TWI363110B - Method for spinning the liquid matrix, device for production of nanofibres through electrostatic spinning of liquid matrix and spinning electrode for such device - Google Patents

Description

丄 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發月係關於在至少一個纺紗電極和對著該纺紗電極 配置之收集電極《間之靜電場中纺紗液&質⑴叫id 二）之方法’該等電極之其中_個電極係連接至高電壓 y· ^極（PQle) ’而該第二電極接地，經受纺紗之液基 二、綠電場中在紡紗電極之紡紗機構之索(c〇rd) 訪紗區。 至小本發明係關於生產奈米纖維之裝置，其係透過在 之電極和對著該纺紗電極配置之收集電極之間 中液基質之靜電紡紗而生產奈米纖維，該等電極. 電=連接至高㈣之一個極，而該第二電 二相反極或是接地，以及該紡炒電極 維之平_ = /^_構件，該索包含纽積奈米纖 形成該索之主動紡㈣。 π之直“，而該直線部 其係透產奈米纖維之裝置之紡紗電極， 集電極之門之^雷、、方紗電極和對著該紡紗電極配置之收 維，該等電極之苴中一個雷杌及± .玍座不木纖 極，而哕第ι/ 電極係連接至高電壓源之-個 以及該纺紗；極：：連? ”㈣源之相反極或是接地， 中之包括至> —個安裝在該紡紗電極之载送體 Τ <已括索之紡紗構件， 平行和/戋盥#隹n Μ '、匕3 /、沉積奈米纖維之平面 及與收集電極平行之直線部。 94395 6 1363110 【先前技術】 DE 1 01 36 255 B4揭示由聚合物之溶液或融化物，以 ‘及用位於用一對無端條帶（endless stripe)環繞二個導引 缸之平行導線系統形成之紡紗電極生產纖維之裝置，該二 個導引缸中一個位於另一個之上，同時下方導引缸延伸至 聚合物之溶液或融化物中。紡紗電極係連同反電極. (counter-electrode)連接至高電壓源，該反電極係由導電 鲁旋轉條帶形成。聚合物之溶液或融化物係由進入紡紗電極 和反電極之間.之電場之導線實施，從聚合物之溶液或融化 物產生出纖維，該纖維被載送朝向反電極並且落至位於反 電極士的網。此發明之缺點在於聚合物之溶液或融化物長 時間V留在電場中，因為聚合物之溶液以及融化物老化得 非常快速，而於紡紗過程期間改變其十生質，如此造成改變 =產生出之纖維之參數，尤其是他們的直徑。.另一個缺點 是定，紡紗電極之導線於一對無端條帶上，該對無端條帶 ♦必須是導電的’而他們非常不利地影響在紡紗電極和反 極之間所產生之電場。 入另由美國專利第4.144.533號知道一種裝置，其藉由 °適電場’將溶液、分散劑和固態物質之混合物以電動力 式敷設於基層材料（substratum material)上。該裝置 ^含儲槽具有被敷設過之基底，在該基底定位有用無 於條τ環繞之滑輪，藉由此種機構基底被輸送入電場中， =電場中基底被敷設於基層材料上，而該基層材料正通 、、鄰無端條帶之一個或二個側面。此裝置不能產生纖 94395 7 1363110 維，而是僅被指派用於敷設溶液、分散劑、等等。. ^者’已知經由聚合物溶液之靜電紡紗來生產奈米纖 _、’· '"置，該裝置包含旋轉橢圓形的紡紗電極，例如，奸 ，據恥2005/024101 A1。此裝置包含圓柱形狀之紡紗電極 =炒電極㈣其絲旋轉並心其表面下部位被浸泡入 约溶液中。聚合物溶液藉由圓柱之表面而被實行” :、電極和收集㈣之間之電場中.，奈米纖維於此電場中妒 聚合物溶液在他們沉積於基層材料上之前被載送朝向 能夠從水聚合物溶液中產生⑽ ^卡纖、維，不過可溶解於非水溶劑之聚合物之溶液要用此 裝置處理則十分困難。再者，敷μ 維之層並不均t L於基層材料上之奈米纖 .可依照CZPV娜-360之裝置達成奈米纖維產生層之 =性’該專利說明包括徑向配置並縱向朝向纺紗電極之 奴轉軸之薄片系統的紡紗電極，.同時用來讓聚合物溶液進 •入㈣之纺紗電極之-部分表面之包裝表面（wr卿叫 surface)具有該包裝表面，該包裝表面於通過纺紗電極之 隹^垂直於基層材料之平面之平面甲具有由纺紗電極和收 「電極之間最高強度之電場之等位線(equip〇tentiai me所形成之形狀。此種紡紗.電極能夠實施足夠數量之聚 :物溶液進入紡紗電極和收集電極之間電場之最適當的地 :而在此同時該非水聚合物溶液的紡紗亦十分良好，並 產生均勻之奈米纖雄層。不過， 電極，其價格昂貴。l缺點疋需要產製此種紡紗 94395 8 1363110 • 關於製造而言，較低成本者似乎為㈣cz pv 2_— :.:=:等一—二::::: ，係以：：由非導電材料製成，且所有的纺紗構件 ::=::r及非水聚合物_=生=著轉 ==係在紡紗電極從聚合物溶液離開並逐漸二 集電極接錢㈣成於個遍紗構件之間。 ㈣ 置之缺點係特別是在聚合物溶液以及裝. 大的開口 段表面進入此儲槽中。儲槽具有 量之溶劑Μ = 1 口表面上不僅從聚合物溶液產生大 (hygr〇SCOD一 由於例如溶液具有吸濕的溶劑 ,= rrsQlvent)，聚合物溶液會變厚和老化得非常 米纖維之二須1 =被添加和更換，會增加生產奈 靜電場用來紡紗之二:：ΐ生產：奈米纖維之品質。進人 之表面q目ι \ σ溶液係藉由圓柱狀旋轉紡紗電極 乾，而在下？輸送，而因此其在表面上會逐漸變 大量的聚合物轉纺紗電極之個別地方時會黏住較 清潔纺紗電:ΓΓ 漸漸造成纺紗製程之劣化而必須 程。於索 。欲清潔紡紗電極’必須中斷紡紗過 、'、ν電極處，進入靜電場之聚合物溶液被輸 94395 I 83 9 丄363110 ",、、y至1由移出滾軸（take-of f rol ler)71、72而被移 送出在此移出滾軸71、72之後，係以已知的未表示之方 式將=基層材料5捲繞於未表示之捲繞裝置上。此處所說 j之、、巴緣刀隔板i丨、丨2僅供用來互相遮護依序接著的紡紗 單元2，而他們實質上未用所提出之發明。 、 纺紗電極3包含配置在載送主體32中之數個紡紗構件 31各個紡紗構件31包含一條索3丨〇，該索“ο安裝在鬆 開捲軸311和捲繞捲軸312 ±，而.鬆開捲轴3ΐι和捲繞捲 軸312同時用作為索310之伸展機構。鬆開捲軸.311和捲 繞捲轴3_12之間之索之直線段係與基層材料5之移動 方向平订，而該直線段產生出紡紗構件31之索31〇之主動 纺紗區3_。索31〇係由可導電之細金屬 膠線製.成。 Λ 一個紡紗電極3之紡紗構件31之鬆開捲軸3ιι係安裝 在共同鬆開軸33上’該共同鬆開軸33係安裝在載送主體 u、m動α 34輕接。__個紡紗電極3之纺紗 件3!之捲繞捲轴312係安裝在共同捲繞軸35上，該北同 捲繞軸35安裝在載送主體32上並與捲繞驅動器％耦接。 鬆開驅動器34和捲繞驅動器36係以已知機械或電之 輕接’以確保所須之索31G伸展於其主動紡紗區31〇〇，並 確保索310連續的或中斷的向前移動於其主動紡紗區 3副。因此各纺纱構件31之索31()以可移位之方式朝立長 度方向定位’其意味著各索之主動紡紗區麗朝其長度方 向連續地或以間距的方式移動經過靜電場。一個紡紗電極 94395 17 1363110

It戶It紡紗構件31之索31°之主動紡紗區3i〇°係配置 、十面中，其與收集電極4和與基層材料5平行。 於载送主體32上之-個紡紗電極3之紡紗構件31之 纺紗區_下方，係安裝裝置37用來敷設 基貝（fiuidmatrix)38於索之主動紡紗區31〇〇。因此 索310產生流體基質38之載送機構。用來敷設流體基質 之裝置37包含晶石（_則，該晶石371可移位地安装 於載达主體32上並與已知的未表示之驅動器㈣，用來禮 保其沿著索之主動紡紗區3100之長度的可逆移動。於索之 f主動纺紗區3100下方之晶石371上，安裳有一個敷設機 毒^72，於所表示之實施例中該敷設機構372係由毛細管 敷5又機構3721所形成。毛細管敷設機構3721之腔（cavity) 係與晶石371中之腔連接，該晶石37ι之腔係以已知但未 表不之方式埠接至未表示之流體基質38之儲槽。較早到達 毛細管敷設機構3721之腔之流體基質38係通過已知尚未 表不之電性構件，該電性構件係連接至電位源之一個極， 然後該流體基質38將所需的電位帶給索之主動紡紗區 1 〇 〇使得此夠在對應紡紗構件31之索之主動紡紗區31 〇 〇 與各自紡紗單元2之收集電極4之間產生高強度之靜電 場。此高強度之靜電場能夠從於索之主動紡紗區31〇〇所發 現的流體基質38，以已知方式移開流體基質38之樑 (beam)，該樑於南強度之靜電場中落入於奈米纖維8中， 其藉由高強度之靜電場之動作被载至收集電極4,而沉積 於基層材料5上，在該基層材料5上產生了奈米纖維層 94395 18 1363110 51 ml體基質38可進一步包含另一種物質，該物質 王之方式修正所產生之奈米纖維之性質。 動纺、ν'區31 〇 〇之流體基質3 8係於紡紗期間透過 裝置37之移動而敷設於靜電場中，用來敷設液基質38於 索之主動紡紗區310°之下方。於依照帛1圖之實施例說明 之例子_，於敷設期間敷設機構372正在移動，其係與停 ^的之主動纺紗區31⑽接觸。不過，索⑽之移動， θ =是在流體基質38之敷設期間其主動纺紗區3100並非 一 的。. 著-:=圖之實施例朝基層材料5之方向，-個接 >- 了—個紡紗單元2,從圖式中三個紡紗單元2

