TWI224071B - Structure of fluid container and method and apparatus for producing the fluid container - Google Patents
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1224071 該止回閥包括： 入口部份，係將該流體導入該裝置者； —對窄縮部份 通道者； 一擴大部份， 及 係產生連接於該入口部份之窄縮 係使通過該窄縮通道之流體分流者；
多數出Π部份’係將該流體由該擴大部份導入 盗構件者。 10·如申請專利範圍帛7項之製造一流體容器之方法，其中結：該第一容器膜、該等第一與第二止回閥膜與該第二 容器膜之步驟包括下列步驟： 形成左右結合部份，藉此產生該等容器構 /yv * a 〜口 P
形成上下結合部份，轉此產生該等容器構件 部份與該等止回閥之入口部份。 之其餘 11.如申靖專利範圍第8項之製造一流體容器之方去 該等記號係事先形成在該第一止回閥膜或該 其中 膜上。 弟二止回閱
12 ·如申明專利範圍第8項之製造一流體容器之方、、套 該等記號係利用耐熱塗料來印刷。 其中 13.—種製造一用以密封地承農一流體於其中 々IL體复5S 製造裝置，包含： 奇之 膜進給機構，用以進給一第一容器膜、第 止回閥膜與一第二容器膜，其中該等第一與第 與第^ 止回閩 29 1224071 膜係被夾置於該等第一與第二容器膜之間； 一進給感應器，用以偵測一印刷在該第一或第二止 回閥膜上之記號以進給該等膜； -上下滾筒控制器’用以調整該第一容器犋盥 第一與第二止回閥膜之位置； 、乂 用以結合該第一容器膜與該等第一與第二止回閥膜 之機構，藉此產生多數止回閥；及 、 用以結合該第一容器膜、該等第一與第
與該第二容器膜之機構，#止口閥膜 再精此產生多數容器構件及 止回閥之入口部份； 个及該4 其中該上下滾筒控制器藉㈣測用以測 之位置之記號來調整該等止回閥膜之位置。 閥 14.如申請專利範圍第13 ..^ 製造—流體容器之製造裝置， 其中該上下滾筒控制器包括_、 、 控制感應器與上下滚筒， 其中§亥控制感應器偵測該fp t n & 等第I楚, 唬且控制該第一容器膜與該 荨第—與第二止回閥臈之— -,^ ^ 奴進給長度，因此藉由使該
寺上下滾筒垂直於該等膜夕 ^ „ 、 π方向移動而使該止回閥 形成在該流體容器之預定位置處。 15‘如申請專利範圍第13 J： ψ裊绝一流體容器之製造裝置， 其中4用以結合該第—衮哭 膜盥兮g 谷益祺、該等第一與第二止回閥 膜與忒弟二容器膜之機構包含·· 用以結合該等第一盥坌_ 機構；及 ^ 一各器膜之左右結合部份之 用以結合該等第一盥第_ 6 〜 一*各器膜之上下結合部份之 30 1224071 機構。 16.如U利範圍第15項之製造—流體容器之製造裝置， 其中用以形成左右結合部份之機構包含： 上衝杈，係藉由將該上衝模下壓於該第一容器膜 而在一預定溫度下形成該等左右結合部份； 一下輸送帶，具有一位在該上衝模正下方之橡皮帶 9 其中該第一容器膜、該等第一與第二止回閥膜與該 第二容器膜係夾置於該上衝模與該下輸送帶之間；且 其中該橡皮帶黏著於該第二容器膜且以與該進給速 度相同之速度移動。 17.如申印專利範圍第13項之製造一流體容器之製造裝置， 其中該進給感應器包括： 一發光源；及 一光接收器’其接收一通過該止回閥膜之光能且產 生一對應於該光能之訊號。 1 8.如申請專利範圍第1 7項之製造一流體容器之製造裝置， 其中用以進給膜之機構包括多數滚筒，該等滾筒利用來 自該進給感應器之光接收器之訊號使該等止回閥膜進給 一個流體容器之一段長度。 19.如申請專利範圍第15項之製造一流體容器之製造裝置， 其中該用以形成左右結合部份之機構包含： 一上衝模’係藉由將該上衝模下壓於該第一容器膜 而在一預定溫度下形成該等左右結合部份；及 31 1224071 器膜 一下衝模，係藉由將該下衝模上壓於該 而在一預定溫度下形成該等上下結合部份二 20.如申請專利範圍第13項之製造—流體容器 其中該用以結合該第—容器膜與該等第—造裳置， 膜之機構包括： /、第二止回閥 一上衝模’係藉由將該上衝模下壓於該第一 而在一預定溫度下形成一固定密封部份；1 '賴 -：衝模，係藉由將該下衝模上壓於該第二止回閥 膜而在m度下㈣成料固定密封部份， 其中該：一容器媒與該等第—與第二止回閥膜係夾 成相定密封部份之料上與下衝模之間。 32
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- 2003-07-14 TW TW92119158A patent/TWI224071B/zh not_active IP Right Cessation
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