TWI296705B - Device and method for inspecting a matrix substrate - Google Patents

Description

1296705 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種陣列基板檢測裝置及檢測方法，特別係 關於一種陣列基板的檢測裝置及檢測方法。 μ 【先前技術】 液晶顯示1§由於具有輕、薄、便於攜帶及環保等諸多優 點，獲得廣泛應用。但在液晶顯示器製造的各種工序中，必須 設置諸多檢測步驟，尤其液晶顯示器的基板製造過程中，需^ 多次檢測，以提昇良率，降低成本。常用的陣列基板檢測裝置 及檢測方法主要用於檢測基板中的線路缺陷，如短路、斷路等。 如第一圖所示，係一種先前技術陣列基板檢測裝置。該陣 列基板檢測裝置1主要包括：一光電元件10、一電源U、一 光源12、一光偵測器13及一監視器14。 該光電元件10包括一可控制光通過與否的控光層1〇1及 一反射層102。該光電元件10設置在待測陣列基板16上方且 貼近該陣列基板16，電源11與光電元件1〇及陣列基 的像素電極15電連接。 電源11在陣列基板16上的像素電極15及光電元件1〇之 =施加電壓，以形成-電場；光源12發出的光照射該光電元 件10 ’被反射層102反射，光偵測器13接收來自光電元件1〇 的反射光，並將該反射光對應的訊號輸入與之連 Μ。若_基板16上有贼，該贼對應位置的電場強^ 發生畸變’引起控光層101動作’導致對應點處控光層皿的 率發生變化，從峨得絲測器13接㈣得反射光發 ，，映在監視器14上，由此可以確認瑕疲的存在及大 ί „測陣列基板16無瑕疯，則監視1114上顯示的 光線為均勻党光。 古念〒列基板檢測裝置1可有效檢測待測陣列基板16 有…、缺陷，若有缺陷，還可顯示缺陷的大致位置，但由於光經 .1296705 ΐίί變監視器、14 ’因而難以準確顯示該缺陷的具 本。w後_修復時’需要額外的搜索缺陷過程，增加^ 位的置對陣列基板上的缺陷準確定 【發明内容】 定位供—射辦雜板上賴陷準確 準確供—射解舰板上的缺陷 脑2ΓΪ供—種_基板檢職置’其包括—可控制光通 件、—位於該光電元件—側的光偵測器、-位 件另一侧之光源及一與該光侧器連接的計算機 光電元件包括一控光層及一透明導電層，檢測時 電元件與光源之間，該計算機系統中預 本發明還提供-種陣列基板檢測方法，其包括以 述的_基板檢測裝置；將待測陣列基板設置於該二 ^板檢測袭置的光源與光電元件之間；控繼 關，使得該光電元件動作，使得該光電元件^ 者全暗狀態；分別湘光_攝該光電元件， ^獲得的影像數據輸人計算統；將該數據與計算機系统 =預疋影像數據比較以確定是否該_基板是否有缺陷以 及缺陷的具體位置。 相對於先前技術，本發明的陣列基板檢測裝置及檢測方法 3 = 貞測n對制_基板拍攝之後獲得其影像數據，並將 ϊϊί=ΐ計算機系統的顯示器上，同時將該影像數據輸人 计异機糸統與計算機系統中預存的數據相比較，以獲得比較么士 果’並判斷其差異，從而獲得陣列基板是否有缺陷；若有缺陷二 1296705 S 賴逐觀較卩奴該缺_具體位 缺陷位置的步修彳f作’無需再進行確定 【實施方式^ 了有效k檢測效率。 測器取-嶋=獅26下峨源22、一絲 對導=以°膜=

