TWI292509B - Optical projection apparatus and adjusting method thereof - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 22
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 16
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 241000254158 Lampyridae Species 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
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- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0994—Fibers, light pipes
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Description
c/m 1292撒 id。 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種光學投影裝置及其調校方法, 且特別是有關於一種可投影出高亮度及高對比影像的光學 投影裝置及其調校方法。 【先前技術】 近年來,體積龐大且笨重的陰極射像管(Cath〇de Ray Tube,CRT)投影裝置,已逐漸被液晶投影裝置及數位光 源處理(Digital Light Processing,DLP)投影裝置等產品所 取代。這些產品具有輕薄且可攜性高的特性,並可直接與 數位產品連結,將影像投影顯示出來。在各家廠商不斷地 推出便宜且具有競爭性的產品並增加其附加功能的情況 下,這些產品除了於公司、學校及其他公眾場所作為簡報 使用外,甚至已經逐漸擴展至一般家庭作為影片欣賞之 用。因此,如何提升投影裝置之影像品質,進而提高產品 競爭力,已成為重要的課題。 圖1繪示為習知一種光學投影的結構示意圖。請參 照圖1 ’習知之光學投影裝置1〇〇包括一照明系統11〇、 數位微鏡裝置(Digital Micro-mirror Device,DMD)120 以 及一投影鏡頭130。其中,照明系統11()包括一光源112、 一集光柱114、一透鏡110與一反射片118。此光源112 會提供一光束112a,而集光柱Π4、透鏡116與反射片118 皆配置於光束112a的傳遞路徑上,且透鏡U6位於集光 柱114與反射片118之間。此外,數位微鏡裝置12〇配置 1292509 14764twf.doc/i 於反射片118之後,且位於光束112a的傳遞路徑上。而 投影鏡頭130配置於數位微鏡裝置120之後,且位於光束 112a的傳遞路徑上,其中投影鏡頭130中具有一光瞳 (stop) 132 〇 上述之光學投影裝置100中,光源112所提供的光 束112a會依序通過集光柱114、透鏡116而傳遞至反射 片118,且反射片118會將光束112a反射至數位微鏡裝 置120。而此數位微鏡裝置120具有多數個微鏡(未繪示), 其中呈現ON狀態的微鏡會將光束U2a反射至投影鏡頭 130,而呈現OFF狀態的微鏡會使光束112a偏離投影鏡 頭130。之後,投影鏡頭130會將光束U2a投影於螢幕300 上,以於螢幕300上形成影像。 承上述’由於光學投影裝置1〇〇在製造時會有各種 元件誤差,如光源112、集光柱114、透鏡116、反射片n8 與數位微鏡裝置120之尺寸誤差、數位微鏡裝置12()之微 鏡傾斜角度狭差、投影鏡頭130之光瞳132位置誤差,以 及各元件之相對位置誤差。上述這些誤差累積後會造成光 學投影裝置100所投影出的影像品質不佳,並且間接降低 光學投影裝置1〇〇的製作良率。以下將以數位微鏡裝置12〇 之微鏡傾斜角度誤差及透鏡116位置誤差為例子進行說 明。 圖2A與® 2B緣示為數位微鏡裝置之微鏡傾斜角度 與影像成像位置之關係圖。請先參照圖2a,在正常情況 下’數位微鏡裝置120(如圖1所示)之微鏡122的傾斜角 1292509 14764twf.d〇c/m 度<9為12度,而當微鏡122處於ON狀態時,光束112a 的傳遞路徑為路徑A與路徑B,此時光束122a會入射投 影鏡頭130之光瞳132中。此外,當微鏡122處於OFF 狀態時,光束112a的傳遞路徑為路徑A與路徑D,其中 路徑B與路徑D之夾角為48度。 接著,請參考圖2B,若數位微鏡裝置120之微鏡122 的傾斜角度(9僅為11度,則當微鏡122處於ON狀態時, 路徑B’會偏離投影鏡頭130,而且當微鏡122處於OFF 狀態時,路徑D’與路徑B’之夾角僅為46度。