TWI296131B - Method and apparatus for treating a substrate - Google Patents

Description

1296131 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於將半導體晶圓、液晶顯示裝置（LCD)用玻 $基板、電漿顯示器（PDP)用玻璃基板、印刷電路基板、 電子裝置基板等基板朝水平方向搬送，並對基板主面供應 含有冰微粒的處理液，俾執行基板洗淨等處理的基板處理 方法及供只施此方法時所使用的基板處理裝置。 【先前技術】 例如在LCD、PDP等平板顯示器（FPD)的製造裝置之基板 洗淨方面，係執行：利用準分子雷射的UV照射所施行的有 機物污染去除+使用滾筒刷（r〇1 i ing brush)施行洗滌洗 淨，而將1 // m以上的污染物質去除+利用取代洗淨將藥 液洗淨$的殘留藥液去除+利用2流體洗淨施行精密洗淨 +利用最終水洗施行完工洗淨的一連串步驟。此外，近年 有提案取代滾筒刷洗淨，改為如日本專利第號公 ^報所揭示，在液體中分散冰微粒而調製為雪霜狀懸浮液狀 態的冰泥，並將冰泥從㈣撼板表面噴射出，使冰微粒 衝撞基板而將基板洗淨的洗淨方法。 【發明内容】 (發明所欲解決之問題） 習知使用冰泥的洗淨方法係將冰泥從噴嘴朝基板表面 喷射出，使，微粒衝撞基板，俾利用冰微粒摩擦基板表 面’為能提南洗淨效果，便必須將冰泥加壓再從噴嘴使冰 泥依某程度壓力嘴出。但是，將含有可謂為微小冰粒之固 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 1296131 JUL 2 0 2007 替換頁 ^ ~ . — 正替換頁 怨物的液體，廣範圍均勻分散於基板表面之事將極為困 難，所以當將冰泥加壓並從喷嘴喷出之際，將隨基板表面 上的位置不同，使冰泥衝撞基板表面時的能量呈現不均勻 狀態。特別係近年的基板大型化，為使冰泥更廣範圍擴散 於基板表面，將必須提高從喷嘴喷出冰泥的喷出壓力，因 而將使從喷嘴喷出冰泥並均勻分散於基板表面上之事更 困難’導致冰泥衝撞基板表面時的能量不均勻更嚴重。結 果’便將出現洗淨不均勻等處理不均的問題。 再者，例如LCD的製造方面，液晶圖案用金屬膜係由如 鋁（Al) +鉬（M〇)等物理性柔軟金屬材料所形成，將因冰微 粒與基板表面間的衝撞能量不均勻狀況，而出現金屬膜將 部分遭受損傷的問題。 本發明係有鑒於如上述實情而所完成的，其目的在於提 供一種將含冰微粒的處理液供應給基板表面，並施行基板 洗淨等處理的情況時，不發生處理不均勻狀況，而可施行 鲁均勻的基板處理，且不致使基板上所形成金屬膜等被覆膜 造成損傷的基板處理方法、及頗適於實施此方法用的基板 處理裝置。 (解決問題之手段） 第1發明係支撐著基板並朝水平方向搬送，且將處理液 供應給基板主面，而對基板施行處理的基板處理方法；其 特徵在於：將含冰微粒的處理液供應給基板主面，並使攪 混構件接觸或靠近基板主面，並在基板主面上攪混含冰微 粒的處理液。

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I ? 一 j JUL 2 0 2007 替換頁 第2發明係如第1發明之基板處理方法，其中，將基板 依傾斜姿勢支撐著，並朝與此傾斜方向正交的方向且朝水 平方向進行拣i送，一邊使對基板主面所供應含冰微粒的處 理液，沿基板傾斜流下，一邊利用上述攪混構件在基板主 面上攪混含冰微粒的處理液。 第3發明係如第1發明之基板處理方法，其中，上述攪 混構件係平面刷，且使此平面刷沿基板主面朝與基板搬送 鲁方向父叉的方向，橫跨基板總寬度而進行往返移動。 第4發明係將處理液供應給基板主面並對基板施行處 理的基板處理方法，其特徵在於：將含有冰微粒（其係含有 - 過氧化氫）的處理液供應給基板主面。 第5發明係如第4發明之基板處理方法，其中，支撐著 基板並朝水平方向搬送，將冰微粒（其係含過氧化氫）的處 理液供應給基板主面，並將此處理液利用攪混構件於基板 •主面上進行擾混。 第6發明係將處理液供應給基板主面，並對基板施行處 理的基板處理方法，其特徵在於：將經溶解二氧化碳而含 有冰微粒的處理液供應給基板主面。 第7發明係如第6發明之基板處理方法，其中，支撐著 .基板並朝水平方向搬送，將經溶解二氧化碳而含有冰微粒 -的處理液供應給基板主面，並將此處理液利用攪混構件於 基板主面上進行攪混。

326\總檔\94\94130083\94130083(替換)-2 JUL 2 Ο 2007 f 替換買 1296131 / ~^— ，· ，_7棚修(楚)正替換頁 丄________ — 第8發明係如第1至7發明中之任一基板處理方法，其 中’基板之處理係洗淨處理。 第9發明之基板處理裝置，係具備有：支撐著基板並朝 t平方向搬送的基板搬送手段；以及對利用此基板搬送手 k所搬达的基板主面，供應處理液的處理液供應手段者； 其特徵為’上述處理液供應手段係將含冰微粒的處理液供 應給基板主面，且更具備有接觸或靠近基板主面，並在基 板主面上將含有冰微粒的處理液施行授混的授混構件。 第10發明係如第9發明之基板處理裝置，其中，上述 基板搬送手段係依傾斜姿勢支標著基板，並將基板朝與此 傾斜方向正乂的方向且水平方向進行搬送，利用上述處理 -液i、應手&對基板主面所供應的含冰微粒處理液，沿 的傾斜流下。 傲 第11發明係如第9發明之基板處理裝置 籲授混構㈣平面刷，將此平面刷配設於在基板搬送方向^ ^上，處理液供應手段所施行的處理液供應位置更靠前 方侧處’且具備有移動手段 U… 動乎奴其係使上述平面刷沿基板主 面朝與基板搬送方向交叉的方 往返移動。 的方向’檢跨基板總寬度而進行 第12發明係如第9發明之基板處理裝置，盆中 處理液供應手段係具備有··喷嘴及 防 ^ 係具有使含冰微粒處理液W K手&，該嘴嘴 液机出的狹縫狀流出口；該製冰/ U6\H；_4\94130083\94130083(替換 1296131 肌2 0 2謝 替換頁 送液手段係調製含冰微粒處理液並送往上述噴嘴。 第13發明係如第12發明之基板處理裝置，其中，上述 製冰/送液手段係具備有：容器、冷卻手段、刮取手段、純 水供應手段及配管；而該容器係具有圓筒狀内周壁面，且 設有供應口與排出〇;該冷卻手段係將此容器壁面冷卻； 該刮取手段係刮取在上述容器的内周壁面上所析出並成 長的冰結晶’並擴散於純水中；該純水供應手段係將純水 着經過供應口供應給上述容器内；該配管係將從上述容器内 經由排出口所排放出的含冰微粒純水’輸送給上述喷嘴。 第14發明係將處理液供應給基板主面，並對基板施行 '處理的基板處理裝置；其特徵在於具備有：基板支撐手段 -及處理液供應手段；該基板支撐手段係支撐著基板；該處 理液供應手段係對由此基板支撐手段所支撐的基板主 面，供應含過氧化氫冰微粒的處理液。 • 第15發明係如第14發明之基板處理裝置，其中，上述 處理液供應手段係具備有處理液調製手段，其係將既定濃 度過氧化氫水進行冷卻，而調製含過氧化氫冰微粒的處理 液0 第16發明係如第15發明之基板處理裝置，其中，上述 處理液調製手段係具備有過氧化氫水調配手段，其係將過 氧化氫與純水依既定比例進行混合，而調配出上述既定濃 度的過氧化氫水。