Device" CCD^^ J 可採用屯荷搞合70件(Charge C〇Upled 列其;相機’該CCD照相機的解析度高於該待測陣

Ϊ解析度。計算機系統24可提供預設的與待測陣列 基板26相應的陣列圖案數據。 早歹J 茂你對It列基板26上的薄膜電晶體25及導電層201施加電 基板26上的細電晶體25及光電元件20工作。 im出曰的光從陣列基板26下面照射該陣列基板26。開 ^亥缚膜電曰曰體25 ’使得該陣列基板26與光電元件2〇之 電場，該電場可使得光I元件2°的控光層2°2動作: 吏侍光源22發出的光能夠通過該光電元件20，此時該光電元 件20表面處於全亮狀態，採用光偵測器23對該陣列基^26 拍Ϊ取影像數據，並將影像數據輸入計算機系統24，通 亥計，機系統24的顯示器顯示該影像，並將該影像數據與 叶异機系統24中預存的相關陣列基板數據相比較，若發現^ 症’則可由對比預存數據顯示出該瑕疵的具體位置並記錄；^ 無瑕疵j，則關閉該薄膜電晶體25，則該陣列基板26與該、導$ 層2〇1之間的電場發生變化，使得控光層202動作，光源22 發出的光不能通過該光電元件20，此時陣列基板26處於全暗 8 1296705 狀態，採用光偵測器23對該陣列基板26拍攝，獲取影像 並將影像數據輸入計算機系統24，通過該計算機系統24 ’ 示器顯示該影像，並將該影像數據與計算機系統24'中預，= 相關陣列基板數據相比較，若發現瑕疵，則可由逐點對比子^ 數據找出該瑕疵的具體位置並記錄；若無瑕疵，則進行 測陣列基板的檢測。 心 相對於先前技術，本發明的陣列基板檢測裝置2採 測器23對待測陣列基板26拍攝之後獲得其影像數據，並$ 影像顯示在計算機系統24的顯示器上，同時將該影摅= 入計算機系統24與計算機系統24中預存的數據相比較，= 得比較結果，並判斷其差異，從而獲得陣列基板％是否^ 陷；若有缺陷，則可通過與預存影像數據逐點比較以 杜 陷的具體位置。因而可直接根據檢測結果進行修復，= 再進行確定缺陷位置的步驟，可有效提高檢測效率。”、、而 對;^亥陣列基板檢測裝置2，所述控制光源使陣 板26全亮或者全暗的檢測順序可調換，光偵測器2 ς (Complementary Metal f_ndUCt〇r，CM〇S)照相機。該光源22可以為發光二 =體荨點光源，亦可以為冷陰極螢光等(⑽⑸

Lamp，CCFL)料絲射_職㈣致發光元 _an )等面光源。該控光層202可以係液 j或，，方性晶體:該透明導電層2〇1可以為氧化姻錫 :in xide，ITO)或氧化銦鋅(Indium Zinc 〇恤，j。 專利d，本r確已符合發明專利之要件，爰依法提出 明之t戶i述者僅為本㈣之較佳實施方式，本發 亚不以上述實施方式為限’舉凡 神所作4效修飾或變化，皆應涵^以下申 【圖式簡單說明】 1296705 第一圖係先前技術陣列基板檢測裝置示意圖。 第二圖係本發明陣列基板檢測裝置示意圖。 【主要元件符號說明】 陣列基板檢測裝置 2 光電元件 20 導電層 201 控光層 202 光源 22 光偵測器 23 計算機系統 24 薄膜電晶體 25 待測陣列基板 26

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Claims (1)

1296705 十、申請專利範圍： 1· 一種陣列基板檢測裝置，其包括一可控制光通過與否的光電 兀件、一位於該光電元件一側的光偵測器、一位於該光電元 件另一側之光源及一與該光偵測器連接的計算機系統，其中 該光電元件包括一控光層及一透明導電層，檢測時待測陣列 基板設置於光電元件與光源之間，該計算機系統中預存相關 陣列基板之數據。 2·如申請專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該光 偵測器係CCD照相機或者CMOS照相機。 3·如申請專利範圍第i項所述之陣列基板檢測裝置，其中該光 偵測器的解析度高於待測陣列基板的解析度。 4·如申請專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該押 光層係液晶層或者異方性晶體。 5·如申請專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該透 明導電層係氧化銦錫或者氧化銦鋅。 6·如申請專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該光 源係點光源。 7·如申請專利範圍第6項所述之陣列基板檢測裝置，其中該點 光源係發光二極體。 8·如申請專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該光 源係線光源。 9·如申請專利範圍第8項所述之陣列基板檢測裝置，其中該線 11 1296705 光源係冷陰極螢光燈。 0·如申睛專利範圍第1項所述之陣列基板檢測裝置，其中該光 ，· 源係面光源。 1L如申請專利範圍第10項所述之陣列基板檢測裝置，其中該 面光源係電致發光元件。 12· —種陣列基板檢測方法，其包括以下步驟： 提供如申請專利範圍第1項所述的陣列基板檢測裝置； 將待測陣列基板設置於該陣列基板檢測裝置的光源與光電 馨 元件之間； 控制該陣列基板上的薄膜電晶體的開關，使得該光電元件 動作，使得該光電元件處於全亮狀態或者全暗狀態； 分別利用光债測器拍攝該光電元件，並將獲得的影像數據 輸入計算機系統；及 將該數據與計算機系統中的預定影像數據比較以確定是否 該陣列基板是否有缺陷以及缺陷的具體位置。 擊 12 1296705 七、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：第（二）圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 陣列基板檢測裝置 2 光電元件 20 導電層 201 控光層 202 光源 22 光^[貞測器 23 計算機系統 24 溥膜電晶體 25 待測陣列基板 26 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：