由於光束112a 無法精確入射投影鏡頭130之光瞳132 ?所以影像的亮度 會減低。此外,由於路徑D’與路徑B之夾角由48度變為 46度,所以當微鏡122處於OFF狀態時,具繞射效應的 光束112a之雜散光較容易打入投影鏡頭130,造成影像 的對比下降。 圖3繪示為具透鏡位置誤差之光學投影裝置的結構 示意圖,而圖4A與圖4B繪示為數位微鏡裝置與光束的 位置關係圖。請先參照圖1與圖4A,若組裝後之透鏡116 位置沒有誤差,則入射數位微鏡裝置120之光束112a不 會產生偏移。反之,請參照圖3與圖4B,若組裝後之透 鏡Π6位置偏離原設計之位置,則入射數位微鏡裝置120 之光束112a會有偏移的現象。 承上述,由於透鏡116容易產生誤差,使光束112a 入射數位微鏡裝置120的位置偏移,所以一般會調整集光 柱114之水平(γ軸)位置或垂直(z軸)位置,或者調整反 1292509 14764twf.doc/m 射片118之傾斜角度來改變光束112&入射數位微鏡裝置 120之位置,以達到調校的目的。 然而,由於上述之兩種調校方法僅能調整光束U2a 入射數位微鏡裝置12〇之位置,而無法調整光束U2a入 射投影鏡頭130之角度,再加上各種元件之誤差,所以光 束112a不一定會精確入射光瞳132。因此,習知之光學 投影裝置100僅能投影出無陰影之影像,並無法投影出高 亮度之影像。 【發明内容】 因此,本發明的目的就是在提供一種光學投影裝置, 主要係藉由碰其㈣元件,以投影出高亮度及高對比之 影像。 本發明的另一目的是提供一種光學投影裝置的調校 方法,以使光學投影裝置投影出高亮度及高對比之影像。 基於上述與其他目的,本發明提出—種光學投影裝 置’其包括-照m —反射式光閥以及—投影鏡頭。 其中’照㈣統包括-光源、—可調式集光柱與—可調式 反射片。此光源適於提供—光束,而可調式集光柱配置於 光束的傳遞路徑上,且可調式反射片配置於可調式集光柱 之後,並位於光束的傳遞路徑上。此外,反射式光闕配置 於可调式反射片之後,且位於光束的傳遞路徑上,其中可 調式集光柱適於切換光束的傳遞路徑,使光束入射至反射 式光閥。另外,投影鏡頭配置於反射式光閥之後,且位於 光束的傳遞路徑上,其中投影鏡頭具有一光瞳,且可調式 c/m 1292歡 d。 反射片適於切換光束的傳遞路徑,使光束通過投影鏡頭之 光瞳。 上述之光學投影裝置中,可調式集光柱例如適於沿 一水平方向及一垂直方向移動一距離,以切換光束入射反 射式光閥之位置。此外,可調式反射片例如適於傾斜一角 度,以切換光束入射光瞳之位置。 上述之光學投影裝置中,光源可為超高壓汞燈、金 屬鹵化物燈或氙燈。此外,可調式集光柱可為空心集光柱 或實心集光柱。另外,可調式反射片可為平面反射片或曲 面反射片。 上述之光學投影裝置中,反射式光閥可為數位微鏡 裝置或反射式單晶矽液晶面板。 本發明另提出一種光學投影裝置的調校方法,其適 於調校上述之光學投影裝置,此光學投影裝置的調校方法 包括下列步驟·· (a)提供一調校輔助投影鏡頭。(b)藉由光 學投影裝置將一第一影像投影於一螢幕上,並藉由光學投 影裝置與調校輔助投影鏡頭將一第二影像投影於螢幕上。 (c)調整光學投影裝置中之可調式集光枝以及可調式反射 片,以改變第一影像投影在螢幕上之位置以及改變第二影 像。 上述之光學投影裝置的調校方法中,第二影像例如 包括一光曈影像及一光束影像,而改變第二影像係改變光 束影像投影在螢幕上之位置。 上述之光學投影裝置的調校方法中,步驟(C)例如係 /m ^調整光學投影裝置中之可調式集紐,以改變第一影像 投影在螢幕上之位置。之後’再調整 調式反射片,以改變第二影像。 上述之鮮投影^的調校方法中,步驟⑷例如係 ,調整光學投影裝置中之可調式反射片,以改變第二影 ^。之後,調整光^投影衫中之可調式集 以改變 苐一影像投影在螢幕上之位置。 上述之光學投影裝置的調校方法巾 複步驟(C)至少一次。 上述之光學投影裝置的調校核巾,驢可調式集 光柱例如侧整可献集紐之水平位置㈣纽置。此 外’調整可調式反射片例如係調整可調式反射片之傾斜角 度0 本發明又提出-種光學投影裝置的調校方法,其適 於調校上述之光學投難置,此光學投影裝㈣調校方法 包括下列步驟:⑻藉由光學投影裂置將—影像投影於一 營幕上。(b)調整光學投影裝置中之可調式集光柱,以改 變影像投影在榮幕上之位置,以及藉由_絲減片檢視投 影鏡頭中之光束與光瞳之相對位置’並藉由調整光學投影 裝置中之可調式反射片,以改變光束與光瞳之相對位置。 上述之光學投影裝置的調校方法中,步驟(b)例如係 先調整光學投影裝置中之可調式集光柱,以改變影像投影 在螢幕上之位置。之後,再調整光學投影裝置中之可調式 反射片,以改變光束與光瞳之相對位置。 1292509 14764twf.doc/m 且 ,利用一光衰減器來檢視投影鏡頭中之光 對位置,並藉_整可調式反糾使光束精叙射 因此,本發明之光學投影裝置的調校方法可以使上述之光 學投影裝置投影出面亮度及高對比之影像。 為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明 顯易懂,下文特舉較佳貫施例,並配合所附圖式,作詳細 說明如下。 【實施方式】