表不三個紡紗電極3。 /早兀Z 件31配置〆電極3包含四個紡紗構 -初帝 載送主體32中彼此間隔相同距離。第—和第 二個電極3包含三個纺紗構件31配置弟-和第 時朝載送材料5之㈣方向1前㈣;；之極相互_’同 ㈣之間的空間中'配置有接著的紡紗 全然防Γ::。減少形成奈米纖維層5 一 達成在所得到的::::層：如依照未顯示之實施例’而 包括具有相同數目之紡紗二形成條帶’該實施例 該等紡紗構件31於载送主體32 =纺紗電極3， 有相等的相互距離。透過設定接著·^位置配置並具 —個之载送主體32之 、、、、、y電極3之一個接 之位置而達成-個接—個定位之紡紗 94395 19 1363110 電極3之紡紗構件31之不同位置。 於依照第3圖之實施例之例子中，紡紗室\配置有： 個纺紗單元，其用紡紗電㈣表示，而紡紗室ι之内 間不似前面的實施例於纺紗單元之間由絕緣分隔板所： Ik。紡紗電極3包含載送主體32，於此載送主體犯中歪 斜=基層㈣之移動方向52之方向配置有纺紗構件I 如前面的範例實施例相同的方式實施。紡紗構件之 ㈣=及捲繞捲軸312係設有已知的未表示之個別驅動 盗，該等驅動器係輕接以確保於主動纺紗區31〇〇中索31〇 之所需的延伸，並確保索31〇朝其長度方向之繼續或 的移動。液基質38之敷設機才冓372以可移位方式安裝 之；動紡紗區31°"方。該裝置以與上述依照第；和'2 圖貫施例相同的方式工作。 於依照第4圖實施例之例子中，纺紗室 紗單元2彼此由絕緣分隔板u分離。由表示之紡紗=為方 紡紗電極3，該紡紗電極3包括載送主體32， 體”垂直於基層材料5之移動方向52配置有纺紗二 31’貫施與依照第1和2圖實施例相同的方式。-個” 電極3之紡紗構件31之鬆開捲軸311係安裝在共同鬆開轴 ^該共㈣開軸33係安裝在载送主體32上並與鬆開 驅動器34耦接。一個紡紗電極3之紡 之揲 =係安裝在共，捲繞轴35上，該共同= 主體32上並與捲繞驅動器36_。藉由在纺紗 電極3之鬆開驅動器34與捲繞驅動器％之間之連接而達 94395 20

:::=紗區_ t之索川之所需延伸 極3.之所有纺紗構件3i之㈣〇之 Z 置於平面t，★隹兩 初Μ 310(H糸配 •置以與上述依照第'fit與基層材料5平行。該裝 “、 和2圖声、細例相同的方式工作。 第10和〗1圖表示依照本發明之另一 於該實施例中纺紗室】西？番古始 替代例只施例， 單元2包括”電極3 2，各該纺紗 々野書通》，万办電極3配置有收隼雷 極4 ’在該紡紗電極3和收隼電 、 施高強度之靜電場。於 ^ ® /至1 τ貫施通過基層材料5， 维之声；於紡紗期間奈米纖維8係沉積入奈米纖 紗電極3包含載送主體32 ’在該載送 等孛31〇堅1ΓΓ間以某距離彼此延伸有獨立的㈣〇,該 恭極^: q之實知例中’冑310為朝移出位於前面纺紗 =之方:°，T、f著的紡紗_^^ 之：· u:此&成減少形成所生產奈米纖維層52 之條▼，或者其幾乎排除形成條帶。. 3 主體32上各紡紗電極3之索⑽之主動 Γ索之主Γ可移位方式安裝裝置37用來敷設液基質38 ==紗區咖。用來敷設液基質之裝置3?包括 曰日石d(l’該晶石371可兹— 了矛夕位地文裝於載送主體32上並與 94395 15} 21 1363110 動器純，以確保其沿著索之主動紡紗區瞻 動。於晶石371上之各主動紡紗區咖下方係 二，38之一個敷設機構372，該液基質38係藉 機構3721形成在表示之實施例中，該敷設機構3721 逆移位之方式朝或從索之主動紡紗區31⑽之方向 :同時配置。於晶石371上進一步配置有裝置37〇用來從 動紡紗區3100去除液基質38,該索係同時獨立於 以可逆移位方式朝或從該索之主動紡紗區3⑽之方 配置之數設機構372。 電位係經由其連接至電源之一個極或經由接地而被帶 至主動紡紗區31〇〇。 右藉由液基質38而帶給素之主動紡紗區31〇〇之電 位’ s其如依照第1 ®之實施例而詳細說明者，則敷設機構 372是在與索之各自主動紡紗區31〇〇永遠相接觸。 於未表示之實施例中，液基質38之敷設機構372係獨 鲁立地配置用於索之各主動紡紗區麗。用於去除各主動纺 紗區3100之液基質38之裝£抓被分離配置獨立於敷設 機構372或是-起配置。根據於他們的配置，液基質之敷 設機構372和用來去除液基㈣之裝置能夠執行他們各種 組合的活動。 例如，液基質38於紡紗期間係敷設至固定的主動紡紗 區3100’而主動紡紗區31〇〇係與液基質38之對應的敷設 機構372持續的接觸’透過此種情況電位被同時帶至主^ 紡紗區3100。於情況需要時’透過紡紗和/或藉由周圍環 94395 22 1363110 境之作用而降低品質的液基質係從主動紡紗區去除。 或者液基質38於紡紗期間係敷設至固定的主動纺#炒 •區3100，以及該主動紡紗區31〇〇僅於敷設週期期間接= 對應之敷設機構372，而後敷設機構372從索之主動紡紗 區3100移出而並不接觸該主動紡紗區31〇〇。於情況需要 時，如前面實施例同樣的方法，透過紡紗和/或藉由周^環 境之影響而降低品質的液基質係從主動紡紗區31〇〇去除^ 可以視需要選用之間距敷設液基質3 8於靜電場中索 之固定的主動紡紗區3100,並可另視需要選用之間距從主 動紡紗區去除降低品質的液基質。 & 可於敷設液基質38於索之主動紡紗區31〇〇之前實施 去除降低品質的液基質38,並且其可於每次敷設液基質只38 之前實施。 在包含並列配置在一個平面中之索之更多個主動紡紗 區3100之紡紗電極3處從索之主動紡紗區31〇〇去除黏著 _的降低品質之液基質38、係同時對更多個索之主動纺.紗區 3100實施，同時接著的被去除之一個接著一個的索之主動 紡紗區3100之間，發現總是至少一個索之主動紡紗區31〇〇 具有於此次未被去除之被敷設之液基質38。 穩固且不可能移動地配置在纺紗電極3之載送主體 中之索之主動紡紗區31〇0可配置成與基層材料5之移動方 向或與所生產之奈米纖維層52之離開方向平行，如於第 10和11圖中所示者。或者主動紡紗區31〇〇可以是垂直於 上述基層材料5之移動方向或者其可以是與此方向形成任 94395 23 1363110 何所希望之角度。 載逆圖中之紡紗電極3包含載送主體32，” 载运主n32中配置有紡紗構件3ι。各 於該 動滑輪313和伸展滑輪314 匕括驅 .環繞，鄰近收集電極4之索⑽1 =由無限的索31。所 〇lnn d10之直線段形成主動纺纱區 紡紗電極3之所有紡紗構件31之索31〇之古： 紡紗區3100被配置平齊。若# ’、 動 1内，則並心…： 3是在裝置之紡紗室 雷極？ .本電極4和與基層材料5平行。一個” 電極3之所有紡紗構件31之驅動 '，方、夕 輪之共同軸3131上，續驅動〜 係女褒在驅動滑 上该驅動滑輪以可旋轉方 主，中並與驅動滑輪之驅動器⑽輕接。驅^ :來：生驅動滑輪313之軸罐之連續的或中斷的旋轉移 =。個別纺紗構件31之各伸展滑輪314係安褒展哭 =上，該伸展器3141確保伸展滑輪314 ^ 索310的所需伸展。 直和無限 • 於载送主體32上之紡紗構件31之間安裝了至少二個 = ^21，於支持器321上橫跨所有的紡紗構㈣而配 I日日石37卜於支持器321上亦橫跨所有的紡紗構件31 而女裝了裝置37用來敷設流體基質3δ至索31〇之纺紗區 3100之主動段。依照第5圖實施例.中用來敷設流體基質⑽ 之裝置37包括以可逆移位的.方式朝索31〇之主動紡紗區 之長度方向配置之敷設機構372，該敷設機構372 流體基質38之上方開口儲槽3722形成，於流體基質扣 中以可旋轉方式安裝敷設滾軸3723,該敷設滾軸3723之 94395 24

丄 JOJUU 上段與個別紡紗電極3之紡紗構件31之所有索310之主動 纺紗區3100接觸。敷設滾轴3723係與敷設滾軸之驅動器 3724輕接。流體基# %之儲槽3?22係與已知的但未表示 之驅動器輕接，如此確保其在索之主動紡紗區3100下方之 可圯或中斷的移動。藉由移動儲槽3722或藉由用於沿著索 、動、，方"區3100敷設液基質38的整個裝置37，以確保 液基質敷設至索之主動紡紗區31〇〇。 /敷設滾軸3723㈣狀未表示之實施射可由圓盤 、、斤取&胃圓盤系統藉由其周邊的較低部分浸泡於液 基質⑽中’而其周邊的較高部分係與個別索㈣之纺紗區 1〇0接觸。或者用來敷設液基質39之裝置37可以包含毛 =管敷設機構3721，如於依照第1至4圖之實施例，亦可 月b有其他適合的敷設機構。 如^所表示之實施例中，各伸展滑輪314的較低部分被 ::為非纖維液基質38之去除機構3142，該非纖維液基 貝38不會經受於主動紡紗區3100中的紡紗。 、在此實施例之紡紗期間’㈣。於其主動紡紗區3100 可^久並持續地移動，或者可以中斷方式移動。於索训 2續移動情況中，用來敷設液基f 38之裝置37係位於 ^ =滑輪313處’而液基質38係連續地敷設至個別纺 31之緩慢移動的索㈣上。藉由旋轉敷設滾軸3723 從錯^7^3^敷設，該敷設滾軸3723係由其周邊而 而、^槽3722载送出液基質係藉由驅動滑輪313 ^仃移動並藉由伸展11 3⑷而得以伸展。在素310通過 94395 25 1363110 =主動紡紗區31G()後’由於紡紗過程和/或周圍環境之影 二= 之非纖維液基質38係被指派給伸展滑輪314 予以去除，並送出至辅助儲槽於 索310中斷移動之情況中，藉由移動用來沿著索之主 t區3100敷設液基質之裝置37而執行敷設液基質％ 日守敷設滾軸3723葬由i月邊#結、， 、 同 μ 從儲槽3722載送出液 液基質38至索之主動紡炒區咖後，用 來敷二液基質之裝置37取得一個其末端位置(咖e 保，310接觸，該索310係由導電或非 -、厂衣成並虽由另一種方法將電位帶至索之主 =。3刚的情況時，將電位傳送至索㈣或從索酬開 件個實施例表示於第6圖中。纺紗構 载送主體32.中相似於依照第5圖之實施 :而他們包括驅動滑輪313和伸展滑輪31 由=索31。所環繞，鄰近收集電極之… 件^之//區31⑽，料—㈣紗電極3之所有紡紗構 ::之主動紡紗區咖係以在同一平面上的方。 =日^=__31之索310之伸展滑輪叫系 上：施例之例子相同的方式配置於伸展器仙 '朴電S 3之所有紡紗構件31之驅動 :=^_之共同抽⑽上，該驅動滑輪係以可旋3 了液基質38並二 =:=广係部分裝填 文展隹戰迗主體32中。驅動滑輪313 94395 26 1363110 2川所環繞周邊之部分於固定的錯槽奶巾液基㈣ ”8面下：乙伸*奴’这在本實施例形成用來敷設液基 貝38至索310的裝置37，同時以炻亂 丨』知以所敷設之液基質38進入 到索310所進入之主動區31〇〇中 -,7q ^ · UU中用於紡紗。從固定的儲槽 373中無限索310之可逆部分 . 丨刀之入口側執行廢料儲槽 κ—)374，該廢料儲槽374設有則375， ^索31G進入到驅動滑輪313之前，索31G被導引通過刮 勺375。藉由刮勺375之動作而你去01n ^ 所0〇 動作而從索310去除殘餘的液基 貝38,該殘餘的液基質心會在主動纺紗區議中經受 紡紗。在進入到固定的儲槽373之範圍内之前，為了較佳 =定索31〇之路徑，各紡紗構件31之索3im皮導引通過 方^件376 ’該導引構件376於所表示之實施例中係由 =轉導引滑輪所形成，不過，其可由另—種已 件形成。 於此實施例中，索310係於永久移動狀A，而來自固 >定的儲槽373之液基質⑽係被索31G.載送出，該幸31〇 由於環繞著驅動滑輪313而於其移動狀態中在固定的储槽 373中液基質38之水平面下方取得液基質。於離開驅動滑 輪313之周邊後，索31〇於其表面上帶著液基質μ進入到 其主動紡紗區3100，於此主動紡紗區31〇〇進行纺紗。藉 由延伸滑輪314而完成索之主動紡紗區31 〇〇，該延伸滑輪 由索310所環繞且該索3ι〇返回通過導引構件和 刮勺3 7 5至驅動滑輪313之周邊。 第7圖表示—個紡紗構件31，該紡紗構件3ι包括鬆 94395 27 :2=1上索31°係從該鬆開捲軸311被導引通過以可 文裝之輸入導引滑輪315和以可旋轉方式 輸出導引滑輪qiA工K U 』從锊力八女裒之 • Q 而至捲繞捲軸312。鬆開捲軸3U與鬆 - 盗4耦接而捲繞捲軸312與捲繞驅動器36耦接。 二引滑輪315與輸出導引滑輪316之間之索3ι〇之部 31川夕？丨動紡紗區31〇°。從對著收集電極4至主動紡紗區 貝’係指派為裝置37用來敷設液基質38至索310之 _，該产310包括二個液基質之毛細管敷設 #該毛細官敷設機構3721係安裝在以可逆移位 万式、/口耆主動紡紗區31〇〇配# 設有液基質之人口371卜 30 °日日石371 =需要敷設液基㈣於索⑽之主動纺紗區m I/ ，阳石打1以已知之方式設定成沿著整個主動紡纱 區310 〇移動，而日、y_甘 、、、’ 3 、+ 液基質38被帶入到毛細管敷設機構 區3ΐ1η、些機構強迫擦出並黏著於索310之主動紡紗 °° 。於敷設足夠量之液基質38後，晶石371停止，： ㈣斷。一旦於索31。之主動纺紗區· 貝38降低到能夠用來纺紗之最小量’此時由於缺乏 ΐ基質38而㈣、過㈣未完成，但其已危及到纺紗;= 疋裝置37再移動用來敷設液基質。晶石 Γ以執行其—個或多個靜止點（dead point)之間之移動。 =3川亦即，毛細管敷設機構3721)之移動為頻繁 而使得於主動紡紗區咖有足夠量之液基質用來纺 94395 28 1363110 第8圖表示用來敷設奈米纖維8至線形的纖維形成物 50之紡紗單元2之範例實施例，如於cz pv 2〇〇7_179中 •詳細說明者。紡紗料2之紡紗構件3!實施與依照第7 圖實施例相同的方法，僅僅使用了其他的裝置37用來敷設 液基質38至索310之主動纺紗區31〇〇。收集電極4安裝 與主動紡紗區31GG平行’而線形的纖維形成物5().亦導引 與收集電極4平行，於進人主動”區3⑽與收集電極4 之間的紡紗空間之前’該線形的纖維形成物5〇係正通過已 知的用來賦予假撚（false twist)之裂置5⑽，並於纺紗空 間之後由捲收it |i(take-up rQller)n、72移出。用於敷 設液基質之裝置37之敷設機構372包括液基質38之從上 方開口之儲槽3722’於此儲槽3722中以可旋轉方式安裝 之敷設滾軸3723係與未表示之驅動器輕接。敷設滾轴⑽ .之上部與索31G =主動纺紗區3_接觸。儲槽mg係以 可移動之方式沿著索310之主動紡紗區31〇◦安裝，並且其 與已知的未表示之驅動考說故，, 動益耦接，如此確保其於主動訪紗區 100之下方以可逆的連續或中斷方式移動。關於設 軸3723移動儲槽3722之必要鉻杜# 要條件係與前面的實施例相同。 第9圖f意地表示具有二個主動纺紗區31〇〇之纺紗構 件31之貫施例。無盡的索31()環繞驅動滑輪313和伸展滑 輪314。於該二個滑輪之門 h 月早两之間，無盡的索310係由導引滑 3Π所導引，同時來自驅動、、典鉍Qi〇 " ^ x 動β輪313側上的導引滑輪317 係軸向的，而他們的共同㈣配置在驅騎輪如 由驅動滑輪313軸之平面〜于，並且該共同歸直於驅 94395 29 1363110 .