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TWI294415B - Process for producing alcohols and/or ketones from alkenes using oxide catalysts - Google Patents

Process for producing alcohols and/or ketones from alkenes using oxide catalysts Download PDF

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TWI294415B
TWI294415B TW094103700A TW94103700A TWI294415B TW I294415 B TWI294415 B TW I294415B TW 094103700 A TW094103700 A TW 094103700A TW 94103700 A TW94103700 A TW 94103700A TW I294415 B TWI294415 B TW I294415B
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catalyst
reaction
oxide
molybdenum
tin
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TW094103700A
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Takashi Tsunoda
Kenji Akagishi
Atsushi Watanabe
Original Assignee
Maruzen Petrochemical Company Ltd
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Description

1294415 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於水蒸氣之存在下，使用氧化物觸媒， 於氣相由鏈烯製造對應之醇及/酮之方法。 【先前技術】
於水蒸氣之存在下，由氣相反應將至少1種之鏈烯製 造對應之醇及/或酮之例，可列舉如由丙烯製造丙酮、由 1 一 丁烯或2- 丁烯製造甲乙基酮、由環己烯製造環己酮 、由異丁烯製造叔- 丁醇等。此等之生成物任一者均爲工 業上作爲化學出發原料或溶劑之重要之化學物質。 上述反應之向來技術，主要的列舉如使用鈀化合物等 貴金屬觸媒之瓦科爾法型（Waker’s )反應，與使用鉬、 鎢、錫、鈷等之非貴金屬之複合氧化物觸媒之反應。 前者之瓦科爾型反應之例，有使用鈀及/或鈀化合物 與氯化銅載持於二氧化矽、氧化鋁等載體之觸媒，於烯烴 、氧、水蒸氣之存在下製造羰基化合物之方法（例如參閱 專利文獻1 )。專利文獻1記載之實施例係使用二氧化Ϊ夕 載持氯化鈀及氯化銅之觸媒，由1 - 丁烯製造甲乙基酮。 其他不使用氯化物之例，如將烯烴類於水蒸氣之存在 下由含有氧或含氧氣體於氣相氧化製造乙醛或酮類時，使 用鈀鹽及將鈀鹽載持於活性碳之觸媒的方法（例如參閱專 利文獻2 )。專利文獻2記載之實施例係使用載持硫酸鈀 與硫酸釩於活性碳之觸媒之反應，由丙烯製造丙酮。 (2) 1294415 但是，使用此等非常高價之貴金屬時，依本發明者等 之追蹤試驗，確認兩觸媒均於短時間內活性劣化。