第施例
圖5繪不為本發明一較佳實施例之光學投影穿置之 結構示意圖。请參照圖5,本實施例之光學投影裝置2〇〇 包括一照明系統210、一反射式光閥220以及一投影鏡頭 230。其中’照明糸統210包括一光源212、一可調式集 光柱214、一透鏡216與一可調式反射片218。此光源212 可為超高壓采燈、金屬鹵化物燈或氤燈,其適於提供一光 束212a,而可調式集光柱214、透鏡216與可調式反射片 218皆配置於光束212a的傳遞路徑上,且透鏡216位於 可調式反射片218與可調式集光柱214之間。 此外,反射式光閥220可為數位微鏡裝置或反射式 單晶矽液晶面板,在本實施例中以數位微鏡裝置為例,其 配置於可調式反射片218之後,且位於光束212a的傳遞 路徑上。其中,可調式集光柱214適於切換光束212a的 傳遞路徑,使光束212a入射至反射式光閥220。另外, 投影鏡頭230配置於反射式光閥220之後,且位於光束 12 1292徹 w f.doc/m 212a的傳遞路徑上。此投影鏡頭230具有一光瞳232,且 可調式反射片218適於切換光束212a的傳遞路徑,使光 束212a通過投影鏡頭之光瞳232。 上述之光學投影裝置200中,可調式集光柱214可 為空心集光柱或實心集光柱,其可沿一水平方向(γ軸)及 一垂直方向(Z軸)移動一距離,以切換光束212a入射反射 式光閥220之位置。此外,可調式反射片218可為平面反 射片或曲面反射片,其可傾斜一角度,以切換光束212a 入射光瞳232之位置。 本發明一較佳實施例中,光源212所提供的光束212a 會依序通過可調式集光柱214、透鏡216而傳遞至可調式 反射片218,且可調式反射片218會將光束212a反射至 反射式光閥220。而此反射式光閥220具有多數個微鏡(未 繪示),其中呈現ON狀態的微鏡會將光束212a反射至投 衫鏡頭230 ’而呈現OFF狀態的微鏡會使光束212a偏離 投影鏡頭230。之後,投影鏡頭230會將光束212a投影 於螢幕300上,以於螢幕300上形成影像。 承上述,由於本實施例之可調式集光柱214,可沿著 水平方向(Y軸)及垂直方向(Z軸)移動,以改變光束212a 的傳遞路徑,所以可使光束212a入射至反射式光閥220 上的適當位置。而且,由於可調式反射片218之傾斜角度 可改變,所以可藉由調整可調式反射片218的傾斜角度, 使光束212a精確入射投影鏡頭230之光瞳232。因此, 本實施例之光學投影裝置200,所投影出的影像不僅無陰 rf.doc/m 影,而且還具有高亮度及高對比之特性。 第二實施例 圖Η 會示為本發明一較佳實施例之—種光學投影裝 置的敵方法之步驟流程圖,圖7繪示為光學投影裝置的 成像示意圖,目8Α緣示為第_影像的影像位移示意圖, 而圖8Β繪示為第二影像的影像位移示意圖。請同時參照 圖6:圖7、、圖8Α與圖8Β,本實施例之_種光學投影裝 置的調校方法適於調校上述之光學投影裝置顺如圖5 所示)、,,此光學投影裝置的調校方法包括下列步驟: _ Μ,如步驟SU〇所示,提供一調校辅助投影鏡頭 ’亚將其置於投影鏡頭23G與螢幕3⑻之間,此調校 辅助投影鏡頭‘240為-長後焦之鏡頭,其魏 頭230之光瞳232的位置。 μ 接著,如步驟S120a所示,藉由光學投影裝置2〇〇 將一第一影像410投影於螢幕3〇〇上。 之後、如步驟S130a所示,調整光學投影裝置2〇〇 中之可調式集光柱214,以改變第一影像投影在螢幕 上之位置。更詳細地說,在本實施例中例如係藉由調 整可調式集光柱2M之水平(Y軸)位置與垂直(2軸)位置, 以改變第一影像410投影在螢幕3〇〇上之位置,使第一影 像410、位於螢幕3〇〇之中央(如圖8八所示)。 >然後,如步驟S14〇a所示,藉由光學投影裝置2〇〇 與调校辅助投影鏡頭.240將一第二影像42〇投影於暮 300上。 、宠梦 14 1292509 14764twf.doc/m 之後,如步驟SI50a所示,調整光學投影裝置200 中之可調式反射片218,以及改變第二影像42〇:更詳細 地說’在本實施例中第二影像420例如包括一光瞳影像422 及一光束影像424,而改變第二影像420係改變光束影像 424投影在螢幕300上之位置。