=;=Γ之方向。於伸展滑輪314之側上的導 .34:上方: 而他們的共同轴係配置在伸展滑輪 314之上方與由伸展滑輪314鑲嵌之平 .同軸垂直於伸展滑輪314之旋轉轴之方订，，且該共 :’係以可旋轉之方式安裝在液基 1 :輪313 其周邊之-部分延伸入液基質之水平 314係以可旋轉之方彳容胜户、六甘# Γ万伸展滑輪 並且… 基質之第二儲槽319中， = 部分延伸入液基質之水平面下方，而二個 由曰去之土貝38可以被此不同。於各其主動纺紗區3100 中之索310朝相反方向移動。此種配置之 〜 夠有各種變化的解決方案，盆. y 付月匕 該二個主動_讓係較細2^7= :::件:―_係在-個=二:有 置在例中，-個紡紗構件31之各歸區可以配 -：C之實施例之例子，紡紗構件31包含 包含多⑽或該㈣G為無限，該纺紗構件31 夕於—個主動紡紗、區31.此種實施例較所 例子對於結構更為要求，而該輯仍落於本發明之 本《月之範圍内亦落入上述實施例之所有的έ且八知 他們的修飾，該等修飾尤其由取代裝置之部分和 件的I分’藉由均等或藉由相似部分或藉由相同或相= 94395 30 1363110 ，：分修飾尤其相闕於用來敷設液基質％之裝 .去除機構3142和刮勺375、纺 零件、他們的驅動器之配置 他們的 •【圖式簡單說明】 f㈣之各種可能的變化。 、本發.月之裝置係不意地表示於所附圖式中，盆中. 第1圖顯示具有三個纺紗單元之裝置之實施例之第— 受形之縱剖面圖； 弟 第二圖為依照第】圖具有纺紗電極裝置之“剖面， 構件包含配置與基層材料之移動方向平 兮…第：圖為依照第1圖具有紡紗電極裝置之A-A剖面，. = ”構件包含配置與基層材敎移 斜的一定長度之索，· 正 圖顯示依照第i圖具有纺紗電極裝置之Η剖 ==料歡料、㈣包含配置與基層㈣之 向垂直的一定長度之索； 弟5圖為對具有紡紗構件之紡紗電極之軸測圖 2n〇metric view)之段，該紡紗構件具有不確定長度之 宗和可移位之液基質之敷設裝置； 第6圖為對具有紡紗構件之纺紗電極之轴測圖之段， 该紡紗構件具有不確定長度之索， 所形成之液基質之敷設裝置；—有由液基質之儲槽 構株圖顯示細部構造，在具有不確定長度之索之纺紗 構件的情況下’該索具有由毛細管形成之可移位之液基質 94395 31 之敷設裝置，· 造 置 第8圖顯示具有.不確定長戶 ㈣具有―成二移 造 第9圖顯示具有不確定長度 該索之二個分支形成主動紡紗區夕紗構件之細部構 .圖=圖為㈣㈣之㈣、電㈣置的縱剖面 【主要元件符號說明】 1 1 紡紗室 J 2 3 紡紗電極 4 5 基層材料 8 11、 • 12絕緣分隔板 26 31 紡紗構件（紡紗機構） 32 載送主體 33 34 鬆開騸動器 35 37 用來敷設液基質 之裝置 38 液基質（流體基質）5 ^ 52 基層材料之移動 的方向 71、 311 313 315 310 索 312 捲繞捲軸 314 伸展滑輪 .紡紗單元 收集電極 奈米纖維 —’捲繞驅動器 鬆開軸 捲繞輕 奈米纖維層 72移出滾軸（捲收滾軸） 鬆開捲轴 驅動滑輪 輸入導引滑輪 94395 32 1363110 316 318 -321 -370 '371 373 375 3100 • 3132 3142 3711 3722 3723 輸出導弓I滑輪 317 液基質之第一儲槽319 支持器 導引滑輪 液基質之第

用來去除液基質之裝置 晶石 固定的儲槽 刮勺 索之主動纺纱區 驅動滑輪之驅動器 液基質之去除機構 液基質之入口 液基質之從上方開 敷設滾軸 372 敷設機構 374 廢料儲槽 376 導引構件 3131 驅動滑輪之轴 3141伸展器 3143 輔助儲槽 3721毛細管敷設機構 口儲槽 3724 敷設滾軸之驅動器

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Claims (1)

1. \ 申請專利範圍： i *f §f ^ 10〇年7月25曰修正替換頁 種在至夕個紡紗電極（3)和對著該紡紗電極（3)配 置之枚集電極（4)之間之靜電場中纺紗液基質（38)之方 法，於靜電場中，在對著該收集電極⑷且代表主動纺 、’少區（31〇〇)之索（310)之表面上紡紗該液基質（38),其 特徵在於.該索（31〇)於其長度方向中係固定或係可移 動或者於其長度方向中不連續地或連續地移動，該液基 質（3W係在該索⑶0)上於該索（31())之長度方向幢 運运’錢基質（38)係藉由敷設該液基質（38)之可移動 装置而在該主動紡紗區〈31〇〇)中之該索（3丨〇)上被運 送’或在該索（31G)於其長度方向中移動之期間，藉由 敷設配置於該主動紡紗區（3_之前方之該索（31〇)之 移動方向中之該液基質⑽之固定裝置而在該索（31〇) 上被運送，於紡紗期間，該主動紡紗區（3100)具有朝向 該收集電極（4)之穩定位置。 2.