一方面，後者使用非貴金屬之複合氧化物觸媒之反應 例，如使用鉬氧化物與均勻份佈於載體之微粒子狀錫氧化 物所成之觸媒，將烯烴與氧於水蒸氣之存在下反應之方法 (例如參閱專利文獻3 )。專利文獻3記載之實施例係使 用載持二氧化錫與三氧化鉬於二氧化矽之觸媒，由丙烯製 造丙酮之方法。 又，使用類似觸媒之方法，如使用氧化鉬、氧化錫、 將特定量載持鹼金屬及/或鹼土類金屬於載體之觸媒，將 烯烴與蒸氣之混合物反應之方法（例如參閱專利文獻4 ) 。專利文獻4記載之實施例係使用載持二氧化錫、三氧化 鉬、鈉載持於二氧化矽之觸媒，由反式丁烯製造MEK。 其他，如使用類似之觸媒，由反應原料中含少量氧之 烯烴與水蒸氣所成之氣體，與含大量氧之氣體交互與觸媒 接觸之方法（例如參閱專利文獻5 )。專利文獻5記載之 實施例係使用載持二氧化錫、三氧化鉬於二氧化矽之觸媒 ，由η— 丁烯製造MEK。 但是，於上述各專利文獻多數反應係於固定床進行， 有關將觸媒於流動床反應器與再生器間進行循環之方式’ 不能得到滿足的結果。 【專利文獻1】日本特開昭49-72209號公報 【專利文獻2】日本特開昭59- 1 6 3 3 3 5號公報 【專利文獻3】日本特公昭47-8 046號公報 ⑧ -6 - (4) 1294415 動床反應器與再生間將該觸媒進行循環的方式；及 (c)由上述再生器至上述反應器之間設置汽提器部 者。 (2 )如第（1 )項之方法，更於上述反應器至上述再 生器之間設置汽提器部者。 (3 )如第（1 )或第（2 )項之方法，上述至少1種 之鏈烯爲1 一 丁燒及/或2-丁烯者。
(4 )如第（1 )至第（3 )項中任一項之方法，含於 上述氧化物觸媒之鉬與錫之原子比X{Mo/ (Sn+Mo) 此處Μ 〇爲該氧化物觸媒中之鉬之原子數，S η爲該氧化物 觸媒中錫之原子數}，爲Χ<〇·50之範圍者。 (5 )如第(1 )至第（3 )項中任一項之方法，含於 上述氧化物觸媒之鉬與錫之原子比X{Mo/ ( Sn+ Mo )； 此處Mo爲該氧化物觸媒中之鉬之原子數，Sn爲該氧化物 觸媒中錫之原子數}，爲0.01 S 0.24之範圍者。 〔發明之效果〕 依本發明，可提供減少不必要原料之損失，提高目的 生成物之選擇率由鏈烯製造醇及/或酮之方法。 〔用以實施發明之最佳型態〕 以下，詳細說明本發明。 本發明方法所使用之觸媒，爲含有鉬及/或錫之氧化 物觸媒。可使用單獨此等之氧化物，由使用鉬及錫之氧化 -8- (5) 1294415
物兩方以機械混合及/或複合氧化物，可提高觸媒活性或 目的生成物之選擇率爲更理想。又，爲提高觸媒活性或目 的生成物之選擇率，亦可添加其他元素之氧化物。以屬於 週期表第4族、第5族、第6族、第8族、第9族、第 1 〇族、第1 1族、第1 4族、第1 5族之元素爲理想，更理 想爲第4族元素之鈦、鉻，第5族元素之釩、鈮，第6族 元素之鎢、鉻，第 8族元素之鐵，第9族元素之銘，第 10族元素之鎳，第1 1族元素之銅、第14族元素之鉛， 第1 5族元素之鉍、銻、磷。此處所提週期表係指化學便 覽基礎編I改訂4版（日本化學會編，日本九善，1 993 年）I 一 5 6頁記載之1 8族型元素週期表。更可添加微量 之鈉、鉀、铷等之鹼金屬或鎂、鈣、鋇等之鹼土金屬。 又，此等之氧化物以適當的載體載持再使用爲更理想 。載體以二氧化矽、二氧化矽氧化鋁、氧化鋁、二氧化鈦 、二氧化矽二氧化鈦、二氧化锆、二氧化銷二氧化矽等之 無機氧化物爲理想，特別理想爲二氧化矽。