此外,在本實施例中,例 如係藉由調整可調式反射片218之傾斜角度,以改變光束 影像424之位置,使光束影像424位於光瞳影像422之中 央(如圖8B所示)。 上述之光學投影裝置的調校方法中,當調整光束影 像424之位置時,先前調校過的第一影像41〇之位置可能 會稍微移動。因此,可視情況而重複步驟;513〇a及步驟 S150a,直至第一影像410位於螢幕300中央,且光束影 像424位於光瞳影像422中央為止。 本發明一較佳實施例中,在步驟S110之後,亦可接 著進行步驟S120b,也就是藉由光學投影裝置200與調校 輔助投影鏡頭240將一第二影像420投影於螢幕300上。 之後,如步驟S130b所示,調整光學投影裝置200 中之可調式反射片218,以及改變第二影像420。 然後,如步驟S140b所示,藉由光學投影裝置200 將一第一影像410投影於螢幕300上。 接著,如步驟S150b所示,調整光學投影裝置200 中之可調式集光柱214,以改變第一影像410投影在螢幕 300上之位置。 此外,有關於第一影像410與第二影像420的調整 15 1292509 14764twf.doc/m 方法與前述相似,在此不再重述。 上述之光學投影裝置的調校方法中,當調整第一影 像410之位置時,先前調整過的光束影像424之位置可能 會稍微移動。因此,可視情況而重複步驟S130b與步驟 S15〇b,直至第一影像410位於螢幕300中央,且光束影 像424位於光瞳影像422中央為止。 心 值得注意的是,由於先調整之影像有可能合 動,所以可根據經驗,先將第一影像410調整g ρ 上的適當位置,再調整光束影像424之位置,=幕3〇〇 束影像424調整至螢幕300上的適當位置,^者先將光 像410之位置,以減少調校次數。此外,在調第一影 410之位置前,亦可先拿掉調校輔助投影鏡1卑一影像 整第一影像410之位置。 40,再調 圖9繪示為本發明一較佳實施例之另一 裝置的調校方法之步驟流程圖。請 同時參照圖學投影 本實施例另提出一種光學投影裝置的調校方法,輿圖9, 校上述之光學投影裝置200(如圖5所示),此、’其適於調 置的調校方法包括下列步驟: 光學投影裝 ,藉由光學投影较 上0 薏200將 首¥,如步驟S210所示 第一影像410投影於螢幕300 接者,如步驟S220a所 中之可調式集光柱214,以改變第一影像及置2( 300上之位置。 投影在螢; 之後,如步驟S230a所示,藉由一 光衰滅片 (未繪示) 14764twf.doc/m 檢視投影鏡頭230中之光束212a與光瞳232之相對位置, 並藉由調整光學投影裝置200中之可調式反射片218,以 改k光束212a與光瞳232之相對位置,使光束2i2a精確 入射光瞳232。 上述光學投影裝置的調校方法中,當調整光束212a 與光瞳232之相對位置時,先前調整過的第一影像41〇之 位置可能會會稍微移動,所以可視情況而重複步驟S22〇a 與S220b,直至第一影像410位於螢幕3〇〇中央,且光束 212a精確入射光瞳232為止。 本發明一較佳實施例中,在步驟S21〇之後,亦可接 著進行步驟S220b,也就是藉由一光衰減片(未繪示)檢視 投景4鏡頭230中之光束212a與光瞳232之相對位置,並 藉由調整光學投影裝置200中之可調式反射片218,以改 變光束212a與光瞳232之相對位置,使光束212a精確入 射光瞳232。 之後,如步驟S230b所示,調整光學投影裝置200 中之可調式集光柱214,以改變第一影像41〇投影在螢幕 300上之位置。 上述光學投影裝置的調校方法中,當調整調整第一 景’像410之位置時,先前調校過的光束212a與光瞳232 之相對位置可能會會稍微移動。因此,可視情況而重複步 驟二S220b與S230b,直至第一影像410位於螢幕30〇中 央,且光束212a精確入射光曈232為止。 另外’有關於可調式集光柱214與可調式反射片218 17 1292509 14764twf.doc/m 的調整方式以及第一影像410調整之方法與上述相似,在 此不再重述。 表 上所述,本發明之光學投影裝置及其調校方法至 少具有下列優點: 1·可使光束入射反射式光閥上的適當位置,所以可以 投影出無陰影之影像。 2·可使光束精確入射投影鏡頭之光瞳,因此可以投影 出南免度及高對比之影像。 ' 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之^ 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 圖1繪示為習知一種光學投影的結構示意圖。 圖2A與圖2B繪示為數位微鏡裝置之微鏡傾斜角度 與影像成像位置之關係圖。 