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卜”月7¾修(更)正替換頁 % |° W - 第17發明係如第14發明之基板處理裝置，其中，上述 .基板支撐手段係支撐著基板並朝水平方向搬送的基板搬— -送手段，且更具備有攪混構件，其係利用上述處理液供應- 手段，對經上述基板搬送手段所搬送至的基板主面，供應 含過氧化氫冰微粒的處理液，並在基板主面上攪混含過氧 化氫冰微粒的處理液。 第18發明係對基板主面供應處理液，並對基板施行處 •理的基板處理裝置；其特徵在於具備有：基板支撐手段與 處理液供應手段；該基板支標手段係支擇著基板；該處理 液供應手段係對利用此基板支樓手段所支樓的基板主 面，供應經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 第19發明係如第18發明之基板處理裝置，其中，上述 處理液供應手段係具備有處理液調製手段，其係將在純水 中經溶解二氧化碳的二氧化碳水溶液進行冷卻，而調製經 _溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 第20發明係如第19發明之基板處理裝置，其中，上述 處理液调製手段係具備有二氧化碳水溶液調製手段，其係 在純水中溶解二氧化碳而調製二氧化碳水溶液。 第21發明係如第18發明之基板處理裝置，其中，上述 基板支撐手段係支撐著基板並朝水平方向搬送的基板搬 送手段，且更具備有攪混構件，其係利用上述處理液供應 手段，對經上述基板搬送手段所搬送至的基板主面，供應 326_檔\94\94130083\94130083(替換)·2 1296131 月为日修便)正替換頁 JOL 2 0 2007 替換買 ，經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液，並在基板主面上 '攪混著經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 第22發明係如第8至21發明中之任一基板處理裝置， 其中’基板的處理係洗淨處理。 (發明效果） 第1發明的基板處理方法係將含冰微粒的處理液供應 給基板主面，並利用攪混構件將此含冰微粒的處理液在基 馨板主面進行攪混，藉此例如在洗淨處理時’便可將基板表 面的凹部等之中所存在的齡等污染物質，利用冰微粒刮 出，俾將污染物質與處理液一起從基板主面上流出而去 除。依此的話，因為並非利用冰微粒衝撞基板主面的力道 將污染物質從基板上去除’而是藉由含冰微粒之處理液在 基板主面上進行攪混，而將污染物質從基板上去除，因此 便不需要對含冰微粒的處理液加壓再從喷嘴中喷出的步