又，爲增加觸 媒之機械強度亦可添加高嶺土、滑石等之黏土。 該氧化物含有鉬及錫之氧化物時，鉬與錫之原子比 X{Mo/ ( Sn + Mo ) •，此處Mo爲該氧化物觸媒中之鉬之 原子數，Sn爲該氧化物觸媒中錫之原子數}，以〇 S X < 0.50之範圍者爲爲理想，（X = 0爲不含Mo之氧化物的 情形）。更理想爲S 0.24之範圍者，特別理想爲 0·08$Χ$0.15 之範圍。 該子比X爲〇以上者，由觸媒活性以比〇大者爲理 -9- (6) 1294415 想。又’燒結觸媒時’爲防止鉬之結晶析出於觸媒外部之 傾向’及防止減低觸媒流動性以低於〇·50者爲理想。 以下詳述使用於本發明氧化物觸媒之調製方法。 觸媒之調製，主要由1 )觸媒原料溶液之調製步驟、 2)原料溶液之乾燥步驟及觸媒先驅物之燒結步驟所成。 1)觸媒原料溶液之調製步驟
形成觸媒活性種之氧化物（以下，用語「氧化物」爲 亦包含複合氧化物者）原料之化學形象無特別的限制。理 想爲使用可在200〜100 〇°C形成氧化物之鹽、化合物。例 如，硝酸鹽、硫酸鹽、醋酸鹽、草酸鹽、銨鹽、氯化物、 氫氧化物等。又，亦可原樣使用市售之氧化物。 通常，1種以上之原料以水或適當的溶劑，於2 0〜8 0 °C充分的溶解。此時爲提高原料之溶解度，亦可將溶液之 液性控制於酸性或鹼性。爲難溶性時亦可添加過氧化氫的 情形。 原料溶液原樣乾燥亦可，如上述以適當的載體載持， 以含有載體成分之粉末，溶液、膠漿，膠體等充分混合者 爲理想。 此時，以硝酸鹽、硫酸鹽、氯化物爲氧化物原料時， 由於在其次之燒結步驟產生腐蝕性氣體，以添加氨水變化 爲氫氧化物爲理想。又爲調節黏度等，亦可將溶液之液性 調整爲酸性或鹼性。 -10- (7) 1294415 2)原料溶液之乾燥步驟•觸媒先驅物之燒結步驟 該步驟，係將上述觸媒原料溶液（以下，用語「觸媒 原料溶液」係包括含載體成分者）乾燥去除溶劑得到觸媒 先驅物’其後經燒結等之處理變換爲氧化物觸媒之步驟而 成。
觸媒原料溶液之乾燥方法無特別限制。例如，可列舉 以蒸發器將觸媒原料溶液於減壓下以5 〇〜9 〇 °C除去溶劑 ’以真空乾燥器於5 0〜1 5 0。(3乾燥1〜4 8小時的方法；於 1 5 0〜3 0 0 °C加熱之熱板上將觸媒料溶液由噴嘴吹出之方在 ;使用噴霧乾燥器（噴霧熱風乾燥器）乾燥之方法等。工 業上以噴霧乾燥器乾燥爲理想。噴霧乾燥器係由乾燥室、 原料液噴霧部、熱風吸氣•排氣部、乾燥粉末回收部所成 之熱風乾燥器。理想的噴霧乾燥條件，係將觸原料溶液使 用幫浦供給，由旋轉噴霧器（離心式噴霧器）、加壓噴嘴 、一流體噴嘴（氣體式噴霧器）等於乾燥室內噴霧。被噴 霧之觸媒原料溶液液滴，與控制於1 5 0〜5 00 °c之熱風以 對流或順流接觸將溶劑蒸發，回收乾燥粉末。 同樣將所得乾燥觸媒先驅物燒結方法無特別限制.。理 想爲於電爐中流通氮氣等惰性氣體及/或含氧氣體下，於 4 0 0〜1 〇 0 0 °C燒結0.5〜4 8小時。更爲活性種良好的分散 性，燒結前或後以水蒸氣於1 5 0〜5 0 0 °C處理〇 · 5〜4 8小時 亦可。 如後所述，有關本發明之方法，係以流動床反應形式 所實施，將原料溶液使用噴霧乾燥器乾燥，得到所形成之 -11 - (8) 1294415 觸媒先驅物，一邊流通含氧氣體一邊於5 00〜8 00°C燒結1 〜24小時之方法特別理想。 其次，本發明製造醇及/或酮之方法相關之反應述說 如下。 有關本發明方法之反應，係於水蒸氣的存在下，於氣 相將至少含有1種鏈烯之原料製造醇及/或酮之反應。