如申請專利範圍第卜員之方法，其中，於紡紗期間將該 液基質(38)敷設在靜電場中之該主動紡紗區(3ι〇〇)中 之該固定时（31G)上，同時將由於紡紗和/或由於周圍 環境之影響而降低品質之該液基質⑽從該固定的索 (310)中去除。 如申請專利範圍第2項之方法，其I該液基質（38) 係在靜電射之該主動紡紗區（3㈣巾.之制定的索 (31〇)上被敷設於視需要選用的間距中，而於其他視需 要選用的間Μ將降低品質之該液基質⑽從該固定 (修正本)94395 34 第09·7126722號專利申請案 100年7月25曰修正替換頁 的索（310)中去除。 4·如申請專利範圍第2或3項之方法，其中，在包括一個 平面中並列配置之該索（310)之更多的主動紡紗區 (〇)之該紡紗電極⑻處，將黏著之降低品質之該液 基質（38)從該主動纺紗區（3100)中之該索（310) _去 除且同時在該索（31G)之更多的主動紡紗區（3100)上 執行去除’而在一個接著一個之接著的該索（310)之該 ^動紡#區（31GG)之間正被去料，總是發現到有該索 "31〇)之至少一個主動紡紗區（3100)具有敷設在其上之 從其執行紡紗之液基質（38)。 5· ^申請專利範圍第1項之方法，其中，正被敷設在該主 紡紗區(3100)中之該索(31〇)上之該液基質(38)係藉 由該索（310)而不連續移動。 種透過在至少一個紡紗電極⑶和對著該纺紗電極 ():己置之收集電極⑷之間之靜電場中之液基質(Μ) 之靜電纺紗來生產奈米纖維之裝置，該紡紗電極⑶包 t至少一個含有索(31〇)之紡紗構件(31)，該索(310) =與沉積奈米纖維⑸之平面平行和/或與收集電極 平行的直線&，且該直線段形成該索之主動纺紗區 甘31〇〇)，其特徵在於：該紡紗構件（31)之該索（310)於 -長度方向中係較或係可移動或者於其長度方向中 係不連續地或連續地可移動且包括具有朝向該收集電 極⑷之穩定位置之至少—個主動纺炒區⑽〇，並且 有裝置（37)被指派至該*⑽）用來在該倉（_之長 (修正本)94395 35 1363110 第097126722號專利申請案 由士, , 100年7月25日修正替換頁 度方向中將該液基質（38)敷設在該索 -7. 2申請專利範圍第6項之裝置，其中，該索（310)為固 疋的且有該裝置（37)被指派至該索（310)用來將該液 基質（38)敷設在該索（31〇)上，以及有裝置（37〇)被指派 用來從該主動紡紗區（3100)中之該索（31〇)中去除該液 基質（38)。 8. 如申凊專利範圍第6項之裝置，其中，用來將該液基質 • ^8)敷設在該索（310)上之該裝置（37)和用來將該液基 質（38)從該索（310)中去除之該裝置（37〇)係以可逆移 位之方式沿著該索（310)之該主動紡紗區（31〇〇)安裝在 該紡紗電極（3)之載送主體（32)中。 9. 如申請專利範圍第6項之裝置，其中，該索（31〇)安裝 成可朝其長度方向移動。 10. 如申請專利範圍帛9項之紡紗電極，#中，該纺紗構件 (31)之該索（310)具有一定的長度且較該索之該主動紡 » 、紗區（3_長數倍’以及其開始端係安裝在該鬆開捲轴 (311)上，而其末端係安裝在捲繞捲軸上，同時該 捲繞捲軸（312)係與捲繞驅動器（36)耦接。 11. 如申明專利範圍帛9項之紡紗電極，其巾，該紡紗構件 (31)之該索（310)係由至少環繞驅動滑輪（313)和環繞 伸展滑輪（314)之無盡的紗圈形成。 12. 如申請專利範圍第9至中之任何一項之農置，其 中’該紡紗構件（31)之該索（31Q)具有二個主動纺紗區 (3100)，該二個主動紡紗區係配置在與沉積奈米纖維之 (修正本)94395 36 丨110 第〇97126722號專利申請案 100年7月25曰修正替換頁 平面平行和/或與該收集電極⑷平行之^ 動紡紗區(3100)t之索(31〇)之移動方向係相反的。 .如申請專利範圍第9至u項中之任何—項之裝置，其 中，用來將該液基質（38)敷設在該主動纺紗區⑶⑹ 中之該索（310)上之該裝置（37)係以可逆移位之方式沿 著~索（310)之該主動紡紗區（31()())而安裝於該纺紗電 極（3)之載送主體（32)中。 申請專利範圍第12項之裝置，其中，用來將該液基 貝（38)敷設在該主動紡紗區（31〇〇)中之 該裝置⑽係以可逆移位之方式安裝在來自及朝向該 索（310)之該主動紡紗區（31〇〇)之方向中。 15·如申請專利範圍第6至u或14項中之任何—項之裝 置’其中，該裝置包含至少二個並列配置之包括該索 (310)之紡紗構件（31)，該等索（31〇)之主動紡紗區 (3100)係配置在一個平面中，該平面與該收集電極⑷ 或與該收集電極之平面平行。 16·如申請專利範圍第12項之裝置，其中，該裝置包含至 少二個並列配置之包括該索（3⑻之纺紗構件（31)，該 等索（310)之主動紡紗區（31〇〇)係配置在一個平面中， 該平面與該收集電極（4)或與該收集電極之平面平行。 