又 圖3繪示為具透鏡位置誤差之光學投影裝置的結構 示意圖。 圖4A與圖4B繪示為數位微鏡裝置與光束的位置關 係圖。 圖5繪示為本發明一較佳實施例之光學投影裝置之 結構示意圖。 圖6繪不為本發明一較佳實施例之一種光學投影裝 置的調校方法之步驟流程圖。 1292502 >4twf.doc/m ^圖7繪示為光學投影裝置的成像示意圖。 圖8A繪示為第一影像的影像位移示意圖。 圖8B繪示為第二影像的影像位移示意圖。 圖9繪示為本發明一較佳實施例之另一種光學投影 裝置的調校方法之步驟流程圖。 【主要元件符號說明】 100、200 :光學投影裝置 110、210 :照明系統 112、212 :光源 112a、212a :光束 114 :集光柱 116、216 :透鏡 118 :反射片 120 :數位微鏡裝置 122 :微鏡 130、230 :投影鏡頭 132、232 :光瞳 214 :可調式集光柱 218 :可調式反射片 220 ··反射式光閥 240 :調校輔助投影鏡頭 300 :螢幕 410 :第一影像 420 :第二影像 I29250^d〇c/m 422 :光瞳影像 424 :光束影像 0:傾斜角度
Claims (1)
- c/m 1292撒 f.d。 十、申請專利範圍: 1·一種光學投影裝置,包括·· 一照明系統,包括: 一光源,適於提供一光束; 一可調式集光柱,配置於該光束的傳遞路徑上; 一可調式反射片,配置於該可調式集光柱之後, 且位於該光束的傳遞路徑上; 一反射式光閥,配置於該可調式反射片之後,且位 於該光束的傳遞路徑上,其中該可調式集光柱適於切換該 光束的傳遞路徑,使該光束入射至該反射式光閥;以及 一投景々鏡頭,配置於該反射式光閥之後,且位於該 ,束的傳遞路徑上,其中該投影鏡頭具有一光瞳,且該可 调式反射片適於切換該光束的傳遞路徑,使該光束通過該 投影鏡頭之該光瞳。 2·如申請專利範圍第1項所述之光學投影裝置,其中 该可調式集光柱適於沿一水平方向及一垂直方向移動一距 離’以切換該光束入射該反射式光閥之位置。 ▲ 3·如申請專利範圍第1項所述之光學投影裝置,其中 该可調式反射片適於傾斜一角度,以切換該光束入射該光 曈之位置。 ^ 4·如申請專利範圍第1項所述之光學投影裝置,其中 °亥光源包括超高壓汞燈、金屬齒化物燈或氙燈。 ^ 5·如申請專利範圍第1項所述之光學投影裝置,其中 该可調式集光柱包括空心集光柱或實心集光柱。 21 I2925lfi2wf.doc/m ,6·如申請專利範圍第i項所述之光學投影裝置,其中 遠可调式反射片包括平面反射片或曲面反射片。 7·如申請專利範圍第1項所述之光學投影裝置,其中 該反射式光閥包括數位微鏡裝置或反射式單晶矽液晶面 板。 8· —種光學投影裝置的調校方法,適於調校申請專利 範圍第1項之光學投影裝置,該光學投影裝置的調校方法 包括: (a) 提供一調校辅助投影鏡頭; (b) 藉由該光學投影裝置將一第一影像投影於一螢幕 上’並藉由該光學投影裝置與該調校輔助投影鏡頭將一第 二影像投影於該螢幕上;以及 (c) 調整該光學投影裝置中之該可調式集光柱以及該 可調式反射片,以改變該第一影像投影在該螢幕上之位置 以及改變該第二影像。 9·如申請專利範圍第8項所述之光學投影裝置的調校 方法,其中該第二影像包括一光瞳影像及一光束影像,而 改變該第二影像係改變該光束影像投影在該螢幕上之位 置。 10·如申請專利範圍第8項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中步驟(c)包括: 調整該光學投影裝置中之該可調式集光柱,以改變 該第一影像投影在該螢幕上之位置;以及 調整該光學投影裝置中之該可調式反射片,以改變 !<- 22 129251- 該第二影像。 11.如申請專利範圍第8項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中步驟(c)包括: 、 調整該光學投影裝置中之該可調式反射片,以改變 該第二影像;以及 調整該光學投影裝置中之該可調式集光杈,以改變 該第一影像投影在該螢幕上之位置。 二12.如申請專利範圍第8項所述之光學投影裝置的調 权方法,更包括重複步驟(c)至少一次。 13.如中請專利範圍第8項所述之光學投影裝置的調 交方法其中凋整该可調式集光柱包括調整該 隹 柱之水平位置與垂直位置。 . 了献亦九 ^ 4·如申口月專利範圍第g項所述之光學投景多裝置的調 校方法’其巾調輯可調狀射#包括赃該射 片之傾斜角度。 15. —種光學投影裝置的調校方法,適於調校申請專 利範圍第1項之光學投影裝置,該光學投影裝置的調校方 法包括: (a) 藉由該光學投影裝置將一影像投影於一螢幕上; 以及 ’ (b) 調整該光學投影裝置中之該可調式集光柱,以改 變該影像投影在該螢幕上之位置,以及藉由一光衰減片檢 視該投影鏡頭中之該光束與該光瞳之相對位置,並藉由= 整該光學投影裝置中之該可調式反射片,以改變該光束與 23 14764twf.doc/m 該光瞳之相對位置。 