反應之機構並不明確，本發明者推定，首先由鏈烯與 水蒸氣之水和反應生成醇，其次生成之醇與氧化物觸媒之 晶格氧以氧化之脫氫反應，生成酮者。 反應原料所含之鏈烯，理想可列舉如丙烯、1 -丁烯 、2 — 丁烯（順式與反式）、戊烯、己烯、環己烯、庚烯 、辛烯、環辛身等。理想爲丙烯、〗—丁烯、2 — 丁烯（順 式或反式）、環己烯，特別理想爲1 一 丁烯、2 -丁烯（ 順式或反式）。此等之鏈烯可單獨使用，亦可2種以上混 合使用。 反應可將氮氣、氬氣、二氧化碳氣、甲院氣、乙焼氣 、丙烷氣、丁烷氣等對反應惰性之氣體，混合作爲稀釋氣 體、載氣同伙亦可。 供給反應器之水蒸氣量/供給反應器之鏈烯量（莫耳 比），依反應速度觀點以〇·〇5以上爲理想，又由效果之 觀點爲1 0.0以下，更理想爲0.2〜5.0，特別理想爲0.5〜 2.0 〇 反應器不供給分子狀氧，可使用氧化物觸媒之晶格氧 爲主作爲反應之氧源。 -12- (9) 1294415 對於鏈嫌供給量之觸媒量比（重量空間速度（W H S V ))無特別限制。理想爲Ο . Ο 1〜1 〇 H r -1，更理想爲Ο · Ο 5 〜5 Hr·1，特別理想爲0.1〜2 Hr·1。 重墓空間速度（WHSV)由下式定義之。
WHSV ( Hr·】）二鏈烯供給量（Kg/Hr) /觸媒量（Kg) 反應溫度之理想軔圍依原料而異，—般以1 3 0〜5 0 0 °C爲理想，更理想爲2 0 〇〜4 5 0 °C，特別理想爲2 3 0〜3 5 0 °C。反應壓力無特別限制。理想爲〇 · 〇丨〜5 μ P a，更理想 爲0.01〜1 MPa，再理想爲〇·〇3〜0.5 MPa，特別理想爲 0.05 〜0.3 MPa、 本發明之方法所使用之反應方式，一邊以流動床方式 * 進行反應，重複將供給反應之觸媒以連續或間歇抽出至再 - 生器經再生處理後’將該觸媒之全部或一部份連續或間歇 的送回流動床反應器之操作’進行所謂之觸媒循環方式。 觸媒循環量依一定反應轉化率而決定。理想爲送回反應器 % 之觸媒量/供給反應器之鏈烯量（質量比）爲0.5〜100 之範圍者，更理想爲5〜1 0 0的範圍，特別以5〜7 0範圍 爲理想。 觸媒再生係於觸媒再生必要之溫度、時間於含有氧氣 的環境下進行再生處理。再生溫度，理想爲100〜5 5〇它 之範圍’更理想爲270〜5 5 0 °C，特別理想爲2 70〜5〇〇。(： 。再生時間理想爲1秒〜1 0小時的範圍，更理想爲1 〇秒 〜1 〇小時的範圍，特別理想爲1分鐘〜1小時的範圍。氧 氣濃度，理想爲1 0容量p p m〜1 0 0容量％的範圍者，更 -13- ⑧ (12) 1294415 (反應氣體分析） 氣相色譜儀日本島津GC — 17A，毛細柱SPB — 1 ( 0 0.25 x 6 0 m) ，INJ 溫度 25 0°C，FID 溫度 25 0 °C，柱溫 度 40°Cxl〇min，5°C/min 昇溫，保持 200°Cx8 min。 (反應氣體中二氧化碳、一氧化碳分析）
氣相色譜儀日本島津GC — 8A，塡充柱Porapac Q ( 0 3 X 2 m )及 MS - 5A ( 0 3x 3 m )之並列柱，INJ 溫度 7 0°C，TCD溫度70°C，柱溫度保持70°C。 (觸媒化學組成分析） ΕΡΜΑ ( Scanning Electron Microanalyzer)日本日立 製作所製X— 65 0。 [參考例1](觸媒A之調製） 將93 80 g氯化錫5水鹽溶解於60 L純水，添加3 040 g二氧化矽微粉末（商品名：日本】3?311八61*(^1股份有限 公司製Aerosil 200V)，於500 rpm邊攪拌邊加入8質量 %氨水至pH爲5〜7爲止，得到二氧化矽與錫氫氧化物 之沈澱物。將該白色沈澱過濾後，以純水充分洗淨。於該 濾餅添加由6 6 0 g鉬酸銨溶解於]2.7 L純水之水溶液，成 爲均勻之淤漿後，添加濃硝酸，將淤漿之PH調爲2〜4 。將該淤漿以噴霧乾燥器噴霧乾燥得到球狀之成型體粉末 -16- ⑧ (13) (13)
