具預定厚度之帶板狀的多 2〇數安裝構件，本實施態樣中為四個安裝構件η，在上下方 向上，係以預定間隔而水平地，且如第2圖所示，錯開地設 在i後方向上，俾偏離以相同角度傾斜的搬入口 6、搬出 口 7及連通口8(第2圖中僅例示連通口 8)。 如第3圖所示，前述框體丨之長向方向兩端的側壁丨&、 9 1364069 lb之内面，及一對間隔壁2之兩側面上，L字形的承接具12 係單邊固定住地而加以設置。前述安裝構件11之長向方向 兩端面上，對應前述承接具12之L字形的安裝具13，係單邊 固定住地而加以設置。 5 再者，前述承接具12之另一邊上，藉由以螺絲穿過固 定住前述安裝具13之另一邊，前述安裝構件11係如前述 地，在上下方向上以預定間隔而水平地，且錯開前後二者 地設在各處理室3〜5内。 各安裝構件11的上面上，四個支撐滾輪15係分別與軸 10 線垂直而可旋轉地加以設置。第4圖例示前述支撐滚輪15之 安裝構造。即，安裝構件11上，在前後方向的前端側上， 沿前後方向而形成有細長之安裝孔16。 前述支撐滾輪15上設有軸承17，該軸承17之内輪上插 通有安裝螺栓18。安裝螺栓18突出於前述安裝孔16之端部 15 上，隔著墊片19而螺合有螺帽20。藉此，前述支撐滾輪15 係可調整前後方向之安裝位置地而安裝於前述安裝構件11 上。 如第1圖及第2圖所示，各處理室3〜5之下端部處，多 數驅動滾輪22係沿處理室3〜5的寬度方向且以預定間隔而 20 加以配置。各驅動滾輪22係藉由驅動馬達23而可旋轉驅動。 由形成在前述第1處理室3之側壁la上的搬入口 6,以75 度之角度傾斜供給液晶面板所用的玻璃製之基板W。供給 至第1處理室3之基板W，其下端係以驅動滾輪22而加以支 撐，且傾斜方向之下側面係以支撐滾輪15而加以支撐。因 10 此，若前述驅動滾輪22藉由驅動馬達23而旋轉驅動，前述 基板W會朝驅動滾輪22之旋轉方向，即第2處理室4的方向 而加以搬送。 前述基板W為2m角形以上之大小，譬如具有高度尺寸 為2200mm，寬度尺寸為2600mm之大小。第1乃至第3處理 室3〜5的寬度尺寸係設定為短於前述基板w的寬度尺寸許 多。譬如，設定為基板W的寬度尺寸的二分之--三分之 二的程度。譬如，設定為基板W的高度尺寸的二分之一〜 三分之二的程度。藉此，安裝構件11可做成不易因自身重 量而產生偏斜之長度尺寸，譬如可做成比2m短很多的尺寸。 縱或讓前述安裝構件11的長度尺寸為不易因自身重量 而產生偏斜的長度尺寸，但由於各處理室3〜5的寬度尺寸 亦設定為短於基板W的寬度尺寸，因此，安裝構件u的長 度尺寸相較於處理室3〜5的寬度尺寸，並不會短太多。 藉此’設於安裝構件11上之支撐滾輪15，可沿寬度方 向而確實地支撐住基板W位在各處理室3〜5内之部分。 即，縱或讓安裝構件11較短，但對應該態樣而讓各處理室3 〜5之寬度尺寸亦較短，因此基板w位在各處理室3〜5内之 部分在寬度方向上’可確實地被支撐滾輪15支撐住。 前述基板W在第1處理室3中，係藉由未予圖式之洗淨 刷而加以洗淨。於第1處理室3中洗淨的基板w，於第2處理 室4内進行沖洗處理。即，第2處理室4内，經由流量調節閥 而連接於沖洗液供給源（均未予圖式）之給液管25,係以預定 間隔而分離地配設在上下方向。 1364069 各給液管25上’以預定間隔設有多數噴頭26，由該等 噴頭26而對在第2處理室3内進行搬送之基板W的傾斜方向 上側之面，噴射沖洗液。 藉由將設有用以對基板W喷射沖洗液之喷頭26的給液 5 管25，以預定間隔而配置在基板W的高度方向上，於該基 板W的高度方向，可藉由設在各給液管25上的流量調節閥 (未予圖式），調整由各給液管25之喷頭26而喷射供給至基板 W上的沖洗液量。即’供給至基板w之板面上的沖洗液， 係由基板W的高度方向上方而朝下方流動》因此，為對各 10 給液管25提供相同量之沖洗液，相較於基板w的高度方向 上方’下方由沖洗液所接收到的沖洗作用變大，因而變得 無法均等地對基板W的整個板面進行沖洗處理。 然而’由於多數給液管25係以預定間隔而分離地配設 在基板W的高度方向上，故藉由調整供給至各給液管25的 15沖洗液量，就可調節供給到基板W板面在高度方向之上部 及下部的沖洗液量。 因此，若讓供給到基板W上部的沖洗液量多於供給到 下部之沖洗液量’供給到上部之沖洗液將流至下部，藉此’ 可讓下部所承受的沖洗作用大致與上部相同。舉其一例， 20即，若設定來自各供給管25之沖洗液量，俾讓在呈傾斜狀 之基板W板面上流動的沖洗液之流速與流量的總和，不論 在基板W的高度方向上任一位置都相等，就可大致均等地 對基板W的整個板面進行處理。 本實施態樣中，係以沖洗液對基板…進行處理之例， 12 但縱或是沖洗液以外的處理液，譬如藉由#刻液及剝離液 等處理液而對基板W進行處理之場合，藉由如前述之方式 來調整處理液之供給量，就可均等地對基板w的整個板面 進行處理。 