TWI289365B - Wafer scale image module - Google Patents
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- TWI289365B TWI289365B TW094134100A TW94134100A TWI289365B TW I289365 B TWI289365 B TW I289365B TW 094134100 A TW094134100 A TW 094134100A TW 94134100 A TW94134100 A TW 94134100A TW I289365 B TWI289365 B TW I289365B
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Description
1289365 九、發明說明: 、【發明所屬之技術領域】 ° 本發明係與影像模組有關,特別是指一種晶圓級影像 模組的組裝方法、影像模組結構及其組裝設備。 5【先前技術】 如第十二圖所示,係為一般常見的CMOS影像模組 (8〇),其主要係利用一鏡片座(Lens Holder)(81)罩設於一感 > 應晶片(82),鏡片座(81)設有一可旋轉之鏡片筒(Lens
Barrel)(83)’鏡片筒(83)中央設有一透鏡組(84),當透鏡組(84) / 1〇成像於感應晶片(82)時,藉由旋轉鏡片筒(83)可以改變透鏡 -組(84)與晶片(82)之間的距離,進而使光線聚焦於感應晶片 (82)。 如第十三圖所示,亦有另一種如W02004/027880號專 利案所述之影像模組,其包含有一影像擷取件(1〇3)以及一 15透鏡組(111、127),透鏡組(111、127)係呈堆疊狀地與影像 | 擷取件(103)相互貼合,使光線可經由透鏡組(ln、127)成像 於影像擷取件(103),而該專利案之特點在於,影像擷取件 (103)與透鏡組(m、127)皆係利用積體電路製程所製造,因 : 而可縮小影像模組之體積,使影像模組適用於手機、pda 2〇等消費性電子裝置。 然而’在製造上述專利案之影像模組時,透鏡組(m、 127)常會受到製程及溫度的影響而產生變形,進而使得透鏡 組(111、127)實際製作後的成品焦距與設計理論焦距約有 0〜50μιη的誤差,當上述專利案實行時,常常無法正確地將 4 1289365 光線聚焦於影像擷取件(103),造成透鏡組(iu、127)所成像 之影像呈離焦(0ut_0f-f0cus)狀態(如第十三圖中之虛線區域 A或B),而且,當透鏡組(ln、127)設於影像擷取件(1〇3) 上的時候,也會因為二者各自都具有不同的厚度尺寸變 5異,如玻璃晶圓每片約有〇〜2〇μπι的厚度誤差,因而造成堆 疊後更不易控制透鏡組(111、127)與影像擷取件(1〇3)之間的 距離,同樣會產生透鏡組(111、127)無法正確聚焦於影像擷 _ 取件(103)之問題。s ^ ίο 【發明内容】 - 口此,本發明之主要目的乃在於提供一種晶圓級事傻 _ 额,其具有一調整件,該調整件可補償焦點偏移量 隹。 本發明之另一目的在於提供一種晶圓級影像模組之組 15裝設備,其可原地調整與測試影像模組,使影 、 _ n較佳。 观、且之成 赞目的則在於提供—種日日日81級影像模組之 Ixe方法,其可使影像模組之成像品質較佳。 為達成前揭目的,本發明所提供之晶圓級 包含有一感光器、一透鏡組,以及一調整件,該、=^ 用以感應光線而輪出電性訊號,該透鏡組仙㈣:二係 像於該感光H,而該調整件係設於域光器與如心成 =該調整件用以補償該透鏡組與該感光器之d 移篁,使該透鏡組將光線正確聚焦於誠光器/偏 稽此,本 5 1289365 發明即可利用調整件之。結^,達到使該晶圓級影像模 組之 成像品質較佳的目的。 【實施方式】 5 、,以下,茲配合圖式舉若干較佳實施例,用卩對本發明 做詳=說明,其中所用之圖式先簡要說明如下: 第一圖係本發明第一較佳實施例之剖視圖; 弟。