所以，依照第1發明的基板處理方法，便可在不致發生 處理不均勻的情況下執行均勻的基板處理，且亦不致對基 板上所形成的金屬膜等被覆膜造成損傷。 關於第2發明的基板處理方法，因為將基板依傾斜姿勢 支撐並進行搬送，因而對基板主面所供應含冰微粒的處理 液係將沿基板傾斜流下，並利用攪混構件在基板主面上進 行授混，而從基板較低位置側的端緣自然流出。 在第3發明的基板處理方法中，藉由使平面刷沿基板主 326_檔\94\94130083\94130083(替換)·2 11 1296131 JUL 2 Ο 2007 替換頁 #9月為修改)正替換頁 ，面朝與基板搬送方向交又的方向，橫跨基板總寬度進行往 .返移動，便可將供應給基板主面的含冰微粒之處理液，效 率佳的在基板主面上進行擾混。 第4么明的基板處理方法係藉由將含冰微粒的處理液 供應給基板主面，便可在例如洗淨處理時，將基板表面凹 部等之中所存在微粒等污染物質，利用冰微粒而刮出，使 巧染物質與處理液-起從基板主面上流出並去除。在此情 #況下，因為冰微粒係含有過氧化氫，故較軟於僅由純水冷 卻所製得的冰微粒。所以，例如當對含冰微粒的處理液施 行加壓並從喷嘴喷出之際，即便隨基板表面上的位置，而 使冰微粒衝撞基板表面時的能量多少有不均勻狀況發 生’仍可防止例如液晶圖案用金屬膜遭受部分損傷的狀況 考X生此外近年雖由FPD等的製造商所供應玻璃基板等 之中，所含有機物污染程度已有減少趨勢，但是因為對基 鲁板主面所供應處理液的冰微粒中含有過氧化氫，因而藉由 此過氧化氫的氧化作用便可將基板上的有機物分解並去 除。 所以’依照第4發明的基板處理方法，將可不致對基板 上所形成金屬膜等被覆膜造成損傷，且當基板的有機物污 染程度並未如何嚴重等情況時，在基板的一連串洗淨處理 中，將可省略有機物污染的去除步驟。 第6發明的基板處理方法係藉由將含冰微粒的處理液 供應給基板主面，而例如在施行洗淨處理時，基板表面凹 326\|§檔\94\94130083\94130083(替換)-2 12 1296131 JUL 2 Ο 2007 替換寊 月曰修(更)正替換頁 -部等之中所存在的微粒等污染物質立所刮出，並 ' =染物質與處理液一起從基板主面上流出並去除。在此 .^兄下’經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液係因將在 純水中溶解二氧化碳的二氧化碳水溶液冷卻而所製得，因 而較軟於僅冷卻純水所製得的冰微粒。所以，例如當對含 =微粒的處職施行加壓並從喷対出之際，即便二基板 面上的位置’而使冰微粒衝撞基板表面時的能量多少有 籲不均勻狀況發生，仍可防止例如液晶圖案用金屬膜遭受部 分，傷的狀況發生。此外，因為在含冰微粒的處理液中溶 解者二氧化碳，因而處理液的電阻率値將小於純水。因 b、、、二/合解一氧化奴而含有冰微粒的處理液係當流過配管 内並攸喷嘴進行輸送之時，將較不易發生靜電，俾使當供 應、α基板主面之日守，基板上的微細圖案與裝置將不致有因 靜電而遭破壞的顧慮。 _ 斤Χ依…、第6發明的基板處理方法的話，將不致使基 板上所形成的金屬膜等被覆膜造成損傷，且亦不致因靜電 而使基板上的微細圖案與裝置遭受破壞。 依…、第5與7發明的基板處理方法，例如在施行洗淨處 理時，因為並非利用冰微粒衝撞基板主面的力道才將污染 物質從基板上去除，而是藉由對基板主面所供應含冰微粒 的處理液，在基板主面上利用授混構件進行授混才將污染 物貝從基板上去除’故便不需要對含冰微粒的處理液施行 加壓而從喷嘴中喷出的措施。 326\||檔\94\94130083\94130083(替換)·2 13 1296131 JUL 2 0 2007 替換頁 、所以，在第5與7發明的基板處理方法中，將不致有因 • 含冰微粒的處理液衝撞於基板表面時的能量不均勻，導致 處理不均勻狀況發生的可能性，因而將可施行均勻的基板 處理，且可更確實防止對基板上所形成金屬膜等被覆膜造 成損傷。 弟8么明的基板處理方法係將基板表面凹部等之中所 存在的微粒等污染物質，從基板主面上去除。 • 關於第9發明的基板處理裝置，係利用處理液供應手段 將含冰微粒的處理液供應給基板主面，且攪混構件接觸或 靠近基板主面，並在基板主面上將含冰微粒的處理液進行 攪混，藉此當例如施行洗淨處理時，基板表面凹部等之中 所存在 >(政粒專污染物質將被冰微粒所刮出，使污染物質與 處理液一起從基板主面上流出並去除。依此的話，並非利 用冰微粒衝撞基板主面的力道才將污染物質從基板上去 藝除，而是利用含冰微粒的處理液在基板主面上進行攪混， 將/亏木物貝從基板上去除，因而將無需要利用處理液供應 手段對含微粒子的處理液施行加壓，再喷出於基板主面的 措施。 因此，若使用第9發明的基板處理裝置，便不致發生處 理不均勻，而可執行均勻的基板處理，且亦不致對基板上 所形成金屬膜等被覆膜造成損傷。 第1 〇發明的基板處理裝置係因為利用基板搬送手段將 基板依傾斜姿勢支撐著並進行搬送，因而利用處理液供應 326W^\94\94130083\94130083(#^)-2 14 1296131 JOL 2 Ο 2007 替換頁 月/¾修(更)正替換頁 -手段供應給基板主面的含冰微粒之處理液，便將一邊沪美 '板傾斜的流下，一邊利用攪混構件在基板主面上進行二 混’再從基板較低位置侧端緣自然的流出。 第11發明的基板處理裝置係利用移動手段使平面刷沿 基板主面朝與基板搬送方向交叉的方向，橫跨基板總寬度 進行往返移動’藉以可利用處理液供應手段將供應給基板 主面的含冰微粒之處理液，在基板主面上進行效率佳的攪 關於第12發明的基板處理裝置，係利用製冰/送液手段 調製含冰微粒的處理液並送往喷嘴，而含冰微粒的處理液 特別係在未施行加壓的情況下，便從噴嘴的狹縫狀流出口 流出並供應給基板主面。 第13發明的基板處理裝置係利用冷卻手段將容器壁面 冷卻，並將利用純水供應手段通過供應口供應給容器内的 馨純水之其中.一部分，利用經冷卻的容器壁面進行冷卻而結 冰，再利用刮取手段刮取在容器内周壁面所析出並成長的 冰結晶，且擴散於純水中，便調製得含冰微粒的純水。然 後再將含冰微粒的純水從容器内通過排出口排放出並經 過配管而輸送給喷嘴。 第14發明的基板處理裝置係利用處理液供應手段將含 冰，粒的處理液供應給基板主面，藉以例如當施行洗淨處 理呀在基板表面凹部等之中所存在微粒等污染物質將被 冰微粒刮出，並使污染物質與處理液一起從基板主面上流 326\總檔\94\94130083\94130083(替換)-2 丨(S ) 1296131 JUL 2 Ο 200? 替換寊 月/¾修(爱}正替換頁1 ^並去除。此時利用處理液供應手段供應給基板主面的處 Z液中之冰微粒，因為含有過氧化氫，因而軟於僅將純水· :部所製得的冰微粒。所以，例如當對含冰微粒的處理液* ^仃加壓並從喷嘴喷出之際，即便隨基板表面上的位置不 同，而使冰微粒衝撞基板表面時的能量多少有不均勻狀 仍可防止例如對液晶圖案用金屬膜造成部分損傷的現 此夕^ ’因為對基板主面所供應處理液中的冰微粒含有 過氧化氫’因而將利用此過氧化氫的氧 的有機物產生分解而被去除。 便土扳上 所以 右使用弟14發明的基板處理裝置，將可不致對 ς板^形成金屬膜等被覆膜造成損傷，且當基板的有機 〜μ衫嚴重等情科，在基板的—連串洗淨處理 ，將可省略有機物污染的去除步驟。 在第15發明的基板處理裝置中，係處理液供 ^液調製手段將既定濃度的過氧化氫水冷卻:而“ 3冰微粒（其係含過氧化氫）的處理液。 關於第16發明的基板處理裝置，係處理液㈣手 二化=調配手段，依既定比例將過氧化氯與純: 仃二合，而調配成既定濃度的過氧化氫水。 進 第18發明的基板處理裝置係利用處理 冰微粒的處理液供應給基板主面， 八二又將含 處理時，基板表面凹部等之中所存;^ #施行洗淨 將被冰微粒所刮出，而使污染物等污染物質 〇處理液一起從基板 326\總槍\94\94130083\94130083(替換)-2 JUL 2 0 2007 替換頁 1296131 Π~~^~- 、 <_?月別修(更)正替換頁1