5 將第2處理室4内經沖洗處理之基板W，送至第3處理室 5。該第3處理室5中，未予圖式之氣刀（air_knife)係沿著與基 板W之搬送方向相交又之上下方向而加以配置，並進行乾 燥處理’即’藉由氣壓去除進經行沖洗處理而附著在基板 W板面上的沖洗液。再者，於第3處理室5内經乾燥處理的 10基板w ’係由搬出口 7搬出而送至次一程序。 藉由如此構成的處理裝置，可藉由設在沿各處理室3 〜5之寬度方向而水平配置之安裝構件^上的支撐滾輪 15，支撐住以預定角度傾斜搬送的基板w之傾斜方向下側 之面。 15 各處理室3〜5之寬度尺寸係設定為較基板w的寬度尺 寸小二分之--三分之二程度，且安裝構件11的長度尺寸 係設定為較基板W的高度尺寸小二分之一〜三分之二程 度。 若如前述般，將安裝構件11的長度尺寸設定為較短尺 20寸’可防止該安裝構件η因自身重量而產生偏斜問題。因 此，設於各安裝構件11上之多數支撐滾輪15，可不產生水 平方向之鬲度差地進行定位。又，設於各安裝構件η上的 支撐滾輪15，可藉由設在安裝構件u上的安裝孔16而調整 前後方向的安裝位置。 13 1364069 因此，可讓設在各安裝構件讥上的支撐滾輪15，強力 地碰觸基板w之傾斜方向的下面’故，驅動驅動滾輪22時， 可藉由前述支撐滾輪15而順暢地導引並搬送前述基板霤。 即，不會對基板W造成損傷而可確實地進行搬送。 5 相較於處理室3〜5的寬度尺寸，若安裝構件U之長度 尺寸過短，於各處理室3〜5中，在基板貿的寬度方向上， 支樓滾輪15未予支樓的部分將變多，而該部分有產生偏斜 之虞。 然而，本實施態樣中，不僅是將安裝構件1丨設定為不 10易因自身重量而產生偏斜之長度，且由於讓處理室3〜5的 寬度尺寸縮小，故安裝構件11的長度尺寸相對於各處理室3 〜5的寬度尺寸，並未大幅短少。藉此，基板w位在各處理 室3〜5内之部分，可藉由設在前述安裝構件u上的多數支 撐滾輪15，而確實地讓寬度方向予以支撐住。 15 即，若僅僅是將安裝構件11設定為較短尺寸，俾不易 因自身重量而產生偏斜，則相對各處理室3〜5之寬度尺 寸’安裝構件11的長度尺寸就顯得過短，而產生如丁之情 況’即’基板W位在各處理室3〜5内的部分中之寬度方向， 無法以支撐滾輪15而確實地加以支撐，將有基板w變形且 20無法順暢地進行搬送之虞。 然而，安裝構件11並不僅僅只是設定得較短，由於處 理室3〜5的寬度尺寸亦縮小，故相對於基板W在各處理室3 〜5中的寬度尺寸，安裝構件11並不會變得過短。因此，可 藉由設在安裝構件11上之支撐滾輪15 ’而確實地支稽住基 14 °^4〇69 板W位在各處理室3〜5内的部分。 用以進行基板W之沖洗處理的第2處理室4中，水平地 配置有多數設有用以喷射沖洗液之噴頭26的給液管25。供 給至各給液管25之沖洗液量，可#由未予圖式之流量控制 5 閱而加以調整。 因此，藉由讓供給至位在傾斜搬送之基板W的高度方 向上方的給液管25之沖洗液量，多於供給至位在下方之給 液管25的沖冼液量，可以大致相同的狀態在基板w的上下 方向進行沖洗處理。即，可大致均等地對整個基板W的板 10 面進行處理。 藉由讓處理室3〜5的寬度尺寸小於基板w的寬度尺 寸’基板W即如第1圖中虛線所示般，在多數處理室3〜5 内’以橫跨相鄰之多數處理室狀態而加以搬送。藉此，基 板W中’譬如搬送方向之前端部在第2處理室4内進行沖洗 15 處理時’後端部是在第1處理室3内進行刷洗。同樣地，前 端部在第3處理室5内進行乾燥處理時，後端部在第2處理室 4内進行沖洗處理。 如此’邊搬送基板W ’邊以多數處理室3〜5對該基板 W連續地進行處理時，由於可同時進行相鄰之處理室内的 2〇不同處理，故可效率良好地進行基板W的處理。 本發明並不限於前述一實施態樣，可做各種變形。譬 如’雖以並列設置有三個處理室之例作為處理裝置之態 樣’但處理室之數目並不限於此，再者，以各處理室對基 板進订處理的種類當然亦未有限定。 15 1364069 ί：圖式簡單說明3 第1圖係例示本發明一實施態樣之處理裝置在寬度方 向上的縱剖面圖。 第2圖相同地，係處理裝置中第2處理部分之縱剖面圖。 5 第3圖相同地，係處理裝置的橫剖面圖。 第4圖係例示支撐滾輪的安裝構造之剖面圖。
【主要元件符號說明】 1...框體 15...支撐滾輪 la、lb...側壁 16...安裝孔 2...間隔壁 17...轴承 3...第1處理室 18...螺栓 4...第2處理室 19…墊片 5...第3處理室 20...螺帽 6·.·搬入口 22...驅動滾輪 7...搬出口 23...驅動馬達 8...連通口 25...給液管 11...安裝構件 26…噴頭 12...承接具 W...基板 13...安裝具 16