一圖係本叙明弟一較佳實施例中所使用之組裝設 的立體圖; 10 第二圖係本發明第一較佳實施例之示意圖,主要顯示 曰曰圓級影像模組預定位於組裝設備之狀態; 第四圖係本發明第一較佳實施例之示意圖,主要顯示 晶圓級影像模組設於測試台之狀態; 第五圖係顯示成像於感光器之影像係呈離焦狀態; 15 第六圖係類同於第四圖,其中調整件係設於第一晶圓 (感光裔)與弟二晶圓(透鏡組)之間; 第七圖係顯示調整件設於晶圓級影像模組之後,感光 器之成像狀態; 第八圖係顯示成像於感光器之影像呈正焦狀態; 20 第九圖係本發明第二較佳實施例之剖視圖; 第十圖係本發明第三較佳實施例之剖視圖,·以及 第十一圖係本發明第四較佳實施例之剖視圖。 請參閱第一圖所示,係為本發明第一較佳實施例所提 供之晶圓級影像模組(10),晶圓級影像模組(1〇)包含有一感 6 1289365 光器(20)、一調整件(25),以及一透鏡組(30),該感光器(20) e 可為互補性氧化金屬半導體(Complementary Metal-Oxide
Semiconductor,CMOS),或是感光麵合元件(Charge Coupled
Device, CCD),感光器(20)可因感應到光線而輸出電性訊 5號,感光器(20)之頂側設有一可透光之間隔片(22),該間隔 片(22)主要係用以保護感光器(2〇)免於受到外界污染及水 氣侵入;該調整件(25)具有玻璃球(Glass Ball Spacer)或是纖 維材料(Fiber Spacer),調整件(25)係以濺鍍、點膠或是網印 之方式塗佈在感光器(20)之間隔片(22)頂面,調整件(25)的 1〇厚度約為1〜50μιη,其厚度係依據焦深要求及焦點偏移量而 決定;另外,調整件(25)亦可利用厚膜光阻製程設於間隔片 (22),或是直接以玻璃板製成;當然亦可製作於透鏡層(3〇) 上。 該透鏡組(30)係可利用透明UV聚合材料模製成形,或 15是以蝕刻(EtchinS)方式製成,透鏡組(30)覆設於調整件(25) 上方’使調整件(25)介於透鏡組(3〇)與感光器(2〇)之間,用 以控制透鏡組(30)與感光器(2〇)之間的距離,外界光線可經 由穿過透鏡組(30)而成像於感光器(2〇),由於透鏡組(3〇)成 像於感光器(20)之焦點偏移量約為〇〜5〇μπι,因此,當調整 2〇件(25)設於透鏡組(30)與感光器(2〇)之間時,藉由調整件 本身所具有的厚度,即可補償透鏡組(3〇)之焦點偏移量,使 透鏡組(30)之聚焦精度控制於焦深要求以内,如對於光圈值 (^Ν〇)等於2·8及感應器像素大小為3·6μιη的影像模組,其 聚焦精度要求約為1〇μιη,藉由調整件(Μ)補償光線可正:霍 7 1289365 地聚焦(in-f〇cus)於感光器(20) 〇 © §要製造上述晶圓級影像模組(10)的時候,主要係利用 一組裝設備(40)進行原地(in-situ)組裝及測試晶圓級影像模 組(10)之製造工作,卩下先針對組裝設備㈣之細部進 5 行說明。 請參閱第二至第四圖所示,組裝設備(4〇)包含有一定位 調整器(42)、一訊號擷取器(43)、一訊號處理器(46),以及 一接合器(t)〇nding)(48);定位調整器(42)包括一基座(5〇)以 及一測試台(51),基座(50)設有一可滑移之托盤(52)與一夾 1〇具單元(54),托盤(52)可相對於基座(5〇)移出或收入,藉以 取放晶圓級影像模組(10),夾具單元(54)係用以定位晶圓級 影像模組(10),並使晶圓級影像模組(1〇)置放於測試台 (51);訊號擷取器(43)包含有一探針卡(44),訊號擷取器(43) 設於定位調整器(42)之基座(5〇)内,訊號處理器(46)則電性 I5連接於訊號擷取器(43),訊號處理器(46)用以判斷晶圓級影 像模組(10)所擷取之影像訊號是否呈聚焦狀,而接合器(48) 用以結合晶圓級影像模組(1〇)之感光器(2〇)、調整件(25)與 透鏡組(30)。 η 以下將說明利用上述組裝設備(4 〇)製造晶圓級影像模 20組(1〇)之製造方法,包含有下列步驟: 步驟一 ·以積體電路製程(Integrated Circuits)製備一第 一晶圓(56),如第二圖所示,第一晶圓(56)具有多數感光器 (20),各感光器(20)具有一第一對準標記(First Alignment Mark)。 