_" 1 _ιι 一、·_“^t J 主面上流出並去除。此時，利用處理—液供應手段供應給 基板主面之含冰微粒的處理液，因為係將純水中溶解著 二氧化碳的二氧化碳水溶液施行冷卻而製得因而軟於 僅將純水冷卻而所製得冰微粒。所以，例如當將含冰微 粒的處理液施行加壓而從喷嘴中喷出之際，即便因基板 表面上的位置不同，而使冰微粒衝撞基板表面時的能量 f少有：均勻狀況’仍可防止例如液晶圖案用金屬膜遭 i冗部分損傷。況且，因為在含冰微粒的處理液中有溶解 二氧化碳’因而處理液的電阻率値小於純水。因此，對 基板主面所供應含冰微粒的處理液係當流過配管内並輸 送給喷嘴時將不易發生靜電，且當供應給基板主面時， 基板上的微細圖案與裝置將不致有因靜電而遭受破 顧慮。 所以，若使用帛18發明的基板處理裝置，將可不致對 •基板上所形成金屬料被覆膜造成損傷，JL亦不致因靜電 而使基板上的微細圖案與裝置遭受破壞。 第19發明的基板處理裝置係利用處理液供應手段的處 理液調製手段，將純水中有溶解二氧化碳的二氧化碳水溶 液冷卻’便調製得含有溶解著：氧化碳之冰微粒的處理 广第20發明的基板處理裝置係利用處理液調製手段的二 氧化碳水溶液調製手段，使二氧化碳溶解於純水中，而調 製得二氧化碳水溶液。 S ) 326纖檔 \94\94130083\94130083(替換)-2 17 1296131 *9月7¾修(動正替換頁J| 4°ι07 、關於第17與21發明的基板處理裝置，例如在施行洗淨 • 處理時’因為並非利用冰微粒衝撞基板主面的力道才將污 .染物質從基板上去除，而是藉由對基板主面所供應含冰微 粒的處理液，在基板主面上利用攪混構件進行攪混才將污 染物質從基板上去除，因而便不需要對含冰微粒的處理液 施行加壓再從噴嘴中喷出的措施。 所以，若使用第17與21發明的基板處理裝置，將不致 _有因含冰微粒的處理液衝撞於基板表面時的能量不均 勻’導致處理不均勻狀況發生的可能性，因而將可施行均 勻的基板處理，且可更確實防止對基板上所形成金屬膜等 被覆膜造成損傷。 .第22發明的基板處理裝置係將基板表面凹部等之中所 存在的微粒等污染物質，從基板主面上去除。 【實施方式】 書 以下，針對本發明較佳實施形態參照圖式進行説明。 圖1至圖4所示係本發明實施形態之一例，圖丨所示係 基板處理裝置，在此例中為基板洗淨裝置概略構造的重要 部份立體圖，圖2所示係其前視圖，圖3所示係其側視圖， 圖4所不係此基板洗淨裝置構成要件之一的製冰/送液部 構造之概略剖視圖。 此基板洗淨裝置係具備有··滾筒式輸送機（在圖丨與圖3 中省略圖示）、喷嘴12及平面刷14所構成；該滾筒式輸 送機係由相互平行排列的複數搬送輥1〇所構成，將基板 326·檔 \94\94130083\94130083(替換)-2 18 1296131 :评依傾斜姿勢支撐，並朝其傾斜方向的正交方向且水平方 ；向搬送该基板W;該喷嘴12係朝利用此滚筒式輸送機所 搬送的基板w主面，供應含冰微粒的純水（以下稱「冰 泥」），该平面刷14係在基板w主面上將冰泥進行攪混。 噴V 12的長度係與基板ψ搬送方向正交的寬度方向尺寸 大致相等，且在基板W正上方位置處，配設成與基板搬送 方向父叉且順沿基板W傾斜的狀態。在喷嘴丨2下端面的 長度方向上設有狹缝狀流出口，並從此狹縫狀流出口使冰 泥在幾乎未加壓的狀態下流出。此喷嘴12將與配管16連 接成與其内部所形成流路相連通狀態，喷嘴丨2便透過此 配管16而與後述製冰/送液部2〇(參照圖4)形成流路連接 狀態。 平面刷14係設置於較喷嘴12設置位置更靠基板搬送方 向前方側且接近喷嘴12的位置處，在其下面平面狀植設 著毛海（mohair)、尼龍等刷毛18。此平面刷14的長度係 _與基板W寬度方向尺寸大致相同，並在基板w正上方位置 處，配置成與基板搬送方向交叉且順沿基板w傾斜的狀 悲。此外，雖省略圖示，平面刷14係由支撐/移動機構支 撐成刷毛18前端接觸或靠近基板w主面的狀態，並利用 支撐/移動機構朝長度方向橫跨基板W總寬度進行往返移 動。 : 調製冰泥並輸送給喷嘴12的製冰/送液部20，係如圖4 :所示，具備有谷器2 2，其係形成雙層壁構造且具有圓筒 狀内周壁面，並設有純水供應口 24與冰泥排出口 26。容 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 19 1296131 器22的純水供應口 μ係漣 28(其係流路連接 。純水供應用配管 通且連接於冰泥送液二 1〇. 用配官1 6 (其係流路逵盐认+ 12)。在容器22的内壁與外壁 連接，贺嘴 3〇。防如0係在容器22的雙声：:充者防，束液 的溫度，俾將容哭p 9 ♦部至冰點以下 仟村办态22内周壁面冷卻保 度。在容器22内部，於苴鉍, 寻、冰點以下的溫 广轉支軸34上固接著螺旋刀片3 匕 延設於容器22外面的端部連結 ===係 刀片36具有靠近容哭22心$，運則紅轉軸。螺旋 用€、素Μ 内周壁面的外周刀鋒。所以，利 轉支軸34進行旋轉’則螺旋刀片36便呈 現外周刀鋒-邊接近容器2 態。 土由邊進打旋轉的狀 在此製冰/送液部2〇中，若你站 D 24 99 ^ 砘水（、應源通過純水供應 I純水，㈣分純相被容器22内 的二曰I:結冰，在容器22内周壁面上析出並成長 二曰内二Γ旋刀片的外周刀鋒進行刮取。然後，從 :2壁面所刮取的冰結晶將擴散於純水中，便調 二水泥。此時所製得冰泥中的冰微粒係例如 τδ所·^㈣左右的粒徑’配合在欲施行洗淨的基板W表 3 ^圖案線寬與溝寬’藉由容器22内周壁面的冷卻 片36旋轉速度、對容器22内的純水供應流 1寻條件的適當設定，便可調節冰微粒的粒徑。在容器 312XP/發明說明書(補件)/94_〗施〗3〇〇83 20 1296131 ；又仔、進力，並從容器22内通過冰泥排出口 26排放 "上通過配官16送往喷嘴12。所以，依照此製冰/送 將可進行無脈動的靜態式冰泥移送。另外，制 冰/达液部2G幾乎不需要設置空間且可設置於噴嘴12附 近’故可使配管16縮短。 關於具有上述構造的基板洗淨裝置，由製冰，送液部2〇 •所調：得並送往喷嘴12的冰泥，將在無特別加壓的情況 I :喷驚12的狹縫狀流出口流出，並供應給利用滚筒 式輸送機依傾斜姿勢朝水平方向搬送的基板w主面。供應 給基板W主面的冰泥係一邊順沿基板⑼傾斜流下，並利用 朝基板搬送方向的交叉方向進行往返移動的平面刷14, 在:板W主面上進行授混，再從基板w較低位置側端緣自 然流出。此時，冰泥將利用平面刷14在基板你主面上進 行搜混，藉此基板W表面凹部等之中所存在的微粒等污染 #物質、’將被冰泥中的冰微粒所刮出，俾將污染物質與冰泥 及其/谷解水一起從基板W主面上流出並去除。 另外，製冰/送液部20的構造並不僅限於上述實施形熊 中所説明，勤亦可將由製冰部所㈣得冰域存於緩衝 槽内γ再一邊於緩衝槽内將冰泥進行靜態攪拌，一邊利用 果攸緩衝槽内將冰泥送往喷嘴12。 圖1至圖3所示基板洗淨裝置中，亦可構成通過配管 16將含有冰微粒（其係含有過氧化氫）的處理液（以下稱 「含過氧化氫冰泥」）送往喷嘴12 ’並將含過氧化氫冰泥 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 21 1296131 用，輸送機所搬送的基板ψ主面。 /送液部4〇取雨代Γ冰^液部2〇，改為將如圖5所示製冰 I 4 0 ’通過配管16、、 部40係具備有容器42，^接於噴嘴12。製冰/送液 狀内周壁面，且机右、丹/高成雙層壁構造並具有圓筒 46。容器42 氧化氫水供應口 44與冰泥排出口 供應口 44係連通且連接 谷/的過乳化虱水 過氧化氫水供應用配= f水供應用配管48,且 此外，在過氧化氫水入於調配槽50内部。 於流路連接於純水供應源的純:供岸曰=:且連接 流路連接於過氧化氫供應槽（未^的供應口、及 6〇供應口。在純水供應管58中，^ =乳化氫供應管 制閥62與流量調整闕以，且在過刀二，置者開關控 分別介插設置著開關控制 曰風“官60令， 剌岡66與流量調整閥68。 在谷器42的内壁與外壁間之空間中填充著 防凍液70係在容器42的雙層壁内愈冷凍 彻二。 間進㈣環，並利用冷康器72冷卻至 以下的溫度，且將容器42内周壁面冷卻保持於凝固^ 下的溫度。在容H 42㈣㈣心位 _ 係延5又於谷4 2外面的端部兔、鱼彡士 席浐77只7fW备目士 ▲ 為連結於馬達78的旋轉軸。 螺叙刀片76係具“近容器42内周壁面的外周刀鋒。所 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 22 74 1296131 ^^«>x/itr,t" VI^^：4^# ° 58中所#署 9刀別控制著在純水供應管 :=r純水、與通二 ==:: 行混人，而，氧化虱’在調配槽5〇内依既定比例進 仃此。而調製得既定濃度（例如5%或以下，最好 的過氧化氫水。在調配槽5G内所調配得既 = 化氫水係將利用泵52通過過氧 又之過巩 應一的過氧化氫水供=水 ，由過氧化氫水供應…流入〜=的： :::度過：化氫水，中一部分便將被容器42内周壁 姓曰m: ’在谷“2内周壁面上析出並成長的冰 、，曰曰’便將由螺旋刀片76的外周刀鋒所刮取。缺後 容器42内周壁面所刮取之冰結晶便將擴散料 含過氧化氯冰泥。此時所製得含過氧化氣冰:中 的冰彳政粒將含有過氧化氫。 、r當：由Γ:示製冰/送液部4〇所調製之含過氧化氫冰 曰匕^ Μ 12’並供應給利料筒式輸送機依傾 且水平方向進行搬送的基板W主面時，如上述，基板Η :凹部等之中所存在的微粒等污染物質，將與含過氧化氫 冰泥及其溶解水-起從基板面上流出並错。此外， 因為含過氧化氫冰泥的冰微粒中，含有過氧化氫，因而藉 312Xp/發明說明書(補件)/94-12/94130083 23 1296131 由其過氧化氫的氧化作用，使基板w上的有機物分解並去 I除;過氧化氫冰泥中的冰微粒係因含過氧 “平面刷14 0勺搖擺速度（當取代平面刷14 而改用滾产同刷時，便為旋轉速度），而更加提高利用平面 …斤施行的洗淨性能。另夕卜因為平面刷 = 18經常接觸及過氧化禮k 々刷毛 细菌。在隐二化風水’因而亦可抑制平面刷14產生 在廢液中/含的過氧Γ：所流下的廢液中含有過氧化氣， 廢液放置既定時間而進行蒗 /、邊將 水。 仃J因而可再使用作為普通的 另外’此裝置係如上述之不對、 壓，而從喷嘴12供應給基板w主 ，=泥進行加 化氫冰泥施行加麗再#_ ^ P便對含過氧 含過氧化氨冰泥中的冰於基板W主面，因為 無例如對液晶圖案用全屬膜化虱而較軟，因而將 再者，製冰/送液部40屬=^^^ 中所説明，例如亦可在製冰部中調製貫施形態 粒的冰泥，並將此所調製得冰泥儲存於缓衝=風之冰微 在緩衝槽内將冰泥進行靜態搜拌，一邊广邊 將冰泥朝喷嘴12進行輸送。 逯攸緩衝槽内利用泵 其次’如圖1至圖3所示基板洗淨 由配管16朝詩】2輪送著經溶解二=可構成為經 的處理液（以下稱「碳酸氣體—氧^而含有冰微粒 溶解冰泥供應給利 冰泥」），並將碳酸氣體 輪送機所搬送縣板W主面。 3】2XP/發麵明書(補件)/94-】2/94〗30083 24 !296131 、英換言之，取代製冰/送液部20改為將如圖6所示製冰/ =部8G ’經由配管16流路連接於噴嘴12。製冰/送液 〇具備有容器82，其係形成雙層壁構造並具有 :周壁面’且設有二氧化破水溶液供應口 84與冰泥排出 ，。容器82的排出口 86係連通且連接於冰泥送液用 係=、16(其係流路連接於喷嘴⑵。容器82的供應口84 且連接於二氧化碳水溶液供應用配f 88,而配管 • /將插入於二氧化碳水溶液調製槽90内部。此外， 二:= 介插設置泵92、過渡器94及開關閥96。 庫周；槽密閉構造’此調製槽9。係流路連細^ 二岸通Λ連接於介插著開關閥100的純水供應管 二=在調製槽9°内部中插入碳酸氣體供應 〇2(八係&路連接於碳酸氣體供 酸氣體供應管1〇2前端的吹出口二=:而叙 面附近。在碳酸氣體供應管1 〇2中入、;：\90内底 #制閥1G4與流量調整閥⑽。77 〃 &置者開關控 在谷裔82的内壁與外壁 * ⑽。防;東液m係在容哭82 間中填充著防束液 裝請。間進行循ί 下的溫度，且將容哭82内月辟°。110冷卻至冰點以 的溫度。在容器2==：^^_-下 112,並在㈣支轴m上固接著螺：疋轉3 軸m係延設於容器82外 疋轉支 旋轉袖。螺旋刀片⑴係、具有;"近°=連 罪迎奋為82内周壁面的外 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 25 1296131 周刀鋒。所以，利用馬達Π 6使旋轉支軸112進行旋轉， J累方疋刀片Π 4之外周刀鋒一邊靠近容器8 2内周壁面一 邊進行旋轉。 在此製冰/送液部80中，經由純水供應管98將純水供 ，給凋製槽90内，並將純水儲存於調製槽90内。此外， 错由開啟碳酸氣體供應管1〇2中所設置的開關控制閥 =4’經由碳酸氣體供應管1〇2對調製槽9〇内供應碳酸氣 脰三對調製槽90内所供應的碳酸氣體，將從碳酸氣體供 ，官前端的吹出口，喷出於調製槽9〇内的純水中而 發泡，調製得在純水中溶解著二氧化碳的二氧化碳水溶 液。=時，若將調製槽90内的純水冷卻，並在低溫純水 中使碳酸氣體起泡，便可使更多的二氧化碳溶解於純水 中可更加降低二氧化碳水溶液的電阻値。 一在調製槽90内所調製得二氧化碳水溶液，將利用泵92 、、二由配官88供應給容器82的供應口 84。若二氧北碳水 溶液經由供應口 84流入容器82内，此二氧化碳水溶=的 “中邛刀將被谷盗82内周壁面所冷卻而結冰，在容界 82内周壁面所析出並成長的冰結晶將利用螺旋刀片114 的外周刀鋒進行到取。㈣，從容器82内周壁面所到取 得冰結晶將擴散於處理液中，而調製得經溶解二氧化炉 碳酸氣體溶解冰泥。人、 當將由圖6所示製冰/送液部80所調製得碳酸氣體溶解 冰泥輸送給喷嘴12,並供應給利用滾筒式輸送機依傾斜 姿勢且朝水平方向搬送的基板w主面時，便如上述，在基 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 26 1296131 板w表面凹部等之中所存在的微粒等污染物質，將與碳酸 氣體溶解冰泥及其融解水一起從基板W主面上流出並去 除。此外，因為碳酸氣體溶解冰泥係將二氧化碳水溶液進 行冷卻而製得，因而碳酸氣體溶解冰泥中的冰微粒較柔 .軟，將可更加提高平面刷14的搖擺速度（當取代平面刷 14改用滾筒刷的情況時便為旋轉速度），而更加提高依平 面刷14所施仃的洗淨性能。此外，目為在碳酸氣體溶解 冰泥中溶解著二氧化碳’因而碳酸氣體溶解冰泥的電阻率 値較小。所以，當碳酸氣體溶解冰泥流過配管16内並輸 送給喷嘴12時將不易發生靜電，當碳酸氣體溶解冰泥供 應…基板W主面時’基板w上的微細圖案與裝置亦無因靜 電而遭受破壞的顧慮。況且，因為碳酸氣體溶解冰泥屬於 低溫’因而：氧化碳可在液中維持著較長久的溶存狀態。 另外’在此裝置中’如上述只要在未對碳酸氣體溶解冰 泥施行加壓的情況下，從噴嘴12供應給基板w主面的話 便可，但是即便對碳酸氣體溶解冰泥施行加壓，再從喷嘴 12喷出於基板w主面’因為碳酸氣體溶解冰泥係將二氧 化碳水溶液冷卻而製得，因而碳酸氣體溶解冰泥中的冰微 拉=柔軟、。所以，將不致有因對基板w主面所喷出碳酸氣 解冰泥中的冰微粒’例如使液晶圖案用金屬膜遭受部 分損傷的顧慮。 制Γ Γ構造的製冰/送液部80係因為只要在調 “曰9"設置供碳酸氣體供應管1〇2 ， 因而其製作較為容易，所以目6 m 勿所以具實用性，且製冰/送液部80 312Xp/發明說明書(補件)/94-12/94130083