17.如申請專利範圍第13項之裝置，其中，該裝置包含至 少二個並列配置之包括該索（310)之紡紗構件（31),該 等索（310)之主動紡紗區（3100)係配置在一個平面中，X 該平面與該收集電極（4)或與該收集電極之平面平行。 (修正本)94395 37 13.63110 第097126722號專利申請案 100年7月25日修正替換頁 18. 如申請專利範圍第6至^項中 年7月25日修正， πr4任何—項之裝置，其 中，該索（310)係由導電材料製成。 19. 如申請專利第6至丨丨項中之任何—項之裝置，其 中，該索（31G)係由非導電材料製成，且以該、索（31〇') 或至少其主動紡紗區⑽0)與該液基質永久接觸而將 電流帶入至該液基質中。

   2〇.一種透過液基質之靜電紡紗來生產奈米纖維之裝置的 纺紗電極，該紡紗電極包含至少__個安裝在該紡紗電極 之載送主體内之含有索之紡紗構件，該索包括與沉積奈 米纖維之平面平行和/或與收集電極平行的直線段，且 該直線段形成該索之主動紡紗區，其特徵在於：該索 (310)於其長度方向中係固定或係可移動或者於其長度 方向中係不連續地或連續地可移動，而該索（31〇)之該 主動紡紗區（3100)具有在該紡紗電極（3)之該載送主體 (32)中之穩定位置，並且有裝置（37)被指派於該索⑽） 用來在該索（310)之長度方向中將該液基質（38)敷設在 該索（310)上’該裝置（37)係配置於該紡紗電極（3)之該 載送主體（32)中。 ° 21.如申請專利範圍第2〇項之紡紗電極，其中，該索 為固定的，且在其主動紡紗區（31〇〇)中，有該裝置（37) 被指派至該索（310)用來將該液基質（38)敷設在該索 (310)之該主動紡紗區（3100)中之該索（31〇)上，以及有 該裝置（3 70)被指派用來從該主動紡紗區（3丨〇〇)中之該 索（310)去除降低品質之液基質（38)。 (修正本)94395 38 1363110 第097126722號專利申請案 1〇〇年7月25日修正替換頁 0〇 ；ril rfr Ttr r . 100 年7 月 25 曰修正替換: 22.如申睛專利範圍第21項之紡紗電極，其 液基質（38)敷設在該主動紡紗區（31〇〇)中之該索（31〇) 上之該裝置（37)和用來將該液基質（38)從該索（31〇)甲 去除之該裝置（370)係以在該索（310)之該主動紡紗區 (3100)之長度方向中可逆移位之方式安裝於該紡紗電 極（3)之該载送主體（32)中。 23.如申請專利範圍第22項之紡紗電極，其中，於該纺紗 電極（3)之該載送主體（32)中之該索（31〇)安裝成可朝 其長度方向移動。 24·如申請專利範圍第23項之裝置，該纺紗構件⑻之該 索（310)係由至少環繞驅動滑輪（313)和環繞伸展滑輪 314)之無盡的紗圈形成，該驅動滑輪和該伸展滑 輪（314)似可旋轉方式安裝在該载送主體（32)中。 25. 如申請專利範圍第23《24項之紡紗電極，其中，料 =構件（31)之該索（31G)具有二個主動纺紗區⑶州， 個主動纺紗區配置在與沉積奈米纖維之平面平行 、/’、該收集電極⑷平行之平面中’㈣在該主動紡 紗區（3100)中索（31〇)之移動方向係相反的。、· 26. 知申請專利範圍第23或24項之纺紗電極， 將該液基質⑽敷設在該主動纺 ；用， 叫以可逆移位之方式安裝於該二纺二)之， 載送主體（32)中。 電極（3)之該 π如申請專利範圍第25項之紡紗電極，其中，用來將該 (修正本)94395 39 1363110 第097126722號專利申請案 凃笪粗，L100年7月25日修正替換頁 液基質（38)敷設在該主動紡紗區中之該 裝置（37)係沿著該索（31〇)之該主動紡紗區（31〇〇)，以 可逆移位之方式安裝於該紡紗電極（3)之該载送主 (32)中。 28.如申請專利範圍第23、24或27項中之任何一項之紡紗 電極，其中，該紡紗電極包括至少二個並列配置之包含

   該索（310)之紡紗構件（31)，該等索（31〇)之主動紡紗區 (3100)係配置在一個平面中。 ’該紡紗電 之紡紗構件 配置在一個 29·如申請專利範圍第25項之紡紗電極，其中 極包括至少二個並列配置之包含該索（31〇) (31)，該等索（31〇)之主動紡紗區（31〇〇)係 平面中。 3〇·如申請專利範圍第28項之纺紗電極，其中，該”電 極包括至少二個並列配置之包含該索（3⑻之紡紗構件 (31)，該等索（310)之主動紡紗區（31〇〇)係配置 平面中。 31.如申請專利範圍第20至24、27、29或3〇項中之任 一項之纺紗電極，其中，該索（31〇)係由導電材料制/ 比如申請專利範圍第20至24、27、29或3〇項中^ -項之紡紗電極’其中，該索(31〇)係由非導電材 成’同時以該索(310)或至少其主動紡紗區(3 : 合物溶液永久接觸而將電流帶入至該聚合物溶液。/一 (修正本)94395 40