1294415 。將所得之成型體粉末於電爐中於空氣環境以6 5 Ο 1小時。該觸媒Α之組成以ΕΡΜΑ組成分析裝置分 Sn02 51 質量 ％、Μο03 7 質量 ％、Si02 42 質量 ％ 媒A之Mo/ ( Sn + Mo)原子比0.13，爲適合於流 媒之圓滑球形，具有充分之機械強度。 [參考例2](觸媒B之調製） 與參考例1約略相同之方法調製組成相異的觸 該觸媒B之組成，Sn02 48質量％、Mo03 1 1質 Si〇2 41 質量 ％。該觸媒 B 之 Mo/ (Sn+Mo) ο · 1 9，爲適合於流動床觸媒之圓滑球形，具有充分 強度。 [參考例3](觸媒C之調製） 與參考例1約略相同之方法調製組成相異的觸 該觸媒C之組成，Sn02 65質量％、Mo03 5.質量％ 3 0質量％。該觸媒C之Mo/ (S η+Mo)原子比 爲適合於流動床觸媒之圓滑球形，具有充分之機械 [參考例4](觸媒D之調製） 與參考例1約略相同之方法調製組成相異的觸 該觸媒D之組成，Sn02 3 1質量％、Μο03 30質 Si02 39 質量 ％。該觸媒 D 之 Mo/ (Sn+Mo) 0.5 0，成形粉末成爲塊狀不能均勻燒結不適合於流 °C燒結 析時， 。該觸 動床觸 媒B 〇 量％、 原子比 之機械 媒C。 、Si02 0.07 ^ 康度。 媒D。 量％、 原子比 動床觸 -17- (14) 1294415 媒。 由此知作爲流動床觸媒，Mo/ ( Sn + Mo )原子比以 低於〇 . 5 0爲理想。 [參考例5](觸媒E之調製）
除了使用四氯化鈦取代氯化錫5水鹽以外與參考例1 約略相同之方法調製組成相異的觸媒E。該觸媒E之組成 ，Ti02 44 質量 ％、Mo03 1 7 質量 ％、Si02 3 9 質量 ％。該 觸媒E之Mo/ ( Sn+ Mo )原子比0.18，爲適合於流動床 觸媒之圓滑球形，具有充分之機械強度。 [參考例6](觸媒F之調製） 與參考例1約略相同之方法調製組成相異的觸媒F。 該觸媒F之組成，Sn02 46質量％、Mo03 16質量％、 Si02 3 8質量％。該觸媒 F之 Mo/ ( Sn + Mo )原子比 0.29，爲適合於流動床觸媒之圓滑球形，具有充分之機械 強度。 [實施例1] 如圖1之由流動床反應器與觸媒再生器所成之反應裝 置塡充觸媒A，將觸媒A於反應器與再生器之間循環，再 連續實施進行反應及觸媒再生之觸媒循環方式之流動床反 應。此時，再生器與反應器之間設置汽提裝置（內徑0 2 0 X長度6 0 )，惰性氣體之供給量/輸送之再生觸媒量（ - 18- ③ (15) (15)