V 1296131 的構造並不僅限於圖6所示。例如亦可在製冰部中調製碳 酸氣體溶解冰泥，再將所調製碳酸氣體溶解冰泥儲存於緩 衝槽内，並一邊在緩衝槽内對碳酸氣體溶解冰泥進行靜態 攪拌，一邊從缓衝槽内利用泵將碳酸氣體溶解冰泥輸送給 噴嘴12。此外，亦可未設置調製槽9〇，而是將碳酸氣體 供應官102直接連通且連接於容器82，並對容器82内供 應碳酸氣體，藉由朝容器82内的純水中喷射出碳酸氣體 而發泡，便可在容器82内調製碳酸氣體溶解冰泥。此時， 因為谷益82内的純水將被冷卻而呈低溫狀態，因而將可 使更多的二氧化碳溶解於純水中。況且，使二氧化碳溶解 $純水中並調製二氧化碳水溶液的手段，並不僅限於上述 貫施形癌中所説明之在純水中使碳酸氣體產生發泡的構 造，亦可例如在流路連接於製冰部的純水供應管中途，介 插设置氣體溶解模組，並使氣體溶解模組連接於碳酸氣體 供應管（其係流路連接於碳酸氣體供應源），俾冑通過氣體 鲁溶解模組内的純水中溶解著二氧化碳。另外，亦可將氣體 溶解模組介插設置於將製冰部與喷嘴12流路連接的配管 16中途，此情況下，因為在容器82 $所調製得低溫冰泥 中將有溶解著二氧化碳，因而可使更多的二氧化碳溶解於 冰泥中。 卜’上述貫施形_中’嘴嘴12係配設成與基板搬送 。父又且順沿基板W傾斜狀態，但是亦可將噴嘴配設 位於傾斜基板的較高位置側端緣部正上方位置處，且Μ 板搬送方向的狀態。此外’在上述實施形態中’―邊^ 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-12/94130083 28 1296131 Γ2=姿主勢支擇且朝水平方向進行搬送，-邊從嗔嘴 二朝基，，主面供應冰泥’並利用平面刷14在基板主