8 1289365 步驟一 1以積體光學製程(Integrated Optics)製備一第二 晶圓(58) ’第二晶圓(5幻具有多數透鏡組(30),各透鏡組(30) 具有苐一對準標記(Second Alignment Mark)。 步驟二:先將第一晶圓(56)設於組裝設備(40)之托盤(52) 5内’再使第二晶圓(58)疊合於第一晶圓(56),各透鏡組(30) 之第二對準標記對正於各感光器(2〇)之第一對準標記;接著 如第三圖所示,利用夾具單元(54)預定位(pre-bonding)第一 θ晶圓(5幻及第二晶圓(58),並且使第一晶圓(56)及第二晶圓 (58)置放於測試台(5丨),第一晶圓(56)之各感光器(2〇)對應於 ίο 探針卡(44)。 步驟四:如第四圖所示,測試台(51)帶動晶圓級影像模 組(10)電性連接於探針卡(44),同時,測試台(51)可依測試 需求而平移晶圓級影像模組(10),或使其呈傾斜狀。 步驟五:利用訊號處理器(46)接收訊號擷取器(43)之電 I5性訊號,進而得到各透鏡組(3〇)成像於各感光器(2〇)的焦點 偏移量’用以判斷感光器(20)係呈正焦(in_f〇cus)或離焦 (out-of-focus)狀態(如第五圖所示),以及區分出離焦狀態為 遠焦(far focal)或近焦(near focal)狀態。 步驟六:將托盤(52)移出基座(50),並於第一晶圓(56) 2〇及弟一晶圓(58)之間塗佈調整件(25),使調整件(25)位於各 透鏡組(30)與各感光器(20)之間,如第六圖所示,再使晶圓 級影像模組(10)電性連接於探針卡(44)。 步驟七:如是感光器(20)所產生之影像將如第七圖所示 影像品質改善,若仍呈現稍微離焦狀態時,則再重複步驟 9 1289365 六,直到所使用調整件(25)可補償上述之焦點偏移 里至如弟八圖所示之正焦狀態為止。 步驟八:_夾具單元(54)崎已補償焦闕移量之第 一晶圓(56)與第二晶圓(58),再利用接合器(48)結合第一晶 5圓(56)、調整件(25),與第二晶圓(58)。 步驟九:切割第一晶圓(56)與第二晶圓(58),即可成形 晶圓級影像模組(10)。 '經由上述組裝設備(40)及製法之說明,當各透鏡組(3〇) 疊合於各感光器(20)時,利用訊號處理器(46)判斷出感光器 1〇 (20)所接收到的光線是否呈聚焦狀態,如果感光器(2〇)呈離 焦狀態時,則可進一步改變調整件(25)的厚度,使感光器(2〇) 呈正焦狀態,藉以確保晶圓級影像模組(1〇)之成像品質,同 時’利用控制調整件(25)設於感光器(20)之厚度,即可調整 透鏡組(30)與感光器(2〇)之間的距離,補償透鏡組(3〇)及感 15光裔(2〇)之間的焦點偏移量,使透鏡組(30)較為正確地聚焦 於感光器(20)。 藉此,本發明即可利用調整件之結構,達到使影像模 組之成像品質較佳的目的。 再如第九圖所示,係為本發明第二較佳實施例所提供 2〇之晶圓級影像模組(60),其結構與第一較佳實施例大致相 同,包含有一感光器(61)、一透鏡組(62),以及一介於二者 之間的調整件(63),特點在於:透鏡組(62)包含有呈堆疊狀 之一第一穿透部(64)以及一第二穿透部(65),第一穿透部(64) 及第二穿透部(65)之間利用一第一墊片(66)相互接合,第二 1289365 穿透,(65)之頂面設有一第二藝片(67),第一穿透部(64)係 接合於調整件(幻)’使透益兄組(62)與感光器(61)相互疊合, 第一穿透部(64)及第二穿透部(65)皆呈透明狀,並且可將光 線成像於感光器(61),藉以使影像模組具有更多的影像特 5 性。 而如第十圖所示,係為本發明第三較佳實施例所提供 之晶圓級影像模組(70) ’其組成構件與第二較佳實施例大致 θ相同,特點則在於:感光器(71)之間隔片(72)具有一開口 (73),開口(73)係對應於感光器(71)之感光區域;另如第十 1〇 一圖所示,係為本發明第四較佳實施例所提供之晶圓級影 ‘模組(75),其特點則在於調整件(76)係直接設於感光器(77) 之表面,而透鏡組(78)之第一穿透部(79)則貼合於調整件 (76)’藉此’上述之較佳實施例皆可達到本發明之發明目的。