1294415 容量/質量比：1/ kg)爲67供給N2，回至反應器 再生觸媒於1 5 0 °C汽提。於反應器，將1 一丁烯/水 /N2 = .20 / 5 0/ 3 0 (容量比）比例之原料，相對於反 之觸媒量，以重量空間速度（WHSV ) = 0.2 ΗΓ1供糸 —丁烯之供給量爲25.6 Nl / Hr。反應溫度爲25 0°C 生器供給空氣與N2之混合氣體。將上述反應進行10 。於1 Hr、3 Hr之反應成積如表1所示。又，副產 關以COx ( C02與CO之合計）之選擇率爲代表記述。 以下爲表1所示各性質値之定義。全部以碳爲基 示0 1 一 丁烯之轉化率（％ ) = ( F — L) / FxlOO 各成分之選擇率（mol%) =P/ (F—L) xlOO F :供給之1 一 丁烯量（Cmol) L :未反應之1 一 丁烯量（含1 一 丁烯異性化之2 細之量）（C m ο I ) P:生成之各成分量（Cmol ) 爲能使1 -丁烯異性化反應之生成物2 - 丁烯可 原料再使用，以未反應物處置。 MEK以外之副產物爲 C02、CO、丙酮；醋酸、 、碳數5以上之低聚物等。 [比較例1 ] 不設置汽提器，由再生器排出之觸媒樣回至反應 外與實施例1約略相同之條件實施觸媒循環方式之流 前之 蒸氣 應器 ^ 0 1 〇再 小時 物相 準表 一丁 作爲 丁醇 器以 動床 -19- (16) 1294415 反應。將上述反應進行1 〇小時。於1 Hr、3 Hr之反應成 積如表1所示。又’副產物相關以COx ( C〇2與C0之合 計）之選擇率爲代表記述。 [實施例2]
除重量空間速度（WHSV) =0.4 Hr·1以外與實施例1 約略同樣之條件進行汽提，以約略同樣之條件實施觸媒循 環方式之流動床反應。將上述反應進行1〇小時。於i Hr 、3 H r之反應成積如表1所示。又，副產物相關以c Ο x ( C02與CO之合計）之選擇率爲代表記述。 - [比較例2] _ 不設置汽提器，由再生器排出之觸媒樣回至反應器以 外與實施例2約略相同之條件實施觸媒循環方式之流動床 反應。將上述反應進行1 〇小時。於1 Hr、3 Hr之反應成 胃| 積如表1所示。又，副產物相關以COx ( C02與CO之合 計）之選擇率爲代表記述。 由實施例1與比較例1，及實施例2與比較例2之比 較，由再生器至反應器間之汽提，判明目的生成物之選擇 性可提高。 [實施例3] 除了使用觸媒B以外以外與實施例1約略同樣之條件 實施觸媒循環方式之流動床反應。將上述反應進行1 0小 -20- (17) 1294415 時。於1 Hr、3 Hr之反應成積如表1所示。又，副產物 相關以C0X ( C〇2與C0之合計）之選擇率爲代表記述。 [實施例4] 除了使用觸媒C以外以外與實施例1約略同樣之條件 實施觸媒循環方式之流動床反應。將上述反應進行：[〇小 時。於1 Hr、3 Hr之反應成積如表]所示。又，副產物 相關以C0X ( C〇2與C0之合計）之選擇率爲代表記述。 [實施例5] 除了使用觸媒E以外以外與實施例1約略同樣之條件 實施觸媒循環方式之流動床反應。將上述反應進行1 〇小 時。於1 Hi*、3 Hr之反應成積如表1所示。又，副產物 相關以C0X ( C02與C0之合計）之選擇率爲代表記述。
[實施例6] 除了使用觸媒F以外以外與實施例1約略同樣之條件 實施觸媒循環方式之流動床反應。將上述反應進行1 0小 時。於1 H r、3 Η1·之反應成積如表1所示。又，副產物 相關以C0X ( C02與C0之合計）之選擇率爲代表記述。 於本實施例所使用之觸媒，除了鉬含有率與其他實施例所 使用之觸媒比較時爲高（本發明規定之範圍內），此.時， 目的物質之MEK之選擇率應顯示較優値與其他實施例値 比較變低。 -21 - (18) 1294415 其他使用觸媒A，原料之鏈烯由1 - 丁烯變更爲丙烯 、環己烯與實施例進行同樣之反應再生器與反應器之間設 置汽提器部，將由再生器回至反應器之觸媒進行汽提時， 確認可提高目的生成物之選擇率。