面上將冰泥進行攪混，而當基板W 將基板1Π衣水平姿勢支#_轉 二邊 W基板w主面供應冰泥’且利用平面^4將= =:::再將基板W傾斜並施行水洗處理。另外: 泥是亦可取代平面刷14改為使用 y 圖7所不係本發明另一實施形態，基板 (旋轉洗淨器）之重要部份構造的概略前視圖。#置 此基板旋轉式洗淨裝置係具備有將基板 chuck)120〇^#^I12；；^ T轉支軸122支撐成繞鉛直軸旋轉自如狀態 支軸122所連結的馬達（未圖示），繞錯直 f略圖示，但在旋轉夾頭⑽所保持的基板？周圍轉配f 成用以將從基板W上減散於周圍的冰泥捕捉的杯體包圍又 基板w的狀悲。另外，在旋轉夾頭12〇所保持 :，配設著將含過氧化氫冰泥朝基板W表面嘴“噴出二 ° 124。贺出贺嘴124將連接於冰泥送液用配管126，雖 未圖示，配管126係流路連接於製冰/送液部。 部的構造係例如在製冰部中調製含過氧化 ^ ^ 調製得含過氧化氫冰泥儲存於緩衝槽 w將所 將含過氧化氮冰泥進行靜離㈣邊在緩衝槽内 茚心撹拌 邊利用在配管126中 途所介插設置的泵，從緩衝槽内對含過氧化氫冰泥施行加 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083 29 1296131 壓之後’再輸送給喷出喷嘴124。