11 1289365 。【圖式簡單說明】 第一圖係本發明第一較佳實施例之剖視圖; 第二圖係本發明第一較佳實施例中所使用之組裝設備 的立體圖; ,5 第三圖係本發明第一較佳實施例之示意圖,主要顯示 晶圓級影像模組預定位於組裝設備之狀態; θ 第四圖係本發明第一較佳實施例之示意圖,主要顯示 • 晶圓級影像模組設於測試台之狀態; 第五圖係顯示成像於感光器之影像係呈離焦狀態; 10 第六圖係類同於第四圖,其中調整件係設於第一晶圓 - (感光裔)與第二晶圓(透鏡組)之間; 第七圖係顯示調整件設於晶圓級影像模組後之感光器 的成像狀態; 第八圖係顯示成像於感光ϋ之影像呈正焦狀態; 15 ,九圖係本發明第二較佳實施例之剖視圖; • ,十圖係本發明第三較佳實施例之剖視圖; ,十-圖係本發明第四較佳實施例之剖視圖; 第十二圖縣影賴組之示意圖;以及 ' 針三圖係為另H影像模組之示意圖。 12 1289365 【主要元件符號說明】 10晶圓級影像模組 20感光器 22間隔片 25調整件 30透鏡組 40組裝設備 42定位調整器 5 43訊號擷取器 44探針卡 46訊號處理器 48接合器 50基座 51測試台 • 52托盤 58第二晶圓 60晶圓級影像模組 54夾具單元 56第一晶圓 10 61感光器 62透鏡組 63調整件 64第一穿透部 65第二穿透部 66第一墊片 一 67第二墊片 70晶圓級影像模組 71感光器 72間隔片 73開口 15 75晶圓級影像模組 • 76調整件 79第一穿透部 77感光器 78透鏡組 13
Claims (1)
1289365 、申請專利範圍: 種晶圓級影像模組,包含有: —感光器,該感光以感應光線 以及—透鏡組,該魏_㈣將舰錢於 間,^整件》雜件係設於誠光胃與該透鏡組之 调整件用以控制該透鏡組與該感光器離, 使該透鏡_級聚t、(in_f_)於碱光器。 —Λ依據f請專利範圍第1項所述之晶圓級影像模組,其 中该透鏡組包含有呈透明狀之―第—穿透部以及一第二穿 透部’該第-穿透部及該第二穿透部之間利用__第〆整片 相互接合,該第一穿透部係接合於該調整件。 3·依據申請專利範圍第丨項所述之晶圓級影像模組,其 中該第二穿透部之頂面設有一第二墊片。 15 4.依據申請專利範圍第1項所述之晶圓級影像模組,其 中該感光器與該調整件之間具有一呈透明狀之間隔片。 5·依據申請專利範圍第4項所述之晶圓級影像模組,其 中該間隔片具有一開口,該開口係對應於該感光器之感光 區域。 6·依據申請專利範圍第1項所述之晶圓級影像模組,其 20中該調整件具有玻璃球(Glass Ball Spacer)或是纖維材料 (Fiber Spacer)。 7·依據申請專利範圍第1項所述之晶圓級影像模組,其 中該感光器係為互補性氧化金屬半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor,CMOS) 〇 1289365 處理器用以判斷該影像模組之影像訊號是否呈聚焦狀;以 及 一接合器,係用以結合該感光器、該調整件與該透鏡 組0 5 13.依據申請專利範圍第12項中所述之組裝設備,其中 該定位調整器另包含一夾具單元,該夾具單元係用以將經 該定位調整器定位完成之該感光器、該調整件及該透鏡組 進行鉗緊(clamp),並用以進入該接合器。 14. 依據申請專利範圍第12項中所述之組裝設備,其中 ίο 該定位調整器另包含有一測試台,該測試台係用以承置該 晶圓級影像模組,並且帶動該晶圓級影像模組電性連接於 該訊號擷取器。 15. 依據申請專利範圍第12項中所述之組裝設備,其中 該訊號擷取器具有一探針卡,該探針卡係電性連接於該晶 15圓級影像模組之感光器。
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