J) (19) 1294415 〔表1〕
觸媒 觸媒組成 Mo/(Sn+Mo) 原子比 WHSV (Hr'1) 由再生器至反 應器間之汽提 反應 時間 轉化率 (%) MEK 選擇率 (%) cox 迸擇伞 實施例 1 A 0.13 0.2 有 lHr 14.9 94.0 0.8 3Hr 16.0 94.5 0.4 比較例 1 A 0.13 0.2 無 lHr 11.8 89.0 2.2 3Hr 11.3 88.8 2.6 實施例 2 A 0.13 0.4 有 lHr 10.0 97.2 0.2 3Hr 9.0 93.2 0.3 比較例 2 A 0.13 0.4 Μ J V \\ lHr 8.9 84.9 2.4 3Hr 8.8 80.3 2.0 實施例 3 B 0.19 0.2 有 3Hr 16.0 94.0 0.3 實施例 4 C 0.07 0.2 有 3Hr 13.5 94.0 0.1 實施例 5 E 0.18*1 0.2 有 3Hr 16.0 93·5*2 0.3 實施例 6 F 0.29 0.2 有 3Hr 14.0 90.5 0.8 * 1 :所示爲Mo/ ( Ti + Mo )(原子比） *2 :僅限實施例5，顯示MEK與丁醇之選擇率之合 計。MEK與丁醇之率選擇率之比約略爲1 : 1。 (20) 1294415 〔產業上之利用領域〕 本發明之製造方法，係於氣相在水蒸氣之存在下使用 觸媒，至少由1種鏈烯製造對應之醇及酮的反應，反應器 與再生器間將觸媒進行循環方式時有提高目的生成物選擇 率之效果。因此，有用於此等化合物之工業化製造方法。 【圖式簡單說明】
〔圖1〕爲本發明之流動床反應器、再生器、汽提器 之槪略圖 【主要元件符號說明】 a 觸媒排出管線 b 觸媒循環管線
-24

Claims (1)

  1. :1294415
    第94 1 03 700號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國96年12月4日修正 1 一種製造醇及/或酮之方法，係在水蒸氣之存在 下’將至少含有1種鏈烯之原料以氣相與氧化物觸媒接觸 進行反應，製造該鏈烯所對應之醇及/或酮之方法，其特 徵爲上述方法滿足以下（a)〜（c)之要件： (a )上述氧化物觸媒爲含有鉬及/或錫之氧化物； (b )上述反應，以於不供給分子狀氧之條件下於流 動床反應器與再生器間使該觸媒循環的方式進行；及 (c)於由上述再生器至上述反應器之間設置汽提器 部。 2 ·如申請專利範圍第1項之方法，其中更於上述反 應器至上述再生器之間設置汽提器部。 3 .如申請專利範圍第1項之方法，其中上述至少1 種之鏈烯爲1 一 丁烯及/或2- 丁烯。 4. 如申請專利範圍第2項之方法，其中上述至少1 種之鏈烯爲1 一 丁烯及/或2— 丁烯。 5. 如申請專利範圍第1至第4項中任一項之方法， 其中含於上述氧化物觸媒之鉬與錫之原子比X{Mo/ (Sn + Mo );此處Mo爲該氧化物觸媒中之鉬之原子數，Sn 爲該氧化物觸媒中錫之原子數}，爲X<〇.5〇之範圍。 6.如申請專利範圍第1至第4項中任一項之方法，其 1294415 中含於上述氧化物觸媒之鉬與錫之原子比X{M〇/ (Sn + Mo );此處Mo爲該氧化物觸媒中之鉬之原子數，Sn爲該 氧化物觸媒中錫之原子數}，爲0.01SXS0.24之範圍。
    •1294415
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