圖Ϊ所示裝置中，對含過氧化氫冰泥施行加壓，並從喷 出噴嘴124朝由旋轉夾頭120所保持並旋轉的基板w表面 噴出。藉此，在基板W表面凹部等之中所存在的微粒等污 染物質將被冰微粒所刮出，並與含過氧化氫冰泥一起從基 板w表面上流出並去除。此情況下，從喷出噴嘴} 朝基 板W表面所喷出之含過氧化氫冰泥中的冰微粒，因為含^ 過氧化氫，因而較軟於僅將純水冷卻而所製得的冰微粒。 所以，在基板W表面上，即便從喷出喷嘴i 24所噴出之含 過氧化氫冰泥中的冰微粒衝撞基板W表面時的能量多少 有不均勻狀況，仍可防止基板W表面所形成圖案狀金屬膜 等遭受部分損傷。此外，藉由使在朝基板w表面所喷出之 含過氧化虱冰泥的冰徵粒中含有過氧化氫，便可藉由此過 氧化虱的氧化作用將基板w上的有機物分解並去徐。 再者，在圖7所示基板旋轉式洗淨裝置中，亦可為取代 ⑩含過氧化氫冰泥，改成將碳酸氣體溶解冰泥經由配管 輸送給噴出喷嘴124，並朝利用旋轉夾頭120所保持且旋 轉的基板W表面，從喷出喷嘴124喷出碳酸氣體溶解冰泥 的構造。此情況下，如上述，基板W表面凹部等之中所存 在的微粒等污染物質，將與碳酸氣體溶解冰泥一起從基板 W表面上流出並去除。此外，從喷出噴嘴124朝基板W表 面所嘴出的碳酸氣體溶解冰泥，因為係將二氧化碳水溶液 冷卻而製得，因而碳酸氣體溶解冰泥中的冰微粒軟於僅將 純水冷卻而所製造的冰微粒。所以，在基板W表面上，即 30 312XP/發明說明書(補件)/94· 12/94130083 1296131 便從喷出喷嘴 粒，彳齡措其抬 124所喷出的碳酸氣體溶解冰泥中之冰微

内’並輪送給喷出嗤π皆1 94 α^ .

破壞的狀況。 —f外，上述各實施形態，雖針對基板施行洗淨的處理進 行说月准本發明除洗淨以外的基板處理均可適用。例如 當將圖1至圖3所構造的裝置，使用於基板蝕刻處理裝置 的取代水洗部時，藉由平面刷14將蝕刻液與冰泥進行攪 混，便可促進將高黏度蝕刻液利用純水施行稀釋的處理， 且藉由對基板的冰泥供應而將基板與蝕刻液低溫化，便可 籲快速的使蝕刻反應停止，並可提升利用純水所施行的蝕刻 液取代效率。另外，處理液的種類亦不僅限於純水，亦可 為藥液。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明實施形態之一例，基板洗淨裝置之概略構 造的重要部分立體圖。 圖2為圖1所示基板洗淨裝置的重要部份前視圖。 …圖3為圖1所示基板洗淨裝置的重要部份側梘圖。 圖4為圖1所示基板洗淨裝置構成要件之一之製冰/送 312XP/發明說明書(補件)/9^12/94130083 31 1296131 構造的概略剖視圖。 送液部之構造：二U剖I;過“幻處理液用的 液二6f為水，製、”冰微粒(其係有溶解著二一 ^ 衣冰/廷液部之構造例的概略剖視圖。 之重 回)為本發明另一實施形態，基板旋轉式洗淨裝置 ^分構造的概略前視圖。 10 12 14 16 、 126 18 20 、 40 、 80 22 、 42 、 82 ^24 26 、 46 、 86 28 30 、 70 、 108 32 、 72 、 110 34 、 74 、 112 36, 76,1 14 38, 78, 1 16 44 Γ主要元件符號說明】 搬送幸昆 噴嘴 平面刷 配管 刷毛 製冰/送液部 容器 純水供應口 冰泥排出口 純水供應用配管 防凍液 冷凍器（冷卻裳置） > 122旋轉支軸 螺旋刀片 馬達 過氧化氫水供應〇 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-12/94130083 32 1296131 48 過氧化氫水供應用配管 50、90 調配槽 52、92 泵 54、94 過濾器 56 > 96 > 100 開關閥 58、98 純水供應管 60 過氧化氳供應管 62 、 66 、 104 開關控制閥 64 、 68 、 106 流量調整閥 84 二氧化碳水溶液供應口 88 二氧化碳水溶液供應用配管 102 碳酸氣體供應管 120 * 旋轉夾頭 124 喷出喷嘴 W 基板 33 312XP/發明說明書(補件)/94-12/94130083