16. 如申請專利範圍第15項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中步驟(b)包括: 調整該光學投影裝置中之該可調式集光柱,以改變 該影像投影在該螢幕上之位置;以及 調整該光學投影裝置中之該可調式反射片,以改變 該光束與該光瞳之相對位置。 17. 如申請專利範圍第15項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中步驟(b)包括: 調整該光學投影裝置中之該可調式反射片,以改變 該光束與該光瞳之相對位置;以及 調整該光學投影裝置中之該可調式集光柱,以改變 該影像投影在該螢幕上之位置。 18. 如申請專利範圍第15項所述之光學投影裝置的調 校方法,更包括重複步驟(b)至少一次。 19. 如申請專利範圍第15項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中調整該可調式集光柱包括調整該可調式集光 柱之水平位置與垂直位置。 20. 如申請專利範圍第15項所述之光學投影裝置的調 校方法,其中調整該可調式反射片包括調整該可調式反射 片之傾斜角度。 24
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW093132695A TWI292509B (en) | 2004-10-28 | 2004-10-28 | Optical projection apparatus and adjusting method thereof |
| US11/160,824 US7258451B2 (en) | 2004-10-28 | 2005-07-12 | Optical projection device and adjusting method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW093132695A TWI292509B (en) | 2004-10-28 | 2004-10-28 | Optical projection apparatus and adjusting method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200613882A TW200613882A (en) | 2006-05-01 |
| TWI292509B true TWI292509B (en) | 2008-01-11 |
Family
ID=36261398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW093132695A TWI292509B (en) | 2004-10-28 | 2004-10-28 | Optical projection apparatus and adjusting method thereof |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7258451B2 (zh) |
| TW (1) | TWI292509B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8721086B2 (en) | 2010-11-05 | 2014-05-13 | Young Optics Inc. | Projection apparatus having light beam adjusting element |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7549756B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-06-23 | Thomson Licensing | Pixel shifting color projection system |
| JP2006023441A (ja) * | 2004-06-07 | 2006-01-26 | Kazuji Yoshida | 画像表示装置 |
| JP2006058859A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-03-02 | Kazuji Yoshida | 画像表示装置 |