Claims (1)

1296131 ~ 0CT 1 9 2007 替换本 蜂\叫丨声修_正替換頁 十、申請專利範圍. 一〜 、、，1. 一種基板處理方法，係支撐著基板而朝水平方了搬 运且將處理液供應給基板主面而對基板施行 特徵在於： a ’ /、 觸：ΐ:ίΓ的處理液供應給基板主面，並使授混構件接 ，在基板主面上—邊移動-邊攪混含冰 被粒的處理液。 丨2.如申請專㈣圍第丨項之基板處理方H中，將芙 =依傾斜姿勢支撐著，朝與此傾斜方向正交的方'向且朝ς 二^進^搬送，-邊使對基板主面所供應之含冰微粒的 ^理液沿基板傾斜流下，—邊利用上述攪混構件，在基板 主面上攪混含冰微粒的處理液。 ,3.如申請專利範圍帛j項之基板處理方法，其中，上 件係平面刷’使該平面刷沿基板主面朝與基板搬送 °父叉的方向，横跨基板總寬度而進行往返移動。 、、/.一種基板處理方法’係支撐著基板而朝水平方向搬 '’且將處理液供應給基板主面而對基板施行處理者；其 特徵在於： 將含有含過氧化氫之冰微粒的處理液供應給基板主 面，亚使㈣構件接觸或靠近基板主©，在基板主面上一 邊移動—㈣混含有含過氧化氫之冰微粒的處理液。 5. -種基板處理方法，係支㈣基板而朝水平方向搬 达，且將處理液供應給基板主面而對基板騎 特徵在於： 〃 326\總槍\94\94130083\94130083(替換).3 34 1296131 'Mrr_"ll,lll",l""'r"·ΙΒ —r ww„|, 一、 ^日修漫)正替換頁 :經溶解二氧化碳而含有冰微^板 ^使擾混構件接觸或靠近基板主面，於基板主面上一 ，-邊攪拌經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 6. =請專利範圍第…項中任一項之基板處理方 法，其中，基板的處理係洗淨處理。 7. -種基板處理裝置，係具備以下手段者： 基板搬送手段’其係支撐著基板㈣水平方向搬送；以 及 ，理液供應手段，其係對利用該基板搬送手段所搬送的 基板主面，供應處理液；其特徵為， 述處理液供應手段係將含冰微粒的處理液供應給基 面者進步具備有接觸或靠近基板主面，在基板主 邊移動—邊將含有冰微粒的處理液施行擾混的授 、作匕構件。 =申請專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，上述 j =达ί段係依傾斜姿勢支撐著基板，將基板朝與此傾 1處°正又的方向且水平方向進行搬送，利用上述處理液 手&對基板主面所供應的含冰微粒處理液，沿基板的 傾斜流下。 < 9· ★申明專利範圍第7項之基板處理裝置，其中，上述 攪此構件係平面刷，將該平面刷配設於在基板搬送方向上 較上述處理液供應手段所施行的處理液供應位置更靠前 方具備有移動手段，其係使上述平面刷沿基板主面 朝與基板搬送方向交叉的方向，橫跨基板總寬度而進行往 326V總檔\94\94130083\94130083(替換)-3 35 1296131 返移動 \ 日修(¾正替換頁 、f卢理：r::專利乾圍第7項之基板處理裝置，盆中，上 述處理液供應手段係具備有·· 八r上 口喷Γ及其係具有使含冰微粒處理液流出的狹縫狀流出 喷=冰/运液手段’其係調製含冰微粒處理液，送往上述 ::·如申請專利範圍第10項之基板處理裝置 述製冰/送液手段係具備有： /、中上 口容器’其係具有圓筒狀之内周壁面，設有供應口與排出 冷卻手段，其係將該容器之壁面冷卻； 异的、#係刮取在上述容器的内周壁面上所析出成 長的冰、、Ό晶，將其擴散於純水中； 供應給上述容 純水供應手段，其係將純水經由供應口， 器内；以及 b 二欠其t將從上述容器内經由排出口所排放出的含冰 Μ粒純水，輸送給上述喷嘴。 12.—種基板處理裝置，係具備以下手段者： 及 基板搬送手段，其係支樓著基板而朝水平方向搬送；以 處理液供應手段，其係對利用該基板搬送手段所搬送的 基板主面，供應處理液；其特徵為， 上述處理液供應手段為將含有含過氧化氫之冰微粒的 326\|患檔\94\94130083\94130083(替換)-3 36 月J日修(憂)正替換頁 1296131 供應給基板主面者，並進—步具備有接觸或靠近基 _ i在基板主面上—邊移動—邊攪混含有含過氧化 虱之冰微粒之處理液的攪混構件。 • 士中’專利範圍第12項之基板處理裝置，其中，上 3理液，應手段係具備有處理液調製手段，其係將既定 二二：過氧化虱水進行冷卻，而調製含有含過氧化氫冰微 拉的處理液。 _ 14.如申請專利範圍第13項之基板處理裝置，其中，上 j處理液調製手段係具備有過氧化氫水調配手段，其係將 t乳化氫與純水依既定比例進行混合，而調配出上述既定 浪度的過氧化氫水。 15·—種基板處理裝置，係具備有以下手段者： 基板搬:¾手段’其係支撐著基板而朝水平方向搬送；以 處理液供應手段，其係對利用該基板搬送手段所搬送的 •基板主面，供應處理液；其特徵為， 上述處理液供應手段係將經溶解二氧化碳而含有冰微 粒的處理液供應給基板主面者，進一步具備有擾混構件， 其係接觸或靠近基板主面，在基板主面上一邊移動一邊攪 混經溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 16·如申請專利範圍第15項之基板處理裝置，其中，上 述處理液供應手段係具備有處理液調製 士中經溶解二氧化韻二氧化碳水溶液進行冷卻== 溶解二氧化碳而含有冰微粒的處理液。 326\總檔\94\94130083\94130083(替換)-3 37 1296131 頁 17·如申請專利範圍第16項之基板處理裝置，其中 述處理液調製手段係具備有二氧化碳水溶液調製;，，上 係在純水中溶解二氧化碳而調製二氧化碳水溶液。又其 18.如申請專利範圍第7至17項中任—項之基板處理裝 置，其中，基板的處理係洗淨處理。

326纖檔\94\94130083\94130083(替換)·3 38 1296131 七、 指定代表圖·· (一） 本案指定代表圖為：第（1 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 12 喷嘴 14 平面刷 16 配管 18 刷毛 W 基板 八、 本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 無

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