| US20070091285A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Taiwan Micro Display Corporation | LCOS optical engine illumination system |
| TW200728770A (en) * | 2006-01-24 | 2007-08-01 | Coretronic Corp | Projection device having single reflective light valve |
| TWI370948B (en) * | 2007-12-14 | 2012-08-21 | Delta Electronics Inc | Projection system, projection lens set, optical actuator and its driving method |
| JP2009229563A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Seiko Epson Corp | プロジェクタ、および反射装置 |
| CN103365046B (zh) * | 2012-03-26 | 2015-09-09 | 中强光电股份有限公司 | 投影装置及其集光柱 |
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| JP6200791B2 (ja) * | 2013-12-04 | 2017-09-20 | 株式会社日立エルジーデータストレージ | 光学ユニット、投射型表示装置、および撮像装置 |
| EP3026490B1 (en) * | 2014-11-28 | 2018-06-20 | Ricoh Company, Ltd. | Image projection device and image projection method |
| WO2019041622A1 (zh) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | 深圳光峰科技股份有限公司 | 投影系统 |
| JP3243058U (ja) * | 2020-05-12 | 2023-08-03 | ルムス エルティーディー. | 回転式ライトパイプ |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW550396B (en) | 2000-11-13 | 2003-09-01 | Optoma Corp | Optical device capable of eliminating stray light |
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| TW499563B (en) | 2001-12-31 | 2002-08-21 | Ind Tech Res Inst | Micro flow measurement device and method thereof |
| JP4161641B2 (ja) | 2002-08-26 | 2008-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | ロッドインテグレータの保持機構、照明光学系の調整機構およびこれを用いたプロジェクタ |
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-
2004
- 2004-10-28 TW TW093132695A patent/TWI292509B/zh not_active IP Right Cessation
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- 2005-07-12 US US11/160,824 patent/US7258451B2/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7258451B2 (en) | 2007-08-21 |
| TW200613882A (en) | 2006-05-01 |
| US20060092389A1 (en) | 2006-05-04 |
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|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |